JP2008157541A - フラットパネル熱処理炉 - Google Patents

フラットパネル熱処理炉 Download PDF

Info

Publication number
JP2008157541A
JP2008157541A JP2006346935A JP2006346935A JP2008157541A JP 2008157541 A JP2008157541 A JP 2008157541A JP 2006346935 A JP2006346935 A JP 2006346935A JP 2006346935 A JP2006346935 A JP 2006346935A JP 2008157541 A JP2008157541 A JP 2008157541A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
treatment furnace
flat panel
panel
ceiling structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006346935A
Other languages
English (en)
Inventor
Akikazu Iwata
晃和 岩田
Takeki Fujita
雄樹 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP2006346935A priority Critical patent/JP2008157541A/ja
Publication of JP2008157541A publication Critical patent/JP2008157541A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

【課題】タール状の付着物による不良発生をなくしたフラットパネル熱処理炉を提供する。
【解決手段】熱処理炉本体1の入口にパネル送り込み手段4を設けたフラットパネル熱処理炉に関するもので、パネル送り込み手段4の上部に所定長さにわたって天井構造体7を設け、その下面とパネル送り込み手段との間隙を例えば10〜100mm程度に狭くすることにより、熱処理炉本体1の入口からの炉内ガスの逆流を防止する。また天井構造体の下面に向かって空気を吹き込むノズル9を設けたり、天井構造体の下面にヒーターを設けたりすれば、より確実な効果が得られる。
【選択図】図3

