JP2639375B2 - 連続熱処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶ディスプレ
イ用ガラス基板，電子装置，部品，材料等に連続的な熱
処理を施す連続熱処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶ディスプレイ用ガラス基板を
連続的に熱処理する連続処理装置は図５に示すように、
乾燥炉１内で基板２を縦方向に搬送する上昇用搬送機構
３０及び下降用搬送機構３１と、上昇用搬送機構３０か
ら下降用搬送機構３１に基板２を移載するトラバース機
構１１と、乾燥炉１の外部からガラス基板２を上昇側搬
送機構３０に供給する基板搬入部３０ａと、下降側搬送
機構３１から基板２を取り出す基板搬出部３１ａを有し
ており（特公昭６３−５２３０７号参照）、基板２を高
温度に保たれた乾燥炉１内で、上方への搬送，横方向へ
の移載，下方への搬送を行う間に熱処理を行うのが一般
であった。

【０００３】また、カラー液晶ディスプレイ用ガラス基
板を連続的に熱処理を施す装置は図６，図７に示すよう
に、搬入口と搬出口を備えた乾燥炉１と、乾燥炉１の搬
入口から搬出口へ基板２を搬送する移動ビーム３２及び
固定ビーム３３と、搬入口側で基板を積載したカセット
を保持している搬入側カセットプラットホーム３４と、
カセットから基板を取り出して移動ビーム３２上に移載
する搬入側フォーク３６と、乾燥炉１の搬出側に搬送さ
れた基板２の位置決め補正を行う位置補正部４１と、位
置補正部４１より基板２を取り出してカセットに供給す
る搬出側フォーク３７と、熱処理が終了した基板２を収
納するカセットを保持する搬出側カセットプラットフォ
ーム３５とを有しており、省スペースを実現するために
複数組の移動ビーム３２と固定ビーム３３で多くの基板
２の搬送を行うようになっている。このものは、横長の
乾燥炉１内で移動ビーム３２が固定ビーム３３上の基板
を受取１ピッチ分前進し、移動ビーム３２は下降し、基
板２を固定ビーム３３上に載せた後、所定ピッチ分後退
する動作を乾燥炉１内で繰返し、乾燥炉１内に基板２を
搬送しつつ熱処理を行うようにしていた。

【０００４】また、カラー液晶ディスプレイ用ガラス基
板を連続的に熱処理する連続熱処理装置は図８に示すよ
うに、徐熱ゾーン，恒温ゾーン，徐冷ゾーンを有する乾
燥炉１と、４本の脚を有して基板２を載せるパレット４
０と、基板を移載されたパレットを最下段に供給し、多
段に重ねられたパレットを１パレット分上方に持ち上げ
るエレベータ３８と、多段に積み重ねられたパレットの
最上段のパレットを取り出して下降するパレット移載部
３９と、パレット４０と基板２とを分離した後に空のパ
レットをエレベータ３８に供給し、基板を搬出する移載
部４１とを有しており（特開平４−２７９８７５号）、
基板を積載したパレットが乾燥炉内を下方から上方へ搬
送され、その間に徐熱ゾーン，恒温ゾーン，徐冷ゾーン
を通過し、熱処理を施させるようになっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図５，図６，図７に示
した従来の連続熱処理装置では、基板を枚葉にて処理し
ようとする場合、乾燥炉内で１枚ずつ搬送する機構が必
要である。そのような搬送機構を実現するために、ピッ
チ搬送方式が採用される場合が多い。このピッチ搬送方
式は、１回の動作で生じる搬送誤差が、動作の繰り返し
により、累積し拡大する特性を有しているため、１回の
ピッチ搬送動作は高精度で行われる必要がある。しかし
乾燥炉内は高温度１００〜３００℃に保持しなければな
らず、高精度な搬送機構を確立することは、極めて困難
なのが現実である。

【０００６】また図５，図６，図７に示す基板に直接接
触して搬送する装置では、基板と搬送機構部との接触時
に基板にキズ，接触痕等を与えてしまう可能性が高く、
このことは清浄度の高い熱処理を施す必要がある基板に
おいて発塵という問題を引き起こしてしまう。

