JP2002255920A - スルファモイル置換フェネチルアミン誘導体の製造方法 - Google Patents
スルファモイル置換フェネチルアミン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JP2002255920A JP2002255920A JP2001132136A JP2001132136A JP2002255920A JP 2002255920 A JP2002255920 A JP 2002255920A JP 2001132136 A JP2001132136 A JP 2001132136A JP 2001132136 A JP2001132136 A JP 2001132136A JP 2002255920 A JP2002255920 A JP 2002255920A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- embedded image
- alkyl
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
- C07C303/40—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reactions not involving the formation of sulfonamide groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、化学式（１）で表されるスルファモ
イル置換フェネチルアミン誘導体を工業的な規模で簡便
に製造することを課題とする。 【解決手段】５−（２−アミノプロピル）−２−メトキ
シベンゼンスルホンアミドまたはその塩を、塩基の存在
下に、２−（２−アルコキシフェノキシ）酢酸またはそ
のカルボキシ基における反応性誘導体と反応させて、２
−（２−アルコキシフェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メ
トキシ−３−スルファモイルフェニル）−１−メチルエ
チル］アセトアミドを得、これを還元して、化学式
（１）で表される化合物を得ることにより、上記の課題
を解決する。 【化１】 （式中、RはＣ1-4アルキル基である）
イル置換フェネチルアミン誘導体を工業的な規模で簡便
に製造することを課題とする。 【解決手段】５−（２−アミノプロピル）−２−メトキ
シベンゼンスルホンアミドまたはその塩を、塩基の存在
下に、２−（２−アルコキシフェノキシ）酢酸またはそ
のカルボキシ基における反応性誘導体と反応させて、２
−（２−アルコキシフェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メ
トキシ−３−スルファモイルフェニル）−１−メチルエ
チル］アセトアミドを得、これを還元して、化学式
（１）で表される化合物を得ることにより、上記の課題
を解決する。 【化１】 （式中、RはＣ1-4アルキル基である）
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、スルファモイルで
置換されたフェネチルアミン誘導体、具体的には下記の
化学式（１）で表される５−｛２−［２−（２−アルコ
キシ−フェノキシ）エチルアミノ］−プロピル｝−２−
メトキシ−ベンゼンスルホンアミドまたはその塩の新規
な製造方法に関するものである。
置換されたフェネチルアミン誘導体、具体的には下記の
化学式（１）で表される５−｛２−［２−（２−アルコ
キシ−フェノキシ）エチルアミノ］−プロピル｝−２−
メトキシ−ベンゼンスルホンアミドまたはその塩の新規
な製造方法に関するものである。
【化９】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである）
【０００２】
【従来の技術】前記の化学式（１）の化合物は、米国特
許第５，４４７，９５８号に開示された化合物であり、
高血圧、うっ血性心不全、狭心症または前立腺肥大症に
対して優れた治療効果を有することが知られている。前
記の米国特許に開示された化学式（１）の化合物の製造
方法は、下記の化学式（２）の化合物の塩酸塩を化学式
（３）の化合物と反応させる方法である。
許第５，４４７，９５８号に開示された化合物であり、
高血圧、うっ血性心不全、狭心症または前立腺肥大症に
対して優れた治療効果を有することが知られている。前
記の米国特許に開示された化学式（１）の化合物の製造
方法は、下記の化学式（２）の化合物の塩酸塩を化学式
（３）の化合物と反応させる方法である。
【化１０】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の方法
は収率が極めて低く（約４５％）、カラムクロマトグラ
フィーによる精製段階が不可欠であるため、その経済的
な負担も無視できない。その上、工業的な規模での生産
も困難であるため、工業的に望ましい製造方法とは言え
ない。
は収率が極めて低く（約４５％）、カラムクロマトグラ
フィーによる精製段階が不可欠であるため、その経済的
な負担も無視できない。その上、工業的な規模での生産
も困難であるため、工業的に望ましい製造方法とは言え
ない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、収率が高
く、かつ精製も容易である新規な製造方法を開発するた
め研究を重ねてきた。その結果、下記の化学式（２）の
化合物またはその塩を、塩基の存在下に、下記の化学式
（４）の化合物またはそのカルボキシ基における反応性
誘導体と反応させ、得られる下記の化学式（５）の化合
物を還元して、前記の化学式（１）の化合物を製造する
方法を見出した。この方法によれば、収率が高く、精製
も容易であるため、工業的な規模での生産に適してお
り、経済的かつ効率的な方法であることを確認して、本
発明を完成するに至った。
く、かつ精製も容易である新規な製造方法を開発するた
め研究を重ねてきた。その結果、下記の化学式（２）の
化合物またはその塩を、塩基の存在下に、下記の化学式
（４）の化合物またはそのカルボキシ基における反応性
誘導体と反応させ、得られる下記の化学式（５）の化合
物を還元して、前記の化学式（１）の化合物を製造する
方法を見出した。この方法によれば、収率が高く、精製
も容易であるため、工業的な規模での生産に適してお
り、経済的かつ効率的な方法であることを確認して、本
発明を完成するに至った。
【化１１】
【化１２】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである）
【０００５】したがって、本発明の目的は、スルファモ
イルで置換フェネチルアミン誘導体、具体的には下記の
化学式（１）の化合物またはその塩の新規な製造方法を
提供することである。
イルで置換フェネチルアミン誘導体、具体的には下記の
化学式（１）の化合物またはその塩の新規な製造方法を
提供することである。
【化１３】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである）
