JP2002543212A - ３−オキソ−デスマイコシン系の新規化合物及びその製造方法 - Google Patents
３−オキソ−デスマイコシン系の新規化合物及びその製造方法Info
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Classifications
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- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
- C07H17/08—Hetero rings containing eight or more ring members, e.g. erythromycins
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- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H1/00—Processes for the preparation of sugar derivatives
Abstract
(57)【要約】
本発明は三重に保護された(triply protected)デスマイコシンから出発し、最初の工程でＣ-３位での酸化を行い、ついで場合により二重結合の水素添加とエポキシ化を行い、ついでオキシラン環の還元的開環を行う、式Iの3-デオキシ-デスマイコシン誘導体に関する。本発明は、更に、最初の工程でトリアセチル-デスマイコシンを水素添加し、ついで、中間体のメシレートを経て、これを2,3-ジデヒドロ誘導体に転化するか；又は、2,3-ジデヒドロ-デスマイコシンをエポキシ化反応にかけついでオキシラン環の還元的開環を行う、式IIの3-デオキシ-デスマイコシン誘導体に関する。
Description
【０００１】 技術的問題 本発明は新規なチロシン(tylosin)誘導体、抗微生物活性を有するマクロライ
ド系の新規な合成製品に関する。特に、本発明は、式I （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨ又はアセチルを表し、 Ｒ3はＨ又はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2又はN-O(CH3)2を表し、線---は一重結合又
は二重結合を表し、線……はエポキシ環 又は二重結合又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシ
ン(desmycosin)誘導体、及び、式II （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨ又はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2又
はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ-デスマ
イコシン誘導体及びその製造方法に関する。
ド系の新規な合成製品に関する。特に、本発明は、式I （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨ又はアセチルを表し、 Ｒ3はＨ又はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2又はN-O(CH3)2を表し、線---は一重結合又
は二重結合を表し、線……はエポキシ環 又は二重結合又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシ
ン(desmycosin)誘導体、及び、式II （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨ又はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2又
はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ-デスマ
イコシン誘導体及びその製造方法に関する。
【０００２】 従来の技術 チロシンの13−ヒドロキシ誘導体がオキシラン環の還元的開環により得られる
ことは公知である(A.Narandja, SI 9700281)。チロシンの10,11,12,13-テトラヒ
ドロ誘導体がチロシンの接触的水素添加により得られることも公知である (A.Narandja, EP 287082 B3)。チロシンの3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ誘導体
(S.Kageyama, Bull.Chem.Jpn.65,3405,1992)並びに6-O-メチルエリスロマイシン
の3-デオキシ-3-オキソ誘導体(A.Agouridas, J.Med.Chem.41,4080,1998)の調製
も公知である。
ことは公知である(A.Narandja, SI 9700281)。チロシンの10,11,12,13-テトラヒ
ドロ誘導体がチロシンの接触的水素添加により得られることも公知である (A.Narandja, EP 287082 B3)。チロシンの3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ誘導体
(S.Kageyama, Bull.Chem.Jpn.65,3405,1992)並びに6-O-メチルエリスロマイシン
の3-デオキシ-3-オキソ誘導体(A.Agouridas, J.Med.Chem.41,4080,1998)の調製
も公知である。
【０００３】 しかしながら、公知の文献には、C-10〜C-13位において分子の右側が交換され
ているちチロシンの3-デオキシ-3-オキソ誘導体及び3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ
誘導体及びその調製は記載されていない。
ているちチロシンの3-デオキシ-3-オキソ誘導体及び3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ
誘導体及びその調製は記載されていない。
【０００４】 技術的解決 式I （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨ又はアセチルを表し、
Ｒ3はＨ又はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2又はN-O(CH3)2を表し、線---は一重結合又
は二重結合を表し、線……はエポキシ環 又は二重結合又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシ
ン(desmycosin)誘導体、及び、式II （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨ又はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2又
はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ-誘導体
を、式III (式中、ＲはＨ又はSO2CH3を表し、線---は二重結合又は一重結合を表す)の化合
物から出発して調製し得ることが認められた。
Ｒ3はＨ又はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2又はN-O(CH3)2を表し、線---は一重結合又
は二重結合を表し、線……はエポキシ環 又は二重結合又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシ
ン(desmycosin)誘導体、及び、式II （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨ又はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2又
はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ-誘導体
を、式III (式中、ＲはＨ又はSO2CH3を表し、線---は二重結合又は一重結合を表す)の化合
物から出発して調製し得ることが認められた。
【０００５】 本発明によれば、式III(式中、ＲはＨを表し、線---は二重結合を表す)の化合
物を、 Ａ/ 塩化メチレンの溶液中で、15-28当量のDMSO、8-14当量のN-(3-ジメチルアミ
ノプロピル)-N’-エチルカルボジイミド塩酸塩及び8-14当量のピリジン トリフ
ルオロアセテートの存在下、２〜６時間、10−25℃の温度で酸化反応にかけ、つ
いで、得られた式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチ
ルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表
し、前記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｂ/ 還流温度で、４−６時間、メタノリシスにかけ、ついで得られた式Iの化合
物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し
、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合
を表す）を、場合により、 Ｂ1/ メタノールと25％NH4OHとの混合物(2：1)中で、５℃で、48−60時間、アル
カリ性メタノリシスにかけ、ついで、得られた一般式Iの化合物（式中、Ｒは
CH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及
び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｂ2/ アセトニトリルと１％トリフルオロ酢酸との混合物(2：3)中で、２時間、
