JP2002239785A - 鉛フリーハンダ対応無洗浄用フラックスおよびこれを含有するハンダ組成物 - Google Patents

鉛フリーハンダ対応無洗浄用フラックスおよびこれを含有するハンダ組成物

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JP2002239785A JP2001365281A JP2001365281A JP2002239785A JP 2002239785 A JP2002239785 A JP 2002239785A JP 2001365281 A JP2001365281 A JP 2001365281A JP 2001365281 A JP2001365281 A JP 2001365281A JP 2002239785 A JP2002239785 A JP 2002239785A
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    • B23K35/3613Polymers, e.g. resins

Abstract

(57)【要約】 【課題】 鉛フリーハンダに使用可能な無洗浄用フラッ
クスおよびこれを含有するハンダ組成物を提供する。 【解決手段】 エポキシ樹脂と有機カルボン酸とを含有
するハンダ付け用フラックスであって、前記エポキシ樹
脂と前記有機カルボン酸が前記エポキシ樹脂のエポキシ
基1.0当量に対して前記有機カルボン酸のカルボキシ
ル基0.8〜2.0当量であるように配合され、前記エ
ポキシ樹脂および前記有機カルボン酸とが合計でフラッ
クス全量に対して70質量%以上含有され、所望によ
り、フラックス全量に対して70質量%以下のアルコー
ルをさらに含むハンダ付け用フラックスを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハンダ付け用フラ
ックス、特に鉛フリーハンダに使用可能な無洗浄用フラ
ックス、およびこれを含有するハンダ組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ハンダ付け用フラックスの多くは
ロジンやロジン変性樹脂に有機酸、ハロゲン化塩からな
る活性剤を添加したものである。しかし、これらはハン
ダ付け作業終了後残渣としてプリント回路板上に残り、
この残渣が基材の腐食、マイグレーション等の原因にな
ることが多かった。また、残渣の残ったプリント回路板
を樹脂(シリコーンゲル、エポキシ樹脂など)で封止す
る場合、残渣が原因で封止樹脂の硬化阻害を起こし、基
板との接着性、絶縁性にも影響を及ぼすことがある。そ
こで、残渣を除去するため、はんだ付け作業後は代替フ
ロンや有機溶剤での洗浄を行っている。しかし、フロン
やVOCなどの環境問題により洗浄剤が規制されている
のが現状である。
【0003】フラックスの残渣を洗浄無しでも、腐食、
マイグレーションを起こさず、封止樹脂の硬化阻害を起
こさないフラックスの1つにエポキシ系フラックスがあ
る。エポキシ系フラックスは、主成分としてのエポキシ
樹脂、活性剤であるカルボン酸やアミン、チクソ剤など
から成る。エポキシ系フラックスを使用したクリームハ
ンダを用いプリント基板部品実装した場合、リフローハ
ンダ付け時にカルボン酸による導体表面の活性化と同時
にエポキシ樹脂とカルボン酸が硬化反応を起こし、ハン
ダが溶融し部品が接着した頃に硬化反応が終了するよう
に設計されている。リフロー後エポキシ樹脂硬化物がフ
ラックス残渣として残る。このエポキシ樹脂硬化物は、
一般的に使われているロジン系フラックスの残渣と比
べ、部品ハンダ付け後、無洗浄で樹脂封止してもプリン
ト回路板と封止樹脂の接着性を妨げることなく、絶縁的
にも優れている(特開2000−216300号公
報)。しかし、以下の様な問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のエポキシ系フラ
ックスは鉛系ハンダに使用されるものである。すなわ
ち、従来のエポキシ系フラックスにおけるエポキシ樹脂
と活性剤であるカルボン酸との重合によるフラックス硬
化反応開始温度は、鉛系ハンダの融点(例えば63Sn
37Pbハンダの融点183℃)よりやや低めの150
℃前後であり、鉛系ハンダが溶融し部品が接着した頃に
硬化反応が終了する。
【0005】しかし、このような従来のエポキシ系フラ
ックスを、鉛系ハンダよりも融点が高い鉛フリーハンダ
(ハンダ中に鉛成分を含有しないハンダ)に使用した場
合、例えば融点が220℃前後のSn−Ag系ハンダに
使用した場合、ハンダが溶融する前に活性剤であるカル
ボン酸の多くがエポキシ樹脂との硬化反応に消費されて
しまうために活性力が維持できず、さらに、フラックス
の流動性が悪くなるためハンダの濡れ性などが悪くなる
現象が起こる。
【0006】本発明は、上記問題点を解決するものであ
り、鉛系ハンダよりも融点が高い鉛フリーハンダ(例え
ば、融点190〜240℃の鉛フリーハンダ)を用いて
ハンダ付けを行った場合でも、フラックスの活性力が維
持され、ハンダ濡れ性が良く、フラックス残渣無洗浄で
あっても封止樹脂の硬化阻害を起こさない、鉛フリーハ
ンダに使用可能なハンダ付け用フラックスと、該ハンダ
付け用フラックスおよび鉛フリーハンダを含有する鉛フ
リーハンダ組成物とを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第一の態様において、エポキシ樹脂および
有機カルボン酸を含有するハンダ付け用フラックスであ
って、前記エポキシ樹脂と前記有機カルボン酸が前記エ
ポキシ樹脂のエポキシ基1.0当量に対して前記有機カ
ルボン酸のカルボキシル基0.8〜2.0当量であるよ
うに配合され、前記エポキシ樹脂および前記有機カルボ
ン酸とが合計でフラックス全量に対して70質量%以上
含有されていることを特徴とするハンダ付け用フラック
スを提供する。
【0008】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記エポキシ樹脂と前記有機カルボン酸は、前記
エポキシ樹脂のエポキシ基1.0当量に対して前記有機
カルボン酸のカルボキシル基0.8〜1.1当量である
ように配合されてもよい。上記本発明のハンダ付け用フ
ラックスにおいて、前記エポキシ樹脂および前記有機カ
ルボン酸とが合計で前記フラックス全量に対して80質
量%以上含有されてもよい。
【0009】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記フラックス全量に対して30質量%以下のア
ルコールがさらに含有されてもよい。
【0010】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記フラックス全量に対して20質量%以下のア
ルコールがさらに含有されてもよい。
【0011】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記エポキシ樹脂は、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック
型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、およびこれらの
混合物からなる群から選択することができる。
【0012】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂は、エポキ
シ当量160g/eq〜250g/eqのビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂であることができる。
【0013】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、有機カルボン酸は、飽和脂肪族系ジカルボン酸、
不飽和脂肪族系ジカルボン酸、環状脂肪族系ジカルボン
酸、アミノ基含有カルボン酸、水酸基含有カルボン酸、
複素環系ジカルボン酸、およびこれらの混合物の群から
選択することができる。
【0014】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記有機カルボン酸は、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、アゼライン酸、ドデカン二酸、イタコン
酸、メサコン酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロヘ
キサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シ
クロペンタンテトラカルボン酸、ジメチルグルタル酸、
メチルアジピン酸、グルタミン酸、エチレンジアミン四
酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、ピラジンジカルボ
ン酸、フェニレン二酢酸、カテコール二酢酸、ハイドロ
キノン二酢酸、チオプロピオン酸、チオジブチル酸、ジ
チオグリコール酸、およびこれらの混合物からなる群か
ら選択することができる。