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明は、 ｉ）下記の化学式（２）の化合物またはその塩を、塩基
の存在下に、下記の化学式（4）の化合物またはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体と反応させ、下記の化
学式（５）の化合物を得、 ii）この化合物を還元することを特徴とする、下記の化
学式（１）の化合物またはその塩を製造する方法に関す
る。
の存在下に、下記の化学式（4）の化合物またはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体と反応させ、下記の化
学式（５）の化合物を得、 ii）この化合物を還元することを特徴とする、下記の化
学式（１）の化合物またはその塩を製造する方法に関す
る。
【化１４】
【化１５】
【化１６】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである）
【０００７】上記の反応を図式化すると、下記の反応式
の通りである。
の通りである。
【化１７】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである）
【０００８】本発明の製造方法は、２段階の反応で行わ
れるが、それを具体的に説明すると、次の通りである。 第１段階：化学式（５）の化合物の製造 前記の化学式（２）の化合物またはその塩を、塩基の存
在下に、前記の化学式（４）の化合物またはそのカルボ
キシ基における反応性誘導体と反応させ、前記の化学式
（５）の化合物を製造する。化学式（４）の化合物のカ
ルボキシ基における反応性誘導体としては、酸ハライ
ド、酸無水物、活性エステルなど、アミド化反応に適し
た通常の反応性誘導体が挙げられる。
れるが、それを具体的に説明すると、次の通りである。 第１段階：化学式（５）の化合物の製造 前記の化学式（２）の化合物またはその塩を、塩基の存
在下に、前記の化学式（４）の化合物またはそのカルボ
キシ基における反応性誘導体と反応させ、前記の化学式
（５）の化合物を製造する。化学式（４）の化合物のカ
ルボキシ基における反応性誘導体としては、酸ハライ
ド、酸無水物、活性エステルなど、アミド化反応に適し
た通常の反応性誘導体が挙げられる。
【０００９】具体的には、前記の化学式（５）の化合物
は次のように、 方法（ａ）：化学式（２）の化合物またはその塩を化学
式（４）の化合物のハロゲン化物と反応させるか、また
は 方法（ｂ）：化学式（２）の化合物またはその塩を化学
式（４）の化合物の混合無水物と反応させるか、または 方法（ｃ）：化学式（２）の化合物またはその塩を化学
式（４）の化合物と反応させて製造してもよい。
は次のように、 方法（ａ）：化学式（２）の化合物またはその塩を化学
式（４）の化合物のハロゲン化物と反応させるか、また
は 方法（ｂ）：化学式（２）の化合物またはその塩を化学
式（４）の化合物の混合無水物と反応させるか、または 方法（ｃ）：化学式（２）の化合物またはその塩を化学
式（４）の化合物と反応させて製造してもよい。
【００１０】前記の反応で、塩基としてはトリアルキル
アミン、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、または無機塩基、例
えば、Ｋ2ＣＯ3、Ｎａ2ＣＯ3、ＫＨＣＯ3、ＮａＨＣＯ3
などのような通常の塩基を用いてもよいが、トリエチル
アミンが特に好適である。
アミン、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、または無機塩基、例
えば、Ｋ2ＣＯ3、Ｎａ2ＣＯ3、ＫＨＣＯ3、ＮａＨＣＯ3
などのような通常の塩基を用いてもよいが、トリエチル
アミンが特に好適である。
【００１１】前記の方法（ａ）で用いられる化学式
（４）の化合物のハロゲン化物のうち塩化物は、下記の
化学式（４ａ）で表される化合物であり、上記の化学式
（４）の化合物を、酸塩化物、例えば、ＳＯＣｌ2、Ｐ
Ｃｌ3、ＰＣｌ5、ＰＯＣｌ3またはオキサリルクロライ
ドなどと反応させて製造してもよい。
（４）の化合物のハロゲン化物のうち塩化物は、下記の
化学式（４ａ）で表される化合物であり、上記の化学式
（４）の化合物を、酸塩化物、例えば、ＳＯＣｌ2、Ｐ
Ｃｌ3、ＰＣｌ5、ＰＯＣｌ3またはオキサリルクロライ
ドなどと反応させて製造してもよい。
【化１８】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである）
【００１２】前記の方法（ａ）で用いられる溶媒として
は、反応に悪影響を与えない極性溶媒および非極性溶媒
のいずれも用いることができる。好ましい溶媒として
は、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホ
キサイド（ＤＭＳＯ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などが挙げられる
が、ＴＨＦが特に好ましい。反応温度は約０〜１００℃
である。
は、反応に悪影響を与えない極性溶媒および非極性溶媒
のいずれも用いることができる。好ましい溶媒として
は、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホ
キサイド（ＤＭＳＯ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などが挙げられる
が、ＴＨＦが特に好ましい。反応温度は約０〜１００℃
である。
【００１３】前記の方法（ｂ）で用いられる化学式
（４）の化合物の混合無水物とは、下記の化学式（４
ｂ）で表される化合物であり、下記の化学式（４ｃ）の
化合物を前記の化学式（４）の化合物と反応させて製造
してもよい。
（４）の化合物の混合無水物とは、下記の化学式（４
ｂ）で表される化合物であり、下記の化学式（４ｃ）の
化合物を前記の化学式（４）の化合物と反応させて製造
してもよい。
【化１９】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルであり、Ｒ′はアルキル、
アルケニルまたはアリールである）
アルケニルまたはアリールである）
【００１４】前記の化学式（４ｃ）の化合物として好ま
しいのは、Ｃ1―4アルキルクロロホルメート、例えば、
メチルクロロホルメート、エチルクロロホルメート、イ
ソブチルクロロホルメート、フェニルクロロホルメー
ト、アリルクロロホルメートなどである。
しいのは、Ｃ1―4アルキルクロロホルメート、例えば、
メチルクロロホルメート、エチルクロロホルメート、イ
ソブチルクロロホルメート、フェニルクロロホルメー
ト、アリルクロロホルメートなどである。
【００１５】前記の方法（ｂ）で用いられる溶媒として
は、反応に悪影響を与えない極性溶媒および非極性溶媒
のいずれも用いることができる。好ましい溶媒として
は、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡ、ＴＨＦなどが挙げられ
るが、ＴＨＦが特に好ましい。反応温度は約−２０℃〜
５０℃である。
は、反応に悪影響を与えない極性溶媒および非極性溶媒
のいずれも用いることができる。好ましい溶媒として