室温で加水分解にかけて、式Iの化合物（式中、ＲはCHOを表し、Ｒ1、Ｒ2及び
Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波
線は一重結合を表す）を得るか、又は、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチルを表し、
Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波
線は一重結合を表す）を、 Ｃ/ ２−５％Pd/C(w/w)の存在下、室温で、５−８時間、0.3−0.5MPaの水素圧下
で接触水素添加反応にかけ、ついで、得られた式Iの化合物（式中、Ｒは CH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2 を表し、線---、……及び前記波線は二重結合を表す）を、場合により、 Ｂ又はＢ1で述べたと同様の方法でメタノリシス又はアルカリ性メタノリシスに
かけるか、又は、場合により、 Ｄ/ 塩化メチレン溶液中、３−６当量のm-クロロ過安息香酸の存在下、６−10時
間、室温で酸化反応にかけて、式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1
及びＲ2はアセチルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN-O(CH3)2を表し、線---は二
重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記波線は一重結合を表す）を
得るか、又は、場合により、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はア
セチルを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波
線は一重結合を表す）を、Ｄで述べた方法と同様の方法で酸化反応にかけ、つい
で、得られた式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し
、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ4はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合を表し、線…
…は前記エポキシ環を表し、前記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｃで述べた方法と同様の方法で接触水素添加反応にかけて、式Iの化合物（式中
、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---は一重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記
波線は一重結合を表す）を得るか、又は、場合により、 Ｅ/ EtOHと10％NH4OH水溶液とからなる溶液(1:2)中で、5.0−5.5のpH値を保持し
ながら、Zn粉末を使用して還元して、式Iの化合物(式中、ＲはCH(OCH3)2を表し
、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ3はOHを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---及び……は一重結合を表し、前記波線は二重結合を表す）
を得るか、又は、場合により、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4 はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合を表す
）を、Ｄで述べた方法と同様の方法で酸化反応にかけ、ついで、得られた式Iの
化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4は
N-0(CH3)2を表し、線---は二重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前
記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｃで述べたと同様の方法で接触水素添加反応にかけて、式Iの化合物（式中、Ｒ
はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---
は二重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記波線は一重結合を表す
）を得る、か又は、場合により、 Ｅで述べたと同様の方法でZn粉末を使用する還元反応にかけて、式Iの化合物
（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨを表し、Ｒ3はOHを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---及び……は一重結合を表し、前記波線は二重結合を表す）
を得るか；又は、 式IIIの化合物（式中、ＲはＨを表し、線---は二重結合を表す）を工程Ｃに従
って接触水素添加反応にかけ、ついで、得られた式IIIの化合物（式中、ＲはＨ
を表し、線---は一重結合を表す）を、場合により、 Ｆ/ ピリジン溶液中で、３−５当量のメタンスルホクロライドを添加して、10℃
で３−５時間、メシル化反応にかけ、ついで、得られた式IIIの化合物（式中、
ＲはSO2CH3を表し、線---は一重結合を表す）を、 Ｇ/ メタノールと25％NH4OHとの混合物(2:1)中で、室温で５時間、メシレートの
除去反応にかけ、ついで、Ｂ1に記載の方法と同様の方法でメタノリシスにかけ
、ついで得られた式IIの化合物(式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、
Ｒ2はN(CH3)2を表し、線---、……及び前記波線は一重結合を表す)をのＢ2に記
載の方法と同様の方法で、加水分解反応にかけるか、又は、場合により、 式IIの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はN(CH3)2を
表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合を表す）を、Ｄに
記載の方法と同様の方法で酸化反応にかけ、ついで、得られた式IIの化合物（式
中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はN-O(CH3)2を表し、線---は二
重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記波線は、一重結合を表す）
を、場合により、Ｅに記載と同様の方法で還元反応にかけて、式IIの化合物（式
中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2を表し、線---及び…
…は一重結合を表し、前記波線は二重結合を表す）を得る。
物を、 Ａ/ 塩化メチレンの溶液中で、15-28当量のDMSO、8-14当量のN-(3-ジメチルアミ
ノプロピル)-N’-エチルカルボジイミド塩酸塩及び8-14当量のピリジン トリフ
ルオロアセテートの存在下、２〜６時間、10−25℃の温度で酸化反応にかけ、つ
いで、得られた式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチ
ルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表
し、前記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｂ/ 還流温度で、４−６時間、メタノリシスにかけ、ついで得られた式Iの化合
物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し
、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合
を表す）を、場合により、 Ｂ1/ メタノールと25％NH4OHとの混合物(2：1)中で、５℃で、48−60時間、アル
カリ性メタノリシスにかけ、ついで、得られた一般式Iの化合物（式中、Ｒは
CH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及
び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｂ2/ アセトニトリルと１％トリフルオロ酢酸との混合物(2：3)中で、２時間、
室温で加水分解にかけて、式Iの化合物（式中、ＲはCHOを表し、Ｒ1、Ｒ2及び
Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波
線は一重結合を表す）を得るか、又は、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチルを表し、
Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波
線は一重結合を表す）を、 Ｃ/ ２−５％Pd/C(w/w)の存在下、室温で、５−８時間、0.3−0.5MPaの水素圧下
で接触水素添加反応にかけ、ついで、得られた式Iの化合物（式中、Ｒは CH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2 を表し、線---、……及び前記波線は二重結合を表す）を、場合により、 Ｂ又はＢ1で述べたと同様の方法でメタノリシス又はアルカリ性メタノリシスに
かけるか、又は、場合により、 Ｄ/ 塩化メチレン溶液中、３−６当量のm-クロロ過安息香酸の存在下、６−10時
間、室温で酸化反応にかけて、式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1
