JP2003123651A - プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそのための炉設備 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそのための炉設備Info
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- JP2003123651A JP2003123651A JP2001314623A JP2001314623A JP2003123651A JP 2003123651 A JP2003123651 A JP 2003123651A JP 2001314623 A JP2001314623 A JP 2001314623A JP 2001314623 A JP2001314623 A JP 2001314623A JP 2003123651 A JP2003123651 A JP 2003123651A
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- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造工場での設置床面積が小さくて済み、熱
効率を改善することができ、かつ、均一に熱処理できる
プラズマディスプレイパネルの製造方法および炉設備を
提供する。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルを構成する
パネルを所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する
に際し、前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分
割し、各温度ゾーンごとの温度に、上下に多段に積層さ
れた複数の炉２，３，４の内部温度を制御する工程と、
前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉２，３，４
に前記パネルたるワーク７を順次に搬入・搬出する工程
とを行なう。これによれば、各炉２，３，４を個別に温
度制御するので、ワーク７に対して、複雑な温度プロフ
ァイルを実現可能である。また、複数の炉（ゾーン）を
平面配置する従来の方式に比べて、炉設備１の設置スペ
ースや表面積を低減できる。
効率を改善することができ、かつ、均一に熱処理できる
プラズマディスプレイパネルの製造方法および炉設備を
提供する。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルを構成する
パネルを所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する
に際し、前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分
割し、各温度ゾーンごとの温度に、上下に多段に積層さ
れた複数の炉２，３，４の内部温度を制御する工程と、
前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉２，３，４
に前記パネルたるワーク７を順次に搬入・搬出する工程
とを行なう。これによれば、各炉２，３，４を個別に温
度制御するので、ワーク７に対して、複雑な温度プロフ
ァイルを実現可能である。また、複数の炉（ゾーン）を
平面配置する従来の方式に比べて、炉設備１の設置スペ
ースや表面積を低減できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法およびそのための炉設備に関す
る。
レイパネルの製造方法およびそのための炉設備に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】フラットディスプレイ装置を構成するプ
ラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰパネルともい
う）の製造工程では、４２インチ，５０インチ等の大型
ＰＤＰパネルに即した大きな基板に電極材料などを印刷
し、乾燥し、露光し、現像し、焼成すると言った加工工
程が何工程も繰り返されて、目的とする前面板や背面板
が製造されている。この場合の各工程で乾燥や焼成に使
用される炉設備としては、別工程の塵（コンタミ）が付
着しないように別々の炉設備が設けられる。
ラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰパネルともい
う）の製造工程では、４２インチ，５０インチ等の大型
ＰＤＰパネルに即した大きな基板に電極材料などを印刷
し、乾燥し、露光し、現像し、焼成すると言った加工工
程が何工程も繰り返されて、目的とする前面板や背面板
が製造されている。この場合の各工程で乾燥や焼成に使
用される炉設備としては、別工程の塵（コンタミ）が付
着しないように別々の炉設備が設けられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一つの乾燥
工程に使用される炉設備は、一定方向に連続搬送される
ワークに対して乾燥の温度プロファイルを実行するよう
温度管理される複数のゾーンが直列に配置されるため、
長さ１５〜２０メートルにもなる。したがって、乾燥工
程が５回繰り返される場合は、乾燥工程だけで５つの炉
設備、１００メートルもの搬送経路が必要である。同様
に、一つの焼成工程に使用される炉設備は長さ５０メー
トルにもなり、焼成工程だけで数百メートルもの搬送経
路が必要となる。
工程に使用される炉設備は、一定方向に連続搬送される
ワークに対して乾燥の温度プロファイルを実行するよう
温度管理される複数のゾーンが直列に配置されるため、
長さ１５〜２０メートルにもなる。したがって、乾燥工
程が５回繰り返される場合は、乾燥工程だけで５つの炉
設備、１００メートルもの搬送経路が必要である。同様
に、一つの焼成工程に使用される炉設備は長さ５０メー
トルにもなり、焼成工程だけで数百メートルもの搬送経
路が必要となる。
【０００４】そのため、製造工場のレイアウトにおいて
炉設備に大きな床面積を要し、各炉設備とも表面積が大
きいだけに熱効率もよくないのが現状である。本発明
は、製造工場での設置床面積が小さくて済み、熱効率を
改善することができ、かつ、均一に熱処理できるプラズ
マディスプレイパネルの製造方法および炉設備を提供す
ることを目的とする。
炉設備に大きな床面積を要し、各炉設備とも表面積が大
きいだけに熱効率もよくないのが現状である。本発明
は、製造工場での設置床面積が小さくて済み、熱効率を
改善することができ、かつ、均一に熱処理できるプラズ
マディスプレイパネルの製造方法および炉設備を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の本発明は、プラズマディスプレイパ
ネルを構成するパネルを所定の温度プロファイルに基づ
いて熱処理するに際し、前記温度プロファイルを複数の
温度ゾーンに分割し、各温度ゾーンごとの温度に、上下
に多段に積層された複数の炉の内部温度を制御する工程
と、前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉に前記
パネルを順次に搬入・搬出する工程とを行なうことを特
徴とする。これによれば、各炉を個別に温度制御するの
で、各炉に順次に搬入搬出するワークに対して、複雑な
温度プロファイルを実現可能である。
に、請求項１記載の本発明は、プラズマディスプレイパ
ネルを構成するパネルを所定の温度プロファイルに基づ
いて熱処理するに際し、前記温度プロファイルを複数の
温度ゾーンに分割し、各温度ゾーンごとの温度に、上下
に多段に積層された複数の炉の内部温度を制御する工程
と、前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉に前記
パネルを順次に搬入・搬出する工程とを行なうことを特
徴とする。これによれば、各炉を個別に温度制御するの
で、各炉に順次に搬入搬出するワークに対して、複雑な
温度プロファイルを実現可能である。
【０００６】請求項２記載の本発明は、請求項１記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法において、パネ
ルを搬入・搬出するタイミングやパネル搬入後の経過時
間に基づいて各炉へのガスの供給排気量を制御して、各
炉内に所望のガス雰囲気を形成することを特徴とする。
つまり、ワークが搬出されている間は排気量を大きくす
ることにより、炉内で蒸発したバインダ等の溶剤の蒸発
ガスを短時間で排出し、炉内のガス雰囲気を初期状態に
戻す。このことにより、順次に搬入される複数のワーク
の乾燥あるいは焼成の状態を均一にできる。
