JP2002195755A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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真登 森田
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裕二 筒井
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005009749A (ja) * 2003-06-18 2005-01-13 Espec Corp 加熱装置
WO2006022232A1 (ja) * 2004-08-24 2006-03-02 Kabushiki Kaisha Ishiihyoki 塗布膜用乾燥炉
KR100686893B1 (ko) 2002-05-29 2007-02-27 에스펙 가부시키가이샤 가열장치
JP2008519155A (ja) * 2004-10-29 2008-06-05 コンソリデイテッド エンジニアリング カンパニー， インコーポレイテッド 高圧ガス噴射衝突熱処理システム
JP2008157541A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Ngk Insulators Ltd フラットパネル熱処理炉
JP2011124431A (ja) * 2009-12-11 2011-06-23 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
JP2012084637A (ja) * 2010-10-08 2012-04-26 Espec Corp 熱処理装置
JP2012225620A (ja) * 2011-04-22 2012-11-15 Panasonic Corp 熱処理装置
JP2012225557A (ja) * 2011-04-19 2012-11-15 Panasonic Corp 熱処理装置
JP2016153704A (ja) * 2015-02-20 2016-08-25 日本碍子株式会社 連続式焼成炉
JP2016538519A (ja) * 2013-11-13 2016-12-08 サンドビック マテリアルズ テクノロジー ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 平坦な材料を乾燥するための乾燥機及び方法
JP2016538518A (ja) * 2013-11-13 2016-12-08 サンドビック マテリアルズ テクノロジー ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シート状材料を処理する装置及び方法
CN106783589A (zh) * 2015-11-24 2017-05-31 泰拉半导体株式会社 供气及排气装置
JP2017201219A (ja) * 2016-05-02 2017-11-09 株式会社エナテック 乾燥装置、光照射装置、及び塗布システム
WO2019117250A1 (ja) * 2017-12-15 2019-06-20 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
JPWO2022049819A1 (enExample) * 2020-09-01 2022-03-10
JP2023019295A (ja) * 2021-07-29 2023-02-09 芝浦メカトロニクス株式会社 加熱処理装置
KR20230086821A (ko) * 2021-12-06 2023-06-15 (주) 한국제이텍트써모시스템 열처리로의 급배기 장치

Cited By (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100686893B1 (ko) 2002-05-29 2007-02-27 에스펙 가부시키가이샤 가열장치
JP2005009749A (ja) * 2003-06-18 2005-01-13 Espec Corp 加熱装置
WO2006022232A1 (ja) * 2004-08-24 2006-03-02 Kabushiki Kaisha Ishiihyoki 塗布膜用乾燥炉
CN100478085C (zh) * 2004-08-24 2009-04-15 株式会社石井表记 涂布膜用干燥炉
KR101117536B1 (ko) * 2004-08-24 2012-03-07 이시이 효키 가부시키가이샤 도포막용 건조로
US8167611B2 (en) 2004-08-24 2012-05-01 Kabushiki Kaisha Ishiihyoki Drying furnace for coated film
US8663547B2 (en) 2004-10-29 2014-03-04 Consolidated Engineering Company, Inc. High pressure heat treatment system
JP2008519155A (ja) * 2004-10-29 2008-06-05 コンソリデイテッド エンジニアリング カンパニー， インコーポレイテッド 高圧ガス噴射衝突熱処理システム
JP2008157541A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Ngk Insulators Ltd フラットパネル熱処理炉
JP2011124431A (ja) * 2009-12-11 2011-06-23 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
JP2012084637A (ja) * 2010-10-08 2012-04-26 Espec Corp 熱処理装置
JP2012225557A (ja) * 2011-04-19 2012-11-15 Panasonic Corp 熱処理装置
JP2012225620A (ja) * 2011-04-22 2012-11-15 Panasonic Corp 熱処理装置
JP2016538519A (ja) * 2013-11-13 2016-12-08 サンドビック マテリアルズ テクノロジー ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 平坦な材料を乾燥するための乾燥機及び方法
JP2016538518A (ja) * 2013-11-13 2016-12-08 サンドビック マテリアルズ テクノロジー ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シート状材料を処理する装置及び方法
US10309724B2 (en) 2013-11-13 2019-06-04 Ipco Germany Gmbh Dryer and method for drying flat materials
JP2016153704A (ja) * 2015-02-20 2016-08-25 日本碍子株式会社 連続式焼成炉
CN106783589A (zh) * 2015-11-24 2017-05-31 泰拉半导体株式会社 供气及排气装置
KR20170060352A (ko) * 2015-11-24 2017-06-01 주식회사 테라세미콘 가스 공급 및 배기 장치
CN106783589B (zh) * 2015-11-24 2021-11-23 圆益Ips股份有限公司 供气及排气装置
KR101941097B1 (ko) * 2015-11-24 2019-01-23 주식회사 원익테라세미콘 가스 공급 및 배기 장치
JP2017201219A (ja) * 2016-05-02 2017-11-09 株式会社エナテック 乾燥装置、光照射装置、及び塗布システム
JP2022069440A (ja) * 2017-12-15 2022-05-11 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
US11906246B2 (en) 2017-12-15 2024-02-20 Shibaura Mechatronics Corporation Organic film forming apparatus
WO2019117250A1 (ja) * 2017-12-15 2019-06-20 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
JP7008727B2 (ja) 2017-12-15 2022-01-25 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
KR102391759B1 (ko) * 2017-12-15 2022-04-28 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 유기막 형성 장치
JPWO2019117250A1 (ja) * 2017-12-15 2020-12-24 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
JP7473700B2 (ja) 2017-12-15 2024-04-23 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
KR20200058493A (ko) * 2017-12-15 2020-05-27 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 유기막 형성 장치
JP2023078154A (ja) * 2017-12-15 2023-06-06 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
JP7260681B2 (ja) 2017-12-15 2023-04-18 芝浦メカトロニクス株式会社 有機膜形成装置
JPWO2022049819A1 (enExample) * 2020-09-01 2022-03-10
JP2023019295A (ja) * 2021-07-29 2023-02-09 芝浦メカトロニクス株式会社 加熱処理装置
JP7366086B2 (ja) 2021-07-29 2023-10-20 芝浦メカトロニクス株式会社 加熱処理装置
KR20230086821A (ko) * 2021-12-06 2023-06-15 (주) 한국제이텍트써모시스템 열처리로의 급배기 장치
KR102749787B1 (ko) * 2021-12-06 2025-01-03 주식회사 한국제이텍트써모시스템 열처리로의 급배기 장치

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