JPH0715743U

JPH0715743U - ガラス基板類の連続熱処理装置

Info

Publication number: JPH0715743U
Application number: JP4799593U
Authority: JP
Inventors: 淳雄石井
Original assignee: 株式会社ヤマザキ電機
Priority date: 1993-08-12
Filing date: 1993-08-12
Publication date: 1995-03-17

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】きわめてクリーンな雰囲気にて能率よくガラス
基板類の熱処理や熱加工を行うことができ、短時間で適
切に冷却し、搬出の容易化と熱処理サイクルの能率化を
達成できるガラス基板類の連続熱処理装置を提供する。【構成】左右に入口ａと出口ａ’を有する炉体内に、ガ
ラス基板類を受載したトレイＴを順次上昇積載させる上
昇エレベータ機構と、順次下降させる下降エレベータ機
構を並列状に配置する一方、炉体の上部には、トレイ昇
降切換え機構Ｖを設け、炉体Ａ内にはトレイを入口から
出口方向に搬送する前送用ウオーキングビーム機構Ｃ
を、炉体外にはリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’
を設け、さらに炉体の出口ラインには、ガラス基板類を
分離するトラバース機構Ｊと、ガラス基板類冷却機構Ｋ
と、ガラス基板類引取り移動機構Ｌを設けた。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は主として液晶ディスプレイデバイス用ガラス基板類の連続熱処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及びその技術的課題】

液晶ディスプレイデバイス(ＬＣＤ)の製造工程においては、ガラス基板を洗浄し乾燥したのち、微細高精度な透明電極や対向電極を形成し、そのガラス基板に分子配向層を形成してラビングした後加熱焼成し、次いで２枚のガラス基板の一方にシール剤を塗布し、この基板または他方の基板にスペーサを塗布し、位置合せを行った後加熱焼成して封着することが必要である。このようなガラス基板の熱処理は、一般にトレイ(パレット）にガラス基板を受載させて加熱室内を搬送することにより実施されるが、その際に表面欠陥を生じさせないように、また回路のショート等が生じないようにきわめて高いクリーン度が要求される。しかし従来の連続加熱装置においては、被処理物を収容したトレイの搬送手段としてベルトコンベア式やプッシュロッド式などが採用されており、このため摺動部が不可避的に存在し、搬送手段の要素同士、あるいは搬送手段とトレイとの摺動によって摩耗粉が発生し、その摩耗粉によって雰囲気が乱されたり汚損される問題があった。また、連続加熱装置が水平方向で大型化するため設置スペースが大きくとられるとともにクリーンルームも容積が大きくなり、浄化装置も大型するという問題があった。この対策として本考案者は、特願平４−１７７７５４号において、ガラス基板類を収容したトレイをウオーキングビームの平行四辺形運動で炉内に挿入し、ここで上昇用エレベータ機構によりトレイを順次高さ方向に多段状に積み上げ、最上位のトレイを切換え機構により相対摺動なしに平行移動させ、下降用エレベータ機構により順次多段状に積み重ねながら下降させ、最下段のトレイをウオーキングビームの上記運動により炉外に移動させるようにした装置を提案した。これにより、トレイ搬送系の摺動とそれに起因する塵埃の発生が防止されるためクリーンな雰囲気にて能率よく熱処理や熱加工を行うことが可能となった。

【０００３】しかしながら、上記先行技術では、加熱されたガラス基板類の冷却について開示がなく、ガラス基板類はトレイに受載された状態でアンローダ口に持ち出されるだけであった。このためガラス基板類は大きな熱容量を有しており、アンローダ口で十分な放冷時間をおかないと温度が下がらないため、トレイから分離することはできない。しかも空トレイを炉内をローダ側に移動させる方式としているため、ガラス基板類の温度が低下する間はトレイ循環機構の作動は休止することになる。このため、加熱処理系全体の能率の低下を招くという問題があった。この対策として、アンローダ口でガラス基板類を冷風等により冷却することが考えられるが、急冷による熱衝撃や熱歪によりガラス基板類が切損や切欠きなどを起こし、不良品発生率が増すという不具合が生ずる。また先行技術では空トレイを炉内の下部をウォーキングビームで逆送するようにしているため、構造が複雑となり、炉高が高くなるという問題があった。さらに、ガラス基板類は、構造や機能などから、上下、左右が厳密に決められており、全工程が終わるまで方向性が変化してはならない。一方、ガラス基板類の加熱は洗浄後の乾燥、配向膜の焼き付け、ラビング後の乾燥、シール剤の乾燥など各工程ごとに実施され、各工程ごとに多段状の収納ボックスに納められ、次の工程でこれから取り出される。しかし先行技術では単にアンローダ口にトレイとともに搬出されるだけであるため、作業員の操作ミスによりガラス基板類の方向性に食い違いが生じやすく、方向性が変わった状態で収納ボックスに納められ、次工程に移るまでに煩雑で時間のかかる方向修正を行わなければならないという問題があった。