プラズマディスプレイパネルの製造方法において、パネ
ルを搬入・搬出するタイミングやパネル搬入後の経過時
間に基づいて各炉へのガスの供給排気量を制御して、各
炉内に所望のガス雰囲気を形成することを特徴とする。
つまり、ワークが搬出されている間は排気量を大きくす
ることにより、炉内で蒸発したバインダ等の溶剤の蒸発
ガスを短時間で排出し、炉内のガス雰囲気を初期状態に
戻す。このことにより、順次に搬入される複数のワーク
の乾燥あるいは焼成の状態を均一にできる。
【０００７】請求項３記載の本発明は、請求項１または
請求項２のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法において、炉内にパネルが搬入されていな
い時に、この炉内に残留した熱処理生成物を除去するこ
とを特徴とする。これによれば、パネルの汚染を防止で
きる炉内環境を、炉設備を運転停止することなく実現で
きる。
請求項２のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法において、炉内にパネルが搬入されていな
い時に、この炉内に残留した熱処理生成物を除去するこ
とを特徴とする。これによれば、パネルの汚染を防止で
きる炉内環境を、炉設備を運転停止することなく実現で
きる。
【０００８】請求項４記載の本発明は、請求項１〜請求
項３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法において、搬入・搬出途中のパネルを温度制御
またはガス雰囲気制御することを特徴とする。これによ
れば、ワークを炉から搬出後に保温あるいは加温した
り、冷却速度を調節して冷却したり、炉への搬入に先だ
って予備加熱したりすることにより、ワークに所望の温
度変化を生ぜしめることができ、ワークの割れなども防
止できる。また、ガス雰囲気制御することにより、ワー
クの酸化等を促進あるいは抑制することができる。
項３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法において、搬入・搬出途中のパネルを温度制御
またはガス雰囲気制御することを特徴とする。これによ
れば、ワークを炉から搬出後に保温あるいは加温した
り、冷却速度を調節して冷却したり、炉への搬入に先だ
って予備加熱したりすることにより、ワークに所望の温
度変化を生ぜしめることができ、ワークの割れなども防
止できる。また、ガス雰囲気制御することにより、ワー
クの酸化等を促進あるいは抑制することができる。
【０００９】請求項５記載の本発明は、プラズマディス
プレイパネルを構成するパネルを所定の温度プロファイ
ルに基づいて熱処理する炉設備であって、上下に多段に
積層された複数の炉と、前記温度プロファイルを複数の
温度ゾーンに分割した各温度ゾーンごとの温度に、前記
複数の炉の内部温度を個別に制御する温度制御手段と、
前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉に前記パネ
ルを順次に搬入・搬出する搬入搬出手段とを有すること
を特徴とする。これによれば、複数の炉（ゾーン）を平
面配置する構成に比べて、設置スペースを低減できると
ともに、表面積を低減することができ、効率よく温度制
御することが可能になる。また、炉設備全体を運転停止
することなく各炉をメンテナンス可能である。
プレイパネルを構成するパネルを所定の温度プロファイ
ルに基づいて熱処理する炉設備であって、上下に多段に
積層された複数の炉と、前記温度プロファイルを複数の
温度ゾーンに分割した各温度ゾーンごとの温度に、前記
複数の炉の内部温度を個別に制御する温度制御手段と、
前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉に前記パネ
ルを順次に搬入・搬出する搬入搬出手段とを有すること
を特徴とする。これによれば、複数の炉（ゾーン）を平
面配置する構成に比べて、設置スペースを低減できると
ともに、表面積を低減することができ、効率よく温度制
御することが可能になる。また、炉設備全体を運転停止
することなく各炉をメンテナンス可能である。
【００１０】請求項６記載の本発明は、請求項５記載の
炉設備において、パネルを搬入・搬出するタイミングや
パネル搬入後の経過時間に基づき各炉へのガスの供給排
気量を制御する給排気制御手段を有することを特徴とす
る。
炉設備において、パネルを搬入・搬出するタイミングや
パネル搬入後の経過時間に基づき各炉へのガスの供給排
気量を制御する給排気制御手段を有することを特徴とす
る。
【００１１】請求項７記載の本発明は、請求項５または
請求項６のいずれかに記載の炉設備において、搬入・搬
出途中のパネルを温度制御またはガス雰囲気制御する搬
入搬出時制御手段を有することを特徴とする。
請求項６のいずれかに記載の炉設備において、搬入・搬
出途中のパネルを温度制御またはガス雰囲気制御する搬
入搬出時制御手段を有することを特徴とする。
【００１２】請求項８記載の本発明は、請求項５〜請求
項７のいずれかに記載の炉設備において、搬入搬出手段
が、パネルを下方より支持するローラであることを特徴
とする。
項７のいずれかに記載の炉設備において、搬入搬出手段
が、パネルを下方より支持するローラであることを特徴
とする。
【００１３】請求項９記載の本発明は、請求項５〜請求
項８のいずれかに記載の炉設備において、各炉内の圧力
を制御する圧力制御手段を有することを特徴とする。請
求項１０記載の本発明は、プラズマディスプレイパネル
を構成するパネルを所定の温度プロファイルに基づいて
熱処理する炉設備であって、複数の前記パネルを収納可
能な炉と、前記炉内で複数のパネルを上下に多段に支持
し上下方向に搬送する搬送手段と、前記温度プロファイ
ルを複数の温度ゾーンに分割した各温度ゾーンごとの温
度に、前記炉の上層から下層にわたる内部温度を制御す
る温度制御手段と、前記炉の上層と下層とに対して設け
られ前記パネルを搬入・搬出する搬入搬出手段とを有す
る。これによれば、複数の炉（ゾーン）を平面配置する
構成に比べて、設置スペースを低減できるとともに、表
面積を低減することができ、効率よく温度制御すること
が可能になる。
項８のいずれかに記載の炉設備において、各炉内の圧力
を制御する圧力制御手段を有することを特徴とする。請
求項１０記載の本発明は、プラズマディスプレイパネル
を構成するパネルを所定の温度プロファイルに基づいて
熱処理する炉設備であって、複数の前記パネルを収納可
能な炉と、前記炉内で複数のパネルを上下に多段に支持
し上下方向に搬送する搬送手段と、前記温度プロファイ
ルを複数の温度ゾーンに分割した各温度ゾーンごとの温
度に、前記炉の上層から下層にわたる内部温度を制御す
る温度制御手段と、前記炉の上層と下層とに対して設け
られ前記パネルを搬入・搬出する搬入搬出手段とを有す
る。これによれば、複数の炉（ゾーン）を平面配置する
構成に比べて、設置スペースを低減できるとともに、表
面積を低減することができ、効率よく温度制御すること
が可能になる。
【００１４】請求項１１記載の本発明は、請求項１０記
載の炉設備において、上層側に下層側よりも高温のガス
を供給排気する給排気手段を有することを特徴とする。
請求項１２記載の本発明は、プラズマディスプレイパネ
ルを構成するパネルを所定の温度プロファイルに基づい
て熱処理する炉設備であって、前記パネルを昇温させる
昇温炉と降温させる降温炉とを請求項５〜請求項１１の
いずれかに記載の炉設備でそれぞれ構成し、この昇温炉
と降温炉の高温領域どうしを連通させたことを特徴とす
る。
載の炉設備において、上層側に下層側よりも高温のガス
を供給排気する給排気手段を有することを特徴とする。
請求項１２記載の本発明は、プラズマディスプレイパネ
ルを構成するパネルを所定の温度プロファイルに基づい
て熱処理する炉設備であって、前記パネルを昇温させる
昇温炉と降温させる降温炉とを請求項５〜請求項１１の
いずれかに記載の炉設備でそれぞれ構成し、この昇温炉
と降温炉の高温領域どうしを連通させたことを特徴とす
る。
【００１５】請求項１３記載の本発明は、請求項５〜請
求項１２のいずれかに記載の炉設備において、炉の内外
でガスを供給するガス供給手段は、パネルに対向しない
箇所にガス噴出孔が設けられたことを特徴とする。
求項１２のいずれかに記載の炉設備において、炉の内外
でガスを供給するガス供給手段は、パネルに対向しない
箇所にガス噴出孔が設けられたことを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて具体的に説明する。 （実施の形態１）図１はプラズマディスプレイパネルの
前面板に関する温度プロファイルの一例を示すグラフで
あり、ワークを目的温度まで昇温させてその温度を所定
時間だけキープし、その後に冷却させるようにしてい