は、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡ、ＴＨＦなどが挙げられ
るが、ＴＨＦが特に好ましい。反応温度は約−２０℃〜
５０℃である。
【００１６】前記の方法（ｃ）のように、化学式（４）
の化合物をそのまま用いる場合には、塩基および縮合剤
の存在下に、化学式（２）の化合物またはその塩を、化
学式（４）の化合物と反応させて、化学式（５）の化合
物を製造してもよい。
の化合物をそのまま用いる場合には、塩基および縮合剤
の存在下に、化学式（２）の化合物またはその塩を、化
学式（４）の化合物と反応させて、化学式（５）の化合
物を製造してもよい。
【００１７】前記の反応で用いられる縮合剤としては、
ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカル
ボジイミド、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］
−３−エチルカルボジイミド、ビス（２−オキソ−３−
オキサゾリジニル）ホスフィン酸クロライド、ベンゾト
リアゾール−１−イルオキシ−トリス（ジメチルアミ
ノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベ
ンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テ
トラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート、
Ｏ−７−アザベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロ
ボレートなどが挙げられるが、これらの中でもジシクロ
ヘキシルカルボジイミドが特に好適である。
ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカル
ボジイミド、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］
−３−エチルカルボジイミド、ビス（２−オキソ−３−
オキサゾリジニル）ホスフィン酸クロライド、ベンゾト
リアゾール−１−イルオキシ−トリス（ジメチルアミ
ノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベ
ンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テ
トラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート、
Ｏ−７−アザベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロ
ボレートなどが挙げられるが、これらの中でもジシクロ
ヘキシルカルボジイミドが特に好適である。
【００１８】前記の方法（ｃ）で用いられる溶媒として
は、反応に悪影響を与えない極性溶媒および非極性溶媒
のいずれを用いてもよい。好ましい溶媒としては、ＤＭ
Ｆ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡ、ＴＨＦなどが挙げられるが、Ｄ
ＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡなどが特に好ましい。反応温度
は約０〜１００℃である。
は、反応に悪影響を与えない極性溶媒および非極性溶媒
のいずれを用いてもよい。好ましい溶媒としては、ＤＭ
Ｆ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡ、ＴＨＦなどが挙げられるが、Ｄ
ＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡなどが特に好ましい。反応温度
は約０〜１００℃である。
【００１９】上記の方法（ｃ）には、任意に付加剤を加
えてもよい。付加剤としては、ジメチルアミノピリジ
ン、ヒドロキシベンゾトリアゾールまたはＮ−ヒドロキ
シスクシンイミドなどが挙げられる。これらの付加剤
は、副反応を抑制し、反応生成物の収率を高める役割を
果たす。
えてもよい。付加剤としては、ジメチルアミノピリジ
ン、ヒドロキシベンゾトリアゾールまたはＮ−ヒドロキ
シスクシンイミドなどが挙げられる。これらの付加剤
は、副反応を抑制し、反応生成物の収率を高める役割を
果たす。
【００２０】上記の第１段階の反応で用いられる縮合
剤、塩基および付加剤の使用量は、特に限定されない
が、化学式（２）の化合物またはその塩に対して約１〜
３当量の範囲内で用いるのが望ましく、通常、１〜２４
時間攪拌しながら反応が行われる。その後、生成した化
学式（５）の化合物をろ過し、そのろ液を減圧濃縮して
から、適当な溶媒（例えば、酢酸エチル）を加えて抽出
し、次いで洗浄、乾燥、ろ過、減圧濃縮の過程を経た
後、次の第２段階の反応で用いるのが好ましい。
剤、塩基および付加剤の使用量は、特に限定されない
が、化学式（２）の化合物またはその塩に対して約１〜
３当量の範囲内で用いるのが望ましく、通常、１〜２４
時間攪拌しながら反応が行われる。その後、生成した化
学式（５）の化合物をろ過し、そのろ液を減圧濃縮して
から、適当な溶媒（例えば、酢酸エチル）を加えて抽出
し、次いで洗浄、乾燥、ろ過、減圧濃縮の過程を経た
後、次の第２段階の反応で用いるのが好ましい。
【００２１】第２段階：化学式（１）の化合物の製造：
前記の第１段階で得られた化学式（５）の化合物を、溶
媒中で還元することにより、化学式（１）の化合物が得
られる。溶媒としては、反応に悪影響を与えない極性溶
媒および非極性溶媒のいずれを用いてもよい。好ましい
溶媒としては、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡ、ＴＨＦなど
が挙げられるが、ＴＨＦが特に好適である。
前記の第１段階で得られた化学式（５）の化合物を、溶
媒中で還元することにより、化学式（１）の化合物が得
られる。溶媒としては、反応に悪影響を与えない極性溶
媒および非極性溶媒のいずれを用いてもよい。好ましい
溶媒としては、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＡ、ＴＨＦなど
が挙げられるが、ＴＨＦが特に好適である。
【００２２】還元反応は還元剤を用いて行うのが好まし
い。還元剤としては、リチウムアルミニウムハイドライ
ド、ボラン（Borane）、ジイソブチルアルミニウムハイ
ドライド、ナトリウムボロハイドライドヨード（sodium
borohydride‐iodine）、ナトリウムボロハイドライド
硫酸（sodium borohydride‐sulfate）などが、通常、
約２〜６当量用いられる。還元反応の最適温度は約４０
〜８０℃であり、反応は約１２〜２４時間続けられる。
生成した化学式（１）の化合物は常法によりその塩に導
くことができる。例えば、化学式（１）の化合物に無水
塩酸を加えることにより、その塩酸塩が得られる。
い。還元剤としては、リチウムアルミニウムハイドライ
ド、ボラン（Borane）、ジイソブチルアルミニウムハイ
