KR100442018B1

KR100442018B1 - 열처리장치

Info

Publication number: KR100442018B1
Application number: KR1019970008182A
Authority: KR
Inventors: 히로시 가와모토
Original assignee: 고요 써모시스템 주식회사
Priority date: 1996-03-25
Filing date: 1997-03-12
Publication date: 2004-11-10
Also published as: TW338100B; KR970066483A; JP3484592B2; JPH09257371A

Abstract

판형 피처리물(W)을 열풍에 의해 열처리하는 가열로(1) 내에 복수의 피처리물(W)을 유지하는 열처리용 랙(19)을 전후방향으로 간격을 두고 고정형으로 설치한다. 상기 가열로(1) 내에 후측 열처리용 랙(19)으로부터 전측 열처리용 랙(19)으로 피처리물(W)을 주고 받는 반송용 랙(55)을 설치한다. 열처리하여야 할 복수의 피처리물(W)을 가열로(1) 내에 반입하여 열처리용 랙(19)으로 주고 받는 반입용 랙(46)과, 열처리가 행해진 복수의 피처리물(W)을 열처리용 랙(19)으로부터 수취하여 가열로(1) 외부로 반출하는 반출용 랙(51)을 설치한다. 반송용 랙(55), 반입용 랙(46) 및 반출용 랙(51)은 전후방향 및 상하방향으로 이동이 자유롭다. 열처리용 랙(19), 반입용 랙(46), 반출용 랙(51) 및 반송용 랙(55)은 각각 상하방향으로 간격을 두고 설치되고, 또한 동일 수평면내에서 전후방향으로 간격을 두고 배치된 좌우방향으로 긴 복수의 핑거(23,49,54,58)로 이루어진 피처리물 지지 선반(22,48,53,57)을 구비하고 있다.

Description

열처리 장치

본 발명은 예컨대 액정 디스플레이, 광학 기기 등의 전자·광학부품으로 이루어진 판형 피처리물에 열처리를 행하는 장치에 관한 것이다.

이 명세서에 있어서, 전후 방향이라 함은 판형 피처리물의 반송방향을 기준으로 하여, 반송방향 전방, 즉 도1 및 도7의 우측을 전방, 이것과 반대측을 후방으로 한다. 또한, 후방에서 전방을 볼 때의 좌우, 즉 도5의 좌우를 좌우로 한다.

이 종류의 열처리 장치로서, 전후방향으로 신장하고 또한 판형 피처리물을 열풍에 의해 열처리하는 가열로와, 고정빔 및 가동빔으로 이루어지고, 또한 복수의 판형 피처리물을 유지한 피처리물 수납 카세트를 가열로의 입구에서 출구까지 간헐적으로 반송하는 가동빔 반송장치를 구비한 것이 알려져 있다(일본국 실용신안 공개공보 평성6－78794호 참조).

그러나, 종래의 열처리 장치로는, 가열로 내에, 그 외부로부터 항상 온도가낮은 카세트가 반입되기 때문에, 그 결과 카세트도 가열되게 되어 가열 효율이 나쁘게 되는 문제가 있다.

본 발명의 목적은, 상기 문제를 해결하여, 가열효율이 뛰어난 열처리 장치를 제공하는 것에 있다.

본 발명에 의한 열처리 장치는, 전후방향으로 신장하는 가열로와, 열처리하여야 할 판형 피처리물을 가열로 내에 반입함과 동시에 가열로 내에서 전방으로 반송하고, 또 열처리가 행해진 판형 피처리물을 가열로 밖으로 반출하는 반송장치를 구비하고 있고, 반송장치가 1 또는 2 이상의 랙으로 이루어지는 제1랙 그룹과, 제1랙 그룹과 대향하도록 배치되고, 또한 제1랙 그룹의 랙의 수보다도 많은 랙으로 구성되는 제2랙 그룹으로 이루어지고, 각 랙 그룹의 랙에, 동일 평면내에서 전후방향으로 간격을 두고 배치된 좌우방향으로 신장하는 복수의 핑거로 이루어지는 피열처리물 지지선반이 상하방향으로 간격을 두고 복수설치되고, 제1랙 그룹과 제2랙 그룹이, 상하방향 및 전후방향으로 상대적으로 이동함과 동시에, 상하방향으로 상대적으로 이동한 때에 다수의 판형 피처리물이 2개의 그룹의 랙의 피처리물 지지선반 사이에서 동시에 바꾸어 실려져서 양 랙그룹의 랙 사이에서의 판형 피처리물의 주고 받음이 행하여지도록 이루어지고, 양 랙그룹의 랙 사이에서의 판형 피처리물의 주고 받음을 반복하는 것에 의해, 판형 피처리물이 반송되도록 이루어져 있는 것이다.