る。
に基づいて具体的に説明する。 （実施の形態１）図１はプラズマディスプレイパネルの
前面板に関する温度プロファイルの一例を示すグラフで
あり、ワークを目的温度まで昇温させてその温度を所定
時間だけキープし、その後に冷却させるようにしてい
る。
【００１７】図２に示すように、この温度プロファイル
を実現する炉設備１（ここでは乾燥炉）は、３つの炉
２，３，４を上下方向に多段に積層して構成されてい
る。最上段の炉２，中段の炉３，最下段の炉４は、それ
ぞれの搬入搬出口２ａ，３ａ，４ａが炉設備１の一側部
に開口し、開閉自在なシャッタ２ｂ，３ｂ，４ｂを備え
ていて、炉ごとに独立して制御可能である。
を実現する炉設備１（ここでは乾燥炉）は、３つの炉
２，３，４を上下方向に多段に積層して構成されてい
る。最上段の炉２，中段の炉３，最下段の炉４は、それ
ぞれの搬入搬出口２ａ，３ａ，４ａが炉設備１の一側部
に開口し、開閉自在なシャッタ２ｂ，３ｂ，４ｂを備え
ていて、炉ごとに独立して制御可能である。
【００１８】各炉２，３，４には、平板状のヒータ５，
６がそれぞれ天部，底部に設置され、これらのヒータ
５，６から適当距離だけ離れた位置で板状のワーク７を
水平方向に支持する複数のローラ８が並列に、かつ水平
方向の軸心廻りに正逆回転可能に設置されている。ま
た、複数の吐出孔９ａを有した給気管９が天部のヒータ
５に沿って配列され、排気管（後述する図７参照）が開
口している。そしてこれらにより炉２，３，４はこの順
に、１００℃，２００℃，３００℃に温度制御されるよ
うになっている。２Ｔ，３Ｔ，４Ｔは温度検出手段であ
る。
６がそれぞれ天部，底部に設置され、これらのヒータ
５，６から適当距離だけ離れた位置で板状のワーク７を
水平方向に支持する複数のローラ８が並列に、かつ水平
方向の軸心廻りに正逆回転可能に設置されている。ま
た、複数の吐出孔９ａを有した給気管９が天部のヒータ
５に沿って配列され、排気管（後述する図７参照）が開
口している。そしてこれらにより炉２，３，４はこの順
に、１００℃，２００℃，３００℃に温度制御されるよ
うになっている。２Ｔ，３Ｔ，４Ｔは温度検出手段であ
る。
【００１９】各炉２，３，４の搬入搬出口２ａ，３ａ，
４ａの近傍にはそれぞれ、横送りの搬入搬出手段として
のコンベア１０が一端を近づけて配置され、また各段の
コンベア１０と同等高さまで昇降自在なローダ・アンロ
ーダ１１が配置されている。各コンベア１０，ローダ・
アンローダ１１にはそれぞれ、複数のローラ８が並列
に、水平方向の軸心まわりに正逆回転可能に取りつけら
れている。１２はコンベア１０を駆動するモータ（最下
段のみ図示する）、１３はローダ・アンローダ１１を駆
動するモータである。
４ａの近傍にはそれぞれ、横送りの搬入搬出手段として
のコンベア１０が一端を近づけて配置され、また各段の
コンベア１０と同等高さまで昇降自在なローダ・アンロ
ーダ１１が配置されている。各コンベア１０，ローダ・
アンローダ１１にはそれぞれ、複数のローラ８が並列
に、水平方向の軸心まわりに正逆回転可能に取りつけら
れている。１２はコンベア１０を駆動するモータ（最下
段のみ図示する）、１３はローダ・アンローダ１１を駆
動するモータである。
【００２０】このような炉設備１においては、たとえば
印刷工程からローダ・アンローダ１１にワーク７が搬入
されると、このローダ・アンローダ１１によって最上段
のコンベア１０に載置され、ローラ８により最上段の炉
２に搬入され、炉２内のローラ８上に載置される。それ
に伴ってシャッタ２ｂが閉じられる。ローラ８上のワー
ク７は、図１の昇温ゾーンを満足する時間まで炉２に
留まり、その後にローラ８の逆転によってコンベア１０
に搬出され、続いてローダ・アンローダ１１に搬出され
る。
印刷工程からローダ・アンローダ１１にワーク７が搬入
されると、このローダ・アンローダ１１によって最上段
のコンベア１０に載置され、ローラ８により最上段の炉
２に搬入され、炉２内のローラ８上に載置される。それ
に伴ってシャッタ２ｂが閉じられる。ローラ８上のワー
ク７は、図１の昇温ゾーンを満足する時間まで炉２に
留まり、その後にローラ８の逆転によってコンベア１０
に搬出され、続いてローダ・アンローダ１１に搬出され
る。
【００２１】次いで、ローダ・アンローダ１１が１段降
下し、ワーク７は、上記と同様にして、中段のコンベア
１０を介して中間の炉３に搬入され、炉３内のローラ８
上に載置され、シャッタ３ｂが閉じられた炉３内に図１
の昇温ゾーンを満足する時間まで留まり、コンベア１
０を介してローダ・アンローダ１１に搬出される。
下し、ワーク７は、上記と同様にして、中段のコンベア
１０を介して中間の炉３に搬入され、炉３内のローラ８
上に載置され、シャッタ３ｂが閉じられた炉３内に図１
の昇温ゾーンを満足する時間まで留まり、コンベア１
０を介してローダ・アンローダ１１に搬出される。
【００２２】次いで、ローダ・アンローダ１１が１段降
下し、ワーク７は、上記と同様にして、最下段のコンベ
ア１０を介して最下段の炉４に搬入され、炉４内のロー
ラ８上に載置され、シャッタ３ｃが閉じられた炉４内に
図１のキープゾーンを満足する時間まで留まり、コン
ベア１０を介してローダ・アンローダ１１に搬出され
る。
下し、ワーク７は、上記と同様にして、最下段のコンベ
ア１０を介して最下段の炉４に搬入され、炉４内のロー
ラ８上に載置され、シャッタ３ｃが閉じられた炉４内に
図１のキープゾーンを満足する時間まで留まり、コン
ベア１０を介してローダ・アンローダ１１に搬出され
る。
【００２３】このようにして一連の昇温・キープ期間を
終了したワーク７は、この最下段のコンベア１０に留ま
って、温度プロファイルに沿った傾きで降温され、その
後にローダ・アンローダ１１を介して次工程に搬出され
る。
終了したワーク７は、この最下段のコンベア１０に留ま
って、温度プロファイルに沿った傾きで降温され、その
後にローダ・アンローダ１１を介して次工程に搬出され
る。
【００２４】なおこのとき、各炉２，３，４の内部にワ
ーク７が留まっている昇温・キープ期間の少なくとも一
部と、最下段のコンベア１０にワーク７が留まっている
冷却期間の少なくとも一部とにおいて、ローラ８が停止
されずに正逆回転され、ワーク７は搬入搬出方向に小さ
な幅で揺動される。このことにより、ワーク７に対する
ローラ８の当接個所が変更され、ローラ８によって熱が
遮断されたり滞留されることなく均一に加熱されること
になり、乾燥ムラが低減される。
ーク７が留まっている昇温・キープ期間の少なくとも一
部と、最下段のコンベア１０にワーク７が留まっている
冷却期間の少なくとも一部とにおいて、ローラ８が停止
されずに正逆回転され、ワーク７は搬入搬出方向に小さ
な幅で揺動される。このことにより、ワーク７に対する
ローラ８の当接個所が変更され、ローラ８によって熱が
遮断されたり滞留されることなく均一に加熱されること
になり、乾燥ムラが低減される。
【００２５】またこのとき、各炉２，３，４で給気管９
から空気などの予め決められたガスが噴出され、排気管
（図示せず）を通じて排気されることにより、電極材料
に含まれる溶剤成分などが炉内から排除されるととも
に、ガス温度、ガス流量によって炉内温度が調節され
る。各給気管９は直接にワーク７に向けてガスを噴出し
ないように、たとえば天部やワーク７の外周側に向けて
噴出孔９ａが形成されていて、ワーク７がガスの影響を
局部的に受けて、乾燥ムラなど生じることがないよう図
られている。
から空気などの予め決められたガスが噴出され、排気管
（図示せず）を通じて排気されることにより、電極材料
に含まれる溶剤成分などが炉内から排除されるととも
に、ガス温度、ガス流量によって炉内温度が調節され
る。各給気管９は直接にワーク７に向けてガスを噴出し
ないように、たとえば天部やワーク７の外周側に向けて
噴出孔９ａが形成されていて、ワーク７がガスの影響を
局部的に受けて、乾燥ムラなど生じることがないよう図
られている。
【００２６】ガスとしては、バインダー等を酸化させて
ＣＯ2として排出するためにはＯ2リッチな空気を選択
し、酸化させたくない材料が含まれる場合にはＮ2リッ
チな空気や不活性ガスを選択するなど、適宜に選択され
る。全く給気しない場合もある。ここで、Ｏ2リッチな
空気とは、外部よりＯ2を別途に供給して通常空気以上
に単位体積当りの酸素分圧（濃度）を高くコントロール
した空気をいう。各炉２，３，４では、シャッタ２ｂ，
３ｂ，４ｂが炉内のガス圧力を制御する機能を担う。
ＣＯ2として排出するためにはＯ2リッチな空気を選択
し、酸化させたくない材料が含まれる場合にはＮ2リッ
チな空気や不活性ガスを選択するなど、適宜に選択され
る。全く給気しない場合もある。ここで、Ｏ2リッチな
空気とは、外部よりＯ2を別途に供給して通常空気以上
に単位体積当りの酸素分圧（濃度）を高くコントロール