ドライド、ナトリウムボロハイドライドヨード（sodium
borohydride‐iodine）、ナトリウムボロハイドライド
硫酸（sodium borohydride‐sulfate）などが、通常、
約２〜６当量用いられる。還元反応の最適温度は約４０
〜８０℃であり、反応は約１２〜２４時間続けられる。
生成した化学式（１）の化合物は常法によりその塩に導
くことができる。例えば、化学式（１）の化合物に無水
塩酸を加えることにより、その塩酸塩が得られる。
【００２３】上記の反応による本発明の方法は、公知の
方法と比べて、収率が高く、精製が容易であり、かつク
ロマトグラフィーのような分離の段階を要しないという
長所を有する。以下、実施例により本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限され
るものではない。
方法と比べて、収率が高く、精製が容易であり、かつク
ロマトグラフィーのような分離の段階を要しないという
長所を有する。以下、実施例により本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限され
るものではない。
【００２４】実施例１ 方法（ａ）による化学式（５）の化合物の製造：１．９
６ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−
フェノキシ）酢酸に、１．３０ｇ（１１ｍｍｏｌ）のチ
オニルクロライドを加え、３０分間加熱還流した後、減
圧蒸留すると、（２−エトキシ−フェノキシ）アセチル
クロライドが得られた。一方、２．４４ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）−５−［（２−アミ
ノ−２−メチル）エチル］−２−メトキシベンゼンスル
ホンアミドに２０ｍｌのＴＨＦと２．７８ｍｌ（２０ｍ
ｍｏｌ、２．０当量）のトリエチルアミンを加えた後、
反応液の温度を０℃まで冷却した。この反応液に、上記
で得られた（２−エトキシ−フェノキシ）アセチルクロ
ライドを滴下した後、１時間攪拌し、生成した固体をろ
過した。次いで、そのろ液を減圧蒸留し、４０ｍｌの酢
酸エチルで抽出した後、１Ｎ−ＨＣｌ、炭酸水素ナトリ
ウムの飽和水溶液および食塩水（ｂｒｉｎｅ）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を
再び減圧蒸留すると、３．８０ｇ（９０％）の２−（２
−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メトキシ
−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチル−エチ
ル］−アセトアミドが得られた。
６ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−
フェノキシ）酢酸に、１．３０ｇ（１１ｍｍｏｌ）のチ
オニルクロライドを加え、３０分間加熱還流した後、減
圧蒸留すると、（２−エトキシ−フェノキシ）アセチル
クロライドが得られた。一方、２．４４ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）−５−［（２−アミ
ノ−２−メチル）エチル］−２−メトキシベンゼンスル
ホンアミドに２０ｍｌのＴＨＦと２．７８ｍｌ（２０ｍ
ｍｏｌ、２．０当量）のトリエチルアミンを加えた後、
反応液の温度を０℃まで冷却した。この反応液に、上記
で得られた（２−エトキシ−フェノキシ）アセチルクロ
ライドを滴下した後、１時間攪拌し、生成した固体をろ
過した。次いで、そのろ液を減圧蒸留し、４０ｍｌの酢
酸エチルで抽出した後、１Ｎ−ＨＣｌ、炭酸水素ナトリ
ウムの飽和水溶液および食塩水（ｂｒｉｎｅ）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を
再び減圧蒸留すると、３．８０ｇ（９０％）の２−（２
−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メトキシ
−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチル−エチ
ル］−アセトアミドが得られた。
【数１】
【００２５】実施例２ 方法（ｂ）による化学式（５）の化合物の製造：１．９
６ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−
フェノキシ）酢酸に、２０ｍｌのＴＨＦ及び１．１０ｍ
ｌ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）のＮ−メチルモルホリ
ンを加え、反応液の温度を２０℃に冷却した後、１．２
９ｍｌ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）のイソブチルクロ
ロホルメートを加えて３０分間攪拌した。この反応液
に、２０ｍｌのＴＨＦと１．１０ｍｌ（１０ｍｍｏｌ、
１．０当量）のＮ−メチルモルホリンの混合物中の２．
４４ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）
−５−［（２−アミノ−２−メチル）エチル］−２−メ
トキシベンゼンスルホンアミドを徐々に滴下し、４時間
攪拌した。次いで、生成した固体をろ過し、ろ液を減圧
蒸留し、４０ｍｌの酢酸エチルで抽出した後、１Ｎ−Ｈ
Ｃｌ、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液および食塩水で
洗浄した。その後、硫酸マグネシウムで乾燥してからろ
過し、ろ液を減圧蒸留すると、３．８４ｇ（９１％）の
２−（２−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−
メトキシ−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチ
ル−エチル］−アセトアミドが得られた。
６ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−
フェノキシ）酢酸に、２０ｍｌのＴＨＦ及び１．１０ｍ
ｌ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）のＮ−メチルモルホリ
ンを加え、反応液の温度を２０℃に冷却した後、１．２
９ｍｌ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）のイソブチルクロ
ロホルメートを加えて３０分間攪拌した。この反応液
に、２０ｍｌのＴＨＦと１．１０ｍｌ（１０ｍｍｏｌ、
１．０当量）のＮ−メチルモルホリンの混合物中の２．
４４ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）
−５−［（２−アミノ−２−メチル）エチル］−２−メ
トキシベンゼンスルホンアミドを徐々に滴下し、４時間
攪拌した。次いで、生成した固体をろ過し、ろ液を減圧
蒸留し、４０ｍｌの酢酸エチルで抽出した後、１Ｎ−Ｈ
Ｃｌ、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液および食塩水で