Description

本発明は、PDP(プラズマディスプレイパネル)のようなフラットパネルを熱処理する熱処理炉の改良に関するものである。この熱処理には、フラットパネルの乾燥や焼成が含まれるものとする。
PDPに代表されるフラットパネルは、ガラスやセラミックス等からなる基板上に機能膜材料を多層に印刷し、熱処理することによって製造される。この熱処理を生産性良く行うため、特許文献1の背景技術の欄に記載されているように、トンネル状の連続熱処理炉、特にローラーハースキルンが従来から使用されている。
基板上に印刷される機能膜材料には多量の有機質バインダーが含まれている。このため熱処理炉の炉内に送り込まれたフラットパネルが加熱されるとバインダー蒸気が発生し、炉内に充満する。またトンネル炉の内部では温度の低い入口側に向かって炉内ガスが流動する。このため入口からバインダーガスを含む炉内ガスが流出し、入口の周辺で凝結してタール状の付着物が形成されることがある。
もしこのようなタール状の付着物がフラットパネル上に落下すると、不良品となって商品価値を損なう結果となる。そこで炉内ガスを大型の吸引ファンによって積極的に吸引しているが、工場全体の設備能力とも関連して吸引風量には限界があり、熱処理炉の入口から炉内ガスが流出することを完全に防止することはできなかった。
特開2005−156016号公報(段落0006)
本発明は上記した従来の問題点を解決して、大型の吸引ファンを必要とせず、熱処理炉の入口からの炉内ガスの流出を確実に防止することができ、タール状の付着物による不良発生をなくしたフラットパネル熱処理炉を提供することを目的とするものである。
上記の課題を解決するためになされた本発明は、フラットパネルを熱処理する熱処理炉本体の入口に、パネル送り込み手段を設けたフラットパネル熱処理炉において、このパネル送り込み手段の上部に所定長さにわたって天井構造体を設け、その下面とパネル送り込み手段との間隙を狭くすることにより、熱処理炉本体の入口からの炉内ガスの逆流を防止したことを特徴とするものである。
なお、天井構造体の入口側の下面に向かって空気を吹き込むノズルを備えた構造とすることが好ましく、天井構造体は、その下面にヒーターを備えたものとすることができる。また、熱処理炉本体がローラーハースキルンであり、パネル送り込み手段が送り込み用ローラであることが好ましく、天井構造体の下面とパネル送り込み手段との間隙を、10〜100mmとすることが好ましい。
本発明のフラットパネル熱処理炉は、熱処理炉本体の入口に設けたパネル送り込み手段の上部に所定長さにわたって天井構造体を設け、その下面とパネル送り込み手段との間隙を狭くしたものであるから、熱処理炉本体の入口のガス流動抵抗が大きくなり、熱処理炉の入口からの炉内ガスの流出を防止できる。このため入口周辺にタール状の付着物が形成されることがなくなり、不良発生を抑制することができる。
また、天井構造体の下面とパネル送り込み手段との間隙を狭くしたうえ、さらに天井構造体の入口に向かって偏平なノズルから空気を吹き込むようにすれば、炉内ガスの逆流をより確実に防止することができる。これらのガス逆流防止手段は吸引ファンの増設に比較して安価であり、ランニングコストも低い利点がある。
以下に本発明の好ましい実施形態を示す。
図1は本発明の第1の実施形態を示す断面図であり、1はフラットパネルを熱処理する熱処理炉本体である。この実施形態では熱処理炉は多数のセラミックロール2を一定ピッチで配置したローラーハースキルンであり、フラットパネルPはこれらのセラミックロール2によって熱処理炉本体1の内部を入口から出口に向かって一定速度で移動しながら、所定の温度カーブで焼成される。しかし熱処理炉は必ずしもローラーハースキルンに限定されるものではなく、メッシュベルトによりフラットパネルPを搬送するトンネル炉等とすることもできる。
フラットパネルPはこの実施形態ではPDPであり、ガラス基板の表面に機能膜材料を多層に印刷したものである。しかし必ずしもPDPに限定されるものではなく、液晶パネルその他の各種平板状パネルの熱処理にも使用することができる。この実施形態ではフラットパネルPは幅と長さが2m程度、厚さが3cm以下のものであるから、炉室の横幅も2.2m以上となっている。
前記したように機能膜材料には多量の有機質バインダーが含まれているため、炉内でフラットパネルPが加熱されるとバインダー蒸気が発生する。そこで熱処理炉本体1には排気用ファン3が設けられており、炉内ガスを排気している。
熱処理炉本体1の入口には、パネル送り込み手段4が設置されている。このパネル送り込み手段4は、熱処理炉のセラミックロール2上に所定のタイミングでフラットパネルPを送り込むためのものであって、送り込み用ローラ5を備えている。これらの送り込み用ローラ5は炉内のセラミックロール2とは別の駆動装置を備えている。しかしセラミックロール2の高さと同一であり、フラットパネルPは予め送り込み用ローラ5の上に載せられ、所定のタイミングで炉内に送り込まれる。なおこの実施形態ではパネル送り込み手段4は入口室6の内部に収納されている。
上記した構成は従来と同様であるが、本発明ではパネル送り込み手段4の上部に、所定長さにわたって天井構造体7を設けてある。この天井構造体7は熱処理炉本体1の入口をフラットパネルPの送り込みに支障がない程度に塞ぎ、熱処理炉本体1の入口からの炉内ガスの逆流を防止するためのもので、流動抵抗を高めるために十分な長さ、具体的には0.5m〜1.5m程度とされている。この実施形態では、天井構造体7の長さは0.6mに設定されている。
また、天井構造体7の下面とパネル送り込み手段4との間隙は流動抵抗を高めるためにはできるだけ狭くしておくことが好ましいが、万一フラットパネルPに反り等があった場合にも引っ掛かることのないよう、図1に示す上記間隙の寸法Hを10〜100mm程度としておくことが好ましい。さらに天井構造体7は昇降可能とし、この寸法Hを調節できるようにしておくことが好ましい。なお、天井構造体7の幅は焼成炉本体1の入口の幅よりも大きくしておくべきことはいうまでもない。
このように構成された本発明のフラットパネル熱処理炉は、天井構造体7によって熱処理炉本体1の入口を狭くしているので、入口からの炉内ガスの逆流を抑制することができる。このためバインダー蒸気が凝結したタール分が炉の入口付近に付着することがなくなる。なお、図2に示すように天井構造体7の下面にヒーター8を設けておけば、バインダー蒸気の凝結をより確実に防止することができる。ヒーター8としては例えば面状の電気ヒーターを用いることができる。
図3は本発明の第2の実施形態を示す断面図であり、入口室6に天井構造体7の入口側の下面に向かって空気を吹き込むためのノズル9を設けたものである。図3の上部に平面図として示すように、ノズル9は先端が拡がった偏平ノズルであり、天井構造体7の下面全体に空気を均一に吹き込むことによって、炉内ガスの逆流を更に確実に防止している。フラットパネルPの幅が約2mであるこの実施形態の場合、ノズル9から噴出される空気流量は、0.5m/分〜2m/分が適当である。ノズル9から噴出された空気はフラットパネルPの表面に沿って流れるが、図3に示すように床面10を入口室6の全体にフラットに形成しておけば、逆流防止効果をより高めることができる。
図4は本発明の第3の実施形態を示す断面図である。この実施形態は、天井構造体7及びノズル9を残したまま、入口室6の天井面を省略した構造となっている。これによりメンテナンス性を向上させることができる。またノズル9の位置もフラットパネルPの表面により接近させてある。
上記したように、本発明のフラットパネル熱処理炉は、天井構造体7及びその付帯設備により熱処理炉の入口からの炉内ガスの流出を防止し、炉の入口周辺にタール状の付着物が形成されることによる不良発生を抑制することができる。このため従来は毎年少なくとも1回は付着したタール分の除去作業が必要であったが、図3に示した本発明の実施形態によれば、タール分の付着が全くなくなるため、メンテナンスを行う必要はなくなった。また本発明によれば排気用ファンの能力増強を行う必要がなく、設備コスト、運転コスト、メンテナンスコストを引き下げることができる。
本発明の第1の実施形態を示す断面図である。 変形例を示す断面図である。 本発明の第2の実施形態を示す断面図である。 本発明の第3の実施形態を示す断面図である。
符号の説明
P フラットパネル
1 熱処理炉本体
2 セラミックロール
3 排気用ファン
4 パネル送り込み手段
5 送り込み用ローラ
6 入口室
7 天井構造体
8 ヒーター
9 ノズル
10 床面