【０００７】また図８に示すような基板をパレットで搬
送する機構の装置では、パレット同士が接触を繰り返し
たり、パレット内の負荷が変動し、滑りを生じたりして
パレットより塵埃が生じ、パレットそのものが発塵源と
なってしまうことがあった。一方、パレットは、熱処理
時間に比例して、炉内の枚数を増やさなければならず、
炉内におけるパレットの枚数が増えるということは、上
述したようにパレットが発塵源であることを考えると、
高清浄度を必要とする基板の熱処理には適した構造では
ない。

【０００８】本発明の目的は、基板の高清浄度な熱処理
を可能にした連続熱処理装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る連続熱処理装置は、乾燥炉と、カセッ
トと、上昇側テーブル及び下降側テーブルと、トラバー
サーと、上昇側エレベータと、下降側エレベータとを有
する連続熱処理装置であって、乾燥炉は、基板の搬入口
と搬出口とを有し、基板を熱処理する雰囲気を内部に備
えたものであり、カセットは、前記乾燥炉内で熱処理さ
れる基板を複数収容するものであり、上昇側テーブル及
び下降側テーブルは、前記乾燥炉内に収容された前記カ
セットを上下に積み重ねて保持するものであり、トラバ
ーサーは、前記上昇側テーブル上に保持された最上段の
カセットを前記下降側テーブル上の最上段のカセットに
積み重ねて移載するものであり、上昇側エレベータは、
基板が収納されたカセットを前記上昇側テーブル側に押
し上げて、該カセット上に前記上昇側テーブル上の最下
段のカセットを受け入れて新たなカセットを追加し、新
たに追加したカセットを前記上昇側テーブルの高さ位置
まで上昇させ、新たに追加したカセットを最下段のカセ
ットとして前記上昇側テーブルに支持させるものであ
り、下降側エレベータは、前記下降側テーブル上の最下
段のカセットを受け入れ、該カセットを下降させて前記
下降側テーブルから引き抜くものである。

【００１０】また移載ロボットを有し、該移載ロボット
は、前記乾燥炉の基板搬入口側と基板搬出口側とに設置
され、基板搬入口側の移載ロボットは、基板を１枚ずつ
前記カセット内に繰り入れるものであり、基板搬出口側
の移載ロボットは、基板を１枚ずつ前記カセットから繰
り出すものである。

【００１１】また空カセット移載機を有し、該空カセッ
ト移載機は、前記下降側エレベータ上の空カセットを前
記上昇側エレベータ上に移載するものである。

【００１２】また予備乾燥炉を有し、該予備乾燥炉は、
前記乾燥炉内とは異なる雰囲気を有し、前記乾燥炉の基
板搬入口側に設置されたものである。

【００１３】また予備乾燥炉を有し、該予備乾燥炉は、
前記乾燥炉内とは異なる雰囲気を有し、前記乾燥炉の基
板搬出口側に設置されたものである。

【００１４】

【作用】熱処理対象の基板をカセット内に複数収容し
て、炉内での基板の処理枚数を増やす。さらにカセット
は上下に積み重ね、それに１個ずつカセットを追加して
上方に押し上げることにより、カセット１個分ずつカセ
ットを移動させて所定高さ位置まで搬送する。一方、上
下に積み重ねたカセット群から１個ずつカセットを引き
抜くことにより、カセットを下方に移動させて搬送す
る。この構成により、発塵源を極力減らして乾燥炉内を
高清浄度に保つ。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の実施例を図により説明する。

【００１６】（実施例１）図１は、本発明の実施例１を
示す構成図である。

【００１７】図において本発明に係る連続熱処理装置は
基本的構成として、乾燥炉１と、カセット３と、上昇側
テーブル６及び下降側テーブル１０と、トラバーサー１
１と、上昇側エレベータ５と、下降側エレベータ８とを
有するものである。

【００１８】各構成の機能について説明すると、乾燥炉
１は、基板２の搬入口４２と搬出口４３とを有し、基板
２を熱処理する雰囲気を内部に備えたものであり、カセ
ット３は、乾燥炉１内で熱処理される基板２を複数収容
するようになっている。

【００１９】また上昇側テーブル６及び下降側テーブル
８は、乾燥炉１内に収容されたカセット３を上下に積み
重ねて保持するものであり、トラバーサー１１は、上昇
側テーブル６上に保持された最上段のカセット３ａを下
降側テーブル１０上の最上段３ｂのカセットに積み重ね
て移載するようになっている。