본 발명의 열처리 장치에 의하면, 다음과 같이 하여 판형 피처리물에 열처리가 행해진다. 즉, 반송장치의 양 랙그룹의 랙 사이에서의 판형 피처리물의 주고 받음을 반복하는 것에 의해, 열처리하여야 할 판형 피처리물이 가열로 내에 반입됨과 동시에 가열로 내에서 전방으로 반송되어, 그 동안에 가열로 내에서 열처리가 행해진다. 열처리가 행해진 판형 피처리물은, 상기와 같이 하여 반송장치에 의해 가열로 밖으로 반출된다. 따라서, 종래의 장치와 같이, 가열로 내에서 피처리물을 반송하는데 피처리물 수납 카세트를 필요로 하지 않고, 이것을 가열하기 위한 여분의 열이 불필요하게 된다.

상기 열처리 장치에 있어서, 가열로 내가 전후방향으로 나란히 배치된 다수의 처리실로 구획되어, 인접하는 처리실간의 격벽에, 피처리물 지지선반에 판형 피처리물을 실은 랙이 통과할 수 있는 연통구가 형성되어, 연통구가 자유자재로 개폐될 수 있게 구성된 것이 있다. 이 경우, 전후방향으로 온도변화가 생기는 것을 방지할 수 있어, 판형 피처리물 전체를 균일하게 가열하는 것이 가능하게 된다. 또한, 판형 피처리물에 연속적인 열처리를 단계적으로 행할 수 있음과 동시에, 각 처리실에서 판형 피처리물에 다른 조건으로 열처리를 행하는 것도 가능하게 된다.

상기 열처리 장치에 있어서, 제1랙 그룹의 랙이 고정되고, 제2랙 그룹의 랙이 상하방향 및 전후방향으로 이동이 자유로운 구성을 취하기도 한다.

또, 상기 열처리 장치에 있어서, 제1랙 그룹의 랙이 상하방향으로 이동이 자유롭고, 제2랙 그룹의 랙이 전후방향으로 이동이 자유로운 구성을 취할 수 있다.

제2랙 그룹의 랙이 전후방향으로 이동이 자유로운 2개의 열처리 장치에 있어서, 제2랙 그룹의 랙에 있어서의 피처리물 지지선반의 전후양단의 핑거 각각에는,각각 판형 피처리물의 전후방향으로 어긋나는 것을 방지하는 이탈 방지 부재가 설치되는 것이 바람직하다. 이 경우, 랙이 전후방향으로 이동한 경우에 판형 피처리물이 어긋나는 것을 방지할 수 있다.

도1은 본 발명의 열처리 장치의 실시예의 전체구성을 도시하는 수평 단면도.

도2는 도1의 부분 확대도.

도3은 도2와는 다른 부분을 도시하는 도1의 부분 확대도.

도4는 본 발명의 열처리 장치의 일부분을 확대하여 도시하는 부분 생략 사시도.

도5는 도1의 V-V선 확대 단면도.

도6은 열처리용 랙의 핑거부분을 도시하는 확대도.

도7은 본 발명의 열처리장치의 다른 실시예의 전체구성을 도시하는 수평 단면도.

도8은 2개의 실시예에 있어서의 반입용 랙, 반출용 랙, 반송용 랙 및 환승용 랙의 변형예를 도시하는 사시도.

도9는 2개의 실시예에 있어서의 열처리용 랙, 고정랙, 가동랙, 반입용 랙, 반출용 랙, 반송용 랙 및 환승용 랙의 변형예를 도시하는 후방에서 본 도면.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉

1: 가열로

19: 열처리용 랙

22,48,53,57: 피처리물 지지 선반

23,49,54,58: 핑거

46: 반입용 랙

51: 반출용 랙

55: 반송용 랙

W: 판형 피처리물

이하, 본 발명의 실시예를, 도면을 참조하여 설명한다. 또, 전 도면을 통하여 동일물 및 동일부분에는 동일부호를 붙여서 중복하는 설명을 생략한다.

도1∼도5에 있어서, 열처리 장치는, 전후방향으로 신장하고 또한 판형 피처리물(W)을 열풍에 의해 열처리하는 가열로(1)를 구비하고 있다.

가열로(1) 내에는 다수의, 예컨대 3개의 열처리실(2)(3)(4)이 격벽(5)을 통해 전후방향으로 나란히 설치되어 있다. 가열로(1)의 후단부에 피처리물 입구(6)가 형성되고, 전단부에 피처리물 출구(7)가 형성되며, 각 격벽(5)에 연통구(8)가 형성되어 있다. 피처리물 입구(6), 피처리물 출구(7) 및 연통구(8)는 각각 후술하는 반입용 랙(46), 반출용 랙(51) 및 반송용 랙(55)이 통과할 수 있는 크기로 되어 있다. 가열로(1)의 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7)에는 각각 개폐가 자유로운 셔터장치(9)가 설치된다. 각 셔터장치(9)는 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7)의 위쪽에서 상하운동이 자유롭게 설치된 상부 셔터(9a)와, 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7)의 아래쪽으로 상하운동이 자유롭게 설치된 하부 셔터(9b)로 이루어진다. 또한, 각 연통구(8)에도 각각 개폐가 자유로운 셔터장치(11)가 설치된다. 셔터장치(11)는 연통구(8)의 상측으로 상하운동이 자유롭게 설치된 셔터(11a)로 이루어진다. 또, 도시는 생략하였지만, 가열로(1)의우측벽에서의 각 열처리실(2)(3)(4)과 대응하는 부분에는 각각 문부착 점검구가 형성되어 있다.