洗浄した。その後、硫酸マグネシウムで乾燥してからろ
過し、ろ液を減圧蒸留すると、３．８４ｇ（９１％）の
２−（２−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−
メトキシ−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチ
ル−エチル］−アセトアミドが得られた。
【数２】
【００２６】実施例３ 方法（ｃ）による化学式（５）の化合物の製造：２．４
４ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）−
５−［（２−アミノ−２−メチル）エチル］−２−メト
キシベンゼンスルホンアミドと１．９６ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−フェノキシ）酢酸
に、５０ｍｌのジメチルホルムアミドを加えた後、１．
３５ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）のヒドロキシベン
ゾトリアゾールと１．３９ｍｌ（１０ｍｍｏｌ、１．０
当量）のトリエチルアミンを徐々に加えた後、反応液の
温度を０℃に冷却した。２．０６ｇ（１０ｍｍｏｌ、
１．０当量）のジシクロヘキシルカルボジイミドを加え
た後、反応液の温度を常温に上げて、２４時間攪拌し
た。生成した固体をろ過し、そのろ液を減圧濃縮し、５
０ｍｌの酢酸エチルで抽出した。その後、水、１０％塩
酸、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で順次洗浄してか
ら、硫酸マグネシウムで乾燥した。再びろ過を行い、ろ
液を減圧蒸留すると、４．０１ｇ（９５％）の２−（２
−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メトキシ
−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチル−エチ
ル］−アセトアミドが得られた。
４ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）−
５−［（２−アミノ−２−メチル）エチル］−２−メト
キシベンゼンスルホンアミドと１．９６ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−フェノキシ）酢酸
に、５０ｍｌのジメチルホルムアミドを加えた後、１．
３５ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）のヒドロキシベン
ゾトリアゾールと１．３９ｍｌ（１０ｍｍｏｌ、１．０
当量）のトリエチルアミンを徐々に加えた後、反応液の
温度を０℃に冷却した。２．０６ｇ（１０ｍｍｏｌ、
１．０当量）のジシクロヘキシルカルボジイミドを加え
た後、反応液の温度を常温に上げて、２４時間攪拌し
た。生成した固体をろ過し、そのろ液を減圧濃縮し、５
０ｍｌの酢酸エチルで抽出した。その後、水、１０％塩
酸、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で順次洗浄してか
ら、硫酸マグネシウムで乾燥した。再びろ過を行い、ろ
液を減圧蒸留すると、４．０１ｇ（９５％）の２−（２
−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メトキシ
−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチル−エチ
ル］−アセトアミドが得られた。
【数３】
【００２７】実施例４ 方法（ｃ）による化学式（５）の化合物の製造：２．４
４ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）−
５−［（２−アミノ−２−メチル）エチル］−２−メト
キシベンゼンスルホンアミドと１．９６ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−フェノキシ）酢酸
に、５０ｍｌのジメチルホルムアミド、５．２３ｍｌ
（３０ｍｍｏｌ、３．０当量）のＮ，Ｎ−ジイソプロピ
ルエチルアミンおよび４．４２ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．
０当量）のベンゾトリアゾール−１−イルオキシ−トリ
ス（ジメチルアミノ）ホスホ二ウム ヘキサフルオロホ
スフェートを順次加えてから、１２時間攪拌した。反応
終了後、生成した固体をろ過し、ろ液を減圧蒸留し、４
０ｍｌの酢酸エチルで抽出した。次いで、１Ｎ−ＨＣ
ｌ、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液および食塩水で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。再びろ過し、
ろ液を減圧蒸留すると、４．０５ｇ（９６％）の２−
（２−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メト
キシ−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチル−
エチル］−アセトアミドが得られた。
４ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．０当量）の（Ｒ）−（−）−
５−［（２−アミノ−２−メチル）エチル］−２−メト
キシベンゼンスルホンアミドと１．９６ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の（２−エトキシ−フェノキシ）酢酸
に、５０ｍｌのジメチルホルムアミド、５．２３ｍｌ
（３０ｍｍｏｌ、３．０当量）のＮ，Ｎ−ジイソプロピ
ルエチルアミンおよび４．４２ｇ（１０ｍｍｏｌ、１．
０当量）のベンゾトリアゾール−１−イルオキシ−トリ
ス（ジメチルアミノ）ホスホ二ウム ヘキサフルオロホ
スフェートを順次加えてから、１２時間攪拌した。反応
終了後、生成した固体をろ過し、ろ液を減圧蒸留し、４
０ｍｌの酢酸エチルで抽出した。次いで、１Ｎ−ＨＣ
ｌ、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液および食塩水で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。再びろ過し、
ろ液を減圧蒸留すると、４．０５ｇ（９６％）の２−
（２−エトキシ−フェノキシ）−Ｎ−［２−（４−メト
キシ−３−スルファモイル−フェニル）−１−メチル−
エチル］−アセトアミドが得られた。
【数４】
【００２８】実施例５ 化学式（１）の化合物の製造：４．２２ｇ（１０ｍｍｏ
ｌ、１．０当量）の２−（２−エトキシ−フェノキシ）
−Ｎ−［２−（４−メトキシ−３―スルファモイル−フ
ェニル）−１−メチル−エチル］−アセトアミドに、５
０ｍｌのテトラヒドロフランを加えた後、３７９ｍｇ
（１０ｍｍｏｌ、４．０当量）のリチウムアルミニウム