及びＲ2はアセチルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN-O(CH3)2を表し、線---は二
重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記波線は一重結合を表す）を
得るか、又は、場合により、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はア
セチルを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波
線は一重結合を表す）を、Ｄで述べた方法と同様の方法で酸化反応にかけ、つい
で、得られた式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し
、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ4はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合を表し、線…
…は前記エポキシ環を表し、前記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｃで述べた方法と同様の方法で接触水素添加反応にかけて、式Iの化合物（式中
、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---は一重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記
波線は一重結合を表す）を得るか、又は、場合により、 Ｅ/ EtOHと10％NH4OH水溶液とからなる溶液(1:2)中で、5.0−5.5のpH値を保持し
ながら、Zn粉末を使用して還元して、式Iの化合物(式中、ＲはCH(OCH3)2を表し
、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ3はOHを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---及び……は一重結合を表し、前記波線は二重結合を表す）
を得るか、又は、場合により、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4 はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合を表す
）を、Ｄで述べた方法と同様の方法で酸化反応にかけ、ついで、得られた式Iの
化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4は
N-0(CH3)2を表し、線---は二重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前
記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｃで述べたと同様の方法で接触水素添加反応にかけて、式Iの化合物（式中、Ｒ
はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---
は二重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記波線は一重結合を表す
）を得る、か又は、場合により、 Ｅで述べたと同様の方法でZn粉末を使用する還元反応にかけて、式Iの化合物
（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨを表し、Ｒ3はOHを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---及び……は一重結合を表し、前記波線は二重結合を表す）
を得るか；又は、 式IIIの化合物（式中、ＲはＨを表し、線---は二重結合を表す）を工程Ｃに従
って接触水素添加反応にかけ、ついで、得られた式IIIの化合物（式中、ＲはＨ
を表し、線---は一重結合を表す）を、場合により、 Ｆ/ ピリジン溶液中で、３−５当量のメタンスルホクロライドを添加して、10℃
で３−５時間、メシル化反応にかけ、ついで、得られた式IIIの化合物（式中、
ＲはSO2CH3を表し、線---は一重結合を表す）を、 Ｇ/ メタノールと25％NH4OHとの混合物(2:1)中で、室温で５時間、メシレートの
除去反応にかけ、ついで、Ｂ1に記載の方法と同様の方法でメタノリシスにかけ
、ついで得られた式IIの化合物(式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、
Ｒ2はN(CH3)2を表し、線---、……及び前記波線は一重結合を表す)をのＢ2に記
載の方法と同様の方法で、加水分解反応にかけるか、又は、場合により、 式IIの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はN(CH3)2を
表し、線---及び……は二重結合を表し、前記波線は一重結合を表す）を、Ｄに
記載の方法と同様の方法で酸化反応にかけ、ついで、得られた式IIの化合物（式
中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はN-O(CH3)2を表し、線---は二
重結合を表し、線……は前記エポキシ環を表し、前記波線は、一重結合を表す）
を、場合により、Ｅに記載と同様の方法で還元反応にかけて、式IIの化合物（式
中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2を表し、線---及び…
…は一重結合を表し、前記波線は二重結合を表す）を得る。
【０００６】 本発明によれば、生成物の単離は、塩化メチレン、クロロホルム又はテトラク
ロロメタンのごときハロゲン化炭化水素を使用することにより、アルカリ性水溶
液からの慣用の抽出プロセスを行い、ついで蒸発させて乾燥残渣を得ることによ
り行われる。
ロロメタンのごときハロゲン化炭化水素を使用することにより、アルカリ性水溶
液からの慣用の抽出プロセスを行い、ついで蒸発させて乾燥残渣を得ることによ
り行われる。
【０００７】 反応を行った後、シリカゲル(Merck 60 F254)の薄層上でのクロマトグラフィ
ーを溶剤系、塩化メチレン-メタノール-25％水酸化アンモニウム(90:9:1.5, 溶
剤系A),（90:9:0.5,溶剤系A１）塩化メチレン-アセトン(8:2, 溶剤系B),（7:3,
溶剤系C）を使用して行う。適当な場合には、反応生成物の分離と特殊な分析の
ための生成物の精製を、シリカゲルカラム(Merck 60,230-400メッシュ/ASTM,又
は60-230メッシュ/ASTM、溶剤系A、B又はC中)上で行う。新規生成物の同定はUV
及びNMRスペクトル分析及び質量分析により行う。
ーを溶剤系、塩化メチレン-メタノール-25％水酸化アンモニウム(90:9:1.5, 溶
剤系A),（90:9:0.5,溶剤系A１）塩化メチレン-アセトン(8:2, 溶剤系B),（7:3,
溶剤系C）を使用して行う。適当な場合には、反応生成物の分離と特殊な分析の
ための生成物の精製を、シリカゲルカラム(Merck 60,230-400メッシュ/ASTM,又
は60-230メッシュ/ASTM、溶剤系A、B又はC中)上で行う。新規生成物の同定はUV
及びNMRスペクトル分析及び質量分析により行う。
【０００８】 新規物質は抗微生物活性を示すが、これらは新規誘導体の製造のための中間体
としても使用し得る。
としても使用し得る。
【０００９】 以下に本発明の実施例を示すが、これらの実施例は本発明を限定するものでは
ない。
ない。
【００１０】 2’,4’-ジアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタールの調製 デスマイコシン20-ジメチルアセタール(20g,24.4ミリモル)を塩化メチレン (100ml)に溶解し、これに無水酢酸(acetanhydride)(7.2ml,76.2ミリモル)を添加
し、混合物を室温で１時間撹拌した。反応混合物を400mlの水に注入し、pH値8.5
のアルカリ性にし、ついで、有機層を除去した後、塩化メチレンで再度、抽出し
た。抽出物を混合し、飽和NaHCO3溶液で洗浄し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残
渣を得た。 収量：19.6g,89.0％；Rf(A) 0.68；Rf(B) 0.45；MH+ 902。
し、混合物を室温で１時間撹拌した。反応混合物を400mlの水に注入し、pH値8.5
のアルカリ性にし、ついで、有機層を除去した後、塩化メチレンで再度、抽出し
た。抽出物を混合し、飽和NaHCO3溶液で洗浄し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残
渣を得た。 収量：19.6g,89.0％；Rf(A) 0.68；Rf(B) 0.45；MH+ 902。
【００１１】 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタールの調製 2’,4’-ジアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(19.6g,21.7ミリ
モル)を塩化メチレン（700ml）に溶解し、得られた溶液に4-(ジメチルアミノ)ピ
リジン(0.54g,3.7ミリモル)、トリエチルアミン(27ml)及び無水酢酸(2.7ml,
28.5ミリモル)を添加した。反応混合物を室温で２時間撹拌し、1000mlの水に注
入し、ついで、有機層を除去した後、塩化メチレンで再度、抽出した。抽出物を
混合し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：19.5g,95.1％；Rf(A) 0.90；Rf(B) 0.60；MH+ 944。
モル)を塩化メチレン（700ml）に溶解し、得られた溶液に4-(ジメチルアミノ)ピ