가열로(1)에는 각 열처리실(2)(3)(4)의 좌측에서 상측을 거쳐서 우측에 이르는 분위기 순환로(12)가 형성되어 있고, 각 열처리실(2)(3)(4)의 좌측벽에 분위기흡출구(13)이 형성되고, 각 열처리실의 우측벽에 분위기 배출구(14)가 형성되어 있다. 각 분위기 순환로(12)의 내부에는 분위기 흡출구(13)측으로부터 시로코 팬(15), 히터(16) 및 수냉 트랩(17)이 배치되어 있다. 또한, 분위기 흡출구(13)에 HEPA 필터(18)가 배치되어 있다. 그리고, 히터(16)로 가열된 고온 분위기가, 시로코 팬(15)에 의해 순환로(12)를 거쳐서 열처리실(2)(3)(4)내에서 순환되고, 고온 분위기로 이루어지는 열풍이 HEPA 필터(18)에 의해 청정화된 뒤, 분위기 흡출구(13)으로부터 열처리실(2)(3)(4)안으로 흡출되어 피처리물(W)에 가로로부터 내뿜어지게 되어 있다. 또, 수냉 트랩(17)은 판형 피처리물( W )로 부터 발생하는 유기물등을 제거하기 위한 것이다.

가열로(1)의 각 열처리실(2)(3)(4)내에는 열처리용 랙(19)이 설치된다. 모든 열처리용 랙(19) 사이의 전후방향의 피치는 동일하게 되어 있다. 열처리용 랙(19)은 각 열처리실(2)(3)(4)의 바닥의 우측 가장자리부에 고정된 상하방향으로 신장하는 프레임(21)과, 이 프레임(21)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 설치되고, 또한 동일 수평면내에서 전후방향으로 간격을 두고 배치된 다수의 좌우방향으로 연장하는, 예컨대 2개의 핑거(23)로 이루어지는 다수의 피처리물 지지선반(22)으로 이루어진다. 열처리용 랙(19)의 프레임(21) 및 핑거(23)는 각각예를 들면 스테인레스강으로 형성되어 있다. 도6에 도시된 바와 같이, 모든 핑거(23)의 상면에는 각각 그 길이방향으로 간격을 두고 다수의 돌기(64)가 부착되어 있다. 돌기(64)는 예컨대 세라믹이라든지, 열처리실 온도까지의 내열성을 가지는 합성수지로만들어져 있다. 복수의 열처리용 랙(19)에 의해 제1의 랙그룹이 구성되어 있다.

가열로(1) 보다 전방의 부분에는 2개의 고정랙(24)(25)이 열처리용 랙(19)과 일직선형으로 나란히 배치되도록 전후방향으로 간격을 두고 설치된다. 양 고정랙(24)(25)의 구조는 각각 열처리용 랙(19)과 동일하고, 프레임(26)(27)과, 이 프레임(26)(27)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 설치되고, 또한 동일 수평면내에 위치하는 복수의 핑거(31)(32)를 가지는 복수의 피처리물 지지선반(28)(29)으로 이루어진다. 양 고정랙(24)(25) 간의 피치는 인접하는 열처리용 랙(19)의 전후방향의 피치와 동일하게 되어 있다. 또한, 후측 고정랙(24)과 가장 전측의 열처리용 랙(19)과의 피치도 인접하는 열처리용 랙(19)의 전후방향의 피치와 동일하게 되어 있다. 후측 고정랙(24)의 우측에는 이 고정랙(24)의 피처리물 지지선반(28)에 지지된 피처리물(W)에 깨끗한 냉각풍을 내뿜기 위한 냉풍 분사 장치(33)가 설치되어 있다. 전측 고정랙(25)은 열처리가 행해진 판형 피처리물(W)을 다음 공정에 보내기 위해서 대기시키기 위한 것으로, 이 고정랙(25)의 피처리물 지지선반(29)에 지지된 피처리물(W)은 도시하지 않은 적당한 자동 환승 장치에 의해 다음 공정에 보내기 위한 장치로 바꾸어 옮져진다.

가열로(1)보다 후방의 부분에는 1개의 가동랙(34)이 열처리용 랙(19)과 일직선형으로 나란히 배치되도록 하여 설치된다. 가동랙(34)은 전후방향으로만 이동이 자유롭다. 가동랙(34)의 구조는 열처리용 랙(19)과 동일하고, 프레임(35)과, 이 프레임(35)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 마련되고 또한 동일 수평면내에 위치하는 복수의 핑거(37)를 가지는 다수의 피처리물 지지선반(36)으로 이루어진다. 그리고, 프레임(35)은 도시하지 않은 구동장치를 구비한 지지부재(38)에 전후방향으로 이동이 자유롭게 부착되어 있다. 가동랙(34)이 전진위치에 있을 때의 가동랙(34)과 가장 후측의 열처리용 랙(19)과의 피치는 인접하는 열처리용 랙(19)의 전후방향의 피치와 동일하게 되어 있다. 또한, 가동랙(34)이 후퇴위치에 있을 때에 앞 공정을 거친 피처리물(W)은 도시하지 않은 적당한 자동 환승 장치에 의해 이 가동랙(34)의 피처리물 지지선반(36)으로 바꾸어 옮겨진다.

가열로(1)를 전후방향으로 관통하도록, 상하방향 및 전후방향으로 이동이 자유로운 가동빔(39)이 배치되어 있다. 가동빔(39)은 상세히는 도시하지 않지만 공지의 구동장치(41)에 의해 구동되게 되어 있다. 가동빔(39)의 전후방향의 이동 스트로크는 열처리용 랙(19) 끼리의 전후방향의 피치와 동일하게 되어 있다. 가동빔(39)은 각 열처리실(2)(3)(4)의 좌측 하단부를 관통하게 되어 있다. 가열로(1)의 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7)의 셔터장치(9)의 상부 셔터(9a)의 하단 및 하부 셔터(9b)의 상단에는 각각 홈(42)(43)이 형성되어 있고, 홈(42)(43)의 내주면에 밀봉재(44)가 점착되어 있다. 그리고, 셔터장치(9)가 닫혀 있을 때에 가동빔(39)은 양 홈(42)(43) 사이를 통과하게 되어 있고, 밀봉재(44)의 동작에 의해, 가열로(1) 안에 이물이 침입하지 않도록 이루어져 있다. 또한, 각격벽(5)의 연통구(8)의 셔터장치(11)의 셔터(11a)의 하단에는 가동빔(39)에 꼭 맞는 홈(45)이 형성되어 있다.

후퇴위치에 있는 가동빔(39)에 있어서의 가동랙(34)의 전진위치와 대응하는 부분에는 반입용 랙(46)이 마련되어 있다. 반입용 랙(46)도 열처리용 랙(19)과 같은 구조이고, 가동빔(39)에 고정된 상하방향으로 신장하는 프레임(47)과, 이 프레임(47)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 설치되고, 또한 동일 수평면 내에서 전후방향으로 간격을 두고 배치된 좌우방향으로 긴 복수의, 예컨대 2개의 핑거(49)로 이루어지는 다수의 피처리물 지지선반(48)으로 이루어진다. 가동빔(39)이 후퇴위치 및 하강위치에 있을 때의 반입용 랙(46)의 각 피처리물 지지선반(48)은 전진위치에 있는 가동랙(34)의 각 피처리물 지지선반(36)보다도 약간 하측의 위치에 있다. 또한, 후퇴위치에 있는 반입용 랙(46)의 각 피처리물 지지선반(48)의 핑거(49)는 전진위치에 있는 가동랙(34)의 각 피처리물 지지선반(36)의 핑거(37)의 전후방향 외측에 위치하고 있음과 동시에, 양 랙(34)(46)의 핑거(37)(49)의 길이는 각각 거의 동일하고, 또한 양 랙(34)(46)의 프레임(35)(47) 사이의 좌우방향의 간격은 핑거(37)(49)의 길이보다도 크게 되어 있고, 이것에 의해 반입용 랙(46)이 상하운동하는 때에 핑거(37)(49) 끼리가 간섭하지 않도록 되어 있다. 또한, 가동빔(39)이 전진위치 및 하강위치에 있을 때의 반입용 랙(46)의 각 피처리물 지지선반(48)은 후단의 열처리용 랙(19)의 각 피처리물 지지선반(22)보다도 약간 하측의 위치에 있음과 동시에, 전진위치에 있는 반입용 랙(46)이 상하운동하는 때에 열처리용 랙(19)의 핑거(23)와 반입용 랙(46)의 핑거(49)가 간섭하지 않도록 이루어져 있다.

후퇴위치에 있는 가동빔(39)에 있어서의 가장 전측의 열처리용 랙(19)과 대응하는 부분에는 반출용 랙(51)이 설치된다. 반출용 랙(51)의 구조는 반입용 랙(46)과 동일하고, 가동빔(39)에 고정된 프레임(52)과, 프레임(52)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 설치되고, 또한 동일 수평면 내에 위치하는 복수의 핑거(54)로 이루어지는 복수의 피처리물 지지선반(53)으로 이루어진다. 가동빔(39)이 후퇴위치 및 하강위치에 있을 때의 반출용 랙(51)의 각 피처리물 지지선반(53)은 열처리용 랙(19)의 각 피처리물 지지선반(22)보다도 약간 하측의 위치에 있다. 또한, 가동빔(39)이 전진위치 및 하강위치에 있을 때의 반출용 랙(51)의 각 피처리물 지지선반(53)은 후측 고정랙(24)의 각 피처리물 지지선반(28)보다도 약간 하측의 위치에 있다. 또, 반입용 랙(46)의 경우와 같이, 후퇴위치 및 전진위치에서 반출용 랙(51)이 상하운동하는 경우에 그 핑거(54)는 열처리용 랙(19)의 핑거(23) 및 후측 고정랙(24)의 핑거(31)와 간섭하지 않도록 이루어져 있다.

후퇴위치에 있는 가동빔(39)에 있어서의 열처리실(2)(3)내의 열처리용 랙(19)과 대응하는 부분에는 각각 반송용 랙(55)이 설치된다. 반송용 랙(55)의 구조는 반입용 랙(46)과 동일하고, 가동빔(39)에 고정된 프레임(56)과, 이 프레임(56)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 설치되고, 또한 동일 수평면내에 위치하는 다수의 핑거(58)로 이루어지는 다수의 피처리물 지지선반(57)으로 이루어진다. 가동빔(39)이 하강위치에 있을 때의 반송용 랙(55)의 각 피처리물 지지선반(57)은 열처리용 랙(19)의 각 피처리물 지지선반(22)보다도 약간 하측의 위치에 있다. 또, 반입용 랙(46)의 경우와 같이, 후퇴위치 및 전진위치에서 반송용 랙(55)이 상하운동하는 경우에 그 핑거(58)는 열처리용 랙(19)의 핑거(23)와 간섭하지 않도록 이루어져 있다.

반입용 랙(46), 반출용 랙(51) 및 반송용 랙(55)에 의해 제2의 랙 그룹이 구성되어 있다. 그리고, 제1랙 그룹과 제2랙 그룹은 열처리하여야 할 판형 피처리물(W)을 가열로(1) 내로 반입함과 동시에 가열로(1) 내에서 전방으로 반송하며, 또 열처리가 행해진 판형 피처리물(W)을 가열로(1) 밖으로 반출하는 반송장치가 형성되어 있다.

후퇴위치에 있는 가동빔(39)에 있어서의 후측 고정랙(24)과 대응하는 부분에는 후측 고정랙(24)으로부터 전측 고정랙(25)으로 피처리물(W)을 바꾸어 옮기는 환승용 랙(59)이 설치된다. 환승용 랙(59)의 구조도 반입용 랙(46)과 같고, 가동빔(39)에 고정된 프레임(61)과, 이 프레임(61)에 상하방향으로 간격을 두고 다단형으로 설치되고, 또한 동일 수평면내에 위치하는 복수의 핑거(63)으로 이루어지는 복수의 피처리물 지지선반(62)으로 이루어진다. 가동빔(39)이 후퇴위치 및 하강위치에 있을 때의 환승용 랙(59)의 각 피처리물 지지선반(62)은 후측 고정랙(24)의 각 피처리물 지지선반(28)보다도 약간 하측의 위치에 있다. 또한, 가동빔(39)이 전진위치 및 하강위치에 있을 때의 환승용 랙(59)의 각 피처리물 지지선반(62)은 전측 고정랙(25)의 각 피처리물 지지선반(29)보다도 약간 하측의 위치에 있다. 또, 반입용 랙(46)의 경우와 같이, 후퇴위치 및 전진위치에서 환승용 랙(59)이 상하운동하는 경우에 그 핑거(63)는 후측 고정랙(24)의 핑거(31) 및 전측 고정랙(25)의 핑거(32)와 간섭하지 않도록 이루어져 있다.

열처리용 랙(19) 이외의 모든 랙(24)(25)(34)(46)(51)(55)(59)의 프레임(26)(27)(35)(47)(52)(56)(61) 및 핑거(31)(32)(37)(49)(54)(58)(63)도, 각각 예컨대 스테인레스강으로 형성되어 있다.

판형 피처리물(W)의 열처리는 다음과 같이 하여 행하여진다.

우선, 도시하지 않은 환승 수단에 의해, 앞공정을 거친 판형 피처리물(W)은 후퇴위치에 있는 가동랙(34)의 각 피처리물 지지선반(36)상에 적재된다. 이어서, 가동랙(34)은 전진위치까지 이동하여, 그곳에서 대기된다. 가동랙(34)이 전진위치에 도달하기까지, 가동빔(39)은 후퇴위치 및 하강위치에 있다. 또한, 가열로(1)의 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7) 및 각 격벽(5)의 연통구(8)는 각각 셔터장치(9)(11)에 의해 폐쇄되고 있다. 가동랙(34)이 전진위치에 오면, 우선 가열로(1)의 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7), 및 각 격벽(5)의 연통구(8)의 셔터장치(9)(11)가 열려진다. 이어서, 구동장치(41)에 의해 가동빔(39)이 상승되고, 이것에 의해 반입용 랙(46)은 그 피처리물 지지선반(48)이 가동랙(34)의 바로 위의 피처리물 지지선반(36)의 상측에 올 때까지 상승되고, 판형 피처리물(W)이 반입용 랙(46)의 피처리물 지지선반(48)상에 바꾸어 실어진다. 이어서, 구동장치(41)에 의해 가동빔(39)이 전진되고, 반입용 랙(46)이 후단의 열처리실(2) 내의 열처리용 랙(19)의 위치까지 이동되며, 반입용 랙(46)의 각 피처리물 지지선반(48)이 열처리용 랙(19)의 각 피처리물 지지선반(22)의 상측에 온다. 이어서, 구동장치(41)에 의해 가동빔(39)이 하강시켜지는 것에 의해, 반입용 랙(46)이 그각 피처리물 지지선반(48)이 열처리용 랙(19)의 피처리물 지지선반(22)의 바로 아래쪽으로 올 때까지 하강시켜지고, 판형 피처리물(W)이 열처리용 랙(19)의 피처리물 지지선반(22)상에 바꾸어 실어진다. 판형 피처리물(W)은 반입용 랙(46)에 의해 가동랙(34)으로 부터 열처리용 랙(19)으로 바꾸어 옮겨짐과 동시에 반송용 랙(55)에 의해 열처리용 랙(19) 끼리의 사이에서 바꾸어 옮겨진다. 이어서, 구동장치(41)에 의해 가동빔(39)이 후퇴시켜지고 원래의 위치에 되돌아간다. 그 후, 가열로(1)의 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7), 및 각 격벽(5)의 연통구(8)는 각각 셔터장치(9)(11)에 의해 폐쇄되어, 히터(16)에서 가열된 고온 분위기가 시로코 팬(15)을 통해 각 열처리실(2)(3)(4)에 있어서의 각 순환로(12)로 순환시켜지고, HEPA 필터(18)보다 청정화된 고온 분위기가 열풍으로서 판형 피처리물(W)에 내뿜어지고, 이것에 의해 열처리실(2)(3)(4)내의 판형 피처리물(W)에 적당한 열처리가 행해진다.

상기에 있어서, 판형 피처리물(W)은 반입용 랙(46)에 의해 가동랙(34)으로부터 열처리용 랙(19)으로 바꾸어 옮겨지는 것과 동시에, 반출용 랙(51)에 의해 후단의 열처리실(4) 내의 열처리용 랙(19)으로부터 후측 고정랙(24)으로 바꾸어 옮겨지고, 또 환승용 랙(59)에 의해 후측 고정랙(24)으로부터 전측 고정랙(25)으로 바꾸어 옮겨진다. 또한, 판형 피처리물(W)이 반입용 랙(46)에 의해 열처리용 랙(19)으로 바꾸어 옮겨지는 동안에, 가동 랙(34)은 후퇴하여, 판형 피처리물(W)은 환승장치에 의해 그 피처리물 지지선반(36)으로 적재되고, 그 후 다시 전진하여 전진위치에 온다. 이러한 동작을 반복하는 것에 의해, 다수의 피처리물(W)에 연속적으로열처리가 행해진다.

상기 실시예에 있어서, 각 열처리실(2)(3)(4) 안에서의 판형 피처리물(W)의 열처리시에 반출용 랙(51)은 열처리실(4) 안에 있으므로, 반출용 랙(51)은 열처리용 랙(19) 및 반송용 랙(55)과 같이 가열된다. 그리고, 반출용 랙(51)은 다음번의 열처리시까지 후측 고정랙(24)의 피처리물 지지선반(28)으로 피처리물(W)을 바꾸어 옮기기 위해서 가열로(1) 밖에 나올 뿐이므로, 그 온도는 그다지 저하하지 않는다. 따라서, 다음번의 열처리시에 있어서의 가열 효율이 뛰어나게 된다.

또한, 상기 실시예에 있어서는 모든 핑거(23)(31)(32)(37)(49)(54)(58)(63)가 각각 스테인레스강제이지만, 이들은 세라믹스제라도 좋다. 이 경우, 핑거(23)(31)(32)(37)(49)(54)(58)(63)가 금속제인 경우에 발생할 우려가 있는 판형 피처리물(W)의 금속오염이 방지된다.

또한, 상기 실시예에 있어서는 열처리용 랙(19)의 핑거(23)의 상면에 돌기(64)가 형성되어 있으므로 판형 피처리물(W)과 핑거(23)와의 접촉면적이 작게 되어, 핑거(23)와 판형 피처리물(W)과의 사이의 전열량이 적어진다. 따라서, 판형 피처리물(W)에 있어서의 돌기(64)와의 접촉부와 비접촉부는 열처리시의 온도차가 극히 작게 되고, 판형 피처리물(W) 전체의 온도가 균일하게 된다. 그러나, 핑거(23)의 상면에 반드시 돌기(64)를 형성하여 놓을 필요는 없다.

또, 상기 실시예에 있어서, 열처리용 랙(19)의 핑거(23)를 스테인레스 강관제로서 그 내부를 분위기 통로로 하여 두고, 핑거(23)의 돌기(64)의 선단에 분위기흡출구를 형성하여 놓더라도 좋다. 이 경우, 판형 피처리물(W)을 비접촉상태로 지지하는 것이 가능하게 되어, 판형 피처리물(W)은 한층 균일하게 가열되게 된다.

도7은 본 발명의 다른 실시예를 도시한다.