した空気をいう。各炉２，３，４では、シャッタ２ｂ，
３ｂ，４ｂが炉内のガス圧力を制御する機能を担う。
【００２７】なお、各炉２，３，４については適宜に、
ワーク７の搬出後に、炉内で生成して凝固した不要物を
除去する等のメンテナンスが実施される。以上のように
して、この炉設備１において、従来の平面配置型の炉設
備と同等にワーク７を乾燥させることができる。
ワーク７の搬出後に、炉内で生成して凝固した不要物を
除去する等のメンテナンスが実施される。以上のように
して、この炉設備１において、従来の平面配置型の炉設
備と同等にワーク７を乾燥させることができる。
【００２８】しかもこの炉設備１によれば、炉２，３，
４が上下方向に多段に積層配置されているため、従来の
平面配置型に比べて、炉設備１の設置面積、したがって
製造工場の床面積が小さくて済む。
４が上下方向に多段に積層配置されているため、従来の
平面配置型に比べて、炉設備１の設置面積、したがって
製造工場の床面積が小さくて済む。
【００２９】また、中段の炉３は上下を炉２と炉４とで
挟まれているため、従来の平面配置型に比べて、炉設備
１全体としての表面積が少なくなり、温度管理が容易に
なるとともに、熱効率も大幅に改善される。
挟まれているため、従来の平面配置型に比べて、炉設備
１全体としての表面積が少なくなり、温度管理が容易に
なるとともに、熱効率も大幅に改善される。
【００３０】さらに、ワーク７を揺動させることで均一
加熱が可能であるため、炉２，３，４を、ワーク７の周
囲に適当な間隙を形成するだけの幅・奥行きに抑えるこ
とができ、炉高も低く抑えることができる。たとえば、
３ｍｍ厚程度のガラス基板に電極材料を印刷し、ローラ
上に載置して乾燥させる場合には、炉高１１０ｍｍ程度
に抑えることができる。よって、極めて多段な炉積層、
および設置面積の低減が可能である。
加熱が可能であるため、炉２，３，４を、ワーク７の周
囲に適当な間隙を形成するだけの幅・奥行きに抑えるこ
とができ、炉高も低く抑えることができる。たとえば、
３ｍｍ厚程度のガラス基板に電極材料を印刷し、ローラ
上に載置して乾燥させる場合には、炉高１１０ｍｍ程度
に抑えることができる。よって、極めて多段な炉積層、
および設置面積の低減が可能である。
【００３１】なお、高温の炉、中温の炉、低温の炉をど
の段に配置するか、またワーク７を各炉にどの順序で搬
入搬出するかは、適宜に決めることができる。たとえ
ば、上記した炉設備１とは逆に、最上段の炉を高温に、
最下段の炉を低温にしてもよく、その場合は熱が上方に
溜まる性質を利用できるため温度管理がより容易にな
る。ワーク７の温度を急激に昇温させたい場合には、ワ
ーク７を高温の炉に先に搬入すればよい。
の段に配置するか、またワーク７を各炉にどの順序で搬
入搬出するかは、適宜に決めることができる。たとえ
ば、上記した炉設備１とは逆に、最上段の炉を高温に、
最下段の炉を低温にしてもよく、その場合は熱が上方に
溜まる性質を利用できるため温度管理がより容易にな
る。ワーク７の温度を急激に昇温させたい場合には、ワ
ーク７を高温の炉に先に搬入すればよい。
【００３２】また、上記した炉設備１では各炉２，３，
４の搬入搬出口２ａ，３ａ，４ａが同一側部に開口した
ものとして説明したが、開口位置は、各炉２，３，４へ
のワーク７の出し入れ、並びに隣接工程に対する搬入搬
出が容易になるように決めればよい。たとえば、図３
(a)(b)に示すように、搬入口２ａと搬出口２ｃとを互い
に背反する側部に開口させてもよいし、搬入口２ａと搬
出口２ｄとを互いに隣接する側部に開口させてもよい。
したがって、ワーク７を下方より支持する支持手段であ
って、搬入搬出手段でもあり、揺動手段でもあるローラ
８を、各段ごとに異なる向きに回転するように構成した
り、他の搬入搬出手段、揺動手段で代えることも可能で
ある。
４の搬入搬出口２ａ，３ａ，４ａが同一側部に開口した
ものとして説明したが、開口位置は、各炉２，３，４へ
のワーク７の出し入れ、並びに隣接工程に対する搬入搬
出が容易になるように決めればよい。たとえば、図３
(a)(b)に示すように、搬入口２ａと搬出口２ｃとを互い
に背反する側部に開口させてもよいし、搬入口２ａと搬
出口２ｄとを互いに隣接する側部に開口させてもよい。
したがって、ワーク７を下方より支持する支持手段であ
って、搬入搬出手段でもあり、揺動手段でもあるローラ
８を、各段ごとに異なる向きに回転するように構成した
り、他の搬入搬出手段、揺動手段で代えることも可能で
ある。
【００３３】また、上記した炉設備１は乾燥炉として説
明したが、６００℃程度で焼成を実施する焼成炉も同様
に構成することができる。さらに、上記した炉設備１は
３つの炉２，３，４で構成したが、炉数を増やすことに
より、図４に示した昇温、キープ、昇温、キープ、冷却
というような、より複雑な温度プロファイルも実現可能
である。
明したが、６００℃程度で焼成を実施する焼成炉も同様
に構成することができる。さらに、上記した炉設備１は
３つの炉２，３，４で構成したが、炉数を増やすことに
より、図４に示した昇温、キープ、昇温、キープ、冷却
というような、より複雑な温度プロファイルも実現可能
である。
【００３４】また、たとえば炉２，３，４を複数組設け
ておくことにより、複数列の処理フローを実現可能であ
る。また、温度ゾーン数よりも多い炉数を設定しておく
ことにより、上記したような各炉のメンテナンスを、各
炉を順次に運転停止して実施可能である。この場合も、
炉設備１全体を運転停止する必要はなく、よって、他の
工程の停止を回避できる。 （実施の形態２）図５は本発明の実施の形態２における
炉設備を示す。この炉設備１Ａが上記した炉設備１と異
なるのは、各段のコンベア１０の上方に、ワーク７の上
面に対向するように板状のカバー１４が設けられ、カバ
ー１４の下面に沿うように給気管１５が配列された点で
ある。また最上段および中段のコンベア１０について
は、カバー１４の下面とコンベア１０の下方とにヒータ
１４ａが設けられている。そしてこのことにより、ヒー
タ１４ａの温度や給気管１５から噴出するガスの流量・
温度によって、炉外のワーク７の温度を制御可能であ
る。
ておくことにより、複数列の処理フローを実現可能であ
る。また、温度ゾーン数よりも多い炉数を設定しておく
ことにより、上記したような各炉のメンテナンスを、各
炉を順次に運転停止して実施可能である。この場合も、
炉設備１全体を運転停止する必要はなく、よって、他の
工程の停止を回避できる。 （実施の形態２）図５は本発明の実施の形態２における
炉設備を示す。この炉設備１Ａが上記した炉設備１と異
なるのは、各段のコンベア１０の上方に、ワーク７の上
面に対向するように板状のカバー１４が設けられ、カバ
ー１４の下面に沿うように給気管１５が配列された点で
ある。また最上段および中段のコンベア１０について
は、カバー１４の下面とコンベア１０の下方とにヒータ
１４ａが設けられている。そしてこのことにより、ヒー
タ１４ａの温度や給気管１５から噴出するガスの流量・
温度によって、炉外のワーク７の温度を制御可能であ
る。
【００３５】たとえば、図６に示したような、焼成温度
などの高温から急激に降温させるプロファイルでは、高
温の炉４から最下段のコンベア１０の上に搬出されたワ
ーク７は、給気管１５からのガスによって速やかに冷却
される。その一方で、低温の炉２に搬入されるワーク７
は、最上段のコンベア１０の上でヒータ１４ａ，給気管
１５によって予備加熱され、中温の炉３に搬入されるワ
ーク７は、中段のコンベア１０の上でヒータ１４ａ，給
気管１５によって保温される。
などの高温から急激に降温させるプロファイルでは、高
温の炉４から最下段のコンベア１０の上に搬出されたワ
ーク７は、給気管１５からのガスによって速やかに冷却
される。その一方で、低温の炉２に搬入されるワーク７
は、最上段のコンベア１０の上でヒータ１４ａ，給気管
１５によって予備加熱され、中温の炉３に搬入されるワ
ーク７は、中段のコンベア１０の上でヒータ１４ａ，給
気管１５によって保温される。
【００３６】なお、ヒータ１４ａ，給気管１５は、各段
のコンベア１０の全てに配置してもよいし、上記したよ
うに必要な段に対してのみ配置してもよい。またヒータ
１４ａ，給気管１５の位置は上記した位置に限定され
ず、たとえば給気管１５はローラ８と並列に配置しても
よい。カバー１４は、ワーク７の２次輻射を有効利用で
きるように反射板として構成してもよく、コンベア１０
全体を覆うように筒状などに構成してもよい。 （実施の形態３）図７は本発明の実施の形態３における
炉設備を示す。この炉設備１Ｂが上記した炉設備１Ａと
異なるのは、炉２，３，４のそれぞれに弁装置１６を介
して排気ファン１７が連通した排気系（上記した各炉設
備で図示を省略した排気系）の排気量を、ワーク７の搬
入・搬出のタイミングに合わせて増減制御するように、
各弁装置１７とコンベヤ１０のモータ１２とに接続し