【0015】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記有機カルボン酸は、シクロヘキセンジカルボ
ン酸、ジメチルグルタル酸、グルタミン酸、フタル酸、
およびこれらの混合物からなる群から選択することがで
きる。
【0016】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記アルコールは、多価アルコール、モノアルコ
ール、およびこれらの混合物からなる群から選択するこ
とができる。
【0017】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記多価アルコールは、エチレングリコール、ジ
エチレングコール、トリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、オクテングリコール、ポリエチレングリ
コール、プロパンジオール、グリセリン、およびこれら
の混合物からなる群から選択することができる。
【0018】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記モノアルコールは、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコー
ル、イソブチルアルコール、アミルアルコール、イソア
ミルアルコール、オクタノール、アリルアルコール、シ
クロヘキサノール、およびこれらの混合物からなる群か
ら選択することができる。
【0019】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記エポキシ樹脂と前記有機カルボン酸の重合に
よるフラックス硬化反応の発熱ピーク頂点温度は180
〜250℃であることができる。
【0020】上記本発明のハンダ付け用フラックスにお
いて、前記エポキシ樹脂と前記有機カルボン酸の重合に
よるフラックス硬化反応の反応開始温度は180〜23
0℃であることができる。
【0021】本発明の第二の態様において、上記のハン
ダ付け用フラックスと、融点が190℃〜240℃の鉛
フリーハンダとを含有することを特徴とするハンダ組成
物を提供する。
【0022】上記本発明のハンダ組成物において、前記
鉛フリーハンダが融点190〜240℃のSn含有鉛フ
リーハンダであることができる。
【0023】
【発明の実施の形態】上記の通り、本発明ハンダ付け用
フラックスは、エポキシ樹脂と有機カルボン酸を含有
し、エポキシ樹脂と有機カルボン酸がエポキシ樹脂のエ
ポキシ基1.0当量に対して有機カルボン酸のカルボキ
シル基0.8〜2.0当量であるように配合され、エポ
キシ樹脂と有機カルボン酸とが合計でフラックス全量に
対して70質量%以上含有する。エポキシ樹脂と有機カ
ルボン酸とは温度上昇に伴い重合反応してフラックス硬
化をもらたすが、本発明フラックスを用いれば、エポキ
シ樹脂と有機カルボン酸との重合によるフラックス硬化
反応の発熱ピーク頂点温度は180〜250℃、好まし
くは180〜230℃であるため、あるいはエポキシ樹
脂と有機カルボン酸との重合によるフラックス硬化反応
の反応開始温度は180〜230℃であるため、高融点
(約190〜240℃)の鉛フリーハンダに用いても、
該ハンダが溶融する前に活性剤である下記有機カルボン
酸の多くがエポキシ樹脂との重合反応によるフラックス
硬化反応に消費されるのを防止でき、これによりカルボ
ン酸の活性力が維持され、良好なハンダ濡れ性が得ら
れ、結果として良好なハンダ付けが達成される。本発明
フラックスとして、エポキシ樹脂と有機カルボン酸との
重合反応の発熱ピーク頂点温度が180〜250℃であ
ればエポキシ樹脂と有機カルボン酸との重合によるフラ
ックス硬化反応の反応開始温度が180℃未満であって
も用いることができるが、保存安定性の観点等から、1
30℃以上で重合反応が開始するものが好ましい。ま
た、後述の通り、本発明フラックス中に含有されるエポ
キシ樹脂および/または有機カルボン酸は複数のエポキ
シ樹脂の混合物および/または複数の有機カルボン酸の
混合物として用いてもよいが、このように混合物として
用いる場合には、該混合物中の各々のエポキシ樹脂およ
び有機カルボン酸が上記の重合によるフラックス硬化反
応発熱ピーク頂点温度または反応開始温度を有していれ
ばよく、あるいは上記の重合によるフラックス硬化反応
発熱ピーク頂点温度または反応開始温度を有するエポキ
シ樹脂および/または有機カルボン酸を混合物の主要な
成分として用いてもよい。なお、上記の重合によるフラ
ックス硬化反応の反応開始温度や発熱ピーク頂点温度
は、示差走査熱量分析(DSC)等により測定すること
ができる(実施例参照)。
【0024】本発明ハンダ付け用フラックスにおいて、
エポキシ樹脂と有機カルボン酸の配合をエポキシ樹脂の
エポキシ基1.0当量に対して有機カルボン酸のカルボ
キシル基0.8〜2.0当量になるように配合したの
は、有機カルボン酸のカルボキシル基が0.8当量より
少ない場合には、カルボン酸の活性力が低くなり、ハン
ダ濡れ性が悪くなるからであり、有機カルボン酸のカル
ボキシル基が2.0当量より多い場合には、過剰の固体
カルボン酸がフラックスの流動性などを悪くし、それに
よりハンダ濡れ性などが悪くなるからである。ハンダ濡
れ性、保存安定性、フラックス硬化物の絶縁性の向上等
の観点から、エポキシ樹脂と有機カルボン酸は、好まし
くは、エポキシ樹脂のエポキシ基1.0当量に対して有
機カルボン酸のカルボキシル基0.8〜1.1当量であ
るように配合し、より好ましくは、エポキシ樹脂のエポ
キシ基1.0当量に対して有機カルボン酸のカルボキシ
ル基1.0当量であるように配合する。フラックス全量
に対してエポキシ樹脂および有機カルボン酸が合計で7
0質量%以上含有されているのは、合計で70質量%よ
り少ない場合には、カルボン酸の活性力が低下し、ハン
ダ濡れ性が悪くなるからである。好ましくは、エポキシ
樹脂および有機カルボン酸とが合計でフラックス全量に
対して80質量%以上含有され、より好ましくは80〜
90質量%含有される。
【0025】本発明フラックスにおいて主剤として含有
されるエポキシ樹脂は、室温において液状であって、フ
ラックスの調製において有機カルボン酸の溶媒として働
き、また、上記の通り、有機カルボン酸と重合してフラ
ックス硬化物を付与する成分であり、さらにエポキシ樹
脂硬化物は絶縁性に優れる。エポキシ樹脂および有機カ
ルボン酸はこのフラックス硬化反応により消費されるた
め、フラックス残渣として残る量が少なくなり、フラッ
クス無洗浄で使用できる。さらに、フラックス残渣とし
て残ったエポキシ樹脂は封止樹脂(シリコーンゲルやエ
ポキシ樹脂等)と強固に結合し、硬化したエポキシ樹脂
がハンダ付け箇所を覆ってその接合部を補強する。
【0026】上記本発明フラックスに含有されるエポキ
シ樹脂は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、およびこれらの混合物が好まし
い。より好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式ジグリシ
ジルエステル型エポキシ樹脂である。上記ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂は、エポキシ当量が約160〜25
0g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂であるこ
とが好ましい。
【0027】本発明フラックスに含有される有機カルボ
ン酸は、金属酸化物の除去等としての活性剤として働く
ほか、上記エポキシ樹脂と硬化反応にも用いられる。本
発明フラックスには、該有機カルボン酸以外の活性剤
(アミン、ハロゲン系活性剤、酸無水物など)を用いる
必要はなく、有機カルボン酸以外の活性剤を使用しなく
ても、ハンダ濡れ性に優れる。また、該有機カルボン酸
は上記エポキシ樹脂と十分に重合反応してフラックス硬
化物を形成し、リフロー後のフラックス硬化物の絶縁性
は良好である。また、該有機カルボン酸は、上記エポキ
シ樹脂との硬化反応、あるいは封止樹脂との反応で消費
されるため、フラックス無洗浄で使用可能となる。
【0028】本発明フラックスに含有される上記有機カ
ルボン酸は、2官能以上の有機カルボン酸を用いること
ができ、例えば、飽和脂肪族系ジカルボン酸、不飽和脂
肪族系ジカルボン酸、環状脂肪族系ジカルボン酸、芳香
族系ジカルボン酸、アミノ基含有カルボン酸、水酸基含
有カルボン酸、複素環系ジカルボン酸、またはこれらの
混合物などが使用できる。さらに具体的には、飽和脂肪
族系ジカルボン酸であるコハク酸、グルタル酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、ドデカン二酸、不飽和脂肪族系ジ
カルボン酸であるイタコン酸、メサコン酸、環状脂肪族
系カルボン酸であるシクロブタンジカルボン酸、シクロ
ヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、
シクロペンタンテトラカルボン酸、側鎖のある飽和脂肪