ハイドライドを加えてから、６０℃で２４時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水０．４ｍｌ、１０％ Ｎａ
ＯＨ水溶液０．４ｍｌおよび水１．２ｍｌを順次加えて
から、セライトを用いてろ過した。ろ液を減圧濃縮する
と、３．５ｇの５−｛２−[２−（２−エトキシ−フェ
ノキシ）−エチルアミノ]−プロピル｝−２−メトキシ
−ベンゼンスルホンアミドが得られた。これにエタノー
ル中の２Ｍ−ＨＣｌ溶液１０ｍｌを加えると、３．５６
ｇ（８０％）の５−[２−［２−（２−エトキシ−フェ
ノキシ）−エチルアミノ］−プロピル]−２−メトキシ
−ベンゼンスルホンアミドの塩酸塩が得られた。[α]D
20 ４．０（c = ０．３５、メタノール）
ｌ、１．０当量）の２−（２−エトキシ−フェノキシ）
−Ｎ−［２−（４−メトキシ−３―スルファモイル−フ
ェニル）−１−メチル−エチル］−アセトアミドに、５
０ｍｌのテトラヒドロフランを加えた後、３７９ｍｇ
（１０ｍｍｏｌ、４．０当量）のリチウムアルミニウム
ハイドライドを加えてから、６０℃で２４時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水０．４ｍｌ、１０％ Ｎａ
ＯＨ水溶液０．４ｍｌおよび水１．２ｍｌを順次加えて
から、セライトを用いてろ過した。ろ液を減圧濃縮する
と、３．５ｇの５−｛２−[２−（２−エトキシ−フェ
ノキシ）−エチルアミノ]−プロピル｝−２−メトキシ
−ベンゼンスルホンアミドが得られた。これにエタノー
ル中の２Ｍ−ＨＣｌ溶液１０ｍｌを加えると、３．５６
ｇ（８０％）の５−[２−［２−（２−エトキシ−フェ
ノキシ）−エチルアミノ］−プロピル]−２−メトキシ
−ベンゼンスルホンアミドの塩酸塩が得られた。[α]D
20 ４．０（c = ０．３５、メタノール）
【数５】
【００２９】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、スルファモ
イル置換フェネチルアミン誘導体を高収率で得ることが
でき、しかもクロマトグラフィーのような分離手段によ
らないでも精製が可能である。したがって、本発明によ
れば、スルファモイル置換フェネチルアミン誘導体を、
より経済的に、かつより効率的に大量生産することがで
きる。
イル置換フェネチルアミン誘導体を高収率で得ることが
でき、しかもクロマトグラフィーのような分離手段によ
らないでも精製が可能である。したがって、本発明によ
れば、スルファモイル置換フェネチルアミン誘導体を、
より経済的に、かつより効率的に大量生産することがで
きる。
フロントページの続き (72)発明者 オー チャンヨン 大韓民国 121−250 ソウル市 マーポク ソンサンドン 49−４ (72)発明者 イー キヨン 大韓民国 445−871 キョンキドー ファ ソングン ソンサンミョン ゴジョンニ 1086 (72)発明者 キム ヨンヒョン 大韓民国 157−015 ソウル市 ガンソク ファゴク ５ドン 73−73 (72)発明者 イー イソク 大韓民国 156−090 ソウル市 ドンジャ ック サダンドン 105 ウーソンアパー ト ＃304−407 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB84 AC53 AC61 BA92 BB15 BB20 BB22 BD70 BE22 BE23
Claims (14)
- 【請求項１】 ｉ）下記の化学式（２）の化合物または
その塩を、塩基の存在下に、反応溶媒中で、下記の化学
式（４）の化合物またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体と反応させて、下記の化学式（５）の化合物を
得、次いで ii）この化合物を還元することを特徴とする、下記の化
学式（１）の化合物またはその塩を製造する方法。 【化１】 【化２】 【化３】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである） - 【請求項２】 化学式（４）の化合物の反応性誘導体
が、下記の化学式（４ａ）の化合物である請求項１に記
載の方法。 【化４】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルである） - 【請求項３】 化学式（４ａ）の化合物が、化学式
（４）の化合物を、ＳＯＣｌ2 、ＰＣｌ3、ＰＣｌ5、Ｐ
ＯＣｌ3およびオキサリルクロライドからなる群から選
ばれる酸塩化物と反応させて得られる請求項２に記載の
方法。 - 【請求項４】 化学式（４）の化合物の反応性誘導体
が、下記の化学式（４ｂ）の化合物である請求項１に記
載の方法。 【化５】 （式中、ＲはＣ1―4アルキルであり、Ｒ′はアルキル、
アルケニルまたはアリールである） - 【請求項５】 化学式（４ｂ）の化合物が、化学式
（４）の化合物を下記の化学式（４ｃ）の化合物と反応
させて得られる請求項４に記載の方法。 【化６】 （式中、Ｒ′はアルキル、アルケニルまたはアリールで
ある） - 【請求項６】 Ｒ′がメチル、エチル、イソブチルまた
はフェニルである請求項５に記載の方法。 - 【請求項７】 化学式（２）の化合物またはその塩を、
塩基および縮合剤の存在下に、化学式（４）の化合物と
反応させて化学式（５）の化合物を得、この化合物を還
元して化学式（１）の化合物またはその塩を得る請求項
１に記載の方法。 - 【請求項８】 縮合剤が、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、ジイソプロピルカルボジイミド、１−[３−（ジ
メチルアミノ）プロピル]−３−エチルカルボジイミ
ド、ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）ホスフ
ィン酸クロライド、ベンゾトリアゾール−１−イルオキ
シ−トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム ヘキサフ
ルオロホスフェート、ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イ
ル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウム ヘ
キサフルオロホスフェートまたはｏ−７−アザベンゾト
リアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメ
チルウロニウム ヘキサフルオロボレートである請求項
７に記載の方法。 - 【請求項９】 塩基が、トリアルキルアミンまたは無機
塩基である請求項１〜８のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１０】 トリアルキルアミンが、トリメチルア
ミン、トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルア
ミンである請求項９に記載の方法。 - 【請求項１１】 反応溶媒が、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミドまたは
テトラヒドロフランである請求項１〜８のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項１２】 化学式（５）の化合物の還元に用いら
れる還元剤が、リチウムアルミニウムハイドライド、ボ
ラン、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ナトリ
ウムボロハイドライド−ヨードまたはナトリウムボロハ
イドライド−硫酸である請求項１〜８のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項１３】 下記の化学式（５）で表される化合
物。 【化７】 （式中、ＲはＣ1-4アルキル基である） - 【請求項１４】 下記の化学式（５）で表される化合物
を還元することを特徴とする、下記の化学式（１）で表
される化合物またはその塩を製造する方法。 【化８】 （式中、ＲはＣ1-4アルキル基である）
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0009291A KR100525493B1 (ko) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 설파모일 치환 페네틸아민 유도체의 제조 방법 |
| KR2001-0009291 | 2001-02-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002255920A true JP2002255920A (ja) | 2002-09-11 |
| JP3797887B2 JP3797887B2 (ja) | 2006-07-19 |
Family
ID=19706179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001132136A Expired - Fee Related JP3797887B2 (ja) | 2001-02-23 | 2001-04-27 | スルファモイル置換フェネチルアミン誘導体の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6914159B1 (ja) |
| EP (1) | EP1363878B1 (ja) |
| JP (1) | JP3797887B2 (ja) |
| KR (1) | KR100525493B1 (ja) |
| DE (1) | DE60217647T2 (ja) |
| ES (1) | ES2278897T3 (ja) |
| WO (1) | WO2002068382A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007517797A (ja) * | 2003-12-29 | 2007-07-05 | レツク・フアーマシユーテイカルズ・デー・デー | 高化学的ｒ−５−（２−（２−エトキシフェノキシエチルアミノ）プロピル）−２−メトキシベンゼンスルホンアミド塩酸塩の調製 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2451175A1 (en) * | 2003-11-26 | 2005-05-26 | Torcan Chemical Ltd. | Process for the preparation of tamsulosin |
| CZ295583B6 (cs) * | 2004-02-05 | 2005-08-17 | Zentiva, A. S. | Způsob výroby (R)-(-)-5-(2-aminopropyl)-2-methoxybenzensulfonamidu |
| KR100649358B1 (ko) | 2004-11-12 | 2006-11-28 | (주)유케이케미팜 | 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법 |
| PT103216B (pt) | 2004-12-06 | 2010-05-19 | Hovione Farmaciencia S A | Preparação de tamsulosin |
| US8273918B2 (en) | 2005-09-12 | 2012-09-25 | Avrobindo Pharma Ltd. | Process for preparing tamsulosin hydrochloride |
| WO2007086074A2 (en) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Usv Limited | A process for the preparation of r (-) tamsulosin hydrochloride |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5391825A (en) | 1980-02-08 | 1995-02-21 | Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. | Sulfamoyl substituted phenethylamine intermediates |
| KR850001761B1 (ko) * | 1981-02-07 | 1985-12-09 | 야마노우찌 세이야꾸 가부시끼 가이샤 | 설파모일-치환된 펜에틸아민 유도체의 제조방법 |
| JPS62114952A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-26 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 置換フエネチルアミン誘導体の製造法 |
| US4971990A (en) * | 1988-02-19 | 1990-11-20 | Hokuriku Pharmaceutical Co., Ltd. | Phenoxyethylamine derivatives, for preparing the same and composition for exhibiting excellent α1 -blocking activity containing the same |
| JPH02295967A (ja) * | 1989-05-10 | 1990-12-06 | Hokuriku Seiyaku Co Ltd | フェノキシエチルアミン誘導体の製造方法 |
| JPH02306958A (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-20 | Hokuriku Seiyaku Co Ltd | フェノキシアセトアミド誘導体 |
| KR0136050B1 (ko) * | 1994-07-27 | 1998-04-25 | 이헌조 | 에어콘의 탈취 촉매 필터 재생 장치 |
| JP3662761B2 (ja) * | 1999-02-10 | 2005-06-22 | アステラス製薬株式会社 | フェノキシアルキルハライド誘導体の新規製造法 |
-
2001