リジン(0.54g,3.7ミリモル)、トリエチルアミン(27ml)及び無水酢酸(2.7ml,
28.5ミリモル)を添加した。反応混合物を室温で２時間撹拌し、1000mlの水に注
入し、ついで、有機層を除去した後、塩化メチレンで再度、抽出した。抽出物を
混合し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：19.5g,95.1％；Rf(A) 0.90；Rf(B) 0.60；MH+ 944。
【００１２】 3-メタンスルホニル-2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルア
セタールの調製 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(3g,3.18ミ
リモル)をピリジン(9.5ml)に溶解し、溶液を10℃に冷却しついでメタンスルホニ
ルクロライド(1.57ml,12.4ミリモル)を徐々に添加した。反応溶液を10℃で３時
間撹拌し、ついで、溶液を250mlの水に注入し、pH値9.2のアルカリ性にした後、
30分間撹拌した。濃厚な白色沈殿を濾過により分離し、湿潤している沈殿をクロ
ロホルム(60ml)に溶解し、飽和NaCl溶液(120ml)で洗浄した。抽出物を乾燥し、
蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：3.05g,94.1％；Rf(A) 0.95；Rf(B) 0.70；MH+ 1022。
セタールの調製 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(3g,3.18ミ
リモル)をピリジン(9.5ml)に溶解し、溶液を10℃に冷却しついでメタンスルホニ
ルクロライド(1.57ml,12.4ミリモル)を徐々に添加した。反応溶液を10℃で３時
間撹拌し、ついで、溶液を250mlの水に注入し、pH値9.2のアルカリ性にした後、
30分間撹拌した。濃厚な白色沈殿を濾過により分離し、湿潤している沈殿をクロ
ロホルム(60ml)に溶解し、飽和NaCl溶液(120ml)で洗浄した。抽出物を乾燥し、
蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：3.05g,94.1％；Rf(A) 0.95；Rf(B) 0.70；MH+ 1022。
【００１３】 2,3-アンヒドロ-デスマイコシン20-ジメチルアセタールの調製 3-メタンスルホニル-2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチル
アセタール(3g,2.9ミリモル)をメタノール(60ml)に溶解し、溶液に25％NH4OH(30
ml)を添加しついで室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下、その容量の1/3
になるまで蒸発させついでクロロホルムで抽出し、乾燥しついで蒸発させて乾燥
残渣を得た。粗生成物をメタノール(160ml)に溶解し、還流温度で６時間加熱し
ついでメタノールを蒸発させ、得られた生成物をクロロホルム(150ml)に溶解し
、飽和NaHCO3溶液で洗浄しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：2.22g,94.4％；Rf(A) 0.50； MH+ 800。
アセタール(3g,2.9ミリモル)をメタノール(60ml)に溶解し、溶液に25％NH4OH(30
ml)を添加しついで室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下、その容量の1/3
になるまで蒸発させついでクロロホルムで抽出し、乾燥しついで蒸発させて乾燥
残渣を得た。粗生成物をメタノール(160ml)に溶解し、還流温度で６時間加熱し
ついでメタノールを蒸発させ、得られた生成物をクロロホルム(150ml)に溶解し
、飽和NaHCO3溶液で洗浄しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：2.22g,94.4％；Rf(A) 0.50； MH+ 800。
【００１４】 実施例１ 3-デオキシ-3-オキソ-2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルア
セタール(1) 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(10g,0.01
ミリモル)を塩化メチレン(230ml)に溶解し、この溶液にジメチルスルホキシド
(16ml,0.22モル)及びついでN-(3-ジメチルアミノプロピル)-N’-エチル カルボ
ジイミド塩酸塩(20g,0.1モル)を添加しついで反応混合物を10℃に冷却した。塩
化メチレン(115ml)中にピリジン トリフルオロアセテート(20.2g,0.1モル)を溶
解させた溶液を30分間で添加した。室温で４時間撹拌した後、反応溶液を850ml
の水に注入し、有機層を分離しついで塩化メチレンで再度抽出した。抽出物を混
合し、飽和NaCl溶液で洗浄しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：9.73g,97.6％；Rf(A) 0.95；Rf(C) 0.65；MH+ 942； UVλmax 232nm,ε18900。
セタール(1) 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(10g,0.01
ミリモル)を塩化メチレン(230ml)に溶解し、この溶液にジメチルスルホキシド
(16ml,0.22モル)及びついでN-(3-ジメチルアミノプロピル)-N’-エチル カルボ
ジイミド塩酸塩(20g,0.1モル)を添加しついで反応混合物を10℃に冷却した。塩
化メチレン(115ml)中にピリジン トリフルオロアセテート(20.2g,0.1モル)を溶
解させた溶液を30分間で添加した。室温で４時間撹拌した後、反応溶液を850ml
の水に注入し、有機層を分離しついで塩化メチレンで再度抽出した。抽出物を混
合し、飽和NaCl溶液で洗浄しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：9.73g,97.6％；Rf(A) 0.95；Rf(C) 0.65；MH+ 942； UVλmax 232nm,ε18900。
【００１５】 溶剤系Ｃを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、その
エノール型との均衡のとれた生成物（特定シグナルの強度に従って測定して、 1:1の比率）を示す下記の特性を有する生成物を得た。
エノール型との均衡のとれた生成物（特定シグナルの強度に従って測定して、 1:1の比率）を示す下記の特性を有する生成物を得た。
【００１６】
【００１７】 実施例２ 3-デオキシ-3-オキソ-4”-アセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(2) 化合物１(9g,9.6ミリモル)をメタノール(180ml)に溶解し、還流温度で４時間
加熱しついで反応溶液を蒸発乾固させた。生成物をクロロホルム(90ml)中に溶解
し、飽和NaHC03溶液で洗浄した。抽出物を乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得
た。 収量：8.1g,98％；Rf(A) 0.45； MH+ 858。
加熱しついで反応溶液を蒸発乾固させた。生成物をクロロホルム(90ml)中に溶解
し、飽和NaHC03溶液で洗浄した。抽出物を乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得
た。 収量：8.1g,98％；Rf(A) 0.45； MH+ 858。
【００１８】 アルカリ性溶剤系Ｃを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーに
おいて、ケト−エノールの比率はケト型が大きかった(3:1)。
おいて、ケト−エノールの比率はケト型が大きかった(3:1)。
【００１９】
【００２０】 実施例３ 3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(3) 化合物２(3.2g,3.72ミリモル)をメタノール(64ml)に溶解し、25％NH4OH溶液
(32ml)を添加しついで混合物を５℃で60時間放置した。反応溶液を蒸発させて油
状生成物を取得し、これをクロロホルム(60ml)に溶解し、飽和NaHCO3溶液で洗浄
しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：2.25g,74.0％；Rf(A) 0.38； MH+ 816。
(32ml)を添加しついで混合物を５℃で60時間放置した。反応溶液を蒸発させて油
状生成物を取得し、これをクロロホルム(60ml)に溶解し、飽和NaHCO3溶液で洗浄
しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：2.25g,74.0％；Rf(A) 0.38； MH+ 816。
【００２１】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有する生成物を得た。
の特性を有する生成物を得た。
【００２２】
【００２３】 実施例４ 3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシン(4) 化合物(3)(1g,1.22ミリモル)をアセトニトリル(10ml)と１％トリフルオロ酢酸
(12ml)に溶解し、室温で２時間撹拌し、得られた溶液にクロロホルム(7ml)を添
加しついでpH値8.5のアルカリ性にした。有機層を分離し、クロロホルムで再度
、抽出した。抽出物を混合し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：0.79g,84.0％；Rf(A) 0.32； MH+ 770。
