JPH04279875A - 加熱装置 - Google Patents

加熱装置

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JPH04279875A
JPH04279875A JP3043623A JP4362391A JPH04279875A JP H04279875 A JPH04279875 A JP H04279875A JP 3043623 A JP3043623 A JP 3043623A JP 4362391 A JP4362391 A JP 4362391A JP H04279875 A JPH04279875 A JP H04279875A
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pallet
zone
heated
heating
work
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Toshiji Kajiyama
梶山 利治
Tsutomu Hirata
平田 勉
Tomokazu Adachi
智一 安達
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Espec Corp
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Tabai Espec Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、各種電気、電子装置、
その部品、各種材料等を所定温度にさらしてその耐熱性
等を試験したり、所望の熱処理を加える等のために用い
る加熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、各種物品の耐熱性等について試験
したり、所望の熱処理を加える等のために用いる加熱装
置として、被加熱物を目的の温度にさらす前に、先ず徐
熱し、その後目的の温度にさらし、所定の加熱が終わる
と、徐冷したのち装置外へ搬出する加熱装置が知られて
いる。
【0003】このタイプの装置では、徐熱ゾーン、目的
の温度の恒温ゾーン、徐冷ゾーンが横に順次配置されて
おり、これらゾーン内に、図5に示すように、徐熱用ホ
ットプレート91、恒温加熱用ホットプレート92、徐
冷用ホットプレート93が順次敷設され、これらホット
プレート上を複数の被加熱物wが搬送される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この種の装置
における被加熱物wの搬送は、通常、帯状の搬送装置9
4により一旦持ち上げられたのち前進させられ、その後
ホットプレート上に再び載置されるという手順で行われ
る。このため、物品wの搬送にあたり、物品wが一旦ホ
ットプレートから離れることになり、物品を加熱したい
徐熱ゾーンや恒温ゾーンでそれだけ物品wの温度低下を
招くことになる。
【0005】また、ホットプレートを横に敷設するため
物品搬送距離が長くなり、装置設置面積が大きくなると
いう問題がある。さらに、ホットプレートを用いている
ので、ホットプレート表面温度がそのまま被加熱物温度
のばらつきになり、ベーキング処理等の熱処理を行う場
合、製品の歩どまりが悪くなるという問題がある。
【0006】そこで本発明は、複数の被加熱物を順次所
望温度にさらして安定した加熱を行うことができ、全体
がコンパクトにまとまっていて設置面積が少なく済む加
熱装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的に従い
、下から上へ順次配置された徐熱ゾーン、恒温ゾーン及
び徐冷ゾーンを有する加熱槽と、前記ゾーンに積み重ね
配置できる被加熱物支持パレットと、前記徐熱ゾーンに
対し設けた加熱槽の第1の入口から該徐熱ゾーン内の空
いたパレットに被加熱物を搬入する手段と、被加熱物を
搬入されたパレットを該パレットより上方のパレットに
重ねつつ該上方のパレットと共に順次上方へ持ち上げる
手段と、前記徐冷ゾーンに対し設けた加熱槽の出口から
該徐冷ゾーン内の徐冷済物を支持するパレットを取り出
し、前記徐熱ゾーンに対し設けた加熱槽の第2の入口か
ら該徐熱ゾーン内へ戻すパレット移動手段と、前記パレ
ット移動手段にて前記徐熱ゾーンへ戻されるパレットか
ら徐冷済物を取り出す手段とを備えたことを特徴とする
加熱装置を提供する。
【0008】
【作用】本発明装置によると、加熱槽内の恒温ゾーンは
所望の加熱温度雰囲気に制御され、徐熱ゾーン及び徐冷
ゾーンはそれより低い温度雰囲気に制御される。被加熱
物は先ず搬入手段により徐熱ゾーンの空きパレットに搬
入される。被加熱物を上面に又は上方に搬入されたパレ
ットは加熱槽内で、それより上方のパレット下に重ねら
れつつ、該搬入被加熱物及び該上方のパレットと共に順
次持ち上げられる。
【0009】このようにして、被加熱物が搬入される毎
にパレットが徐熱ゾーンから恒温ゾーンへさらに徐冷ゾ
ーンへ持ち上げられ、その間に被加熱物は徐熱され、次
いで目的温度にさらされ、その後、徐冷される。徐冷ゾ
ーン内の徐冷済物を支持するパレットはそのゾーンから
取り出され、該徐冷済物を降ろされたのち、再び徐熱ゾ