Claims (5)

  1. フラットパネルを熱処理する熱処理炉本体の入口に、パネル送り込み手段を設けたフラットパネル焼成炉において、このパネル送り込み手段の上部に所定長さにわたって天井構造体を設け、その下面とパネル送り込み手段との間隙を狭くすることにより、熱処理炉本体の入口からの炉内ガスの逆流を防止したことを特徴とするフラットパネル熱処理炉。
  2. 天井構造体の入口側の下面に向かって空気を吹き込むノズルを備えたことを特徴とする請求項1に記載のフラットパネル熱処理炉。
  3. 天井構造体は、その下面にヒーターを備えたものであることを特徴とする請求項1に記載のフラットパネル熱処理炉。
  4. 熱処理炉本体がローラーハースキルンであり、パネル送り込み手段が送り込み用ローラであることを特徴とする請求項1に記載のフラットパネル熱処理炉。
  5. 天井構造体の下面とパネル送り込み手段との間隙を、10〜100mmとしたことを特徴とする請求項1に記載のフラットパネル熱処理炉。
JP2006346935A 2006-12-25 2006-12-25 フラットパネル熱処理炉 Pending JP2008157541A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006346935A JP2008157541A (ja) 2006-12-25 2006-12-25 フラットパネル熱処理炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006346935A JP2008157541A (ja) 2006-12-25 2006-12-25 フラットパネル熱処理炉

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008157541A true JP2008157541A (ja) 2008-07-10

Family

ID=39658641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006346935A Pending JP2008157541A (ja) 2006-12-25 2006-12-25 フラットパネル熱処理炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008157541A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014132213A (ja) * 2012-12-04 2014-07-17 Toda Kogyo Corp 連続式過熱水蒸気熱処理装置及び導電性塗膜の製造方法
CN104422277A (zh) * 2013-08-26 2015-03-18 日本碍子株式会社 热处理炉
JP2015152231A (ja) * 2014-02-14 2015-08-24 日本碍子株式会社 熱処理炉