(12ml)に溶解し、室温で２時間撹拌し、得られた溶液にクロロホルム(7ml)を添
加しついでpH値8.5のアルカリ性にした。有機層を分離し、クロロホルムで再度
、抽出した。抽出物を混合し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：0.79g,84.0％；Rf(A) 0.32； MH+ 770。
【００２４】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、ケト
型の特性を有する生成物が得られた。
型の特性を有する生成物が得られた。
【００２５】
【００２６】 実施例５ 2’,4’,4”-トリアセチル-10,11,12,13-テトラヒドロ-デスマイコシン20-ジメ
チルアセタール(5) 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(6g,6.3ミ
リモル)をエタノール(250ml)に溶解し、この溶液に３gの10％Pd/C(w/w)を添加し
ついで0.5MPaの水素圧下、室温で７時間水素添加を行った。反応終了後、触媒を
濾過により除去し、エタノールを減圧下で蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：5.8g,96.3％；Rf(A) 0.88；Rf(B) 0.45；MH+ 948（UVスペクトルにおいて
吸収しなかった）。
チルアセタール(5) 2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシン20-ジメチルアセタール(6g,6.3ミ
リモル)をエタノール(250ml)に溶解し、この溶液に３gの10％Pd/C(w/w)を添加し
ついで0.5MPaの水素圧下、室温で７時間水素添加を行った。反応終了後、触媒を
濾過により除去し、エタノールを減圧下で蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：5.8g,96.3％；Rf(A) 0.88；Rf(B) 0.45；MH+ 948（UVスペクトルにおいて
吸収しなかった）。
【００２７】 溶剤系Ｂを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有する生成物が得られた。
の特性を有する生成物が得られた。
【００２８】
【００２９】 実施例６ 3-デオキシ-3-オキソ-2’,4’,4”-トリアセチル-10,11,12,13-テトラヒドロ-デ
スマイコシン20-ジメチルアセタール(6) 方法Ａ 化合物５(５g,5.3ミリモル)を塩化メチレン(120ml)に溶解し、この溶液にジメ
チルスルホキシド(８ml,0.11モル) 及び ついでN-(3-ジメチルアミノプロピル)-
N’-エチル カルボジイミド塩酸塩(10g,50ミリモル)を添加しついで反応混合物
を10℃に冷却した。塩化メチレン(60ml)中にピリジントリフルオロ
アセテート(10.2g,50ミリモル)を溶解させた溶液を30分間で添加した。室温で４
時間撹拌した後、反応溶液を430mlの水に注入し、有機層を分離しついで塩化メ
チレンで再度抽出した。抽出物を混合し、飽和NaCl溶液で洗浄しついで蒸発させ
て乾燥残渣を得た。 収量：4.75g,95.2％；Rf(A) 0.93,Rf(B) 0.60；MH+ 946；（UVスペクトルにおい
て吸収しなかった）。
スマイコシン20-ジメチルアセタール(6) 方法Ａ 化合物５(５g,5.3ミリモル)を塩化メチレン(120ml)に溶解し、この溶液にジメ
チルスルホキシド(８ml,0.11モル) 及び ついでN-(3-ジメチルアミノプロピル)-
N’-エチル カルボジイミド塩酸塩(10g,50ミリモル)を添加しついで反応混合物
を10℃に冷却した。塩化メチレン(60ml)中にピリジントリフルオロ
アセテート(10.2g,50ミリモル)を溶解させた溶液を30分間で添加した。室温で４
時間撹拌した後、反応溶液を430mlの水に注入し、有機層を分離しついで塩化メ
チレンで再度抽出した。抽出物を混合し、飽和NaCl溶液で洗浄しついで蒸発させ
て乾燥残渣を得た。 収量：4.75g,95.2％；Rf(A) 0.93,Rf(B) 0.60；MH+ 946；（UVスペクトルにおい
て吸収しなかった）。
【００３０】 溶剤系Ｂを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
【００３１】
【００３２】 実施例７ 3-デオキシ-3-オキソ-4”-アセチル-10,11,12,13-テトラヒドロ-デスマイコシン
20-ジメチルアセタール(7) 方法Ａ 化合物６(９g,9.5ミリモル)をメタノール(180ml)に溶解し、還流温度で４時間
加熱しついで反応溶液を蒸発乾固させた。生成物をクロロホルム(90ml)に溶解し
、飽和NaHC03溶液で洗浄した。抽出物を乾燥し、ついで蒸発させて乾燥残渣を得
た。 収量：7.7g,93.9％；Rf(A) 0.42； MH+ 862;（UVスペクトルにおいて吸収しなか
った）。
20-ジメチルアセタール(7) 方法Ａ 化合物６(９g,9.5ミリモル)をメタノール(180ml)に溶解し、還流温度で４時間
加熱しついで反応溶液を蒸発乾固させた。生成物をクロロホルム(90ml)に溶解し
、飽和NaHC03溶液で洗浄した。抽出物を乾燥し、ついで蒸発させて乾燥残渣を得
た。 収量：7.7g,93.9％；Rf(A) 0.42； MH+ 862;（UVスペクトルにおいて吸収しなか
った）。
【００３３】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
【００３４】
【００３５】 方法Ｂ 化合物２(6.2g,6.97ミリモル)をエタノール(250ml)に溶解し、この溶液に３g
の10％Pd/C(w/w)を添加しついで0.5MPaの水素圧下、室温で６時間水素添加を行
った。反応終了後、触媒を濾過により除去し、エタノールを減圧下で蒸発させて
乾燥残渣を得た。 収量：5.7g,95.0％。
の10％Pd/C(w/w)を添加しついで0.5MPaの水素圧下、室温で６時間水素添加を行
った。反応終了後、触媒を濾過により除去し、エタノールを減圧下で蒸発させて
乾燥残渣を得た。 収量：5.7g,95.0％。
【００３６】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、方法
Ａで得られた生成物と同一の特性を有する生成物が得られた。
Ａで得られた生成物と同一の特性を有する生成物が得られた。
【００３７】 実施例８ 3-デオキシ-3-オキソ-10,11,12,13-テトラヒドロ-デスマイコシン20-ジメチルア
セタール(8) 方法Ａ 化合物７(3.0g,3.48ミリモル)をメタノール(60ml)に溶解し、25％NH4OH溶液
(30ml)を添加しついで混合物を５℃で60時間放置した。反応溶液を蒸発乾固させ
ついで実施例３で述べたものと同様の方法で処理した。 収量：2.08g,73.0％；Rf(A) 0.35； MH+ 820。
セタール(8) 方法Ａ 化合物７(3.0g,3.48ミリモル)をメタノール(60ml)に溶解し、25％NH4OH溶液
(30ml)を添加しついで混合物を５℃で60時間放置した。反応溶液を蒸発乾固させ
ついで実施例３で述べたものと同様の方法で処理した。 収量：2.08g,73.0％；Rf(A) 0.35； MH+ 820。
【００３８】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有する生成物を得た。
の特性を有する生成物を得た。
【００３９】
【００４０】 方法Ｂ 化合物３(６g,7.35ミリモル)をエタノール(250ml)に溶解し、この溶液に３gの
10％Pd/C(w/w)を添加しついで0.5MPaの水素圧下、室温で７時間水素添加を行っ
た。反応終了後、触媒を濾過により除去し、エタノールを減圧下で蒸発させて乾
燥残渣を得た。 収量：5.8g,96.2％。
10％Pd/C(w/w)を添加しついで0.5MPaの水素圧下、室温で７時間水素添加を行っ
た。反応終了後、触媒を濾過により除去し、エタノールを減圧下で蒸発させて乾
燥残渣を得た。 収量：5.8g,96.2％。
【００４１】 溶剤系Ａ１を使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、方
法Ａで得られた生成物と同一の特性を有する生成物が得られた。
法Ａで得られた生成物と同一の特性を有する生成物が得られた。
【００４２】 実施例９ 12,13-エポキシ-3-デオキシ-3-オキソ-2’,4’,4”-トリアセチル-デスマイコシ
ン (3’N-オキシド) 20-ジメチルアセタール(9) 化合物１(２g,2.12ミリモル)を塩化メチレン(40ml)に溶解し、71％ m-クロロ
過安息香酸(2.05g,8.4ミリモル)を添加し、この溶液を室温で８時間撹拌した。
反応混合物を80mlの水に注入し、pH値8.6までアルカリ性にし、30分間撹拌しつ
いで有機層を分離した。ついで有機層を塩化メチレンで再度、抽出した。抽出物
を混合し、蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：1.91g,94.0％；Rf(A) 0.23； MH+ 974; UVλmax 238nm,ε14597。
ン (3’N-オキシド) 20-ジメチルアセタール(9) 化合物１(２g,2.12ミリモル)を塩化メチレン(40ml)に溶解し、71％ m-クロロ
過安息香酸(2.05g,8.4ミリモル)を添加し、この溶液を室温で８時間撹拌した。
反応混合物を80mlの水に注入し、pH値8.6までアルカリ性にし、30分間撹拌しつ
いで有機層を分離した。ついで有機層を塩化メチレンで再度、抽出した。抽出物
を混合し、蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：1.91g,94.0％；Rf(A) 0.23； MH+ 974; UVλmax 238nm,ε14597。
【００４３】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
【００４４】
【００４５】 実施例１０ 12,13-エポキシ-3-デオキシ-3-オキソ-4”-アセチル-デスマイコシン(3’N-オキ
シド) 20-ジメチルアセタール(10) 化合物２(３g,3.5ミリモル)を塩化メチレン(60ml)に溶解し、71％ m-クロロ過
安息香酸（3.35g,14.0ミリモル）を添加し、この溶液を室温で８時間撹拌した。
生成物を実施例９で述べたと同様の方法で反応混合物から分離した。 収量：2.64g,85％；Rf(A) 0.22； MH+ 890; UVλmax 238nm,ε15297。
シド) 20-ジメチルアセタール(10) 化合物２(３g,3.5ミリモル)を塩化メチレン(60ml)に溶解し、71％ m-クロロ過
安息香酸（3.35g,14.0ミリモル）を添加し、この溶液を室温で８時間撹拌した。
生成物を実施例９で述べたと同様の方法で反応混合物から分離した。 収量：2.64g,85％；Rf(A) 0.22； MH+ 890; UVλmax 238nm,ε15297。
【００４６】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
【００４７】
【００４８】 実施例１１ 12,13-エポキシ-3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシン(3’N-オキシド) 20-ジメ
チルアセタール(11) 化合物３(３g,2.45ミリモル)を塩化メチレン(40ml)に溶解し、71％ m-クロロ
過安息香酸（2.37g,9.8ミリモル）を添加し、ついで実施例９で述べたと同様の
方法で反応と分離を行った。 収量：1.64g,79％；Rf(A) 0.22； MH+ 848。
チルアセタール(11) 化合物３(３g,2.45ミリモル)を塩化メチレン(40ml)に溶解し、71％ m-クロロ
過安息香酸（2.37g,9.8ミリモル）を添加し、ついで実施例９で述べたと同様の
方法で反応と分離を行った。 収量：1.64g,79％；Rf(A) 0.22； MH+ 848。
【００４９】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
の特性を有するケト−エノール生成物（比3:1、ケト型が多い）が得られた。
【００５０】
【００５１】 実施例１２ 10,11-ジヒドロ-12,13-エポキシ-3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシン 20-ジメ
チルアセタール(12) 化合物11(１g,1.18ミリモル)をエタノール(50ml)に溶解し、この溶液に0.33g
の10％Pd/C(w/w)を添加しついで実施例５で述べたと同様の方法で水素転化を行
った。 収量：0.95g,96.9％；Rf(A) 0.50； MH+ 834（UVスペクトルにおいて吸収しなか
った）。
チルアセタール(12) 化合物11(１g,1.18ミリモル)をエタノール(50ml)に溶解し、この溶液に0.33g
の10％Pd/C(w/w)を添加しついで実施例５で述べたと同様の方法で水素転化を行
った。 収量：0.95g,96.9％；Rf(A) 0.50； MH+ 834（UVスペクトルにおいて吸収しなか
った）。
【００５２】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有する生成物が得られた。
の特性を有する生成物が得られた。
【００５３】
【００５４】 実施例１３ 10,13-ジヒドロ-13-ヒドロキシ-3-デオキシ-3-オキソ-4”-アセチル-デスマイコ
シン 20-ジメチルアセタール(13) 化合物10(１g,1.12ミリモル)をエタノール(20ml)に溶解し、溶液に10％NH4Cl
水溶液(40ml)及び徐々にZn粉末(２g)を添加した。反応溶液を６時間、室温で攪
拌し、ついで、Znを濾過により除去し、反応溶液をその容量が1/2になるまで蒸
発させ、クロロホルム(20ml)を添加しついでpH値が8.5になるまでアルカリ性に
した。有機層を分離し、クロロホルムを用いて更に抽出を行った。抽出物を混合
し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：0.64g,65％；Rf(A) 0.45；；MH+ 876。
シン 20-ジメチルアセタール(13) 化合物10(１g,1.12ミリモル)をエタノール(20ml)に溶解し、溶液に10％NH4Cl
水溶液(40ml)及び徐々にZn粉末(２g)を添加した。反応溶液を６時間、室温で攪
拌し、ついで、Znを濾過により除去し、反応溶液をその容量が1/2になるまで蒸
発させ、クロロホルム(20ml)を添加しついでpH値が8.5になるまでアルカリ性に
した。有機層を分離し、クロロホルムを用いて更に抽出を行った。抽出物を混合
し、乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：0.64g,65％；Rf(A) 0.45；；MH+ 876。
【００５５】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有するケト−エノール生成物（比1:1）が得られた。
の特性を有するケト−エノール生成物（比1:1）が得られた。
【００５６】
【００５７】 実施例１４ 2,3-アンヒドロ-12,13-エポキシ-デスマイコシン(3’N-オキシド) 20-ジメチル
アセタール(14) 2,3-アンヒドロ-デスマイコシン 20-ジメチルアセタール(4g、5.00ミリモル)
を塩化メチレン(80ml)に溶解し、71％ m-クロロ過安息香酸（4.84g,0.02モル）
を添加しついで実施例９述べた方法と同様の方法で酸化を行った。 収量：2.83g,68％；Rf(A) 0.20； MH+ 832; UVλmax 238nm,ε12247。
アセタール(14) 2,3-アンヒドロ-デスマイコシン 20-ジメチルアセタール(4g、5.00ミリモル)
を塩化メチレン(80ml)に溶解し、71％ m-クロロ過安息香酸（4.84g,0.02モル）
を添加しついで実施例９述べた方法と同様の方法で酸化を行った。 収量：2.83g,68％；Rf(A) 0.20； MH+ 832; UVλmax 238nm,ε12247。
【００５８】 溶剤系Ａを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有する生成物が得られた。
の特性を有する生成物が得られた。
【００５９】
【００６０】 実施例１５ 2,3-アンヒドロ-10,13-ジヒドロ-13-ヒドロキシ-デスマイコシン 20-ジメチルア
セタール(15) 化合物14(１g,1.20ミリモル)をエタノール(12ml)に溶解し、溶液に10％NH4OH
水溶液(24ml)及び徐々にZn粉末(2.5g)を添加した。室温で８時間、攪拌した後、
実施例14で述べた方法と同様の方法で分離を行った。
セタール(15) 化合物14(１g,1.20ミリモル)をエタノール(12ml)に溶解し、溶液に10％NH4OH
水溶液(24ml)及び徐々にZn粉末(2.5g)を添加した。室温で８時間、攪拌した後、
実施例14で述べた方法と同様の方法で分離を行った。
【００６１】 収量：0.95g,96.9％；Rf(A) 0.48；；MH+ 818（UVスペクトルにおいて吸収しな
かった）。
かった）。
【００６２】
【００６３】 実施例１６ 3-メタンスルホニル-2’,4’,4”-トリアセチル-10,11,12,13-テトラヒドロ-デ
スマイコシン20-ジメチルアセタール(16) 化合物５(３g,3.16ミリモル)をピリジン(9.15ml)に溶解し、10℃に冷却しつい
でメタンスルホクロライド(1.57ml,12.4ミリモル)を徐々に添加した。反応溶液
を10℃で３時間攪拌し、250mlの水に注入し、9.2のpH値になるまでアルカリ性に
しついで30分間攪拌した。濃厚な白色沈殿を濾過により分離し、湿潤している沈
殿をクロロホルム(60ml)に溶解しついで飽和NaCl溶液(120ml)で洗浄した。抽出
物を乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：2.95g,86.5％；Rf(C) 0.70；；MH+ 1026;（UVスペクトルにおいて吸収し
なかった）。
スマイコシン20-ジメチルアセタール(16) 化合物５(３g,3.16ミリモル)をピリジン(9.15ml)に溶解し、10℃に冷却しつい
でメタンスルホクロライド(1.57ml,12.4ミリモル)を徐々に添加した。反応溶液
を10℃で３時間攪拌し、250mlの水に注入し、9.2のpH値になるまでアルカリ性に
しついで30分間攪拌した。濃厚な白色沈殿を濾過により分離し、湿潤している沈
殿をクロロホルム(60ml)に溶解しついで飽和NaCl溶液(120ml)で洗浄した。抽出
物を乾燥しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：2.95g,86.5％；Rf(C) 0.70；；MH+ 1026;（UVスペクトルにおいて吸収し
なかった）。
【００６４】 溶剤系Ｃを使用するシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィーにより、下記
の特性を有する生成物が得られた。
の特性を有する生成物が得られた。
【００６５】
【００６６】 実施例１７ 2,3-アンヒドロ-10,11,12,13-テトラヒドロ-デスマイコシン20-ジメチルアセタ
ール(17) 化合物16(２g,1.95ミリモル)をメタノール(40ml)に溶解し、この溶液に25％
NH4OH溶液(20ml)を添加しついで反応溶液を室温で３時間攪拌した。反応溶液を
その容量の1/3になるまで蒸発させ、クロロホルムで抽出し、乾燥しついで蒸発
させて乾燥残渣を得た。粗生成物をメタノール(80ml)に溶解し、溶液を還流温度