ーンへ戻され、被加熱物の搬入を待つ。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明の一実施例の全体の断面を、図2は
図1のX−X線に沿う加熱槽の断面を示しており、図3
はパレット及び該パレットの搬入装置、移動装置等の相
対的位置関係を示しており、図4はパレット脚部を示し
ている。
【0011】この加熱装置は液晶ディスプレイ装置のガ
ラス基板を焼成(ベーキング)処理する等に採用できる
ものであり、ガラス基板Wを支持するための複数のパレ
ット6を含んでいる。さらにこの装置は、加熱槽1、加
熱槽内のパレット6を順次上方へ持ち上げる持ち上げ装
置2、加熱槽内へガラス基板Wを搬入する搬入装置3、
加熱槽からパレット6を取り出し、再びこれを加熱槽へ
戻すパレット移動装置4及びベーキング処理を終了した
ガラス基板Wをパレット6から降ろして搬出する装置5
を含んでいる。
【0012】加熱槽1はその内部に下から上へ向け順次
徐熱ゾーン11、恒温ゾーン12及び徐冷ゾーン13を
備えており、これら3つのゾーン相互には仕切りはない
。図1及び図2から分かるように、これら3つのゾーン
はその一側が加熱槽1内に設けた仕切り板14により、
他側が加熱槽の側壁15により、背面が加熱槽内に設け
た仕切り板16によってそれぞれ仕切られており、前面
側は開閉可能な扉17の内面に設けたダクト18によっ
て仕切られている。
【0013】槽1内の仕切り板14及び16は相互に連
通しており、これら仕切り板とこれに隣る槽側壁19及
び背面壁20との間には空間部が形成されている。この
空間部は上下の仕切り板120a、120bによってゾ
ーン11、12、13にそれぞれ対応する三つの小空間
部P、Q、Rに分けられている。いま恒温ゾーン12を
例にとって説明すると、図2に示すように、前記空間部
Qのうち仕切り板14と槽側壁19との間には空気循環
用ファン121が配置され、モータ122により回転駆
動されるようになっている。また空間部Qのうち背面仕
切り板16と背面壁20との間にはヒータ123が配置
され、仕切り板16にはエアフィルタ124が取り付け
られている。
【0014】モータ122によりファン121を回すと
、空気は該ファンからヒータ123に流れ、ここで加熱
されてフィルタ124を通り恒温ゾーン12へ流入し、
該恒温ゾーンから扉内面のダクト18を通って再びファ
ン121へ戻るように循環する。なお、図面には示して
いないがダクト18には空気が流通する多数の開孔を設
けてある。
【0015】本例ではこの熱風空気の循環により恒温槽
12が約120℃の雰囲気にされる。同様に、徐熱ゾー
ン11においては、仕切り板14と槽側壁19との間に
配置されたファン111がモータ112により運転され
、それによって空気が背面仕切り板16後方の図示しな
いヒータに触れて熱せられたのちエアフィルタ114を
通って徐熱ゾーンに流入し、さらに扉17内側のダクト
18を通って再びファン111へ循環する。本例ではこ
れによって徐熱ゾーン18が約80℃の雰囲気とされる
【0016】同様に、徐冷ゾーン13においては、仕切
り板14と槽側壁19との間に配置されたファン131
がモータ132により運転され、それによって空気が背
面仕切り板16後方の図示しないヒータに触れて熱せら
れたのちエアフィルタ134を通って徐冷ゾーン13に
流入し、さらに扉17内側のダクト18を通って再びフ
ァン131へ循環する。本例ではこれによって徐冷ゾー
ン13が約80℃の雰囲気とされる。
【0017】なお、加熱槽1の一側壁19にはガラス基
板Wを搬入するための入口Aが、他側壁15にはパレッ
ト6を取り出すための出口B及びパレット6を搬入する
ための入口Cがそれぞれ設けられている。入口AとCは
それぞれ徐熱ゾーン11に臨んでおり、互いに対向する
位置関係にある。又、パレット取り出し口Bは徐冷ゾー
ン13に臨んでいる。
【0018】パレット6は図3及び図4から分かるよう
に、底板61とその周縁部から立ち上がる周側壁60を
備えており、全体がほぼ四角形状に形成されている。底
板61にはガラス基板Wの支持域の外側において四本の
脚部62が下方へ向け突設してある。各脚部62はその
上端が凹所621に形成されており、該凹所の底は円錐
面に形成されている。脚部62の下端622は円錐形状
に形成されている。上下に隣るパレット6、6は上側の
パレット6における各脚部62が下側のパレット6にお
ける脚部の上端凹所621に嵌まることにより、それら
上下に隣り合うパレットが相互に位置決めされ、且つ、
上下に重ねられるようになっている。
【0019】また、パレット6はその左右端部のそれぞ
れに3つの搬送ローラ突出孔63を有している。いま図
1に示す状態では、徐熱ゾーン11、恒温ゾーン12、
徐冷ゾーン13の3つのゾーンにわたってガラス基板W
を支持したパレット6が上下方向に積み重ね配置されて
おり、さらにその下方に空きパレット6(以下「6a」
で示す)が配置されている。
【0020】積み重ねられたパレット6群の最下段パレ
ットの四隅のそれぞれに対し支持ロッド23が配置され
ており、この支持ロッドによりパレット6群が前記ゾー
ンに支持されている。各支持ロッド23は図3から分か
るように、上端に水平屈曲部231を有しており、加熱
槽1の底部に設けたロッド駆動部24によりロッドが回