【００２０】また上昇側エレベータ５は、基板が収納さ
れたカセット３ｃを上昇側テーブル６側に押し上げ、カ
セット３ｃ上に上昇側テーブル６上の最下段のカセット
３ｄを受け入れて新たなカセット３ｃを追加し、新たに
追加したカセット３ｃを上昇側テーブル６の高さ位置ま
で上昇させ、新たに追加したカセット３ｃを最下段のカ
セットとして上昇側テーブル６に支持させるようになっ
ている。一方、下降側エレベータ８は、下降側テーブル
１０上の最下段のカセット３ｅを受け入れ、カセット３
ｅを下降させて下降側テーブル１０から引き抜くように
なっている。

【００２１】次に本発明に係る連続熱処理装置の具体例
について説明する。図１において、乾燥炉１は、対向す
る側壁の下部側に基板搬入口４２と基板搬出口４３とが
設けられ、内部が基板２の熱処理に最適な雰囲気になっ
ている。

【００２２】また乾燥炉１内の対向する側壁には、上昇
側テーブル６と下降側テーブル１０とが設置されてい
る。上昇側テーブル６と下降側テーブル１０とは、基板
搬入口４２と基板搬出口４３の位置より若干高い位置に
設置され、各テーブル６，１０は、左右に開閉する２本
の腕６ａ，６ａ，１０ａ，１０ａを有し、開いた状態の
２本の腕６ａ，６ａ，１０ａ，１０ａ間をカセット３が
上方又は下方に擦り抜けることが可能であり、閉じた２
本の腕６ａ，６ａ，１０ａ，１０ａでカセット３の底部
を支えるようになっている。

【００２３】一方、カセット３は図２に示すように、上
下に積み重ねられたカセット３間に２本の腕６ａ，６
ａ，１０ａ，１０ａを差し込み可能にするため、カセッ
ト３の底部に突起物３ｆが下方に突き出て設けられてお
り、また内部の対向する内側壁には、基板２の対向縁を
受け入れる溝が設けられ、この溝により基板２を上下に
複数受け入れて収容するようになっている。

【００２４】また上昇側テーブル６の下方には上昇側エ
レベータ５が昇降可能に設けられ、下降側テーブル１０
の下方には下降側エレベータ８が昇降可能に設けられて
いる。各エレベータ５，８は、サセプタ５ａ，８ａでカ
セット３の底面を支えてカセット３を昇降させるように
なっている。

【００２５】また移載ロボット４，７を有しており、移
載ロボット４，７は、乾燥炉１の基板搬入口４２側と基
板搬出口４３側とに設置され、基板搬入口４２側の移載
ロボット４は、基板２を１枚ずつ吸着してカセット３ｃ
内に繰り入れるものであり、基板搬出口４３側の移載ロ
ボット７は、基板２を１枚ずつ吸着してカセット３ｅか
ら繰り出すようになっている。

【００２６】また空カセット移載機９を有しており、空
カセット移載機９は、下降側エレベータ８上の空カセッ
ト３ｇを上昇側エレベータ５上に移載するようになって
いる。

【００２７】実施例において、上昇側エレベータ５上に
空のカセット３ｃが設置されている状態からの動作につ
いて説明する。移載ロボット４は、乾燥炉１の基板搬入
口４２側に搬送された基板２を真空吸着等の固定方式に
より把持し、これを基板搬入口４２から乾燥炉１内に挿
入し、空のカセット３ｃ内に差し込む。この基板２は、
対向縁がカセット３ｃの溝に受け入れられてカセット３
ｃ内に収容される。上昇側エレベータ５は、基板２がカ
セット３ｃ内に差し込まれる毎にカセット３ｃの溝のピ
ッチ分だけカセット３ｃを上昇させる。

【００２８】次に移載ロボット４が２枚目の基板２を吸
着して同様な動作によりカセット３ｃ内に差し込む。以
下の動作を繰り返して行い、カセット３ｃ内に複数の基
板２を上下に配置して収容する（図３（ａ），
（ｂ））。