て、コントローラ１８が設けられている点である。
のコンベア１０の全てに配置してもよいし、上記したよ
うに必要な段に対してのみ配置してもよい。またヒータ
１４ａ，給気管１５の位置は上記した位置に限定され
ず、たとえば給気管１５はローラ８と並列に配置しても
よい。カバー１４は、ワーク７の２次輻射を有効利用で
きるように反射板として構成してもよく、コンベア１０
全体を覆うように筒状などに構成してもよい。 （実施の形態３）図７は本発明の実施の形態３における
炉設備を示す。この炉設備１Ｂが上記した炉設備１Ａと
異なるのは、炉２，３，４のそれぞれに弁装置１６を介
して排気ファン１７が連通した排気系（上記した各炉設
備で図示を省略した排気系）の排気量を、ワーク７の搬
入・搬出のタイミングに合わせて増減制御するように、
各弁装置１７とコンベヤ１０のモータ１２とに接続し
て、コントローラ１８が設けられている点である。
【００３７】つまりコントローラ１８は、ワーク７が炉
外へ搬出されている間は排気量を高く制御して、炉内で
発生したガスを短時間で排出し、炉内のガス雰囲気を初
期状態に戻す。このことにより、各炉２，３，４に順次
に搬入される複数のワーク７に対して一定のガス雰囲気
を形成することが可能になり、ワーク７の乾燥あるいは
焼成の状態を均一化することが可能になる。
外へ搬出されている間は排気量を高く制御して、炉内で
発生したガスを短時間で排出し、炉内のガス雰囲気を初
期状態に戻す。このことにより、各炉２，３，４に順次
に搬入される複数のワーク７に対して一定のガス雰囲気
を形成することが可能になり、ワーク７の乾燥あるいは
焼成の状態を均一化することが可能になる。
【００３８】初期状態に戻った炉内にワーク７が搬入さ
れら、当初は排気量を低く制御することにより、バイン
ダの溶剤などを徐々に蒸発させ、乾燥ムラを防止する。
そしてワーク７の乾燥が進むにつれて排気量を増減させ
ることにより、ワーク７中に含まれる前記溶剤などの温
度をほぼ一定に維持し、均一に蒸発または燃焼させる。
このときにはたとえば、ワーク７の表面温度を放射温度
計などの温度検出手段（図示せず）によりモニタする。 （実施の形態４）図８は本発明の実施の形態４における
炉設備を示す。この炉設備２１は、昇温のための多段昇
温炉２２と、温度キープのためのキープ炉２３と、降温
のための多段降温炉２４とを有している。
れら、当初は排気量を低く制御することにより、バイン
ダの溶剤などを徐々に蒸発させ、乾燥ムラを防止する。
そしてワーク７の乾燥が進むにつれて排気量を増減させ
ることにより、ワーク７中に含まれる前記溶剤などの温
度をほぼ一定に維持し、均一に蒸発または燃焼させる。
このときにはたとえば、ワーク７の表面温度を放射温度
計などの温度検出手段（図示せず）によりモニタする。 （実施の形態４）図８は本発明の実施の形態４における
炉設備を示す。この炉設備２１は、昇温のための多段昇
温炉２２と、温度キープのためのキープ炉２３と、降温
のための多段降温炉２４とを有している。
【００３９】キープ炉２３は、上述した温度プロファイ
ルにおけるキープゾーンの温度に制御されるようになっ
ており、一端のゾーン２３Ａが多段昇温炉２２の最高温
の炉を兼ね、他端のゾーン２３Ｂが多段降温炉２４の最
高温の炉を兼ねており、中央部のゾーン２３Ｃは、開閉
可能なシャッタ２３Ｄによってゾーン２３Ｂから区分さ
れている。
ルにおけるキープゾーンの温度に制御されるようになっ
ており、一端のゾーン２３Ａが多段昇温炉２２の最高温
の炉を兼ね、他端のゾーン２３Ｂが多段降温炉２４の最
高温の炉を兼ねており、中央部のゾーン２３Ｃは、開閉
可能なシャッタ２３Ｄによってゾーン２３Ｂから区分さ
れている。
【００４０】多段昇温炉２２は、キープ炉２３のゾーン
２３Ａの下に、実施の形態１で説明したのと同様の炉２
５，２６，２７を上下方向に多段に積層して構成されて
おり、ゾーン２３Ａ，最上段の炉２５，中段の炉２６，
最下段の炉２７は、前記温度プロファイルにおける昇温
ゾーンを複数に分割した各ゾーンごとの温度に、この順
に高い温度に制御されるようになっている。
２３Ａの下に、実施の形態１で説明したのと同様の炉２
５，２６，２７を上下方向に多段に積層して構成されて
おり、ゾーン２３Ａ，最上段の炉２５，中段の炉２６，
最下段の炉２７は、前記温度プロファイルにおける昇温
ゾーンを複数に分割した各ゾーンごとの温度に、この順
に高い温度に制御されるようになっている。
【００４１】多段降温炉２４は、キープ炉２３のゾーン
２３Ｂの下に、実施の形態１で説明したのと同様の炉２
８，２９，３０を上下方向に多段に積層して構成されて
おり、最下段の炉３０，中段の炉２９，最上段の炉２
８，ゾーン２３Ｂは、前記温度プロファイルにおける降
温ゾーンを複数に分割した各ゾーンごとの温度に、この
順に低い温度に制御されるようになっている。
２３Ｂの下に、実施の形態１で説明したのと同様の炉２
８，２９，３０を上下方向に多段に積層して構成されて
おり、最下段の炉３０，中段の炉２９，最上段の炉２
８，ゾーン２３Ｂは、前記温度プロファイルにおける降
温ゾーンを複数に分割した各ゾーンごとの温度に、この
順に低い温度に制御されるようになっている。
【００４２】多段昇温炉２２の各炉，キープ炉２３，多
段降温炉２４の各炉には、平板状のヒータ３１，３２が
天部と底部とに設置され（ただし、炉２７，２９には天
部のみ、炉３０にはヒータはない）、複数の吐出孔を有
した給気管３３がヒータ３１（あるいは天部）に沿って
配列され、図示を省略した排気管が開口している。ま
た、ワーク３４の支持手段かつ搬入搬出手段かつ揺動手
段であるローラ３５が並列に、かつ水平方向の軸心廻り
に回転可能に設置されている。
段降温炉２４の各炉には、平板状のヒータ３１，３２が
天部と底部とに設置され（ただし、炉２７，２９には天
部のみ、炉３０にはヒータはない）、複数の吐出孔を有
した給気管３３がヒータ３１（あるいは天部）に沿って
配列され、図示を省略した排気管が開口している。ま
た、ワーク３４の支持手段かつ搬入搬出手段かつ揺動手
段であるローラ３５が並列に、かつ水平方向の軸心廻り
に回転可能に設置されている。
【００４３】多段昇温炉２２のゾーン２３Ａ，各炉２
５，２６，２７の搬入搬出口２３ａ，２５ａ，２６ａ，
２７ａは炉設備２１の一側部に開口していて、シャッタ
２３ｂ，２５ｂ，２６ｂ，２７ｂによって開閉可能であ
る。各搬入搬出口２３ａ，２５ａ，２６ａ，２７ａの近
傍には、昇降自在なローダ・アンローダ３６が、一端を
近づけて配置されている。
５，２６，２７の搬入搬出口２３ａ，２５ａ，２６ａ，
２７ａは炉設備２１の一側部に開口していて、シャッタ
２３ｂ，２５ｂ，２６ｂ，２７ｂによって開閉可能であ
る。各搬入搬出口２３ａ，２５ａ，２６ａ，２７ａの近
傍には、昇降自在なローダ・アンローダ３６が、一端を
近づけて配置されている。
【００４４】ローダ・アンローダ３６は筒状のカバー３
７を有していて、多段昇温炉２２に背反する他端開口３
７ａはシャッタ３７ｂによって開閉可能である。このワ
ーク収容部３７には、上記各炉と同様のヒータ３１，３
２，給気管３３，ローラ３５が配置されている。
７を有していて、多段昇温炉２２に背反する他端開口３
７ａはシャッタ３７ｂによって開閉可能である。このワ
ーク収容部３７には、上記各炉と同様のヒータ３１，３
２，給気管３３，ローラ３５が配置されている。
【００４５】多段降温炉２４のゾーン２３Ｂ，各炉２
８，２９，３０の搬入搬出口２３ｃ，２８ａ，２９ａ，
３０ａは、炉設備２１の他側部に開口していて、２３
ｄ，シャッタ２８ｂ，２９ｂ，３０ｂによって開閉可能
である。各搬入搬出口２３ｃ，２８ａ，２９ａ，３０ａ
の近傍には、昇降自在なローダ・アンローダ３８が、一
端を近づけて配置されている。
８，２９，３０の搬入搬出口２３ｃ，２８ａ，２９ａ，
３０ａは、炉設備２１の他側部に開口していて、２３
ｄ，シャッタ２８ｂ，２９ｂ，３０ｂによって開閉可能
である。各搬入搬出口２３ｃ，２８ａ，２９ａ，３０ａ
の近傍には、昇降自在なローダ・アンローダ３８が、一
端を近づけて配置されている。
【００４６】ローダ・アンローダ３８は筒状のカバー３
９を有していて、多段降温炉２４に背反する他端開口３
９ａはシャッタ３９ｂによって開閉可能である。このワ
ーク収容部３９には、上記各炉と同様の給気管３３，ロ
ーラ３５が配置されている。
９を有していて、多段降温炉２４に背反する他端開口３
９ａはシャッタ３９ｂによって開閉可能である。このワ
ーク収容部３９には、上記各炉と同様の給気管３３，ロ
ーラ３５が配置されている。
【００４７】このような炉設備２１では、印刷工程から
ローダ・アンローダ３６に搬入されたワーク３４は、こ
のローダ・アンローダ３６によって搬入搬出されつつ、
多段昇温炉２２の各炉２７，２６，２５に順次、図１の
昇温ゾーンの内の所定部分を満足する時間ずつ留ま