【０００４】本考案は前記のような問題点を解消するために創案されたもので、その第１の目的は、摺動とそれに起因する塵埃の発生を防止しきわめてクリーンな雰囲気にて能率よくガラス基板類の熱処理や熱加工を行うことができることに加え、切損や切欠きなどのトラブルを起こさせずにガラス基板類を短時間で適切に冷却し、搬出を容易化と熱処理サイクルを能率化を達成できるガラス基板類の連続熱処理装置を提供することにある。また、本考案の第２の目的は、上記に加えて、ガラス基板類を規定の方向性を持たせてアンロードさせ、次工程の作業をスムーズに能率よく行うことができるガラス基板類の連続熱処理装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

上記第１の目的を達成するため本考案は、左右に入口と出口を有する炉体内に、ガラス基板類を受載したトレイを順次上昇積載させる上昇エレベータ機構と、トレイを積載状態を保ちつつ順次下降させる下降エレベータ機構を並列状に配置する一方、炉体の上部には、上昇エレベータ機構で上昇された積載最上位のトレイを受支しこれを横移送して下降エレベータ機構の積載最上位のトレイの上に受支させるトレイ昇降切換え機構を設け、炉体Ａ内の前記両エレベータ機構とクロスする関係位置にはガラス基板類を受載したトレイを入口から出口方向に搬送する前送用ウオーキングビーム機構を設ける一方、炉体外には前記前送用ウオーキングビーム機構と平行状にリターン用ウォーキングビーム機構を設け、前記炉体には下降エレベータ機構の下半にゾーン雰囲気強制循環式の徐冷機構を設け、さらに炉体の出口ラインには、前送用ウオーキングビーム機構から受支換えするとともにガラス基板類を分離するトラバース機構と、ガラス基板類を受載してこれを直接冷却するガラス基板類冷却機構と、前記トラバース機構で分離されたガラス基板類をガラス基板類冷却機構へ移送するガラス基板類引取り移動機構を設けたものである。また、第２の目的を達成するため本考案は、炉体の出口ラインの端末にガラス基板類を水平反転して送り出すガラス基板類抽出機構Ｌを設けたものである。本考案において「ガラス基板類」は、ガラス基板のほかカラーフィルタなどさらには平坦状の電子回路基板などを含むものである。

【０００６】

【実施例】

以下本考案の実施例を添付図面に基いて説明する。図１ないし図４は本考案による一実施例を示しており、図５ないし図２３はその詳細を示している。Ａは断熱材などで構築された炉体であり、フレームによって所要高さレベルに支持され、下部両側には入口ａと出口ａ’とが同軸上に設けられている。入口ａは所要長さの筒状をなす入口域を介して炉内に通じ、出口ａ’も筒状の出口域を介して炉内に通じている。炉体はトレイＴが少なくとも平行状に２列互いに干渉しあわないでかつ高さ方向に所定段数積み上げられ得る容積を有している。炉体Ａ内には縦筒状の仕切り２が設けられている。この仕切り２はトレイ上昇側とトレイ下降側間を区画する中間縦仕切り２００を有しており、中間縦仕切り２００と同位置には図４のように炉内壁に達する外縦仕切り２００’を有しているしたがって、トレイ上昇側とトレイ下降側には、図４と図５のように、炉内壁とのあいだにそれぞれ通風空間が画成されており、さらにそれら通風空間は、図２と図４のように複数の横仕切り２０１，２０１によって上下方向で区画され、これによってトレイ上昇側の通風空間とトレイ下降側の通風空間はそれぞれ複数段(図示するものでは3段)に区画されている。トレイ上昇側の全段の通風空間とトレイ下降側の上段から所要段の通風空間には、それぞれ一側に循環撹拌ファン３が設けられており、循環撹拌ファン３とたとえば９０度変位した位置の仕切り２には耐熱フィルタ付きの吹込み口４が設けられるとともに、これと対峙する位置に排風口５が設けられており、かつ少なくとも循環撹拌ファン３の吐出口から耐熱フィルタ付吹込み口４に到る領域にヒータ１が配設されている。これによりヒータ１と発熱量と循環撹拌ファン３の駆動で所要温度の雰囲気が耐熱フィルタ付吹込み口４から仕切り２内の搬送用空間に送り込まれ、積載状の各トレイＴの空隙に流通した後、排風口５から循環撹拌ファン３に吸い込まれて強制循環させられるようになっている。一方、トレイ下降側の下半段すなわち少なくとも最下段の通風空間には徐冷機構Ｐが設けられている。この徐冷機構Ｐは、まず図４と図５のように、通風空間一側の循環撹拌ファン３と、これとたとえば９０度変位した位置の仕切り２に設けられた耐熱フィルタ付きの吹込み口４と、これと対峙する位置の排風口５と、耐熱フィルタ付きの吹込み口４の背方から炉内壁に達する横仕切板４１を有している。そして、当該通風空間の横仕切り２０１に対応する仕切り２内にはトレイＴの通過を許す限度で内側に張出す内フランジ状の遮熱板４１０が設けられ、これによりトレイ下降側空間を区切り、隣接する加熱用ゾーンからの熱影響を低減させるようにしている。前記横仕切板４１は断熱機能を有し、当該通風空間の全部でなく所要範囲たとえば循環撹拌ファン３の吐出側から外縦仕切り２００’までの範囲を上ゾーンｐと下ゾーンｐ’に区画している。そして、下ゾーンｐ’には、耐熱フィルタ付きの吹込み口４の背方にいたる範囲にフィン付きの水冷配管４２が配置されており、水冷配管４２は図３のように後述するトレイ支持具よりも下のレベルに達している。水冷配管４２の両端は炉外の水循環系４２０に接続されている。これに対し、上ゾーンｐには同様に耐熱フィルタ付きの吹込み口４の背方にいたる範囲にフィン付きシーズ型のヒータ４３が配設され、外部の図示しない加熱温度制御系と接続されている。Ｂは炉体Ａの周りに所要の大きさの処理室を形成するように囲繞するボックス状カバーであり、前記入口ａと同軸上の側壁位置には被処理物としてのガラス基板類Ｗの装入口ｂが設けられ、出口ａ’と同軸上の側壁には熱処理を終えたガラス基板類Ｗの抽出口ｂ’が設けられている。いうまでもなくボックス状カバーはクリーンルームに設置され、処理室はフィルタなどを介して高純度のエアや雰囲気ガスが満たされている。