族系ジカルボン酸であるジメチルグルタル酸、メチルア
ジピン酸、アミノ基含有カルボン酸であるグルタミン
酸、エチレンジアミン四酢酸、水酸基含有カルボン酸で
あるクエン酸、リンゴ酸、酒石酸、複素環系ジカルボン
酸であるピラジンジカルボン酸を用いることができ、そ
の他、フェニレン二酢酸、カテコール二酢酸、ハイドロ
キノン二酢酸、チオプロピオン酸、チオジブチル酸、ジ
チオグリコール酸、またはこれらの混合物などが使用で
きる。ハンダ濡れ性、保存安定性、フラックス硬化物の
絶縁性の向上、さらに塗工性や印刷性等のフラックスの
諸特性を良くする観点から、有機カルボン酸は、シクロ
ヘキセンジカルボン酸、ジメチルグルタル酸、グルタミ
ン酸、フタル酸、イタコン酸、およびこれらの混合物か
らなる群から選択することが好ましい。
【0029】本発明のハンダ付け用フラックスは、フラ
ックス全量に対して30質量%以下のアルコールをさら
に含むことができる。アルコール含量がフラックス全量
に対して30質量%より多い場合には、封止樹脂、特に
シリコーンゲルの硬化阻害を引き起こす。特にフラック
ス硬化物の絶縁性の向上等の観点から、フラックス全量
に対して20質量%以下のアルコールが含有されている
ことが好ましく、より好ましくは、フラックス全量に対
して10〜20質量%のアルコールが含有される。
【0030】本発明ハンダ付け用フラックスに含有され
る上記アルコール成分は、溶剤として用いられ、有機カ
ルボン酸を溶解し、フラックスの粘度を低下させる成分
である。さらに、上記エポキシ樹脂は該アルコールとも
反応し、したがって該アルコールは残渣として残らな
い。ただし、本発明フラックス中に該アルコールが含ま
れない場合も鉛フリーハンダ対応可能なフラックスとし
て使用することができる。
【0031】本発明ハンダ付け用フラックスに含有され
るアルコールには、モノアルコール、多価アルコール、
およびこれらの混合物を用いることができる。モノアル
コールには、例えばメチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチ
ルアルコール、アミルアルコール、イソアミルアルコー
ル、オクタノール、アリルアルコール、シクロヘキサノ
ール、およびこれらの混合物が挙げられる。多価アルコ
ールには、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
オクテングリコール、ポリエチレングリコール、グリセ
リン、プロパンジオール、およびこれらの混合物が挙げ
られる。好ましくは多価アルコールであり、より好まし
くは多価アルコールとモノアルコールとの混合物であ
る。多価アルコールおよびモノアルコールの混合物で
は、リフロー後のフラックス硬化物の絶縁性が良くな
る。モノアルコールと多価アルコールとの混合物は、好
ましくは、アミルアルコール、オクタノール、およびこ
れらの混合物から選択されるモノアルコールと、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、グリセリン、プロパンジオール、およびこれらの
混合物から選択される多価アルコールとの混合物であ
る。
【0032】さらに、本発明は、上記フラックスと、該
フラックス対応可能な鉛フリーハンダとを含有するハン
ダ組成物に関する。このような鉛フリーハンダとして、
好ましくは融点が約190〜240℃の鉛フリーハンダ
を用いることができ、より好ましくは融点が210〜2
30℃の鉛フリーハンダを用いることができる。好まし
い実施態様として、融点が約190〜240℃の鉛フリ
ーのSn含有ハンダを用いる。該Sn含有鉛フリーハン
ダには、Snハンダ、Sn−Ag系ハンダ、Sn−Cu
系ハンダ、Sn−Zn系ハンダ、Sn−Sb系ハンダ
(融点:約190〜240℃)などが含まれる。より好
ましくはSn−Ag系ハンダである。該Sn−Ag系ハ
ンダには、Sn−Ag、Sn−Ag−Cu、Sn−Ag
−Bi、Sn−Ag−Cu−Bi、Sn−Ag−Cu−
In、Sn−Ag−Cu−S、およびSn−Ag−Cu
−Ni−Geなどが含まれる。より好ましくは、Sn−
Ag−Cu系ハンダである。本発明ハンダ組成物中に含
有される上述のフラックスと鉛フリーハンダとの組み合
わせについては、ハンダ濡れ特性等のハンダ付けにおけ
る緒特性が良好である好適な組み合わせを適宜選択でき
るが、硬化反応の発熱ピークの頂点温度がハンダ融点以
下であるフラックスを用いることが好ましく、さらに発
熱ピーク頂点温度がハンダ融点から約10℃高いフラッ
クスも使用することができる。該ハンダ組成物は、クリ
ーム状、ペースト状等のいずれの状態であってもよい。
該ハンダ組成物中のハンダは、組成物全量に対して約8
5〜95質量%含まれていることが好ましい。
【0033】また、必要に応じて、上記フラックスおよ
びハンダ組成物に、チクソ剤、キレート化剤、脱泡剤、
界面活性剤、および酸化防止剤などを添加してもよい。
該成分のフラックス含有量として、フラックス全量に対
して5質量%以下のチクソ剤、5質量%以下のキレート
剤、1質量%以下の脱泡剤、2質量%以下の界面活性
剤、3質量%以下の酸化防止剤を含有することが好まし
い。
【0034】本発明ハンダ付け用フラックスは、鉛フリ
ーハンダを用いる電子部品のリフローハンダ付け工程に
おいて無洗浄で使用できる。例えば、電子部品のリフロ
ーハンダ付け工程では、鉛フリーハンダが溶融する以前
にまず本発明のエポキシ系フラックスに含まれるエポキ
シ樹脂と有機カルボン酸との重合によるフラックス硬化
反応が始まり、その活性剤である有機カルボン酸がハン
ダ接合面を清浄にする。本発明フラックスは重合による
フラックス硬化反応開始温度が約180〜230℃であ
るか、あるいは反応開始温度が約180℃以下であって
も発熱ピーク頂点温度が約180〜250℃、好ましく
は約180〜230℃であるため、鉛フリーハンダ(融
点約190〜240℃)が溶融する前に多くの有機カル
ボン酸が硬化反応に消費されることが防止され、したが
って活性力は維持され、さらにハンダの濡れ性もよくな
る。続いて加熱温度の上昇により鉛フリーハンダが溶融
して電子部品とプリント基板の導体パターンとの間がハ
ンダ付けされる。この間にもフラックス硬化反応が進
み、ハンダ付けの終了とほぼ同じくらいに、あるいはハ
ンダ付け後の加熱(封止樹脂の硬化など)により反応が
終了し、硬化したエポキシ樹脂がハンダ付け箇所を覆っ
てその接合部を補強するようになる。
【0035】次いで、プリント基板を無洗浄のまま、そ
の周域を本発明のフラックス成分と反応しうる官能基を
持つエポキシ樹脂やウレタン樹脂などの封止樹脂で封止
すると、フラックス残渣に含まれている残留カルボン酸
と封止樹脂とが反応し、この硬化反応によりカルボン酸
がほとんど消費されてその腐食性が低減するとともに、
エポキシ系フラックスの主成分であるエポキシ樹脂と封
止樹脂とが強固に結合し合う。また、シリコーンゲル
(特に付加反応型)で封止する場合、フラックスが通常
のロジン系フラックスの場合、シリコーンゲルが硬化阻
害を起こすが、本発明のフラックスではフラックス残渣
無洗浄でもシリコーンゲルの硬化阻害を起こすことは無
い。したがって、鉛系ハンダよりも高融点の鉛フリーハ
ンダであっても、本発明のエポキシ系フラックスを用い
れば、ハンダ濡れ性が良く、ハンダ付け後にフラックス
残渣無洗浄であっても絶縁信頼性が良く、封止樹脂の硬
化阻害を起こさない。
【0036】
【実施例】次に、下記の非限定的な実施例および比較例
により本発明をより詳細に説明する。
【0037】なお、下記の実施例と比較例において、以
下の測定または評価を行った。
【0038】フラックス反応温度は、示差走査熱量分析
(DSC;理学電機製、DSC8230D)を用いて、
昇温速度20℃/分、試料量約10mg、空気中で測定
を行い、硬化反応の発熱ピークが現れた温度(硬化反応
開始温度)と硬化反応の発熱ピークの頂点温度を測定し
た。
【0039】ハンダ濡れ性の評価として、JIS Z
3197−8.3.1.1に準じて、ハンダ広がり率に
より評価した。リフロー条件は、ハンダバスにて250
℃で加熱、ハンダ溶融後30秒保持の加熱条件で行っ
た。
【0040】保存安定性は、冷蔵庫(約5℃)で2ヶ月
毎のハンダ広がり率の経時変化を測定した。
【0041】フラックス硬化物の絶縁性は、JIS2型
の櫛形電極基板を用い、85℃85%RH中でDC10
0V印加の条件で、100Vの絶縁抵抗計を用いて、絶
縁抵抗の経時変化を測定した。リフロー条件は、表面2
50℃のホットプレートに櫛形電極基板を乗せ、ハンダ
溶融後30秒保持の加熱条件で行った。
【0042】シリコーンゲルの硬化阻害は、上記と同様
のリフロー後の櫛形電極基板上にシリコーンゲル(TS
E3051、東芝シリコーン製)を約0.1ml滴下し
硬化した(硬化条件125℃/2時間)。その後、先の
鋭利なピンにてほぼ一定の力を加え、シリコーンゲル硬
化物の形状が保持されるか否かにより確認した。
【0043】また、下記実施例および比較例では、粒経
が20〜40μmのハンダ粉末を用いた。
【0044】(実施例1)トリエチレングリコール4.