- 2001-02-23 KR KR10-2001-0009291A patent/KR100525493B1/ko active IP Right Grant
- 2001-04-27 JP JP2001132136A patent/JP3797887B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-02-07 DE DE60217647T patent/DE60217647T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-07 EP EP02700832A patent/EP1363878B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-07 WO PCT/KR2002/000199 patent/WO2002068382A1/en active IP Right Grant
- 2002-02-07 ES ES02700832T patent/ES2278897T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-07 US US10/468,124 patent/US6914159B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007517797A (ja) * | 2003-12-29 | 2007-07-05 | レツク・フアーマシユーテイカルズ・デー・デー | 高化学的ｒ−５−（２−（２−エトキシフェノキシエチルアミノ）プロピル）−２−メトキシベンゼンスルホンアミド塩酸塩の調製 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6914159B1 (en) | 2005-07-05 |
| JP3797887B2 (ja) | 2006-07-19 |
| EP1363878B1 (en) | 2007-01-17 |
| EP1363878A4 (en) | 2005-12-21 |
| DE60217647T2 (de) | 2008-01-03 |
| EP1363878A1 (en) | 2003-11-26 |
| ES2278897T3 (es) | 2007-08-16 |
| KR100525493B1 (ko) | 2005-11-02 |
| DE60217647D1 (de) | 2007-03-08 |
| WO2002068382A1 (en) | 2002-09-06 |
| KR20020068908A (ko) | 2002-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI797082B (zh) | 新穎二苯甲烷保護劑 | |
| WO2006046499A1 (ja) | インドリン化合物およびその製造方法 | |
| JP6307087B2 (ja) | ベンズアミド化合物の合成に有用な化合物 | |
| JP3911008B2 (ja) | レバミピドの改良製造法 | |
| JP2002255920A (ja) | スルファモイル置換フェネチルアミン誘導体の製造方法 | |
| KR20120071339A (ko) | 벤다무스틴 알킬 에스테르, 벤다무스틴, 및 이의 유도체의 제조 방법 | |
| JP5843846B2 (ja) | ポリフルオロアルキルスルホンアミドアルキルアミンの混合物 | |
| JP4500983B2 (ja) | ６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールおよびその製造方法 | |
| JP4159022B2 (ja) | ジホスゲン及びトリホスゲンを使用したジアゾナフトキノンスルホニルクロリドの調製法 | |
| JP7382713B2 (ja) | シロドシン合成用中間体の製造方法及びこれを用いたシロドシンの製造方法 | |
| JP2013523643A (ja) | ポリフルオロアルキルスルホンアミドアルキルハライド中間体 | |
| JP3985434B2 (ja) | ハロゲノプロピルエーテル類の製造方法 | |
| JP4807675B2 (ja) | 高純度ピペラジン誘導体塩酸塩の製造方法 | |
| JP3638357B2 (ja) | ２，２−ジアルキル−３−アセトキシプロパンスルフォニルクロリドを製造する方法 | |
| JPH09124610A (ja) | １，２−ジホルミルヘキサヒドロピリダジン、その製造法およびヘキサヒドロピリダジンの製造法 | |
| KR100466079B1 (ko) | 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법 | |
| JP2006124325A (ja) | ｄｌ−１，２−ジフェニルエチレンジアミンの製造方法 | |
| JPH07285921A (ja) | ２−アミノ−Ｎ−（β−ヒドロキシフェネチル）アセトアミド誘導体の製造方法 | |
| US20070197828A1 (en) | Method of preparing optically pure phenethylamine derivatives | |
| WO2002064623A1 (fr) | Procede de preparation de derives peptidiques | |
| JP2001302611A (ja) | ５−トリフルオロメチルジヒドロウラシルの製造法 | |
| JPWO2005121081A1 (ja) | アセトアミドピロリジン誘導体の製造方法およびその中間体化合物 | |
| JP2000212142A (ja) | アミドフェニルエステルの製造方法 | |
| JPH09169748A (ja) | ２−アミノチアゾール−５−カルボニトリル誘導体の製造方法 | |
| JPH0248544B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040727 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20041027 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20041101 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050802 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051102 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051107 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060404 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060418 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |