JPH05203364A - 連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は板状体被処理物を処理するための、多段の被処
理物載置部を有する搬入手段自体が、上下動及び回転機
能等を備え、これにより炉内の多段の載置場所へ同時に
被処理物を搬入し所定の処理を行う連続熱処理装置であ
る。 【構成】 第一の発明は多段式ウォーキングビーム機構
を備えた炉の搬入口及び搬出口に上下動及び回転機能を
備え、上下に多段の載置部材を配した搬入中継リフト15
Ａ及び搬出中継リフト15Ｂを組合せた連続熱処理装置に
係る。第二の発明は、上下に多層の熱処理室を設け、そ
の搬入口及び搬出口に上下動及び横移動機能を備え、上
下に多段の載置部材を配した搬入中継リフト37Ａ及び搬
出中継リフト37Ｂを組合せた連続熱処理装置に係る。 【効果】 炉内に発塵の要因がなく、極めて清浄な雰囲
気が保持できる。装置の占有面積が小さい。装置本体へ
の被処理物装入及びこれからの搬出が手際良くなされ、
生産性が高い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、連続処理装置、例えば
電子部品の連続処理装置に関する。

【０００２】

【従来技術】半導体部品や、セラミックス基板にスクリ
ーン印刷によって所定の回路パターンを形成し、焼成し
てなる厚膜集積回路、或いは配向膜や偏向膜が形成され
た液晶表示装置用ガラス基板等の電子部品の熱処理にあ
っては、塵埃の付着によって電子部品の品質が甚だしく
劣化するので、清浄な雰囲気中で熱処理がなされる必要
がある。

【０００３】上記電子部品の熱処理を塵埃のない清浄な
雰囲気中で連続的に行う熱処理炉として、炉内に摺動す
る部分がなく、塵埃の発生しない所謂ウオーキングビー
ム式搬送機構を用いた連続熱処理炉の採用が多くなって
いる。

【０００４】

【発明に至る過程】然しこのウオーキングビームの搬送
機構は、長い炉体であるため、設置のためには多くのス
ペースを要することから、生産効率の高揚策として炉内
に上下複数列のラインを設けることが考えられる。

【０００５】例えば図10がその一例であり、同図はその
中央部縦断面図である。この装置40は炉体41の内部床面
と天井にヒータ45を設け、搬入口41ａから搬出口41ｂを
貫通する上下３列のビーム２組が設けられている。即ち
一方の固定ビーム45は基台43に立設された支柱44，44に
炉体外で支持されている。そして他方の移動ビーム48は
移動架枠46に固定された支柱51に本体外で支持され、移
動架枠46は後述する駆動機構に支えられている。

【０００６】駆動機構は次のようになっている。即ち、
炉体41両端下部には、基台43にリンク支持部材51，51に
リンク50，50が回動可能に軸支され、その先端にはロー
ラ49，49が軸支されている。前記移動架枠46はこのロー
ラ49に載置されている。両リンク50，50はリンクバー53
により連結され、一方のリンク50のリンクバー53との連
結部は、基台43上に支持部材58を介して回動可能に取付
けられた油圧シリンダ52のピストンロッド端部に連結さ
れている。これによって上下動駆動機構を構成してい
る。

【０００７】図示しない駆動源によって油圧シリンダ52
を作動させ、リンク50，50を時計方向に回動させると、
ローラ49，49が時計方向に公転しながら下降し、載置さ
れている移動架枠46も共に下降して移動ビーム48は破線
矢印Ｄのように下降し、固定ビーム45よりも下方に位置
する。この状態から油圧シリンダ52を駆動させてリンク
50，50を反時計方向に回動させると、ローラ49，49は反
時計方向に公転しながら上昇し、移動ビーム48は実線矢
印Ｕで示すように上昇する。

【０００８】図11はこの動きを示す側面図で、図12は前
記ビームの動きを部分的に示したもので（ａ）が正面
図、（ｂ）が側面図である。

【０００９】基台43には軸受57を備えた２枚の駆動支持
板54，54が立設され、雄ねじが螺刻された駆動軸56が駆
動軸支持板54，54に回動可能に支持され、モータ59によ
って回動するようになっている。駆動軸56には、その雄
ねじに螺合する雌ねじが螺設された往復運動部材60が組
合わされていて、往復運動部材59は駆動軸支持板57，57
間に固定された案内軸55に案内され、モータ59の駆動に
よる駆動軸56の回動によって往復運動部材60が前進，後
退するようになっている。

【００１０】往復運動部材60は移動架枠46から延設され
た延設部46ａの図示しない貫通孔を貫通して上方に突出
していて、往復運動部材60の前進，後退に伴って移動架
枠46が前進，後退するようになっている。これらによっ
て前進，後退駆動機構が構成されている。

【００１１】この前進，後退の駆動機構の駆動により、
移動架枠46はローラ49，49を回動させながら前進，後退
し、これに伴って支柱47，47を介して移動架枠46に取付
けられた移動ビーム48が前進，後退する。

【００１２】このように前記上下動機構と前進，後退の
駆動機構が交互に順序よく繰返されてウオーキングビー
ムの搬送機能が成り立っている。つまり、例えば上下動
機構の作用によって移動ビーム48が下降し、次に前進，
後退の駆動機構の作用によって移動ビーム48が後退し、
続いて上下動機構の作用によって移動ビーム48が上昇
し、今度は上下動機構の作用によって移動ビーム48が前
進する。この運動の繰返しに伴って、固定ビーム45に載
置された被搬送物Ｗを逐次横移動させるようになってい
る。

【００１３】このように、装置の占有面積を効率的に活
用するには、多段式にすることが考えられるが、段数を
増加すると、加熱の均一が得られぬことと、装入側・排
出側でビームへの被処理物の載置、ビームから被処理物
の撤去を手際良く行い難いといった難点がある。したが
ってこのような点の改善の課題を要していた。

【００１４】

【発明の目的】本発明は、清浄な雰囲気を必要とする連
続処理装置において、発塵源を無くし、均一な加熱と効
率的な連続処理装置を提供することを目的としている。

【００１５】

【発明の構成】第一の発明は、処理手段（例えば後述の
発熱素子８ｃ）を具備する仕切り壁によって複数の処理
室が互に重なるように平行に設けられた処理装置本体
と、この処理装置本体外の被処理物装入口側に設けら
れ、被処理物を上下動及び水平移動可能に載置する複数
の第一の載置部材を具備する被処理物装入手段（例えば
後述の搬入中継リフト15Ａ）と 、第二の載置部材（例
えば後述の固定ビーム14）及び移動可能な第三の載置部
材（例えば後述の移動ビーム13）を具備し、この第三の
載置部材が前記第二の載置部材に対して反復変位運動
し、これによりこれら第二及び第三の載置部材が交互に
前記被処理物を載置しながら前記の各処理室内で搬送す
る被処理物搬送手段と、前記処理装置本体外の被処理物
排出口側に設けられ、前記被処理物を上下動及び水平移
動可能に載置する複数の第四の載置部材を具備する被処
理物排出手段（例えば後述の搬出中継リフト15Ｂ）とを
有する連続処理装置に係る。

【００１６】第二の発明は、処理手段を具備する仕切り
壁によって複数の処理室が互に重なるように設けられた
処理装置本体と、この処理装置本体外の被処理物装入口
側に設けられ、被処理物を上下動及び水平移動可能に載
置する複数の第一の載置部材を具備する被処理物装入手
段（例えば後述の搬入中継リフト37Ａ）と 、前記の各
処理室内で前記被処理物を載置する複数の第二の載置部
材（例えば後述の固定ビーム33）と、前記処理装置本体
外の被処理物排出口側に設けられ、前記被処理物を上下
動及び水平移動可能に載置する複数の第三の載置部材
（例えば後述の搬出中継リフト37Ｂ）を具備する被処理
物排出手段とを有する連続処理装置に係る。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図１〜図
７が第一の発明に係るものであり、図１は装置の概略断
面図で図２のＩ−Ｉ線断面図、図２は同じく図１のII−
II線断面図である。

【００１８】本例の装置１は両側面が開口された方形の
本体２が金属製の外枠と同内枠の間に断熱材３を内蔵し
て構成されている。そして、内部には後述する面状ヒー
タが形成された複数の仕切り壁８が床状に配設されて、
多層の処理室が形成されている。

【００１９】前記両側の開口部は一方が被処理物Ｗの搬
入口２ａ、他方が同搬出口２ｂになっている。この開口
部２ａ，２ｂには、各処理室の開口上部にスリット状の
気体の吹出し５ａを有する突出部４ａ，４ｂが設けら
れ、前記突出部に内設されたフィルタによって浄化され
た空気が処理室内に放出されるようになっている。処理
室内の空気は本体２の側面ダクト10，10に集められて放
出され、若干ながら空気は循環している。空気の取入れ
は夫々排気口近くに取入れ口９を設け、図示しない装置
により吹き出し口５，５から気体を高速度に吹き出すよ
うになっている。したがって開口を遮蔽するかの如く、
該部に高速で流れる帯状の空気の壁ができ、例えばガス
カーテンのような機能をしている。

【００２０】各熱処理室にはほぼ中間の高さに２本の固
定ビーム14，14が一定の間隔を保って配され、固定ビー
ム14，14は夫々両端部を本体２の側壁に取付けられたブ
ラケットに固定され支えられ、これが第一の支持手段と
なっている。

【００２１】更に第二の支持手段として各熱処理室内に
は前記固定ビーム14，14に接触しない内側に位置して、
前記本体２の開口部２ａ，２ｂを貫通して夫々２本の移
動ビーム13，13が一定間隔で配されている。移動ビーム
13，13は両端部を支柱12，12に設けられたブラケット12
ａ，12ａに固定され支えられている。そして支柱12，12
は移動架枠11ａ，11ａに立設されており、移動架枠11
ａ，11ａは本体２の幅より外側に位置して設けられ、左
右の移動架枠11ａ，11ａは前記本体２の下方の位置で連
結材11ｂによって結合されている。

【００２２】したがって移動架枠11ａ，11ａを土台とし
て支柱12，12、ブラケット12ａ，12ａ及び移動ビーム1
3，13は一体構造で本体２を囲むような形になっている
が、図２及び図３はそれを表している。移動架枠11ａ，
11ａは図示しない駆動機構に連結し支えられており、こ
れにより移動ビーム13，13は前記した如く、上昇Ｕ，前
進Ｆ，下降Ｄ，後退Ｒの動作をする。

【００２３】図１は移動ビーム13が被処理物Ｗを載置し
て、前進の動作によって載置した被処理物Ｗを搬出口２
ｂ側へ横送りを終えて、最前列の被処理物Ｗを後記する
第四の支持手段15Ｂに引渡した状態を表している。

【００２４】搬入口２ａ側には第三の支持手段としての
搬入中継リフト15Ａが設置されている。この搬入中継リ
フト15Ａは上下動及び時計方向へ180 度ごとの回転機能
をもっている。そしてその構造は図１及び図２で示すよ
うに、コの字形の支持材17がその開口部を遠心側に向け
て回転軸16に固定されている。同支持材17は前記移動ビ
ーム13の各段と一致する位置に配されている。

【００２５】前記回転軸16は図示しない駆動機構により
上下動と回転の動作を行うが、搬入中継リフト15Ａへの
被処理物Ｗの積載はシャトルフォーク20Ａ等によって上
段から個々に行われる。図１において、シャトルフォー
ク20Ａの上の記号はこれの動作を示し、上昇Ｕ，前進
Ｆ，下降Ｄ，後退Ｒを表している。同図は丁度上から６
段目までの積込みが終わった状態である。

【００２６】このようにして全段への被処理物の積込み
が終われば、搬入中継リフト15Ａは180 度回転する。し
たがって被処理物Ｗは開口２ａ側へ横移動させられ、搬
入中継リフト15Ａは移動ビーム13へ被処理物の授受体勢
に入る。一方、移動ビーム13はこの時後退の動作を終え
て図１の仮想線の状態になっている。

【００２７】したがって、移動ビーム13は次の上昇動作
によって、搬入中継リフト15Ａから被処理物Ｗをすくい
上げるようにして受取る。続いて移動ビーム13は前進動
作に移り、全段の被処理物Ｗを同時に炉体２の中へ横移
動させる。次に移動ビーム13は下降動作に変り、載置し
てきた被処理物Ｗを固定ビーム14に移し替える。

【００２８】このような各部の支持手段の一連の動き中
において支持手段同志が接触し合うことはない。これは
図２によって明白である。この一連の各部の動作の繰返
しによって、被処理物Ｗは順次炉体２の中へ送り込まれ
てゆく。そして最初に炉体２の中へ送り込まれた被処理
物Ｗ群は排出口２ｂへ達し、更に炉体２外へ移動ビーム
13によって搬出される。

【００２９】搬出口26側には第四の支持手段として同じ
く搬出中継リフト15Ｂが設置されている。この搬出中継
リフト15Ｂは前記搬入側の搬入中継リフト15Ａと全く同
じ機能を有している。即ち、上下動及び回転の機能を有
し、搬入中継リフト15Ａが被処理物Ｗを移動ビーム13に
引渡す工程であることに対して、搬出中継リフト15Ｂは
被処理物Ｗを移動ビーム13から受取る工程の役目を行っ
ている。図１は搬出中継リフト15Ｂが移動ビーム13から
被処理物Ｗを将に受取った状態を表している。

【００３０】搬出中継リフト15Ｂは移動ビーム13との間
で被処理物Ｗの授受が終れば、180度回転して被処理物
Ｗを続いて横移動させ、下降しながら最下段の支持材か
ら載置した被処理物Ｗを順次降してゆく。ここにおいて
も降す作業には同じくシャトルフォークが用いられ、
只、逆向きに使用されている。中継リフト15Ａ，15Ｂは
180 度回転のほか、対のローラ群で被処理物側縁部を支
持し、直線的に移動させて、搬入，搬出を行うようにし
ても良い。

【００３１】このような各部の連繋動作はそのタイミン
グを図示しない制御装置によってコントロールされてい
る。

【００３２】以上のような被処理物Ｗの全工程における
動きを図示したのが図４である。被処理物Ｗの工程にお
ける個々の動きは前記した通りであるが、前記シャトル
フォーク20Ａから搬入中継リフト15Ａへの被処理物Ｗ個
々の積込み所要時間は約30秒である。本例における被処
理物Ｗの縦の配列は10段としているので、全段への積込
み所要時間は約５分であり、搬入中継リフト15Ａの回転
により被処理物Ｗを横移動させる時間は約10秒である。

【００３３】したがって、工程の１タクトは約５分とみ
て差し仕えはない。図４によって明らかなように、各工
程における各部は夫々の受持つ領域において、被処理物
Ｗに対して夫々の作用を施している。

【００３４】本例の加熱温度は300 ℃までの能力があ
る。加熱処理する被処理物Ｗの種類により加熱時間は一
様ではない。したがって１タクト５分とすればその所要
加熱時間に応じて、炉２内の被処理物Ｗの列を増減し、
その列数に応じた炉長にすることが必要である。

【００３５】図５は、300 ℃で15分間加熱を要する場合
の例をグラフにより示したものである。図示の通り、30
0 ℃までに要する時間は５分であり、以後300 ℃に達し
15分間加熱し、炉外へ搬出されて約５分で冷却される。
したがって、この被処理物Ｗは加熱開始から冷却まで所
要合計時間は25分であり、20分間が炉内の工程であっ
て、〜の記号は炉内へ搬入された被処理物Ｗ列と搬
入の順番を示したものである。

【００３６】このように、被処理物の寸法，縦の配列数
及び加熱所要時間により炉長も異なるが、仮に被処理物
Ｗの寸法が300 mmのものであり、１タクトでの進行距離
を320 mmに設定した炉で図４の炉内配列であれば、搬入
中継リフト領域が約800 mm、炉内領域が320 mm×４、搬
出中継リフト領域が約800 mm及び搬出入口ガスカーテン
領域150 mm×２となり、この合計3180mmが装置の全長と
なる。したがって、従来炉の長さが10ｍ以上を要してい
たのに比べて、大幅な設備面積の縮小化が可能である。

【００３７】仕切り壁８は図６に示すように内部に蛇行
する発熱素子８ｃが設けられ、接続端子８ｄは両端末に
設けられている。この蛇行パターンは電解エッチング又
はスクリーン印刷によって形成され、炉体２と同じ長さ
の仕切り壁８の全面に設置されている。

【００３８】図７は前記仕切り壁８の部分拡大断面図で
あり、このように積層構造になっている。前記炉体２に
は図示しない通電機構が設けられており、これに接続さ
れた発熱素子８ｃは耐熱絶縁布８ｂに包まれて中央に位
置し、両側はアルミニューム又はステンレス鋼の薄板８
ａに挟まれている。更に薄板８ａの外側は遠赤外線放射
材８ｅがコーティングされ、これを含む全体の厚さｔは
７mmである。発熱素子８ｃは鉄−クロム合金やニッケル
めっきを施した純鉄等の箔から成り、狭い間隙を隔て蛇
行する0.03mmの帯状を呈している。

【００３９】ヒータとしては、上記構造の面状ヒータの
ほかにも他の適宜な構造のヒータが使用できる。例え
ば、熱放射面に遠赤外線放射材がコーティングされた２
枚の金属板でシーズヒータ（極細タイプのマイクロヒー
タ、シース径１mm程度）を挟んだ構造のものが好適であ
る。

【００４０】このように構成された仕切り壁８で仕切ら
れた熱処理室は、天井と床の両面から遠赤外線が放射さ
れることになり、その中間に載置される被処理物Ｗは遠
赤外線の枚葉照射により良好で均一な加熱が施される。
これにより膜の仕上特性が大幅に向上する上に、炉内の
高い熱効率によって消費電力は反対に１／３以下に低減
される。以上、第一の発明について実施例を説明した
が、電子部品以外のものの処理にも使用することは勿論
可能であり、例えば有機系（ポリイミド等）塗膜の乾燥
処理等には大きな威力を発揮し得る。

【００４１】第二の発明の加熱方法は前記第一の発明の
実施例と同じであり、図８及び図９がこれに係るもので
あり、図８は図９のVIII−VIII線断面図、図９は図８の
ＩＸ−ＩＸ線断面図である。本例の装置30も炉体31は両
側面が開口された方形で、金属製の外枠と同内枠の間に
断熱材３が内蔵されて構成されている。そして、内部は
面状ヒータが形成された複数の仕切り壁32が床状に配設
されて、多層の処理室が形成されている。

【００４２】各処理室の高さ中央位置には第一の支持手
段として、２本の固定ビーム33，33が配され、その両端
部は側壁から突出したブラケット33ａ，33ａに支えられ
固定されている。そして両開口部34ａ，34ｂにはスライ
ドドアー36，36（以下ドアーと言う）を設け、炉体31の
屋根にドアー36，36の収納部35が設けられている。

【００４３】前記開口部は一方を搬入口34ａ、他方を搬
出口34ｂとし、搬入口34ａ側には炉体31外には第二の支
持手段として搬入中継リフト37Ａが設けられている。搬
入中継リフト37Ａは連結された２本の支柱38，38に夫々
複数の支持部材39が同一方向に突出して設置され、各支
持部材39の間隔は炉体31内の各固定ビーム33の間隔と同
一になっている。更に搬入中継リフト37Ａは上下動機能
と横移動機能を備えており、図示しない駆動装置によっ
て作動している。

【００４４】他方搬出口34ｂ側にも第三の支持手段とし
て、前記第二の支持手段と同一の構造と機能を備えた搬
出中継リフト37Ｂが設けてある。

【００４５】双方の中継リフト37Ａ，37Ｂ共２本の支柱
38，38に設けた支持部材39の左右の間隔は、炉体31内の
固定ビーム33の左右の間隔より狭くなっている。これに
ついては図９により図示される通りである。したがって
被処理物Ｗの授受の際も固定ビーム33と前記支持部材39
が接触し合うことはない。

【００４６】搬入中継リフト37Ａの各段の支持部材39へ
の被処理物Ｗの搭載は他の場所で行われて、被処理物を
搭載したまま炉体31への搬入口34ａへ横移動して来る。
すると搬入口34ａ側のドアー36が自動的に開き間口が開
放される。搬入中継リフト37Ａは上下動機能によって、
その支持部材39を炉体31内の固定ビーム33より高い位置
に保ちながら、被処理物Ｗを搭載したまま、その支持部
材39部を炉体31内へ装入する。次に、搬入中継リフト37
Ａは全体を若干下降させれば、搭載していた被処理物Ｗ
は固定ビーム33に夫々移載される。そして搬入中継リフ
ト37Ａはその状態で後退すればドアー36は自動的に閉ま
り、加熱処理が開始される。

【００４７】被処理物Ｗの搬出の際は、同機能を有する
搬出中継リフト37Ｂが搬出口34ｂに近づけば、自動的に
搬出口34ｂ側のドアーが開く。搬出中継リフト37Ｂは搬
入とは反対に、その支持部材39の高さを炉体31内の固定
ビーム33より低い位置に保ちながら、その支持部材39部
を炉体31内へ装入する。次は搬出中継リフト37Ｂ全体を
若干上昇させれば、被処理物Ｗは固定ビーム33から搬出
中継リフトに移し替えられて搬出される。

【００４８】本例においても、仕切り壁32は前記第一の
発明の実施例と同一構造，機能のものを採用している。
而も、熱処理室個々の容積が小さいため、急速な温度上
昇が得られるが冷却は相応の時間が必要である。したが
って比較的に冷却時間も少なくてすむ、例えば200 ℃以
下の熱処理に適し、炉内時間を少なくする程回転率も良
くなる。

【００４９】このような各部の連繋動作は図示しない装
置によってコントロールされている。又、前記におい
て、搬入口側と排出口側に区別して付随する諸装置の役
割を説明したが、全く反対にして使用することも可能で
ある。なお、第一の発明同様、枚葉加熱による膜の仕上
特性の向上の反面、消費電力の低減が実現可能であるこ
とは勿論であり、電子部品以外の加熱処理及び乾燥にも
使用することは可能であり、第一の発明と同様の効果を
発揮し得る。

【００５０】以上、第一の発明及び第二の発明の実施例
について説明したが、本発明の技術思想によれば、前記
以外にも各種の変形例を作ることができる。例えば、第
二の発明の炉体に回転機能を備えれば開口部は片方でも
よい。これにより設備費の低減も可能となる等と、この
ほかにも各部の諸機能の組合せ等による他の方法が採用
できる。また、雰囲気処理等、熱処理以外の連続処理に
も本発明が適用可能である。

【００５１】

【発明の効果】本発明は、処理手段を具備する仕切り壁
によって複数の処理室が互に重なるように設けられてい
るので、装置の占有面積を小さくできるのみならず、各
処理室毎に所定の処理が施されるので、均一な処理が保
証される。

【００５２】また、被処理物を上下動及び水平移動可能
にする被処理物装入手段及び同被処理物排出手段を設け
ているので、被処理物の装置本体への装入及びこれから
の排出が手際良く遂行され、高い生産性を以て処理がな
される。

【図面の簡単な説明】

【図１】第一の発明の実施例の概略断面図（図２におけ
るＩ−Ｉ線断面図）である。

【図２】図１のII−II線断面図である。

【図３】図１のIII −III 線断面図である。

【図４】工程における被処理物の移動と各機能の領域を
示す図である。

【図５】被処理物の加熱処理を示すグラフである。

【図６】仕切り壁の平面図である。

【図７】仕切り壁の部分拡大断面図である。

【図８】第二の発明の実施例の概略断面図（図９のVIII
−VIII線断面図）である。

【図９】図８のＩＸ−ＩＸ線断面図である。

【図10】従来装置の概略断面図である。

【図11】図10のＸＩ−ＸＩ線断面図である。

【図12】（ａ）ウォーキングビームの部分拡大正面図、
（ｂ）同側面図である。

【符号の説明】

１，30，40 装置 ２，31，41 炉体 ２ａ，34ａ，41ａ 搬入口 ２ｂ，34ｂ，41ｂ 搬出口 ３ 断熱材 ４ａ，４ｂ 突出部 ５ 吹出し口 ８，32 仕切り壁 ９ 気体取入れ口 10 ダクト 11ａ，46 移動架枠 11ｂ 連結材 12，38，43，44，47 支柱 13，48 移動ビーム 14，33，45 固定ビーム 15Ａ，37Ａ 搬入中継リフト 15Ｂ，37Ｂ 搬出中継リフト 16 回転軸 17，39 支持部材 20Ａ，20Ｂ シャトルフォーク 35 収納部 36 スライドドアー 42 赤外線ヒータ 43 基台 49 ローラ 50 リンク 51 リンク支持材 52 油圧シリンダ 53 リンクバー 54 駆動軸支持板 55 案内軸 56 駆動軸 57 軸受 58 支持部材 59 モータ 60 往復運動部材 Ｗ 被処理物

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理手段を具備する仕切り壁によって複
   数の処理室が互に重なるように平行に設けられた処理装
   置本体と、 この処理装置本体外の被処理物装入口側に設けられ、被
   処理物を上下動及び水平移動可能に載置する複数の第一
   の載置部材を具備する被処理物装入手段と、 第二の載置部材及び移動可能な第三の載置部材を具備
   し、この第三の載置部材が前記第二の載置部材に対して
   反復変位運動し、これによりこれら第二及び第三の載置
   部材が交互に前記被処理物を載置しながら前記の各処理
   室内で搬送する被処理物搬送手段と、 前記処理装置本体外の被処理物排出口側に設けられ、前
   記被処理物を上下動及び水平移動可能に載置する複数の
   第四の載置部材を具備する被処理物排出手段とを有する
   連続処理装置。
2. 【請求項２】 処理手段を具備する仕切り壁によって複
   数の処理室が互に重なるように設けられた処理装置本体
   と、 この処理装置本体外の被処理物装入口側に設けられ、被
   処理物を上下動及び水平移動可能に載置する複数の第一
   の載置部材を具備する被処理物装入手段と、 前記の各処理室内で前記被処理物を載置する複数の第二
   の載置部材と、 前記処理装置本体外の被処理物排出口側に設けられ、前
   記被処理物を上下動及び水平移動可能に載置する複数の
   第三の載置部材を具備する被処理物排出手段とを有する
   連続処理装置。