で６時間加熱した。ついでメタノールを蒸発させ、生成物をクロロホルム(40ml)
に溶解し、飽和NaHCO3溶液で洗浄しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：1.39g,89.0％；Rf(A) 0.45；；MH+ 804。
ール(17) 化合物16(２g,1.95ミリモル)をメタノール(40ml)に溶解し、この溶液に25％
NH4OH溶液(20ml)を添加しついで反応溶液を室温で３時間攪拌した。反応溶液を
その容量の1/3になるまで蒸発させ、クロロホルムで抽出し、乾燥しついで蒸発
させて乾燥残渣を得た。粗生成物をメタノール(80ml)に溶解し、溶液を還流温度
で６時間加熱した。ついでメタノールを蒸発させ、生成物をクロロホルム(40ml)
に溶解し、飽和NaHCO3溶液で洗浄しついで蒸発させて乾燥残渣を得た。 収量：1.39g,89.0％；Rf(A) 0.45；；MH+ 804。
【００６７】
【００６８】 実施例１８ 2,3-アンヒドロ-10,11,12,13-テトラヒドロ-デスマイコシン(18) 化合物17(１g,1.2ミリモル)をアセトニトリル(10ml)及び１％トリフルオロ酢
酸(13ml)中に溶解させた。反応溶液を室温で２時間攪拌しついで実施例４で述べ
た方法と同様の方法で分離を行った。 収量：0.80g,85.0％；Rf(A) 0.35；；MH+ 758。
酸(13ml)中に溶解させた。反応溶液を室温で２時間攪拌しついで実施例４で述べ
た方法と同様の方法で分離を行った。 収量：0.80g,85.0％；Rf(A) 0.35；；MH+ 758。
【００６９】
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１３年４月１１日（２００１．４．１１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ， ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，Ｃ Ｎ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ， ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 デイエレック，マルコ クロアチア共和国 10000 ザグレブ，バ ルツラ カシカ ４ (72)発明者 パフロヴイック，トラツエン クロアチア共和国 10000 ザグレブ，イ ヴアナ ヴイシナ １ Ｆターム(参考） 4C057 AA30 DD01 KK22 4C086 AA03 AA04 EA14 MA01 MA04 ZB32
Claims (22)
- 【請求項１】 式I （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨ又はアセチルを表し、 Ｒ3はＨ又はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2又はN-O(CH3)2を表し、線---は一重結合又
は二重結合を表し、線……はエポキシ環 又は二重結合又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシ
ン誘導体、及び、式II （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨ又はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2又
はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ-デスマ
イコシン誘導体。 - 【請求項２】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2がアセチルを表し、Ｒ3がＨ
を表し、Ｒ4がN(CH3)2を表し、線---及び……が二重結合を表し、前記波線が一
重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項３】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3がＨを表し、R2がアセチル
を表し、Ｒ4がN(CH3)2を表し、線---及び……が二重結合を表し、前記波線が一
重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項４】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がＨを表し、Ｒ4が N(CH3)2を表し、線---及び……が二重結合を表し、前記波線が一重結合を表す、
式Iで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項５】 ＲがCHOを表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がＨを表し、Ｒ4がN(CH3)2を
表し、線---及び……が二重結合を表し、前記波線が一重結合を表す、式Iで表さ
れる請求項１に記載の化合物。 - 【請求項６】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2がアセチルを表し、Ｒ3がＨ
を表し、Ｒ4がN(CH3)2を表し、線---、……及び前記波線が一重結合を表す、式I
で表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項７】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3がＨを表し、Ｒ2がアセチル
を表し、Ｒ4がN(CH3)2を表し、線---、……及び前記波線が一重結合を表す、式I
で表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項８】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がＨを表し、Ｒ4が N(CH3)2を表し、線---、……及び前記波線が一重結合を表す、式Iで表される請
求項１に記載の化合物。 - 【請求項９】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2がアセチルを表し、Ｒ3がＨ
を表し、Ｒ4がN-O(CH3)2を表し、線---が二重結合を表し、線……が前記エポキ
シ環を表し、前記波線が一重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合
物。 - 【請求項１０】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3がＨを表し、Ｒ2がアセチ
ルを表し、Ｒ4がN-O(CH3)2を表し、線---が二重結合を表し、線……が前記エポ
キシ環を表し、前記波線が一重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化
合物。 - 【請求項１１】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がＨを表し、Ｒ4が
N-O(CH3)2を表し、線---が二重結合を表し、線……が前記エポキシ環を表し、前
記波線が一重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項１２】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がＨを表し、Ｒ4が
N(CH3)2を表し、線---が一重結合を表し、線……が前記エポキシ環を表し、前記
波線が一重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項１３】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3がＨを表し、Ｒ2がアセチ
ルを表し、Ｒ4がN(CH3)2を表し、線---が一重結合を表し、線……が前記エポキ
シ環を表し、前記波線が一重結合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合
物。 - 【請求項１４】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2がＨを表し、Ｒ3がOHを表
し、Ｒ4がN(CH3)2を表し、線---及び……が一重結合を表し、前記波線が二重結
合を表す、式Iで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項１５】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1がＨを表し、Ｒ2がN-O(CH3)2を表
し、線---が二重結合を表し、線……が前記エポキシ環を表し、前記波線が一重
結合を表す、式IIで表される請求項１に記載の化合物。 - 【請求項１６】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1がOHを表し、Ｒ2がN(CH3)2を表し
、線---及び……が一重結合を表し、前記波線が二重結合を表す、式Iで表される
請求項１に記載の化合物。 - 【請求項１７】 ＲがCH(OCH3)2を表し、Ｒ1がＨを表し、Ｒ2がN(CH3)2を表し
、線---、……及び前記波線が一重結合を表す、式IIで表される請求項１に記載
の化合物。 - 【請求項１８】 ＲがCHOを表し、Ｒ1がＨを表し、Ｒ2がN(CH3)2を表し、線 ---、……及び前記波線が一重結合を表す、式IIで表される請求項１に記載の化
合物。 - 【請求項１９】 ＲがOHを表し、線---が一重結合を表すことを特徴とする、
式IIIの化合物。 - 【請求項２０】 ＲがSO2CH3を表し、線---が一重結合を表すことを特徴とす