이 경우, 반입용 랙(46), 반출용 랙(51), 반송용 랙(55) 및 환승용 랙(59)의 프레임(47)(52)(56)(61)이 고정되어 있는 가동빔(70)은 전후방향으로만 이동할 수 있게 이루어져 있다. 또한, 열처리용 랙(19), 후측 고정랙(24) 및 전측 고정랙(25)의 프레임(21)(26)(27)은 가열로(1)를 전후방향으로 관통하도록 배치된 상하방향으로만 이동 가능한 상하 가동빔(71)에 고정되어 있다. 전후 가동빔(70) 및 상하 가동빔(71)은 각각 상세히는 도시하지 않은 공지의 구동장치(72)(73)에 의해 구동되게 되어 있다. 상하 가동빔(71)은 각 열처리실(2)(3)(4)의 우측 하단부를 관통하게 되어 있다. 가열로(1)의 피처리물 입구(6) 및 피처리물 출구(7)의 셔터장치(9)의 상하 셔터(9a) (9b)에는 셔터장치(9)가 닫혀 있는 때에 상하 가동빔(71)이 삽통하는 관통공을 형성하는 홈(도시 생략)이 형성되고, 이 홈의 내주면에 밀봉재가 접착되어 있다. 그리고, 셔터장치(9)가 닫혀 있는 경우, 상하 가동빔(71)은 양 홈 사이를 통과하게 되어 있고, 밀봉재의 작용에 의해, 가열로(1)안에 이물이 침입하지 않도록 이루어져 있다. 또한, 각 격벽(5)의 연통구(8)의 셔터장치(11)의 셔터(1la)의 하단에도 상하 가동빔(71)에 꼭 맞는 홈(도시 생략)이 형성되어 있다.

가동랙(34)이 설치되는 지지부재(38)는 전후방향뿐만이 아니라, 상하방향으로도 이동이 자유롭게 되어 있다.

이러한 구성에 있어서, 예컨대 반입용 랙(46)에 의한 전진위치에 있는 가동랙(34)으로부터 후단 열처리실(2)의 열처리용 랙(19)으로의 판형 피처리물(W)의 반입은 다음과 같이 하여 행하여진다. 즉, 상하 가동빔(71)이 하강시켜지고, 이것에 의해 가동랙(34)은 그 피처리물 지지 선반(36)이 반입용 랙(46)의 바로 아래의 의 피처리물 지지선반(48)의 아래쪽으로 올 때까지 하강시켜지고, 판형 피처리물(W)이 반입용 랙(46)의 피처리물 지지선반(48) 상에 바꾸어 실어진다. 이어서, 구동장치(72)에 의해 가동빔(70)이 전진시켜지고, 반입용 랙(46)이 후단의 열처리실(2) 내의 열처리용 랙(19)의 위치까지 이동시켜져서 반입용 랙(46)의 각 피처리물 지지선반(48)이 열처리용 랙(19)의 각 피처리물 지지선반(22)의 상측에 온다. 이어서, 상하 가동빔(71)이 상승시켜지는 것에 의해, 열처리용 랙(19)은 그 각 피처리물 지지선반(22)이 반입용 랙(46)의 피처리물 지지선반(48)의 바로 상측에 올때까지 상승시켜지고, 판형 피처리물(W)이 열처리용 랙(19)의 피처리물 지지선반(22)상에 바꾸어 실어진다. 이어서, 구동장치(72)에 의해 가동빔(70)이 후퇴시켜져서 원래의 위치에 되돌아간다. 이렇게 해서, 가동랙(34)으로부터 후단 열처리실(2)의 열처리용 랙(19)으로의 판형 피처리물( V )의 반입이 행하여진다. 반송용 랙(55)에 의해 열처리용 랙(19)끼리의 사이에서 판형 피처리물(W)이 바뀌어 옮겨지는 것, 반출용 랙(51)에 의해 전단 열처리실(4) 안의 열처리용 랙(19)으로부터 후측 고정랙(24)으로 판형 피처리물(W)이 바뀌어 옮겨지는 것 및 환승용 랙(59)에 의해 후측 고정랙(24)으로부터 전측 고정랙(25)으로 판형 피처리물(W)의 바뀌어 옮겨지는 것도, 이것과 동일하게 하여 행하여진다.

도8은 상기 2개의 실시예에 있어서의 반입용 랙(46), 반출용 랙(51), 반송용랙(55) 및 환승용 랙(59)의 변형예를 도시한다. 도8에 있어서, 반입용 랙(46), 반출용 랙(51), 반송용 랙(55) 및 환승용 랙(59)의 각 피처리물 지지선반(48)(53)(57)(62)의 2개의 핑거(49)(54)(58)(63)에는 각각 전후방향 외측으로 돌출하고 또한 상측으로 돌출한 대략 L형 막대 형상의 피처리물 이탈 방지 부재(80)가 설치된다. 이 경우, 랙(46)(51)(55)(59)이 전후방향으로 이동할 때의 판형 피처리물(W)의 어긋남을 방지할 수 있다. 또한, 이탈 방지 부재로서는 대략 L형 막대 형상의 것을 대신하여, 전후방향 외측에 돌출하고 또한 상측으로 돌출한 대략 L형인 판형상의 것을 이용할 수도 있다.