【００２９】カセット３ｃ内が基板２で満杯になったと
きに、移載ロボット４による基板２のカセット３ｃ内へ
の移載が停止される。この停止動作に伴って上昇側エレ
ベータ５が起動し、カセット３ｃを上方に押し上げ、カ
セット３ｃの上面に、テーブル６上の積層された最下段
のカセット３ｄを支える。この動作が完了すると、上昇
側テーブル６の２本の腕６ａ，６ａが左右に開き、最下
段カセット３ｄの保持が開放される。このとき、積層し
たカセット群３ａ，３，３ｄ，３ｃは上昇側エレベータ
５に一時的に支えられ、２本の腕６ａ，６ａが開いた
後、上昇側エレベータ５は積層カセット群３ａ，３，３
ｄ，３ｃを一時的に保持し、これらを上方に上昇させ、
新たに追加した最下段のカセット３ｃを２本の腕６ａ，
６ａに支えられる高さ位置まで押し上げる。このとき、
２本の腕６ａ，６ａが閉じて最下段のカセット３ｃの底
部にあてがわれ、積層したカセット群３ａ，３，３ｄ，
３ｃは上昇側テーブル６に保持される。このように新た
なカセット３ｃが追加される毎に、各段のカセット３
ａ，３，３ｄは１個のカセット分の高さだけ上方に押し
上げられ、結果として上方に搬送されることとなる（図
３（ｂ），（ｃ））。

【００３０】新たなカセット３ｃが追加されて最上段の
カセット３ａがトラバーサー１１に把持される高さ位置
まで押し上げられて搬送されると、トラバーサー１１が
起動して最上段のカセット３ａを把持し、これを横移動
させて下降側テーブル１０に保持されて積層した最上段
のカセット３ｂ上に載置される。この場合、下降側テー
ブル１０上の最上段にトラバーサー１１からのカセット
３ａを受け入れるように１個分のスペースを確保するよ
うにしている（図３（ｂ），（ｃ））

【００３１】トラバーサー１１からカセット３ａが移載
されると、下降側エレベータ８が下降側テーブル１０上
の最下段のカセット３ｅの底部を支える高さ位置まで上
昇し、下降側エレベータ８は、最下段のカセット３ｅを
一時保持する高さ位置に停止する。この状態で下降側テ
ーブル１０の２本の腕１０ａ，１０ａが左右に開き、カ
セット３ｅから開放される。このとき、下降側エレベー
タ８は、下降を開始し、２本の腕１０ａ，１０ａ間にカ
セット３ｅを擦り抜けさせて下降し、下方に移動する。
これにより下降側テーブル１０上のカセット群３ｂ，３
はそれぞれカセット１個分だけ下方に搬送される。

【００３２】下降側テーブル１０上の最下段のカセット
３ｅが下降側エレベータ８により下降されると、２本の
腕１０ａ，１０ａが閉じ、新たに最下段に搬送されたカ
セットの底面に２本の腕１０ａ，１０ｂがあてがわれ、
積層したカセット群３ｂ，３，３ｅは下降側テーブル１
０上に保持される。

【００３３】下降側エレベータ８により下降側テーブル
１０から引き抜かれたカセットは基板搬出口４３内に臨
み、移載ロボット７により１枚ずつ基板２が乾燥炉１に
搬出される。

【００３４】基板が取り出されて空になったカセット３
ｇは、空カセット移載機５により下降側エレベータ８か
ら取り外されて上昇側エレベータ５上に移し替えられる
（図３（ｃ））。

【００３５】以上の動作はコンピュータ制御されて行わ
れ、基板の熱処理が乾燥炉１内で迅速に行われる。

【００３６】以上のように本実施例によれば、カセット
内に基板を複数収納して基板の搬送を行うため、乾燥炉
内での処理枚数を増やすことができる。

【００３７】さらにカセットの搬送は、複数のカセット
を積層して、これらを上方に押し上げる又は下方に押し
下げることにより行われるため、搬送機構を簡素化する
ことができ、さらに搬送時にカセットと搬送系とが擦れ
合うことがなく、搬送系の動作で生じる発塵を極力抑え
ることができる。