33gにcis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸4.42gを加え、約130℃に加熱し溶解し
た。その後100℃以下に冷却した後、比較的安価なエ
ポキシ樹脂AER260(ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、エポキシ当量192g/eq;旭化成エポキシ
(株))10gを加え均一になるまで攪拌し、本発明の
フラックスを調製した。該フラックスに含まれるエポキ
シ樹脂とカルボン酸はエポキシ基1当量に対してカルボ
キシル基1当量となるように配合され、エポキシ樹脂と
カルボン酸の合計の含有量はフラックス全量に対して約
77質量%であり、アルコール含有量はフラックス全量
に対して約23質量%である。上記フラックスを室温に
冷却後、Sn−2.5Ag−0.5Cu合金(Sn97
質量%、Ag2.5質量%、Cu0.5質量%;融点2
21℃)、または、Sn−3.5Ag−0.5Cu−
0.1Ni−0.05Ge合金(Sn95.85質量
%、Ag3.5質量%、Cu0.5質量%、Ni0.1
質量%、およびGe0.05質量%;融点223℃)の
いずれかの鉛フリーハンダを用い、該ハンダ粒に上記フ
ラックスを添加・混合し、クリームハンダ組成物とし
た。上記ハンダ合金は、ハンダ組成物全量に対して88
質量%含有されている。フラックス硬化反応開始温度は
138℃であったが、発熱ピーク頂点温度は196℃と
高いため、カルボン酸の活性力は維持され、硬化反応が
徐々に進んだ。ハンダ濡れ性は良好であり、冷蔵庫で4
ヶ月保存後も濡れ性は低下せず、保存安定性は良好であ
った。フラックス硬化物の絶縁性は85℃85%RHで
1×10Ω前後であるが、168時間後も絶縁抵抗が
低下することは無かった。さらにフラックス残渣無洗浄
の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさ
ず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好なハンダ付け
が可能であった。本実施例で用いた本発明フラックスの
配合比および特性を表1に示す。
【0045】(実施例2)上記の実施例1のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えて比較
的安価な2,2−ジメチルグルタル酸を用いて、実施例
1と同様にハンダ付けを行った。フラックス反応開始温
度は173℃であったが、発熱ピーク頂点温度は220
℃と高いため、カルボン酸の活性力は維持され、硬化反
応が徐々に進んだ。上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は
良好であり、保存安定性も良好であった。フラックス硬
化物の絶縁性は85℃85%RHで6.0×10Ω前
後であるが、168時間後も絶縁抵抗が低下することは
無かった。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリ
コーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハ
ンダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であっ
た。本実施例で用いた本発明フラックスの配合比および
特性を表1に示す。
【0046】(実施例3)上記の実施例1のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えて比較
的安価なL−グルタミン酸を用いて、実施例1と同様に
ハンダ付けを行った。ただし、L−グルタミン酸はトリ
エチレングリコールに不溶なので、あらかじめ乳鉢で微
粉末に磨り潰してから添加し、混合時に分散させた。フ
ラックス反応開始温度は214℃であったためカルボン
酸の活性力は維持して硬化反応が進んだ。上記実施例と
同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良好で
あった。フラックス硬化物の絶縁性は85℃85%RH
で2.0×10Ω前後であるが、168時間後も絶縁
抵抗が低下することは無かった。さらにフラックス残渣
無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を
起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好なハン
ダ付けが可能であった。本実施例で用いた本発明フラッ
クスの配合比および特性を表3に示す。
【0047】(実施例4)上記の実施例1のトリエチレ
ングリコールに代えてエチレングリコールを用い、ci
s−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代え
て比較的安価なtrans−1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸を用いて、実施例1と同様にハンダ付けを行
った。フラックス反応開始温度は150℃であるが、発
熱ピーク頂点温度は220℃と高いため、カルボン酸の
活性力は維持され、硬化反応が徐々に進んだ。上記実施
例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良
好であった。フラックス硬化物の絶縁性は85℃85%
RHで3.0×10Ω前後であるが、168時間後も
絶縁抵抗が低下することは無かった。さらにフラックス
残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻
害を起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好な
ハンダ付けが可能であった。本実施例で用いた本発明フ
ラックスの配合比および特性を表1に示す。
【0048】(実施例5)上記の実施例1のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えて比較
的安価なイタコン酸を用いて、実施例1と同様にハンダ
付けを行った。フラックス反応開始温度は126℃であ
ったが、発熱ピーク頂点温度は209℃と高いため、カ
ルボン酸の活性力は維持され、硬化反応が徐々に進ん
だ。上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、や
や保存安定性に劣るが、フラックス硬化物の絶縁性は良
好であった。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシ
リコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリー
ハンダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であっ
た。本実施例で用いた本発明フラックスの配合比および
特性を表2に示す(表中の記号(−)は実施していない
ことを示す。以下、同じ)。
【0049】(実施例6)上記の実施例1のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えて比較
的安価なコハク酸を用いて、実施例1と同様にハンダ付
けを行った。フラックス反応開始温度は123℃であっ
たが、発熱ピーク頂点温度は206℃と高いため、カル
ボン酸の活性力は維持され、硬化反応が徐々に進んだ。
上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、やや保
存安定性に劣るが、フラックス硬化物の絶縁性は良好で
あった。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリコ
ーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハン
ダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であった。
本実施例で用いた本発明フラックスの配合比および特性
を表2に示す。
【0050】(実施例7)上記の実施例1のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えて比較
的安価な1,2−フェニレン二酢酸を用いて、実施例1
と同様にハンダ付けを行った。フラックス反応開始温度
は119℃であったが、発熱ピーク頂点温度は203℃
と高いため、カルボン酸の活性力は維持され、硬化反応
が徐々に進んだ。上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良
好であったが、やや保存安定性に劣るが、フラックス硬
化物の絶縁性は85℃85%RHで7.0×10Ω前
後であるが、168時間後も絶縁抵抗が低下することは
無かった。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリ
コーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハ
ンダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であっ
た。本実施例で用いた本発明フラックスの配合比および
特性を表2に示す。
【0051】(実施例8)上記の実施例1のAER26
0(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量1
92g/eq)に代えて比較的安価なAER280(ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量250g
/eq)を用い、実施例1と同様にハンダ付けを行っ
た。フラックス反応開始温度は138℃であったが、発
熱ピーク頂点温度は202℃と高いため、カルボン酸の
活性力は維持され、硬化反応が徐々に進んだ。上記実施
例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良
好であった。フラックス硬化物の絶縁性は85℃85%
RHで8.0×10Ω前後であるが、168時間後も
絶縁抵抗が低下することは無かった。さらにフラックス
残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻
害を起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好な
ハンダ付けが可能であった。本実施例で用いた本発明フ
ラックスの配合比および特性を表2に示す。
【0052】(実施例9)上記の実施例1のAER26
0(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量1
92g/eq)に代えて比較的安価なEP4091E
(ビスフェノールF型エポキシ樹脂、エポキシ当量17
0g/eq;旭電化工業(株))を用い、実施例1と同