されることでこの水平屈曲部231が最下段のパレット
6を支持する位置と、その位置から外れた位置とを択一
的に採ることができる。
【0021】空きパレット6aは昇降台21の上に載置
されており、加熱槽底部に設けた駆動部22によってこ
の昇降台21が上昇することで該パレット6aを上方へ
持ち上げることができる。図1及び図3から分かるよう
に、昇降台21の両側(奥側及び手前側)にはガラス基
板Wの搬入ローラ32が二列に配置されており、各ロー
ラ32はパレット6(6a)の底板に設けたローラ突出
孔63から若干上方へ突出し、回転可能となっている。
【0022】なお、前記昇降台21及びパレット支持ロ
ッド23はパレット持ち上げ装置2を構成している。ガ
ラス基板Wの搬入装置3は図1及び図3から分かるよう
に、加熱装置1外から加熱槽の入口Aを通って前記ロー
ラ32に向け二列に配置されたローラ31と前記ローラ
32とからなっている。これらローラは図示しない駆動
手段により図1中、時計方向に回転駆動される。
【0023】パレット6を加熱槽1から取り出し、再び
該槽へ戻す移動装置4は図1及び図3から分かるように
、図示しない駆動手段により上下方向に駆動される昇降
台41と、図示しない駆動手段により該台41上をガラ
ス基板Wの搬入方向と同方向に往復動できるパレット掬
い部材42とを備えている。前記移動装置4により加熱
槽1から取り出されたパレットから熱処理済みのガラス
基板Wを降ろして搬出する装置5は、図1及び図3から
分かるように、加熱槽1の入口Cに臨む部分から二列に
配置されたローラ51からなっており、これらローラ5
1は図示しない駆動手段により図1中、時計方向に回転
駆動される。
【0024】移動装置4は図1に実線で示す位置におい
てその掬い部材42を加熱槽のパレット出口Bを通して
徐冷ゾーンの最上段パレット6の下に差し込み、しかる
のち昇降台41を若干上昇させることで該パレットを掬
い上げることができる。そのあと、掬い部材42を槽外
へ引き出すことによりパレット6を外へ取り出すことが
できる。そのようにパレット6を外部へ取り出したのち
は昇降台41を図1に二点鎖線で示す位置まで下降させ
、該パレットのローラ突出孔63からローラ51が上方
へ突出するように配置し、それによって該パレット6上
に支持されていた徐冷済ガラス基板Wをローラ51の上
に乗せ、該ローラ51の運転によって基板Wを搬出する
ことができる。
【0025】基板Wの搬出後は昇降台41を若干上昇さ
せ、それによってパレット6をローラ51から外したの
ち掬い部材42をパレットと共に加熱槽1の入口Cから
徐熱ゾーン11内へ差し込み、その後、昇降台41を再
び若干下降させることにより該空きパレット6を図1に
示すように槽内の昇降台21上に載置することができる
。その後は掬い部材42を外側へ引き出し、昇降台41
を上昇させて再び徐冷ゾーンからパレットを取り出せる
位置に配置する。
【0026】以上説明した加熱装置によると、ガラス基
板Wは搬入装置3によって加熱槽1の入口Aから徐熱ゾ
ーン11へ送り込まれ、ローラ32上に達し、徐熱ゾー
ン11底部に配置された昇降台21上の空きパレット6
a上方に配置される。その後、昇降台21が上昇するこ
とによりパレット6aが上昇し、その途中ローラ32上
のガラス基板Wをパレット6a上に支持してさらに上昇
し、上方パレット群の最下段パレットの脚部62に当接
するように上方パレット群に重なる。さらにその後、上
方パレット群と共に若干持ち上げられる。これによって
上方パレット群が支持ロッド23より若干離間すると、
昇降台21をその位置に止めたままパレット群支持ロッ
ド23を回動させて該ロッドの水平屈曲部231をパレ
ットから外側へ回動させる。さらにその後、昇降台21
を上昇させ、パレット6aの底板下面が支持ロッドの水
平屈曲部231より上方に位置するまで全体を上昇させ
る。しかるのち支持ロッド23を回動させてその水平屈
曲部231をパレット6aを含むパレット群の下に回動
させ、そのあと昇降台21を空きパレットを受け取る当
初の位置まで下降させる。
【0027】このようにしてガラス基板Wを支持するパ
レット6が下方から順次上方へ持ち上げられ、所定の時
間をかけて徐熱ゾーン、恒温ゾーン、徐冷ゾーンと進め
られる。ガラス基板Wは徐熱ゾーンにおいて目的温度に
さらされるに先立って予熱され、恒温ゾーンで目的の温
度にさらされ、徐冷ゾーンで急激な冷却を避けるように
徐冷され、しかるのち前述のとおり移動装置4の掬い部
材42によってパレットごと加熱槽1外へ搬出される。 加熱槽1外へ搬出されたパレット6は移動装置の昇降台
41の下降により加熱槽1の入口Cに臨む位置に配置さ
れ、且つ、ここで該パレット6上の徐冷済ガラス基板W
がローラ51に支持されて搬出される。徐冷済ガラス基
板を取り除かれたパレット6は移動装置4により加熱槽
入口Cから徐冷ゾーンに戻され、昇降台21上に配置さ
れ、次のガラス基板の搬入を待つことになる。
【0028】以上説明した加熱装置によると、徐熱、恒
温及び徐冷ゾーンが上下方向に配置されているので、全
体がそれだけコンパクトになり、装置設置面積がそれだ
け少なく済む利点がある。又、ガラス基板Wは徐熱ゾー
ン、恒温ゾーン及び徐冷ゾーンと順次進められ、その間