도9는 상기 2개의 실시예에 있어서의 열처리용 랙(19), 고정랙(24)(25), 가동랙(34), 반입용 랙(46), 반출용 랙(51), 반송용 랙(55) 및 환승용 랙(59)의 변형예를 도시한다. 도9에 있어서, 열처리용 랙(19), 고정랙(24)(25) 및 가동랙(34)의 각 피처리물 지지선반(22)(28)(29)(36)의 핑거(23)(31)(32)(37)는 각각 선단을 향하여 상측으로 경사져 있고, 반입용 랙(46), 반출용 랙(51), 반송용 랙(55) 및 환승용 랙(59)의 각 피처리물 지지선반(48)(53)(57)(62)의 핑거(49)(54)(58)(63)는 각각 선단을 향하여 아래쪽으로 경사지고, 핑거(23)(31)(32)(37)와 평행하게 되어 있다. 또한, 이것들의 핑거(23)(31)(32)(37)(49)(54)(58)(63)의 경사방향의 하단부에는 각각 판형 피처리물(W)의 낙하방지 겸 위치고정 부재(81)(82)가 상측 돌출형으로 설치된다. 열처리용 랙(19), 고정랙(24)(25) 및 가동랙(34)의 핑거(23)(31)(32)(37)와, 반입용 랙(46), 반출용 랙(51), 반송용 랙(55) 및 환승용 랙(59)의 핑거(49)(54)(58)(63)는 도9에 도시한 것과는 반대방향으로 경사져 있더라도 좋다.

상기 2개의 실시예에 있어서, 가열로(1) 안이 격벽(5)에 의해 복수의 열처리실(2)(3)(4)로 구획되어 있지만, 이것은 반드시 필요하지는 않다.

본 발명의 열처리장치에 의하면, 상술한 바와 같이, 카세트를 가열할 필요가 있는 종래의 장치와 비하여 여분의 열이 불필요하게 되기 때문에, 가열효율이 향상한다.

또한, 본 발명의 열처리 장치에 있어서, 가열로 내부가 전후방향으로 나란히 배치된 다수의 처리실로 구획되어, 인접하는 처리실간의 격벽에, 피처리물 지지선반에 판형 피처리물을 적재한 랙이 통과할 수 있는 연통구가 형성되며, 연통구가 자유롭게 개폐되도록 이루어져 있는 경우, 전후방향으로 온도변화가 생기는 것을 방지할 수 있어서, 판형 피처리물 전체를 균일하게 가열하는 것이 가능하게 된다. 또한, 판형 피처리물에 연속적으로 열처리를 단계적으로 행할 수 있음과 동시에, 각 처리실에서 판형 피처리물과 다른 조건으로 열처리를 행하는 것도 가능하여 진다.

Claims

전후방향으로 신장하는 가열로와, 열처리하여야 할 판형 피처리물을 가열로내에 반입함과 동시에 가열로 내에서 전방으로 반송하고, 또 열처리가 행해진 판형 피처리물을 가열로 밖으로 반출하는 반송장치를 구비하고 있고, 반송장치가 1 또는 2이상의 랙으로 이루어지는 제1랙 그룹과, 제1랙 그룹과 대향하도록 배치되고 또한 제1랙 그룹의 랙의 수보다도 많은 랙으로 구성되는 제2랙 그룹으로 이루어지고, 각 랙 그룹의 랙에, 동일 평면내에서 전후방향으로 간격을 두고 배치된 좌우방향으로 신장하는 다수의 핑거로 이루어지는 피처리물 지지선반이 상하방향으로 간격을 두고 다수 설치되고, 제1랙 그룹과 제2랙 그룹이, 상하방향 및 전후방향으로 상대적으로 이동함과 동시에, 상하방향으로 상대적으로 이동한 때에 다수의 판형 피처리물이 2개의 그룹의 랙의 피처리물 지지선반 사이에서 동시에 바꾸어 실어져서 양 랙그룹의 랙 사이에서의 판형 피처리물의 주고 받음이 행하여지도록 이루어지고, 양 랙 그룹의 랙 사이에서의 판형 피처리물의 주고 받음을 반복하는 것에 의해, 판형 피처리물이 반송되도록 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
제1항에 있어서, 가열로 내가 전후방향으로 나란히 배치된 다수의 처리실로 구획되어, 인접하는 처리실 사이의 격벽에, 피처리물 지지선반에 판형 피처리물을 적재한 랙이 통과할 수 있는 연통구가 형성되며, 연통구는 자유롭게 개폐되도록 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 열처리장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 제1랙 그룹의 랙이 고정되고, 제2랙 그룹의 랙이 상하방향 및 전후방향으로 이동이 자유로운 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 제1랙 그룹의 랙이 상하방향으로 이동이 자유롭고, 제2랙 그룹의 랙이 전후방향으로 이동이 자유로운 것을 특징으로 하는 열처리장치.
제3항에 있어서, 제2랙 그룹의 랙에 있어서의 피처리물 지지선반의 전후 양단의 핑거에는 각각 판형 피처리물의 전후방향으로의 벗어남을 방지하는 이탈 방지 부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.
제4항에 있어서, 제2랙 그룹의 랙에 있어서의 피처리물 지지선반의 전후 양단의 핑거에는 각각 판형 피처리물의 전후방향으로의 벗어남을 방지하는 이탈 방지 부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.