様にハンダ付けを行った。フラックス反応開始温度は1
43℃であったが、発熱ピーク頂点温度は196℃と高
いため、カルボン酸の活性力は維持され、硬化反応が徐
々に進んだ。上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良好で
あり、保存安定性も良好であった。フラックス硬化物の
絶縁性は85℃85%RHで7.0×10Ω前後であ
るが、168時間後も絶縁抵抗が低下することは無かっ
た。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリコーン
ゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハンダに
対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であった。本実
施例で用いた本発明フラックスの配合比および特性を表
3に示す。
【0053】(実施例10)上記の実施例1のトリエチ
レングリコールの添加量4.33g(実施例1における
フラックス全量に対して23質量%)に代えて5.77
gに増やし(本実施例におけるフラックス全量に対して
29質量%)、実施例1と同様にハンダ付けを行った。
上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安
定性も良好であった。フラックス硬化物の絶縁性は85
℃85%RHで2.0×10Ω前後であるが、168
時間後も絶縁抵抗が低下することは無かった。さらにフ
ラックス残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂
の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄
で良好なハンダ付けが可能であった。本実施例で用いた
本発明フラックスの配合比および特性を表3に示す。
【0054】(実施例11)上記の実施例1のエポキシ
樹脂AER260とcis−4−シクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸の配合比を、エポキシ基1当量に対し
て、カルボキシル基1.2当量となるようにし、実施例
1と同様にハンダ付けを行った。上記実施例と同様、ハ
ンダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良好であった。
フラックス硬化物の絶縁性は85℃85%RHで2.8
×10Ω前後であるが、168時間後も絶縁抵抗が低
下することは無かった。さらにフラックス残渣無洗浄の
場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさ
ず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好なハンダ付け
が可能であった。本実施例で用いた本発明フラックスの
配合比および特性を表3に示す。
【0055】(実施例12)上記の実施例1のトリエチ
レングリコールの添加量4.33g(実施例1における
フラックス全量に対して23質量%)に代えて2.89
gに減らし(本実施例におけるフラックス全量に対して
17質量%)、実施例1と同様にハンダ付けを行った。
上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安
定性も良好であり、フラックス硬化物の絶縁性も良好で
あった。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリコ
ーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハン
ダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であった。
本実施例で用いた本発明フラックスの配合比および特性
を表4に示す。
【0056】(実施例13)上記の実施例2のトリエチ
レングリコールの添加量4.25g(実施例2における
フラックス全量に対して23質量%)に代えて2.83
gに減らし(本実施例におけるフラックス全量に対して
17質量%)、実施例2と同様にハンダ付けを行った。
上記実施例と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安
定性も良好であり、フラックス硬化物の絶縁性も良好で
あった。さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリコ
ーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハン
ダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であった。
本実施例で用いた本発明フラックスの配合比および特性
を表4に示す。
【0057】(実施例14)上記の実施例1のcis−
4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸4.42g
に代えてcis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸2.72gと比較的安価なフタル酸1.77gの
混合物を、AER260 10gに代えてAER260
8.19gとCY184(ジグリシジルエステル型、
エポキシ当量170g/eq;バンティコ(株))1.
81gとの混合物を、トリエチレングリコール4.33
gに代えてトリエチレングリコール0.87gとアミル
アルコール1.30gの混合物を用いて、実施例1と同
様にハンダ付けを行った。フラックス反応開始温度は1
25℃であり、発熱ピーク頂点温度は181〜200℃
の範囲内にあった。カルボン酸の活性力は維持され、硬
化反応が徐々に進んだ。上記実施例と同様、ハンダ濡れ
性は良好であり、保存安定性も良好であり、フラックス
硬化物の絶縁性も良好であった。さらにフラックス残渣
無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を
起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好なハン
ダ付けが可能であった。本実施例で用いた本発明フラッ
クスの配合比および特性を表4に示す。
【0058】(実施例15)上記の実施例1のcis−
4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸4.42g
に代えてcis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸1.77gとL−グルタミン酸1.15gとジメ
チルグルタル酸1.25gの混合物を、トリエチレング
リコール4.33gに代えてトリエチレングリコール
2.84gを用いて、実施例1と同様にハンダ付けを行
った。フラックス反応開始温度は142℃であり、発熱
ピーク頂点温度は202℃と高いため、カルボン酸の活
性力は維持され、硬化反応が徐々に進んだ。上記実施例
と同様、ハンダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良好
であり、フラックス硬化物の絶縁性も良好であった。さ
らにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封
止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハンダに対して
無洗浄で良好なハンダ付けが可能であった。本実施例で
用いた本発明フラックスの配合比および特性を表5に示
す。
【0059】(実施例16)上記の実施例1のcis−
4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸4.42g
に代えてcis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸1.77gとL−グルタミン酸1.15gとジメ
チルグルタル酸1.25gの混合物を、トリエチレング
リコール4.33gに代えてトリエチレングリコール
0.43gとアミルアルコール1.28gの混合物を用
いて、実施例1と同様にハンダ付けを行った。フラック
ス反応開始温度は140℃であり、発熱ピーク頂点温度
は200℃と高いため、カルボン酸の活性力は維持さ
れ、硬化反応が徐々に進んだ。上記実施例と同様、ハン
ダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良好であり、フラ
ックス硬化物の絶縁性も良好であった。さらにフラック
ス残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化
阻害を起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好
なハンダ付けが可能であった。本実施例で用いた本発明
フラックスの配合比および特性を表5に示す。
【0060】(実施例17)上記の実施例1のcis−
4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸4.42g
に代えてcis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸1.77gとフタル酸1.30gとジメチルグル
タル酸1.25gの混合物を、トリエチレングリコール
4.33gに代えてトリエチレングリコール0.86g
とアミルアルコール1.29gの混合物を用いて、実施
例1と同様にハンダ付けを行った。フラックス反応開始
温度は128℃であり、発熱ピーク頂点温度は185〜
203℃の範囲内にあった。カルボン酸の活性力は維持
され、硬化反応が徐々に進んだ。上記実施例と同様、ハ
ンダ濡れ性は良好であり、保存安定性も良好であり、フ
ラックス硬化物の絶縁性も良好であった。さらにフラッ
クス残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬
化阻害を起こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良
好なハンダ付けが可能であった。本実施例で用いた本発
明フラックスの配合比および特性を表6に示す。
【0061】(実施例18)上記の実施例1のcis−
4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸4.42g
に代えてcis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸1.81gとL−グルタミン酸0.59gとフタ
ル酸0.66gとジメチルグルタル酸1.28gの混合
物を、AER260 10gに代えてAER260
8.19gとCY184(ジグリシジルエステル型、エ
ポキシ当量170g/eq;バンティコ(株)) 1.