り、その後にキープ炉２３のゾーン２３Ａ，２３Ｃ，２
３Ｂで図１のキープゾーンを満足する時間だけ留ま
る。
ローダ・アンローダ３６に搬入されたワーク３４は、こ
のローダ・アンローダ３６によって搬入搬出されつつ、
多段昇温炉２２の各炉２７，２６，２５に順次、図１の
昇温ゾーンの内の所定部分を満足する時間ずつ留ま
り、その後にキープ炉２３のゾーン２３Ａ，２３Ｃ，２
３Ｂで図１のキープゾーンを満足する時間だけ留ま
る。
【００４８】次にワーク３４は、ローダ・アンローダ３
９によって搬入搬出されつつ、多段降温炉２４の各炉２
８，２９，３０に順次、図１の降温ゾーンの内の所定
部分を満足する時間ずつ留まり、その後にローダ・アン
ローダ３９を介して次工程へ搬出される。
９によって搬入搬出されつつ、多段降温炉２４の各炉２
８，２９，３０に順次、図１の降温ゾーンの内の所定
部分を満足する時間ずつ留まり、その後にローダ・アン
ローダ３９を介して次工程へ搬出される。
【００４９】したがって、この炉設備２１でも、ワーク
３４を従来の平面配置型の炉設備と同等に乾燥または焼
成することができる。従来の平面配置型に比べて、設置
面積が小さくて済み、表面積が小さいため温度管理が容
易になり、熱効率が大幅に改善されることは、上記した
各実施の形態と同様である。 （実施の形態５）図９は本発明の実施の形態５における
炉設備を示す。この炉設備４０は、上層が下層よりも高
温に設定された昇温炉４１と、上層が前記昇温炉４１の
上層温度と同等あるいはその付近の温度に設定され、下
層が前記上層よりも低温に設定された降温炉４２と、昇
温炉４１の上層と降温炉４２の上層とに開閉自在なシャ
ッタ４３，４４を介して連通し、昇温あるいは温度キー
プする昇温・キープ炉４５とを有している。
３４を従来の平面配置型の炉設備と同等に乾燥または焼
成することができる。従来の平面配置型に比べて、設置
面積が小さくて済み、表面積が小さいため温度管理が容
易になり、熱効率が大幅に改善されることは、上記した
各実施の形態と同様である。 （実施の形態５）図９は本発明の実施の形態５における
炉設備を示す。この炉設備４０は、上層が下層よりも高
温に設定された昇温炉４１と、上層が前記昇温炉４１の
上層温度と同等あるいはその付近の温度に設定され、下
層が前記上層よりも低温に設定された降温炉４２と、昇
温炉４１の上層と降温炉４２の上層とに開閉自在なシャ
ッタ４３，４４を介して連通し、昇温あるいは温度キー
プする昇温・キープ炉４５とを有している。
【００５０】昇温炉４１は、下部に搬入口４１ａが形成
され、この搬入口４１ａより上方に、温度の異なる加熱
ガス流Ｇ１，Ｇ２（Ｇ１はＧ２より高温）を横方向に給
排気する給排気手段４６が設けられるとともに、上記し
た実施の形態４と同様のヒータ３１が上面に配置され、
ヒータ３１に沿って給気管１３が設けられていて、それ
により上層が下層よりも昇温した炉内雰囲気が形成され
ている。
され、この搬入口４１ａより上方に、温度の異なる加熱
ガス流Ｇ１，Ｇ２（Ｇ１はＧ２より高温）を横方向に給
排気する給排気手段４６が設けられるとともに、上記し
た実施の形態４と同様のヒータ３１が上面に配置され、
ヒータ３１に沿って給気管１３が設けられていて、それ
により上層が下層よりも昇温した炉内雰囲気が形成され
ている。
【００５１】この昇温炉４１の内部には、搬入口４１ａ
から順次に搬入される複数のワーク３４を水平方向に支
持しつつ上方へ搬送する縦型間欠搬送手段としてのウォ
ーキングビーム４７と、最下層および最上層での横向き
搬送手段としてのローラ３５とが設けられている。ウォ
ーキングビーム４７は、水平方向の支持具４７ａを取り
付けたベルト４７ｂを１対、上下方向に走行自在に配置
して、ワーク３４の周縁部を支持具４７ａにより下方か
ら支持してワーク３４を上方へタクト搬送するように構
成したものである。
から順次に搬入される複数のワーク３４を水平方向に支
持しつつ上方へ搬送する縦型間欠搬送手段としてのウォ
ーキングビーム４７と、最下層および最上層での横向き
搬送手段としてのローラ３５とが設けられている。ウォ
ーキングビーム４７は、水平方向の支持具４７ａを取り
付けたベルト４７ｂを１対、上下方向に走行自在に配置
して、ワーク３４の周縁部を支持具４７ａにより下方か
ら支持してワーク３４を上方へタクト搬送するように構
成したものである。
【００５２】昇温・キープ炉４５は、上記した実施の形
態４と同様のヒータ３１，３２が上面および下面に配置
され、ヒータ３１に沿って給気管３３が設けられ、横向
き搬送手段としてのローラ３５が設けられている。
態４と同様のヒータ３１，３２が上面および下面に配置
され、ヒータ３１に沿って給気管３３が設けられ、横向
き搬送手段としてのローラ３５が設けられている。
【００５３】降温炉４２は、下部に搬出口４２ａが形成
され、この搬入口４２ａより上方に、温度の異なる加熱
ガス流Ｇ３，Ｇ４（Ｇ３はＧ４より高温）を横方向に給
排気する給排気手段４８が設けられるとともに、上記し
た実施の形態４と同様のヒータ３１が上面に配置されて
いて、それにより下層が上層よりも降温した炉内雰囲気
が形成されている。
され、この搬入口４２ａより上方に、温度の異なる加熱
ガス流Ｇ３，Ｇ４（Ｇ３はＧ４より高温）を横方向に給
排気する給排気手段４８が設けられるとともに、上記し
た実施の形態４と同様のヒータ３１が上面に配置されて
いて、それにより下層が上層よりも降温した炉内雰囲気
が形成されている。
【００５４】この降温炉４２の内部には、昇温・キープ
炉４５から順次に搬入される複数のワーク３４を水平方
向に支持しつつ下方へ搬送する、上記したのと同様のウ
ォーキングビーム４９と、最下層での横向き搬送手段と
してのローラ３５とが設けられている。
炉４５から順次に搬入される複数のワーク３４を水平方
向に支持しつつ下方へ搬送する、上記したのと同様のウ
ォーキングビーム４９と、最下層での横向き搬送手段と
してのローラ３５とが設けられている。
【００５５】昇温炉４１の搬入口４１ａと降温炉４２の
搬出口４２ａの近傍にはそれぞれ、ローラ３５を備えた
コンベヤ５０，５１が横送り手段として設置されてい
る。このような炉設備４０では、印刷工程からコンベヤ
５０に搬入されたワーク３４は、このコンベヤ５０によ
って昇温炉４１の下層のローラ３５に移載され、次いで
ウォーキングビーム４７に移載されて上方に搬送され、
上層のローラ３５に移載され、この間に昇温ゾーンを満
足する時間だけ昇温炉４１に留まり、ローラ３５によっ
て昇温・キープ炉４５に搬出される。
搬出口４２ａの近傍にはそれぞれ、ローラ３５を備えた
コンベヤ５０，５１が横送り手段として設置されてい
る。このような炉設備４０では、印刷工程からコンベヤ
５０に搬入されたワーク３４は、このコンベヤ５０によ
って昇温炉４１の下層のローラ３５に移載され、次いで
ウォーキングビーム４７に移載されて上方に搬送され、
上層のローラ３５に移載され、この間に昇温ゾーンを満
足する時間だけ昇温炉４１に留まり、ローラ３５によっ
て昇温・キープ炉４５に搬出される。
【００５６】昇温・キープ炉４５内に搬入されたワーク
３４は、ローラ３５によって下方より支持され搬入搬出
方向に揺動される状態において、所定のキープゾーンを
満足する時間だけ留り、その後にローラ３５によって降
温炉４２に搬出される。
３４は、ローラ３５によって下方より支持され搬入搬出
方向に揺動される状態において、所定のキープゾーンを
満足する時間だけ留り、その後にローラ３５によって降
温炉４２に搬出される。
【００５７】次にワーク３４は、降温炉４内でウォーキ
ングビーム４９に移載されて下方に搬送され、下層のロ
ーラ１５に移載され、この間に降温ゾーンを満足する時
間だけ降温炉４２に留まり、ローラ３５によってコンベ
ヤ５１へ、次いで次工程へと送られる。
ングビーム４９に移載されて下方に搬送され、下層のロ
ーラ１５に移載され、この間に降温ゾーンを満足する時
間だけ降温炉４２に留まり、ローラ３５によってコンベ
ヤ５１へ、次いで次工程へと送られる。
【００５８】したがって、この炉設備４０でも、ワーク
３４を従来の平面配置型の炉設備と同等に乾燥または焼
成することができる。その際に、連続的に昇温あるいは
降温した炉内雰囲気中でワーク３４を移送するので、ワ
ーク３４を緩やかに、したがって面内で均一に昇温ある
いは降温させることができる。従来の平面配置型に比べ
て、設置面積が小さくて済み、表面積が小さいため温度
管理が容易になり、熱効率が大幅に改善されることは、
上記した各実施の形態と同様である。 （実施の形態６）図１０は本発明の実施の形態６におけ
る炉設備を示す。この炉設備５２では、搬入口５３ａに
シャッタ５３ｂを有した１段の昇温炉４１Ａが、図９と
同様に昇温・キープ炉４５を介して降温炉４２の上層に
接続されている。昇温炉４１Ａの側方には、その搬入口
４１ａまで昇降自在なローダ５４が設けられており、降