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05305428A (ja) * 1992-04-10 1993-11-19 Furukawa Electric Co Ltd:The 半田付け用加熱炉
JPH0636688A (ja) * 1992-07-14 1994-02-10 Hitachi Ltd ガラス封止デバイス製造方法およびガス放電表示パネルの製造装置
JP2000256069A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Hitachi Ltd 連続焼結炉及びその構造
JP2001015447A (ja) * 1999-07-02 2001-01-19 Mitsubishi Electric Corp コンベア炉
JP2001028239A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Dainippon Printing Co Ltd 焼成処理方法および焼成炉
JP2002195755A (ja) * 2000-10-16 2002-07-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 熱処理装置
JP2006274432A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Osaka Gas Co Ltd 交番式リジェネバーナを備えた連続式焼鈍炉

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05305428A (ja) * 1992-04-10 1993-11-19 Furukawa Electric Co Ltd:The 半田付け用加熱炉
JPH0636688A (ja) * 1992-07-14 1994-02-10 Hitachi Ltd ガラス封止デバイス製造方法およびガス放電表示パネルの製造装置
JP2000256069A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Hitachi Ltd 連続焼結炉及びその構造
JP2001015447A (ja) * 1999-07-02 2001-01-19 Mitsubishi Electric Corp コンベア炉
JP2001028239A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Dainippon Printing Co Ltd 焼成処理方法および焼成炉
JP2002195755A (ja) * 2000-10-16 2002-07-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 熱処理装置
JP2006274432A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Osaka Gas Co Ltd 交番式リジェネバーナを備えた連続式焼鈍炉

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014132213A (ja) * 2012-12-04 2014-07-17 Toda Kogyo Corp 連続式過熱水蒸気熱処理装置及び導電性塗膜の製造方法
CN104422277A (zh) * 2013-08-26 2015-03-18 日本碍子株式会社 热处理炉
JP2015152231A (ja) * 2014-02-14 2015-08-24 日本碍子株式会社 熱処理炉

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI280342B (en) Apparatus and method for drying articles that have been treated
JP2008157541A (ja) フラットパネル熱処理炉
TW201139961A (en) Vacuum drying apparatus
JP2013095952A (ja) 連続溶融亜鉛めっき鋼板の製造設備及び製造方法
WO2014087452A1 (ja) 連続溶融亜鉛めっき鋼板の製造設備及び製造方法
JP5446653B2 (ja) 熱処理装置
KR100816350B1 (ko) 열처리 장치
AU765605B2 (en) Device for heating plates of glass
TWI353438B (en) Heat treatment apparatus
KR20070088359A (ko) 판재의 가열 방법 및 가열 장치, 및 판재를 가열하기 위한유지 장치
WO2014156977A1 (ja) テンターオーブンおよび熱可塑性樹脂フィルムの製造方法
KR20180064497A (ko) 용융 아연 도금 강판의 제조 방법
JP5468318B2 (ja) 熱処理炉
JP5125059B2 (ja) ガラス基板の搬送方法
JP4233350B2 (ja) 膜形成素材を含む基板の乾燥方法及び乾燥炉
JP5262189B2 (ja) プリプレグの製造方法およびその製造に用いる縦型乾燥炉
KR20130061852A (ko) 필름의 열처리 장치
JP4924991B2 (ja) 脱バインダ用治具
JP2010223499A (ja) 基板冷却装置
JP2002156188A (ja) ローラハース式雰囲気炉
JP2005114284A (ja) 焼成炉
JPH06323738A (ja) ローラーハースキルン
JP6330612B2 (ja) 連続溶融金属めっき装置及び溶融金属めっき鋼帯の製造方法
JP2000203881A (ja) 連続式焼成炉におけるガラス材の焼成方法
JP6295760B2 (ja) テンターオーブンおよび熱可塑性樹脂フィルムの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080716

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110223

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110414

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111115