、所定の温度雰囲気に常時さらされるので、安定した熱
処理を行うことができる利点がある。さらに、前記装置
によると、各ゾーンにおいてその温度の制御及び風速の
制御がヒータ出力の制御及びファンの回転速度制御等に
より容易に行えるので、ガラス基板Wへの熱ストレスを
できるだけ少なくして所望の熱処理を行える利点がある
【0029】さらに前記実施例によると、各ゾーンに吹
き出す熱風はエアフィルタを通るから、ガラス基板Wの
汚染がそれだけ少なく済むという利点もある。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、複
数の被加熱物を順次、徐熱後、所望温度にさらし、さら
に徐冷するようにして、ばらつき無く、又は少なく安定
して加熱することができ、しかも全体がコンパクトにま
とまっていて設置面積が少なく済む加熱装置を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の断面図である。
【図2】図1のX−X線に沿う加熱槽の断面図である。
【図3】パレット、搬入装置、パレット持ち上げ装置、
パレット移動装置等の相対的位置関係を示す平面図であ
る。
【図4】パレット脚部の説明図である。
【図5】従来例の説明図である。
【符号の説明】
1  加熱槽 A  被加熱物入口 B  パレット出口 C  パレット入口 11  徐熱ゾーン 12  恒温ゾーン 13  徐冷ゾーン 2  持ち上げ装置 3  搬入装置 4  移動装置 5  取り出し装置 6、6a  パレット W  ガラス基板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  下から上へ順次配置された徐熱ゾーン
    、恒温ゾーン及び徐冷ゾーンを有する加熱槽と、前記ゾ
    ーンに積み重ね配置できる被加熱物支持パレットと、前
    記徐熱ゾーンに対し設けた加熱槽の第1の入口から該徐
    熱ゾーン内の空いたパレットに被加熱物を搬入する手段
    と、被加熱物を搬入されたパレットを該パレットより上
    方のパレットに重ねつつ該上方のパレットと共に順次上
    方へ持ち上げる手段と、前記徐冷ゾーンに対し設けた加
    熱槽の出口から該徐冷ゾーン内の徐冷済物を支持するパ
    レットを取り出し、前記徐熱ゾーンに対し設けた加熱槽
    の第2の入口から該徐熱ゾーン内へ戻すパレット移動手
    段と、前記パレット移動手段にて前記徐熱ゾーンへ戻さ
    れるパレットから徐冷済物を取り出す手段とを備えたこ
    とを特徴とする加熱装置。
JP3043623A 1991-03-08 1991-03-08 加熱装置 Expired - Lifetime JPH0752068B2 (ja)

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JP3043623A JPH0752068B2 (ja) 1991-03-08 1991-03-08 加熱装置

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JP3043623A JPH0752068B2 (ja) 1991-03-08 1991-03-08 加熱装置

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JPH04279875A true JPH04279875A (ja) 1992-10-05
JPH0752068B2 JPH0752068B2 (ja) 1995-06-05

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JP3043623A Expired - Lifetime JPH0752068B2 (ja) 1991-03-08 1991-03-08 加熱装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003148872A (ja) * 2001-08-28 2003-05-21 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd オーブンシステム
JP2004211948A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Showa Shinku:Kk アニール処理、装置及びシステム
KR100442018B1 (ko) * 1996-03-25 2004-11-10 고요 써모시스템 주식회사 열처리장치

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JP2003148872A (ja) * 2001-08-28 2003-05-21 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd オーブンシステム
JP2004211948A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Showa Shinku:Kk アニール処理、装置及びシステム

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