81gの混合物を、トリエチレングリコール4.33g
に代えてトリエチレングリコール0.86gとアミルア
ルコール1.29gの混合物を用いて、実施例1と同様
にハンダ付けを行った。フラックス反応開始温度は13
2℃であり、発熱ピーク頂点温度は190〜210℃の
範囲内にあった。カルボン酸の活性力は維持され、硬化
反応が徐々に進んだ。上記実施例と同様、ハンダ濡れ性
は良好であり、保存安定性も良好であり、フラックス硬
化物の絶縁性も良好であった。さらにフラックス残渣無
洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起
こさず、鉛フリーハンダに対して無洗浄で良好なハンダ
付けが可能であった。本実施例で用いた本発明フラック
スの配合比および特性を表6に示す。
【0062】
【表1】
【0063】
【表2】
【0064】
【表3】
【0065】
【表4】
【0066】
【表5】
【0067】
【表6】
【0068】(比較例1)上記の実施例2のトリエチレ
ングリコールの添加量4.01g(実施例2におけるフ
ラックス全量に対して23質量%)に代えて6.69g
に増やし(本比較例におけるフラックス全量に対して3
3質量%)、実施例2と同様にハンダ付けを行った。ハ
ンダ広がり率は83.9%の濡れ性を示したが、フラッ
クス残渣無洗浄の場合においてシリコーンゲル封止樹脂
の硬化阻害を起こした。本比較例で用いたハンダ付け用
フラックスの配合比および特性を表7に示す。
【0069】(比較例2)上記の実施例1のトリエチレ
ングリコールの添加量4.33g(実施例3におけるフ
ラックス全量に対して23質量%)に代えて7.22g
に増やし(本比較例におけるフラックス全量に対して3
5質量%)、実施例1と同様にハンダ付けを行った。ハ
ンダ広がり率は90.3%の濡れ性を示したが、フラッ
クス残渣無洗浄の場合においてシリコーンゲル封止樹脂
の硬化阻害を起こした。本比較例で用いたハンダ付け用
フラックスの配合比および特性を表7に示す。
【0070】(比較例3)上記の実施例5のエポキシ樹
脂AER260とイタコン酸の配合比を、エポキシ基1
当量に対して、カルボキシル基0.7当量となるように
し、実施例5と同様にハンダ付けを行った。フラックス
残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻
害を起こさなかったものの、初期ハンダ広がり率は7
8.3%となり、実施例5のときと比較して低下した。
本比較例で用いたハンダ付け用フラックスの配合比およ
び特性を表7に示す。
【0071】(比較例4)上記の実施例5のエポキシ樹
脂AER260とイタコン酸の配合比を、エポキシ基1
当量に対して、カルボキシル基2.1当量となるように
し、実施例5と同様にハンダ付けを行った。フラックス
残渣無洗浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻
害を起こさなかったものの、初期ハンダ広がり率は7
7.3%となり、実施例5のときと比較して低下した。
本比較例で用いたハンダ付け用フラックスの配合比およ
び特性を表8に示す。
【0072】(比較例5)上記の実施例12のエポキシ
樹脂AER260とcis−4−シクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸の配合比を、エポキシ基1当量に対し
て、カルボキシル基0.7当量となるようにし、実施例
12と同様にハンダ付けを行った。フラックス残渣無洗
浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こ
さなかったものの、初期ハンダ広がり率は79.3%と
なり、実施例12のときと比較して低下した。本比較例
で用いたハンダ付け用フラックスの配合比および特性を
表8に示す。
【0073】(比較例6)上記の実施例12のエポキシ
樹脂AER260とcis−4−シクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸の配合比を、エポキシ基1当量に対し
て、カルボキシル基2.1当量となるようにし、実施例
12と同様にハンダ付けを行った。フラックス残渣無洗
浄の場合でもシリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こ
さなかったものの、初期ハンダ広がり率は82.2%と
なり、実施例12のときと比較して低下し、さらにフラ
ックス硬化物の絶縁性も悪化した。本比較例で用いたハ
ンダ付け用フラックスの配合比および特性を表8に示
す。
【0074】
【表7】
【0075】
【表8】
【0076】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のハンダ付け
用フラックスおよびこれを含有するハンダ組成物を用い
ることで、鉛系ハンダよりも高い融点を持つ鉛フリーハ
ンダを用いてハンダ付けを行った場合でも、カルボン酸
の活性力は維持され、ハンダ濡れ性も良く、フラックス
およびハンダ組成物の保存安定性も良好で、フラックス
残渣無洗浄であっても絶縁信頼性が良く、さらに封止樹
脂の硬化阻害を起こさない。したがって、鉛フリーハン
ダに対応可能な、フラックス残渣無洗浄のハンダ付けが
可能となる。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂と有機カルボン酸とを含有
    するハンダ付け用フラックスであって、前記エポキシ樹
    脂と前記有機カルボン酸が前記エポキシ樹脂のエポキシ
    基1.0当量に対して前記有機カルボン酸のカルボキシ
    ル基0.8〜2.0当量であるように配合され、前記エ
    ポキシ樹脂および前記有機カルボン酸とが合計でフラッ
    クス全量に対して70質量%以上含有されていることを
    特徴とするハンダ付け用フラックス。
  2. 【請求項2】 前記エポキシ樹脂および前記有機カルボ
    ン酸が、前記エポキシ樹脂のエポキシ基1.0当量に対
    して前記有機カルボン酸のカルボキシル基0.8〜1.
    1当量であるように配合されていることを特徴とする請
    求項1に記載のハンダ付け用フラックス。
  3. 【請求項3】 前記エポキシ樹脂および前記有機カルボ
    ン酸とが合計で前記フラックス全量に対して80質量%
    以上含有されていることを特徴とする請求項1または2
    に記載のハンダ付け用フラックス。
  4. 【請求項4】 前記フラックス全量に対して30質量%
    以下のアルコールがさらに含有されていることを特徴と
    する請求項1または2に記載のハンダ付け用フラック
    ス。
  5. 【請求項5】 前記フラックス全量に対して20質量%
    以下のアルコールがさらに含有されていることを特徴と
    する請求項3に記載のハンダ付け用フラックス。
  6. 【請求項6】 前記エポキシ樹脂が、ビスフェノールA
    型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノ
    ボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、および
    これらの混合物からなる群から選択されることを特徴と
    する請求項1から5のいずれか一項に記載のハンダ付け
    用フラックス。
  7. 【請求項7】 前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂
    が、エポキシ当量160g/eq〜250g/eqのビ
    スフェノールA型エポキシ樹脂であることを特徴とする
    請求項6に記載のハンダ付け用フラックス。
  8. 【請求項8】 前記有機カルボン酸が、飽和脂肪族系ジ
    カルボン酸、不飽和脂肪族系ジカルボン酸、環状脂肪族
    系ジカルボン酸、アミノ基含有カルボン酸、水酸基含有
    カルボン酸、複素環系ジカルボン酸、およびこれらの混
    合物の群から選択されることを特徴とする請求項1から
    7のいずれか一項に記載のハンダ付け用フラックス。
  9. 【請求項9】 前記有機カルボン酸が、コハク酸、グル
    タル酸、アジピン酸、アゼライン酸、ドデカン二酸、イ
    タコン酸、メサコン酸、シクロブタンジカルボン酸、シ
    クロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン
    酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ジメチルグルタ
    ル酸、メチルアジピン酸、グルタミン酸、エチレンジア
    ミン四酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、ピラジンジ
    カルボン酸、フェニレン二酢酸、カテコール二酢酸、ハ
    イドロキノン二酢酸、チオプロピオン酸、チオジブチル
    酸、ジチオグリコール酸、およびこれらの混合物からな
    る群から選択されることを特徴とする請求項1から7の
    いずれか一項に記載のハンダ付け用フラックス。
  10. 【請求項10】 前記有機カルボン酸が、シクロヘキセ
    ンジカルボン酸、ジメチルグルタル酸、グルタミン酸、
    フタル酸、およびこれらの混合物からなる群から選択さ
    れることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に
    記載のハンダ付け用フラックス。
  11. 【請求項11】 前記アルコールが、多価アルコール、
    モノアルコール、およびこれらの混合物からなる群から
    選択されることを特徴とする請求項4から10のいずれ
    か一項に記載のハンダ付け用フラックス。
  12. 【請求項12】 前記多価アルコールが、エチレングリ
    コール、ジエチレングコール、トリエチレングリコー
    ル、プロピレングリコール、オクテングリコール、ポリ
    エチレングリコール、プロパンジオール、グリセリン、
    およびこれらの混合物からなる群から選択されることを
    特徴とする請求項11記載のハンダ付け用フラックス。
  13. 【請求項13】 前記モノアルコールが、メチルアルコ
    ール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチル
    アルコール、イソブチルアルコール、アミルアルコー
    ル、イソアミルアルコール、オクタノール、アリルアル
    コール、シクロヘキサノール、およびこれらの混合物か
    らなる群から選択されることを特徴とする請求項11に
    記載のハンダ付け用フラックス。
  14. 【請求項14】 前記エポキシ樹脂と前記有機カルボン
    酸の重合によるフラックス硬化反応の発熱ピーク頂点温
    度が180〜250℃であることを特徴とする請求項1
    から13のいずれか一項に記載のハンダ付け用フラック
    ス。
  15. 【請求項15】 前記エポキシ樹脂と前記有機カルボン
    酸の重合によるフラックス硬化反応の反応開始温度が1
    80〜230℃であることを特徴とする請求項1から1
    4のいずれか一項に記載のハンダ付け用フラックス。
  16. 【請求項16】 請求項1から15のいずれか一項に記
    載されたハンダ付け用フラックスと、融点が190℃〜
    240℃の鉛フリーハンダとを含有することを特徴とす
    るハンダ組成物。
  17. 【請求項17】 前記鉛フリーハンダが融点190〜2
    40℃のSn含有鉛フリーハンダであることを特徴とす
    る請求項16に記載のハンダ組成物。
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Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003002290A1 (fr) * 2001-06-29 2003-01-09 Fuji Electric Co., Ltd. Composition de brasage
JP2006167735A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Hitachi Ltd 機器、構造材等の製造法
WO2008026588A1 (fr) * 2006-08-28 2008-03-06 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Composition de résine thermodurcissable, son procédé de fabrication et carte de circuit