温炉４２の側方には、図９と同様のコンベヤ５１が設け
られている。
３４を従来の平面配置型の炉設備と同等に乾燥または焼
成することができる。その際に、連続的に昇温あるいは
降温した炉内雰囲気中でワーク３４を移送するので、ワ
ーク３４を緩やかに、したがって面内で均一に昇温ある
いは降温させることができる。従来の平面配置型に比べ
て、設置面積が小さくて済み、表面積が小さいため温度
管理が容易になり、熱効率が大幅に改善されることは、
上記した各実施の形態と同様である。 （実施の形態６）図１０は本発明の実施の形態６におけ
る炉設備を示す。この炉設備５２では、搬入口５３ａに
シャッタ５３ｂを有した１段の昇温炉４１Ａが、図９と
同様に昇温・キープ炉４５を介して降温炉４２の上層に
接続されている。昇温炉４１Ａの側方には、その搬入口
４１ａまで昇降自在なローダ５４が設けられており、降
温炉４２の側方には、図９と同様のコンベヤ５１が設け
られている。
【００５９】この炉設備５２は、ワーク３４を急激に昇
温させ、徐々に冷却する温度プロファイルに適してい
る。この炉設備５２も、従来の平面配置型に比べて炉設
置面積、表面積を低減できる。 （実施の形態７）図１１は本発明の実施の形態７におけ
る炉設備を示す。この炉設備５５では、図８と同様の多
段昇温炉２２が、図９と同様に昇温・キープ炉４５を介
して降温炉４２の上層に接続されている。多段昇温炉２
２の側方には、図８と同様のローダ・アンローダ３６が
設けられており、降温炉４２の側方には、図９と同様の
コンベヤ５１が設けられている。
温させ、徐々に冷却する温度プロファイルに適してい
る。この炉設備５２も、従来の平面配置型に比べて炉設
置面積、表面積を低減できる。 （実施の形態７）図１１は本発明の実施の形態７におけ
る炉設備を示す。この炉設備５５では、図８と同様の多
段昇温炉２２が、図９と同様に昇温・キープ炉４５を介
して降温炉４２の上層に接続されている。多段昇温炉２
２の側方には、図８と同様のローダ・アンローダ３６が
設けられており、降温炉４２の側方には、図９と同様の
コンベヤ５１が設けられている。
【００６０】この炉設備５５は、ワーク３４を厳重に温
度管理して昇温させ、徐々に冷却する温度プロファイル
に適している。この炉設備５５も、従来の平面配置型に
比べて炉設置面積、表面積を低減できる。
度管理して昇温させ、徐々に冷却する温度プロファイル
に適している。この炉設備５５も、従来の平面配置型に
比べて炉設置面積、表面積を低減できる。
【００６１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、昇温過程
と降温過程の少なくとも一方で縦型の炉を用いてワーク
を上下方向に移送するようにしたことにより、複数の炉
を平面配置する従来の炉設備に比べて、設置床面積およ
び表面積を低減することができ、製造工場の省スペー
ス、省エネルギーを実現できる。
と降温過程の少なくとも一方で縦型の炉を用いてワーク
を上下方向に移送するようにしたことにより、複数の炉
を平面配置する従来の炉設備に比べて、設置床面積およ
び表面積を低減することができ、製造工場の省スペー
ス、省エネルギーを実現できる。
【図1】本発明の炉設備で実施される温度プロファイル
を示した時間対温度のグラフである。
を示した時間対温度のグラフである。
【図2】本発明の実施の形態１における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図3】図２の炉設備と同様の炉設備であって、搬入搬
出方向の異なる炉設備の構成を示す平面図である。
出方向の異なる炉設備の構成を示す平面図である。
【図4】本発明の炉設備で実施される他の温度プロファ
イルを示した時間対温度のグラフである。
イルを示した時間対温度のグラフである。
【図5】本発明の実施の形態２における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図6】本発明の炉設備で実施されるさらに他の温度プ
ロファイルを示した時間対温度のグラフである。
ロファイルを示した時間対温度のグラフである。
【図7】本発明の実施の形態３における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図8】本発明の実施の形態４における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図9】本発明の実施の形態５における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図10】本発明の実施の形態６における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図11】本発明の実施の形態７における炉設備の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
１ 炉設備
２，３，４ 炉
５，６ ヒータ
７ ワーク
８ ローラ
９ 給気管
10 コンベア
11 ローダ・アンローダ
12 モータ
14 カバー
14a ヒータ
15 給気管
16 弁装置
17 排気ファン
18 コントローラ
21 炉設備
22 多段昇温炉
23 昇温・キープ炉
24 多段降温炉
40 炉設備
41 昇温炉
42 降温炉
45 昇温・キープ炉
47，49 ウォーキングビーム
52 炉設備
55 炉設備
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２７Ｄ 7/02 Ｆ２７Ｄ 7/02 Ａ ５Ｃ０４０
7/06 7/06 Ｃ
19/00 19/00 Ａ
Ｄ
Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ
11/02 11/02 Ｂ
(72)発明者 森田 真登
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
(72)発明者 中 裕之
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Ｆターム(参考） 4K050 AA02 BA16 CA09 CA10 CA11
CC07 CC08 CC10 CD08 CD17
CD30 CF04 CF06 CF14 CF16
CF24 CG06 CG29 DA03 EA03
EA04 EA05 EA07 EA08
4K056 AA09 BA02 BA07 BB06 CA18
FA02 FA04 FA10 FA13
4K063 AA05 AA12 AA15 BA12 CA01
CA04 DA05 DA06 DA14 DA15
DA24 DA26 DA32 DA33
5C012 AA09
5C027 AA01
5C040 GC19 JA21 JA34
Claims (13)
- 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルを構成する
パネルを所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する
に際し、 前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割し、各
温度ゾーンごとの温度に、上下に多段に積層された複数
の炉の内部温度を制御する工程と、 前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉に前記パネ
ルを順次に搬入・搬出する工程とを行なうことを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項２】 パネルを搬入・搬出するタイミングやパ
ネル搬入後の経過時間に基づいて各炉へのガスの供給排
気量を制御して、各炉内に所望のガス雰囲気を形成する
ことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。 - 【請求項３】 炉内にパネルが搬入されていない時に、
この炉内に残留した熱処理生成物を除去することを特徴
とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項４】 搬入・搬出途中のパネルを温度制御また
はガス雰囲気制御することを特徴とする請求項１〜請求
項３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。 - 【請求項５】 プラズマディスプレイパネルを構成する
パネルを所定の温度プロファイルに基づいて熱処理する
炉設備であって、 上下に多段に積層された複数の炉と、 前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割した各
温度ゾーンごとの温度に、前記複数の炉の内部温度を個