【００３８】さらに搬送動作で基板に直接触れるのは、
カセットへの出入時だけであるため、基板への損傷を極
力避けることができるという利点がある。

【００３９】（実施例２）図４は、本発明の実施例２を
示す構成図である。

【００４０】本実施例では、図１に示した実施例１の乾
燥炉１の基板搬入口４２と基板搬出口４３とを拡大して
シャッタ２１，２２を設け、シャッタ２１，２２を介し
て、乾燥炉１内の雰囲気とは異なる雰囲気をもつ乾燥炉
１４，１５を乾燥炉１に接続して設け、かつ乾燥炉１
４，１５にシャッタ２２，２３を設け、乾燥炉１４にカ
セットを搬入するためのローダー１６と、乾燥炉１５か
らカセットを搬出するためのアンローダー１７とを設置
し、カセット単位で基板を乾燥炉１の基板搬入口４２，
基板搬出口４３から搬出入させ、また乾燥炉１４，１５
を予備乾燥炉として使用するようにしたものである。

【００４１】基板２はローダー１６上でカセット３内に
収納される。ローダー１６はコンベア部を有し、外部よ
り基板を受け取ってカセット３内に搬送する。

【００４２】カセット移載機１８は、ローダー１６上で
基板が満杯となったカセットをシャッタ２０が開いた乾
燥炉１４内に搬送し、シャッタ２０，２１を閉じて一定
時間経過後、乾燥炉１４内のカセットをカセット移載機
１８により乾燥炉１内のエレベータ５上に載せる。シャ
ッタ２０とシャッタ２１は、カセット移載機１８が経過
する毎に開閉動作を行う。

【００４３】エレベータ５は、カセット移載機１８によ
り供給されたカセットをテーブル６上の最下段のカセッ
トとして追加するため上昇する。テーブル６は新たに追
加されたカセットの底部を支える。

【００４４】トラバーサー１１は、上昇側テーブル６上
のカセット群の最上段のカセット３ａを下降側テーブル
１０上のカセット３ｂ上に移載を行うための動作を行
う。テーブル１０は下降側カセット群を支えるととも
に、エレベータ８が上昇して最下段のカセットを受け取
るために２本の腕１０ａ，１０ａを開閉させる。エレベ
ータ８はテーブル１０よりカセットを受け取るために上
下動を行う。カセット移載機１８はエレベータ８よりカ
セットを受け取り、乾燥炉１５内で一定時間停止した
後、アンローダー１７上にカセットを載せる。シャッタ
２２，シャッタ２３はカセット移載機１９の通過に連動
して開閉動作を行う。アンローダー１７はカセットの下
段より基板を払出すためにコンベア部を有しており、ま
た基板を１枚ずつ出す毎にカセットを１ピッチずつ下降
させる動作も行う。空カセット移載機２４はアンローダ
ー１７上で基板の払出しを終えた空カセットを取り出
す。この取り出された空カセットはローダー１６上に供
給される。

【００４５】乾燥炉１は、内部を一定温度に保つことが
できる。乾燥炉１４，乾燥炉１５も同様に、内部を一定
温度に保つことができるが、乾燥炉１とは異なる温度に
も対応できる。基板を約２００℃以上の高温で熱処理を
行う場合、約２００℃以上に保たれている雰囲気に基板
を投入する前に、乾燥炉１４の内部を約１００℃で保持
し、一旦そこに基板を放置することにより基板の温度を
徐々に上げることができる（徐熱ゾーン）。また、乾燥
炉１５の内部も約１００℃に設定し、これを徐冷ゾーン
とすることで、基板の温度を徐々に下げることができ
る。急熱・急冷により基板が受けるダメージが懸念され
る場合に、この徐熱ゾーン及び徐冷ゾーンを設けること
で、基板の効果的な熱処理が可能である。また実施例１
で示した搬送方式をほぼ乾燥炉１内に所有しているため
に、実施例１に示したメリットを生かすことがでる。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、基板をカ
セットに収納して乾燥炉内を搬送することにより熱処理
を行うため、搬送機構の簡素化を実現できる。また基板
が乾燥炉内に搬入されて搬出される間での間の搬送動作
回数についても、極力低減することができる。さらに、
縦型搬送方式は、乾燥炉の小型化を可能とする機構であ
り、ひいては装置全体の省スペースを図ることができ
る。