JP2008150597A (ja) * 2006-11-22 2008-07-03 Hitachi Chem Co Ltd 導電性接着剤組成物、電子部品搭載基板及び半導体装置
JP2008151792A (ja) * 2007-12-17 2008-07-03 Hitachi Ltd 圧力検出装置
WO2009001448A1 (ja) * 2007-06-27 2008-12-31 Panasonic Electric Works Co., Ltd. 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
WO2009044801A1 (ja) * 2007-10-03 2009-04-09 Hitachi Chemical Company, Ltd. 接着剤組成物及びそれを用いた電子部品搭載基板並びに半導体装置
JP2009298963A (ja) * 2008-06-16 2009-12-24 Fujikura Kasei Co Ltd 導電性接着剤および電子部品
JP2010077266A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及び回路基板
JP2011023577A (ja) * 2009-07-16 2011-02-03 Hitachi Chem Co Ltd 導電性接着剤組成物、これを用いた接続体、太陽電池セルの製造方法及び太陽電池モジュール
CN102585166A (zh) * 2011-01-04 2012-07-18 山荣化学株式会社 活性树脂组合物、表面安装方法以及印刷线路板
CN102896440A (zh) * 2011-07-26 2013-01-30 刘丽 助焊剂组合物和包含该助焊剂组合物的无铅焊膏
WO2013125684A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
WO2013125685A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
WO2013125086A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体用接着剤、フラックス剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置
WO2013125087A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体用接着剤、フラックス剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置
WO2013191121A1 (ja) * 2012-06-20 2013-12-27 富士電機株式会社 はんだ付け用フラックス及びはんだ組成物
JP2015066577A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 株式会社タムラ製作所 低酸価アクリル樹脂含有はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物
JP2015066578A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 株式会社タムラ製作所 ロジン含有量を低減させたはんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物
JP2015511888A (ja) * 2011-12-13 2015-04-23 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation 組成物及びそれから形成される導体
WO2015115483A1 (ja) * 2014-02-03 2015-08-06 富士電機株式会社 半田付け用フラックス及び半田組成物
WO2015146473A1 (ja) * 2014-03-25 2015-10-01 千住金属工業株式会社 フラックス及びソルダペースト
WO2016031552A1 (ja) * 2014-08-29 2016-03-03 古河電気工業株式会社 導電性接着剤組成物
JP2016030287A (ja) * 2014-07-30 2016-03-07 株式会社タムラ製作所 フラックス組成物、はんだ組成物および電子基板
JP6281624B1 (ja) * 2016-11-08 2018-02-21 千住金属工業株式会社 ソルダペースト
CN108296673A (zh) * 2017-01-13 2018-07-20 千住金属工业株式会社 助焊剂
JP2019150873A (ja) * 2018-02-28 2019-09-12 株式会社タムラ製作所 はんだ組成物および電子基板の製造方法
JP7410444B1 (ja) 2023-03-31 2024-01-10 千住金属工業株式会社 電子装置の製造方法および電子装置

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6854633B1 (en) * 2002-02-05 2005-02-15 Micron Technology, Inc. System with polymer masking flux for fabricating external contacts on semiconductor components
JP3702418B2 (ja) * 2002-03-07 2005-10-05 株式会社 東京第一商興 ソルダペースト用フラックス及びソルダペースト
US7182241B2 (en) * 2002-08-09 2007-02-27 Micron Technology, Inc. Multi-functional solder and articles made therewith, such as microelectronic components
WO2005118213A2 (en) * 2004-05-28 2005-12-15 P. Kay Metal, Inc. Solder paste and process
KR20070049169A (ko) * 2004-08-25 2007-05-10 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 땜납 조성물, 납땜 접합 방법, 및 납땜 접합 구조
JP2008510620A (ja) * 2004-08-25 2008-04-10 松下電器産業株式会社 半田組成物および半田接合方法ならびに半田接合構造
CN1308114C (zh) * 2004-10-12 2007-04-04 哈尔滨商业大学 具有1-甲基-4-异丙基-二环[2,2,2]辛烯-2,3-二羧酸的焊剂及其制备方法
US20060272747A1 (en) * 2005-06-03 2006-12-07 Renyi Wang Fluxing compositions
WO2009131913A2 (en) * 2008-04-21 2009-10-29 Honeywell International Inc. Thermal interconnect and interface materials, methods of production and uses thereof
CN101728354B (zh) * 2008-10-27 2013-07-10 松下电器产业株式会社 电子设备及其制造方法
CN102107340B (zh) * 2009-12-24 2015-10-21 汉高股份有限及两合公司 一种焊膏组合物、焊膏及一种助焊剂
US20120002386A1 (en) * 2010-07-01 2012-01-05 Nokia Corporation Method and Apparatus for Improving the Reliability of Solder Joints
JP4897932B1 (ja) * 2011-05-25 2012-03-14 ハリマ化成株式会社 はんだペースト用フラックスおよびはんだペースト
US8434666B2 (en) * 2011-09-30 2013-05-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Flux composition and method of soldering
US8434667B2 (en) * 2011-09-30 2013-05-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Polyamine, carboxylic acid flux composition and method of soldering
US8430295B2 (en) * 2011-09-30 2013-04-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Curable flux composition and method of soldering
US8430293B2 (en) * 2011-09-30 2013-04-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Curable amine, carboxylic acid flux composition and method of soldering
US8430294B2 (en) * 2011-09-30 2013-04-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Amine, carboxylic acid flux composition and method of soldering
TWI701098B (zh) * 2013-12-31 2020-08-11 美商阿爾發金屬化工公司 環氧焊接膏,使用該膏之方法,由該環氧焊接膏形成之焊接接頭及其形成方法,及包含此焊接接頭之總成
CN111394053B (zh) * 2020-03-03 2021-10-26 华南理工大学 一种带助焊功能非流动底部填充胶及其制备方法
CN111253896B (zh) * 2020-03-05 2021-03-19 深圳市凯恩应用化学技术有限公司 环氧胶黏剂及其制备方法、应用
US11618109B2 (en) * 2020-06-30 2023-04-04 Electronics And Telecommunications Research Institute Wire for electric bonding

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2033911C1 (ru) * 1992-07-23 1995-04-30 Омский государственный университет Консервирующий флюс для пайки низкотемпературными припоями
US5417771A (en) 1994-02-16 1995-05-23 Takeda Chemical Industries, Ltd. Soldering flux
JP3953514B2 (ja) 1995-05-24 2007-08-08 フライズ・メタルズ・インコーポレーテッド エポキシ系voc非含有はんだ付け用フラックス
US5851311A (en) 1996-03-29 1998-12-22 Sophia Systems Co., Ltd. Polymerizable flux composition for encapsulating the solder in situ
CN1056795C (zh) * 1997-02-21 2000-09-27 清华大学 用于焊锡丝的免清洗固体焊剂及其制备方法
JP3347649B2 (ja) * 1997-08-25 2002-11-20 富士通株式会社 フラットコイル型ボイスコイルモータの磁気回路

Cited By (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8206515B2 (en) 2001-06-29 2012-06-26 Fuji Electric Co., Ltd. Lead-free solder composition including microcapsules
US7601228B2 (en) 2001-06-29 2009-10-13 Fuji Electric Holdings Co., Ltd Solder composition
WO2003002290A1 (fr) * 2001-06-29 2003-01-09 Fuji Electric Co., Ltd. Composition de brasage