る、式IIIの化合物。 - 【請求項２１】 式III (式中、ＲはＨ又はSO2CH3を表し、線---は二重結合を表す)の化合物を、 Ａ/ 塩化メチレンの溶液中で、15-28当量のDMSO、8-14当量のN-(3-ジメチルアミ
ノプロピル)-N’-エチルカルボジイミド塩酸塩及び8-14当量のピリジン トリフ
ルオロアセテートの存在下、２〜６時間、10−25℃の温度で酸化反応にかけ、つ
いで、得られた式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチ
ルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表
し、後記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｂ/ 還流温度で、４−６時間、メタノリシスにかけ、ついで得られた式Iの化合
物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し
、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、後記波線は一重結合
を表す）を、場合により、 Ｂ1/ メタノールと25％NH4OHとの混合物(2：1)中で、５℃で、48−60時間、アル
カリ性メタノリシスにかけ、ついで、得られた一般式Iの化合物（式中、Ｒは CH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及
び……は二重結合を表し、後記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｂ2/ アセトニトリルと１％トリフルオロ酢酸との混合物(2：3)中で、２時間、
室温で加水分解にかけて、式Iの化合物（式中、ＲはCHOを表し、Ｒ1、Ｒ2及び Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、後記波
線は一重結合を表す）を得るか、又は、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチルを表し、 Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、後記波
線は一重結合を表す）を、 Ｃ/ ２−５％Pd/C(w/w)の存在下、室温で、５−８時間、0.3−0.5MPaの水素圧下
で接触水素添加反応にかけ、ついで、得られた式Iの化合物（式中、Ｒは CH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はアセチルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2 を表し、線---、……及び後記波線は二重結合を表す）を、場合により、 Ｂ又はＢ1で述べたと同様の方法でメタノリシス又はアルカリ性メタノリシスに
かけるか、又は、場合により、 Ｄ/ 塩化メチレン溶液中、３−６当量のm-クロロ過安息香酸の存在下、６−10時
間、室温で酸化反応にかけて、式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1
及びＲ2はアセチルを表し、Ｒ3はＨを表し、Ｒ4はN-O(CH3)2を表し、線---は二
重結合を表し、線……は後記エポキシ環を表し、後記波線は一重結合を表す）を
得るか、又は、場合により、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はア
セチルを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、後記波
線は一重結合を表す）を、Ｄで述べた方法と同様の方法で酸化反応にかけ、つい
で、得られた式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し
、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ4はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合を表し、線…
…は後記エポキシ環を表し、後記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｃで述べた方法と同様の方法で接触水素添加反応にかけて、式Iの化合物（式中
、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ3はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---は一重結合を表し、線……は後記エポキシ環を表し、後記
波線は一重結合を表す）を得るか、又は、場合により、 Ｅ/ EtOHと10％NH4OH水溶液とからなる溶液(1:2)中で、5.0−5.5のpH値を保持し
ながら、Zn粉末を使用して還元して、式Iの化合物(式中、ＲはCH(OCH3)2を表し
、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はアセチルを表し、Ｒ3はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し
、線---及び……は一重結合を表し、後記波線は二重結合を表す）を得るか、又
は、場合により、 式Iの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4 はN(CH3)2を表し、線---及び……は二重結合を表し、後記波線は一重結合を表す
）を、Ｄで述べた方法と同様の方法で酸化反応にかけ、ついで、得られた式Iの
化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4は
N-0(CH3)2を表し、線---は二重結合を表し、線……は後記エポキシ環を表し、後
記波線は一重結合を表す）を、場合により、 Ｃで述べたと同様の方法で接触水素添加反応にかけて、式Iの化合物（式中、Ｒ
はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はＨを表し、Ｒ4はN(CH3)2を表し、 線---は二重結合を表し、線……は後記エポキシ環を表し、後記波線は一重結合
を表す）を得る、か又は、場合により、 Ｅで述べたと同様の方法でZn粉末を使用する還元反応にかけて、式Iの化合物 (式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨを表し、Ｒ3はOHを表し、Ｒ4は
N(CH3)2を表し、線---及び……は一重結合を表し、後記波線は二重結合を表す）
を得ることを特徴とする、式I （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1及びＲ2はＨ又はアセチルを表し、 Ｒ3はＨ又はOHを表し、Ｒ4はN(CH3)2又はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又
は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は二重結合又は一重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-3-オキソ-デスマイコシ
ン誘導体の製造方法。 - 【請求項２２】 式IIIの化合物（式中、ＲはＨを表し、線---は二重結合を表
す）を請求項２１、工程Ｃに従って接触水素添加反応にかけ、ついで、得られた
式IIIの化合物（式中、ＲはＨを表し、線---は一重結合を表す）を、場合により
、Ｆ/ ピリジン溶液中で、３−５当量のメタンスルホクロライドを添加して、10
℃で３−５時間、メシル化反応にかけ、ついで、得られた式IIIの化合物（式中
、ＲはSO2CH3を表し、線---は一重結合を表す）を、 Ｇ/ メタノールと25％NH4OHとの混合物(2:1)中で、室温で５時間、メシレートの
除去反応にかけ、ついで、請求項２１のＢ1に記載の方法と同様の方法でメタノ
リシスにかけ、ついで得られた式IIの化合物(式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1
はＨを表し、Ｒ2はN(CH3)2を表し、線---、……及び後記波線は一重結合を表す)
を請求項２１のＢ2に記載の方法と同様の方法で、加水分解反応にかけるか、又
は、場合により、 一般式IIIの化合物（式中、ＲはＨを表し、線---は二重結合を表す）を、Ｆに
記載したものと同様のメシル化反応、Ｇに記載したものと同様の除去反応及びつ
いで請求項２１のＢに記載のメタノリシス反応にかけ、ついで、得られた式IIの
化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はN(CH3)2を表し、線
---及び……は二重結合を表し、後記波線は一重結合を表す）を、請求項２１の
Ｄに記載の方法と同様の方法で酸化反応にかけ、ついで、得られた式IIの化合物
（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨを表し、Ｒ2はN-O(CH3)2を表し、線---
は二重結合を表し、線……は後記エポキシ環を表し、後記波線は一重結合を表す
）を、場合により、 請求項２１のＥに記載と同様の方法で亜鉛粉末を使用する還元反応にかけて、式
IIの化合物（式中、ＲはCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2を表し
、線---及び……は一重結合を表し、後記波線は二重結合を表す）を得ることを
特徴とする、式II （式中、ＲはCH0又はCH(OCH3)2を表し、Ｒ1はＨ又はOHを表し、Ｒ2はN(CH3)2又
はN-O(CH3)2を表し、線---は二重結合又は一重結合を表し、線……はエポキシ環 又は一重結合又は二重結合を表し、波線 は二重結合又は一重結合を表す）で表される3-デオキシ-2,3-ジデヒドロ-デスマ
イコシン誘導体の製造方法。
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