別に制御する温度制御手段と、 前記温度ゾーンごとの温度に制御された各炉に前記パネ
ルを順次に搬入・搬出する搬入搬出手段とを有すること
を特徴とする炉設備。 - 【請求項６】 パネルを搬入・搬出するタイミングやパ
ネル搬入後の経過時間に基づき各炉へのガスの供給排気
量を制御する給排気制御手段を有する請求項５記載の炉
設備。 - 【請求項７】 搬入・搬出途中のパネルを温度制御また
はガス雰囲気制御する搬入搬出時制御手段を有すること
を特徴とする請求項５または請求項６のいずれかに記載
の炉設備。 - 【請求項８】 搬入搬出手段が、パネルを下方より支持
するローラであることを特徴とする請求項５〜請求項７
のいずれかに記載の炉設備。 - 【請求項９】 各炉内の圧力を制御する圧力制御手段を
有することを特徴とする請求項５〜請求項８のいずれか
に記載の炉設備。 - 【請求項１０】 プラズマディスプレイパネルを構成す
るパネルを所定の温度プロファイルに基づいて熱処理す
る炉設備であって、 複数の前記パネルを収納可能な炉と、 前記炉内で複数のパネルを上下に多段に支持し、上下方
向に搬送する搬送手段と、 前記温度プロファイルを複数の温度ゾーンに分割した各
温度ゾーンごとの温度に、前記炉の上層から下層にわた
る内部温度を制御する温度制御手段と、 前記炉の上層と下層とに対して設けられ前記パネルを搬
入・搬出する搬入搬出手段とを有することを特徴とする
炉設備。 - 【請求項１１】 上層側に下層側よりも高温のガスを供
給排気する給排気手段を有することを特徴とする請求項
１０記載の炉設備。 - 【請求項１２】 プラズマディスプレイパネルを構成す
るパネルを所定の温度プロファイルに基づいて熱処理す
る炉設備であって、 前記パネルを昇温させる昇温炉と降温させる降温炉とを
請求項５〜請求項１２のいずれかに記載の炉設備でそれ
ぞれ構成し、この昇温炉と降温炉の高温領域どうしを連
通させたことを特徴とする炉設備。 - 【請求項１３】 炉の内外でガスを供給するガス供給手
段は、パネルに対向しない箇所にガス噴出孔が設けられ
たことを特徴とする請求項５〜請求項１２のいずれかに
記載の炉設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001314623A JP3667270B2 (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 基板の熱処理方法およびそのための炉設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001314623A JP3667270B2 (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 基板の熱処理方法およびそのための炉設備 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003123651A true JP2003123651A (ja) | 2003-04-25 |
| JP2003123651A5 JP2003123651A5 (ja) | 2005-03-17 |
| JP3667270B2 JP3667270B2 (ja) | 2005-07-06 |
Family
ID=19132905
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001314623A Expired - Fee Related JP3667270B2 (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 基板の熱処理方法およびそのための炉設備 |
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005124809A1 (ja) * | 2004-06-18 | 2005-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 画像表示装置の製造方法および製造装置 |
| JP2007024378A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Espec Corp | 熱処理装置 |
| JP2007032918A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Showa Mfg Co Ltd | 加熱炉 |
| KR100722009B1 (ko) | 2005-12-02 | 2007-05-25 | (주)와이에스썸텍 | 열처리로 |
| JP2008298404A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Koyo Thermo System Kk | 連続焼成炉 |
| CN100573004C (zh) * | 2003-11-26 | 2009-12-23 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体显屏的多层烧成装置 |
| JP2011007462A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理炉 |
| JP2011528501A (ja) * | 2008-07-16 | 2011-11-17 | 株式会社テラセミコン | バッチ式熱処理装置及び該装置に適用されるヒータ |
| JP2014077567A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Toa Kogyo Kk | 多段式加熱炉システム |
| JP2016200378A (ja) * | 2015-04-14 | 2016-12-01 | 株式会社デンソー | 加熱装置 |
| JP2017106711A (ja) * | 2017-01-27 | 2017-06-15 | 株式会社九州日昌 | 加熱装置および加熱方法 |
-
2001
- 2001-10-12 JP JP2001314623A patent/JP3667270B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100573004C (zh) * | 2003-11-26 | 2009-12-23 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体显屏的多层烧成装置 |
| WO2005124809A1 (ja) * | 2004-06-18 | 2005-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 画像表示装置の製造方法および製造装置 |
| JP2007024378A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Espec Corp | 熱処理装置 |
| JP2007032918A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Showa Mfg Co Ltd | 加熱炉 |
| KR100722009B1 (ko) | 2005-12-02 | 2007-05-25 | (주)와이에스썸텍 | 열처리로 |
| JP2008298404A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Koyo Thermo System Kk | 連続焼成炉 |
| JP2011528501A (ja) * | 2008-07-16 | 2011-11-17 | 株式会社テラセミコン | バッチ式熱処理装置及び該装置に適用されるヒータ |
| JP2011007462A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理炉 |
| JP2014077567A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Toa Kogyo Kk | 多段式加熱炉システム |
| JP2016200378A (ja) * | 2015-04-14 | 2016-12-01 | 株式会社デンソー | 加熱装置 |
| JP2017106711A (ja) * | 2017-01-27 | 2017-06-15 | 株式会社九州日昌 | 加熱装置および加熱方法 |
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| JP3667270B2 (ja) | 2005-07-06 |
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