【００４７】次に本発明と、乾燥炉内で基板を１枚ずつ
搬送する従来技術との比較を以下に示す。前工程から基
板が１分間隔で１枚ずつ供給され、基板１枚当りの熱処
理時間が７０分間必要な場合を例にとる。この場合、従
来技術，本発明の両者とも乾燥炉内に７０枚の基板を収
容することとなる。基板を１枚ずつ搬送する場合、１枚
の基板が乾燥炉内に供給されてから搬出されるまでの間
に搬送動作は１分毎に計７０回行われるが、本発明では
１０枚の基板をまとめて収納できるカセットを使用する
ことにより、乾燥炉内の搬送動作は１０分（１つのカセ
ットが基板で満杯になるに要する時間）の間隔で計７回
に低減することができる。このような搬送機構の簡素
化，搬送動作回数の低減、さらに基板に直接接触しない
機構を採用したことにより、装置内に存在する発塵源を
大幅に削減できる。これにより、基板を塵埃による汚染
から守り、良好な熱処理を施すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１を示す構成図である。

【図２】本発明において使用するカセットを示す斜視図
である。

【図３】本発明の実施例１の動作を示す構成図である。

【図４】本発明の実施例２を示す構成図である。

【図５】従来例を示す構成図である。

【図６】従来例を示す構成図である。

【図７】従来例を示す構成図である。

【図８】従来例を示す構成図である。

【符号の説明】

１ 乾燥炉 ２ 基板 ３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ カセット ４ 移載ロボット ５ 上昇側エレベータ ６ 上昇側テーブル ７ 移載ロボット ８ 下降側エレベータ ９ 空カセット移載機 １０ 下降側テーブル １１ トラバーサー １４ 乾燥炉 １５ 乾燥炉 １６ ローダー １７ アンローダー １８ カセット移載機 １９ カセット移載機 ２０ シャッタ ２１ シャッタ ２２ シャッタ ２３ シャッタ ２４ 空カセット移載機

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 乾燥炉と、カセットと、上昇側テーブル
   及び下降側テーブルと、トラバーサーと、上昇側エレベ
   ータと、下降側エレベータとを有する連続熱処理装置で
   あって、 乾燥炉は、基板の搬入口と搬出口とを有し、基板を熱処
   理する雰囲気を内部に備えたものであり、 カセットは、前記乾燥炉内で熱処理される基板を複数収
   容するものであり、 上昇側テーブル及び下降側テーブルは、前記乾燥炉内に
   収容された前記カセットを上下に積み重ねて保持するも
   のであり、 トラバーサーは、前記上昇側テーブル上に保持された最
   上段のカセットを前記下降側テーブル上の最上段のカセ
   ットに積み重ねて移載するものであり、 上昇側エレベータは、基板が収納されたカセットを前記
   上昇側テーブル側に押し上げて、該カセット上に前記上
   昇側テーブル上の最下段のカセットを受け入れて新たな
   カセットを追加し、新たに追加したカセットを前記上昇
   側テーブルの高さ位置まで上昇させ、新たに追加したカ
   セットを最下段のカセットとして前記上昇側テーブルに
   支持させるものであり、 下降側エレベータは、前記下降側テーブル上の最下段の
   カセットを受け入れ、該カセットを下降させて前記下降
   側テーブルから引き抜くものであることを特徴とする連
   続熱処理装置。
2. 【請求項２】 移載ロボットを有し、 該移載ロボットは、前記乾燥炉の基板搬入口側と基板搬
   出口側とに設置され、基板搬入口側の移載ロボットは、
   基板を１枚ずつ前記カセット内に繰り入れるものであ
   り、 基板搬出口側の移載ロボットは、基板を１枚ずつ前記カ
   セットから繰り出すものであることを特徴とする請求項
   １に記載の連続熱処理装置。
3. 【請求項３】 空カセット移載機を有し、 該空カセット移載機は、前記下降側エレベータ上の空カ
   セットを前記上昇側エレベータ上に移載するものである
   ことを特徴とする請求項１に記載の連続熱処理装置。
4. 【請求項４】 予備乾燥炉を有し、 該予備乾燥炉は、前記乾燥炉内とは異なる雰囲気を有
   し、前記乾燥炉の基板搬入口側に設置されたものである
   ことを特徴とする請求項１に記載の連続熱処理装置。
5. 【請求項５】 予備乾燥炉を有し、 該予備乾燥炉は、前記乾燥炉内とは異なる雰囲気を有
   し、前記乾燥炉の基板搬出口側に設置されたものである
   ことを特徴とする請求項１又は４に記載の連続熱処理装
   置。