JP2006167735A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Hitachi Ltd 機器、構造材等の製造法
WO2008026588A1 (fr) * 2006-08-28 2008-03-06 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Composition de résine thermodurcissable, son procédé de fabrication et carte de circuit
US8697237B2 (en) 2006-08-28 2014-04-15 Panasonic Corporation Thermosetting resin composition, method of manufacturing the same and circuit board
JP5411503B2 (ja) * 2006-08-28 2014-02-12 パナソニック株式会社 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板
JPWO2008026588A1 (ja) * 2006-08-28 2010-01-21 パナソニック電工株式会社 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板
JP2008150597A (ja) * 2006-11-22 2008-07-03 Hitachi Chem Co Ltd 導電性接着剤組成物、電子部品搭載基板及び半導体装置
WO2009001448A1 (ja) * 2007-06-27 2008-12-31 Panasonic Electric Works Co., Ltd. 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JPWO2009044801A1 (ja) * 2007-10-03 2011-02-10 日立化成工業株式会社 接着剤組成物及びそれを用いた電子部品搭載基板並びに半導体装置
US10504864B2 (en) 2007-10-03 2019-12-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, electronic-component-mounted substrate and semiconductor device using the adhesive composition
KR101397891B1 (ko) * 2007-10-03 2014-05-20 히타치가세이가부시끼가이샤 접착제 조성물 및 그것을 이용한 전자부품 탑재 기판 및 반도체장치
WO2009044801A1 (ja) * 2007-10-03 2009-04-09 Hitachi Chemical Company, Ltd. 接着剤組成物及びそれを用いた電子部品搭載基板並びに半導体装置
US9247652B2 (en) 2007-10-03 2016-01-26 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, electronic-component-mounted substrate and semiconductor device using the adhesive composition
JP5195760B2 (ja) * 2007-10-03 2013-05-15 日立化成株式会社 接着剤組成物及びそれを用いた電子部品搭載基板並びに半導体装置
JP2008151792A (ja) * 2007-12-17 2008-07-03 Hitachi Ltd 圧力検出装置
JP2009298963A (ja) * 2008-06-16 2009-12-24 Fujikura Kasei Co Ltd 導電性接着剤および電子部品
JP2010077266A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及び回路基板
JP2011023577A (ja) * 2009-07-16 2011-02-03 Hitachi Chem Co Ltd 導電性接着剤組成物、これを用いた接続体、太陽電池セルの製造方法及び太陽電池モジュール
CN102585166B (zh) * 2011-01-04 2016-06-01 山荣化学株式会社 活性树脂组合物、表面安装方法以及印刷线路板
CN102585166A (zh) * 2011-01-04 2012-07-18 山荣化学株式会社 活性树脂组合物、表面安装方法以及印刷线路板
CN102896440A (zh) * 2011-07-26 2013-01-30 刘丽 助焊剂组合物和包含该助焊剂组合物的无铅焊膏
JP2015511888A (ja) * 2011-12-13 2015-04-23 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation 組成物及びそれから形成される導体
JPWO2013125087A1 (ja) * 2012-02-24 2015-07-30 日立化成株式会社 半導体用接着剤、フラックス剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置
WO2013125086A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体用接着剤、フラックス剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置
CN104145327A (zh) * 2012-02-24 2014-11-12 日立化成株式会社 半导体装置及其制造方法
KR101690626B1 (ko) 2012-02-24 2016-12-28 히타치가세이가부시끼가이샤 반도체 장치 및 그 제조 방법
US9425120B2 (en) 2012-02-24 2016-08-23 Hitachi Chemical Company, Ltd Semiconductor device and production method therefor
WO2013125685A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
WO2013125087A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体用接着剤、フラックス剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置
JPWO2013125684A1 (ja) * 2012-02-24 2015-07-30 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
JPWO2013125086A1 (ja) * 2012-02-24 2015-07-30 日立化成株式会社 半導体用接着剤、フラックス剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置
JPWO2013125685A1 (ja) * 2012-02-24 2015-07-30 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
KR20140117611A (ko) * 2012-02-24 2014-10-07 히타치가세이가부시끼가이샤 반도체 장치 및 그 제조 방법
WO2013125684A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
US9803111B2 (en) 2012-02-24 2017-10-31 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive for semiconductor, fluxing agent, manufacturing method for semiconductor device, and semiconductor device
US9643285B2 (en) 2012-06-20 2017-05-09 Fuji Electric Co., Ltd. Cream solder composition
JP5863966B2 (ja) * 2012-06-20 2016-02-17 富士電機株式会社 はんだ付け用フラックス及びはんだ組成物
WO2013191121A1 (ja) * 2012-06-20 2013-12-27 富士電機株式会社 はんだ付け用フラックス及びはんだ組成物
US9844840B2 (en) 2013-09-30 2017-12-19 Tamura Corporation Flux for soldering and solder paste composition
US10035222B2 (en) 2013-09-30 2018-07-31 Tamura Corporation Soldering flux and solder paste composition
JP2015066578A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 株式会社タムラ製作所 ロジン含有量を低減させたはんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物
JP2015066577A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 株式会社タムラ製作所 低酸価アクリル樹脂含有はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物
WO2015115483A1 (ja) * 2014-02-03 2015-08-06 富士電機株式会社 半田付け用フラックス及び半田組成物
JPWO2015115483A1 (ja) * 2014-02-03 2017-03-23 富士電機株式会社 半田付け用フラックス及び半田組成物
DE112015000621B4 (de) 2014-02-03 2024-02-01 Fuji Electric Co., Ltd. Flussmittel zum Löten und Lotzusammensetzung
JP2015182125A (ja) * 2014-03-25 2015-10-22 岡村製油株式会社 フラックス及びソルダペースト
WO2015146473A1 (ja) * 2014-03-25 2015-10-01 千住金属工業株式会社 フラックス及びソルダペースト
US9902022B2 (en) 2014-03-25 2018-02-27 Senju Metal Industry Co., Ltd. Flux and solder paste
JP2016030287A (ja) * 2014-07-30 2016-03-07 株式会社タムラ製作所 フラックス組成物、はんだ組成物および電子基板
US10563096B2 (en) 2014-08-29 2020-02-18 Furukawa Electric Co., Ltd. Conductive adhesive composition
JPWO2016031552A1 (ja) * 2014-08-29 2017-04-27 古河電気工業株式会社 導電性接着剤組成物
WO2016031552A1 (ja) * 2014-08-29 2016-03-03 古河電気工業株式会社 導電性接着剤組成物
JP2018075587A (ja) * 2016-11-08 2018-05-17 千住金属工業株式会社 ソルダペースト
JP6281624B1 (ja) * 2016-11-08 2018-02-21 千住金属工業株式会社 ソルダペースト
CN108296673A (zh) * 2017-01-13 2018-07-20 千住金属工业株式会社 助焊剂
CN108296673B (zh) * 2017-01-13 2019-03-22 千住金属工业株式会社 助焊剂
US11305385B2 (en) 2017-01-13 2022-04-19 Senju Metal Industry Co., Ltd. Flux
JP2019150873A (ja) * 2018-02-28 2019-09-12 株式会社タムラ製作所 はんだ組成物および電子基板の製造方法
JP7410444B1 (ja) 2023-03-31 2024-01-10 千住金属工業株式会社 電子装置の製造方法および電子装置

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