【０００７】トレイＴはガラス基板類Ｗを受載する治具であり、ステンレス板など機械的強度が良好な材料により平面矩形状に構成されている。トレイＴは安定して多段積載を行えかつその状態で加熱雰囲気がまんべんなく流通するようにすべく、図１０ないし図１４に示すように、各隅部に所要高さの支柱６が設けられている。この実施例では、図１４のようにトレイＴは周縁部に囲壁を有し、支柱６は、トレイＴの下面に接するフランジ６００を有する第１部体６ａと、トレイＴの上面に接する板部６０１とトレイ板厚を貫いて第１部体６ａに螺合するねじ軸６０２を有する第２部体６ｂとを有しており、第１部体６ａの端面と第２部体６ｂの板部６０１には位置決め用の凹部と凸部が設けられている。前記トレイＴは、図１１のように所定の間隔で複数組の孔ｔ１，ｔ２，ｔ３が設けられている。ｔ１は洗浄用位置決め用孔で、各支柱６に近い位置に等間隔で配されている。ｔ２はトラバース用位置決め孔であり、前記洗浄用位置決め孔ｔ１よりも幅方向で内側位置に等間隔で配されている。ｔ３はガラス基板類昇降用孔であり、前記トラバース用位置決め孔ｔ２と幅方向で同一線上でかつ長さ方向では内側位置に等間隔で配されている。このガラス基板類昇降用孔ｔ３は同時に位置決め孔も兼ねている。図１５は別のトレイを示しており、トレイＴはガラス基板類昇降用孔ｔ３を中心から左右に２組ずつ有している。これはガラス基板類Ｗを２枚同時にも受載して熱処理できるようにするためである。

【０００８】Ｕは上昇エレベータ機構であり、図２のように入口域に近い領域に配置されている。Ｄは下降エレベータ機構であり、出口域に近い領域に前記上昇エレベータ機構Ｕと並列状に配置されている。Ｖは炉体の上部領域において前記両エレベータ機構とクロスする関係に配置された昇降切換え機構である。Ｃは入口ａから出口ａ’間に前記両エレベータ機構とクロスする関係で配置された前送用ウォーキングビーム機構、Ｃ’は前記炉体Ａ外に前記前送用ウォーキングビーム機構Ｃと平行状に配置されたリターン用ウォーキングビーム機構である。Ｅは装入口ｂに配置されたガラス基板類装入機構、Ｆは前記ガラス基板類装入機構Ｅからガラス基板類Ｗを受けとって入口ラインすなわち前送用ウォーキングビーム機構の上方に移送するガラス基板類引取り移動機構、Ｇはリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’からトレイＴを受取り、前送用ウォーキングビーム機構Ｃへと移送させる入口側トラバース機構である。Ｈは出口ラインの側方の処理室内に必要に応じて配置されるトレイ洗浄機構である。Ｊは出口ラインにおいて前送用ウォーキングビーム機構ＣからトレイＴを受取って横移動させるための出口側トラバース機構である。この実施例ではトレイ洗浄機構Ｈを有しているため、これに向け平行移動するようになっている。Ｒはトレイ洗浄機構Ｈからトレイを受け取ってリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’ へと移置させるためのリターン用トラバース機構であり、トレイ洗浄機構Ｈを設けない場合にはこのリターン用トラバース機構Ｒは省略され、出口側トラバース機構Ｊで前送用ウォーキングビーム機構ＣからトレイＴを受取ってリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’に移送する構成とすればよい。Ｌは抽出口ｂ’に配置されたガラス基板類抽出機構、Ｋはガラス基板類抽出機構Ｌよりも上流側の出口ライン上に設けられたガラス基板類冷却機構、Ｍは出口側トラバース機構Ｊからガラス基板類を受取ってガラス基板類冷却機構Ｋとガラス基板類抽出機構Ｌへ順次移送するためのガラス基板類引取り移動機構である。

【０００９】上昇エレベータ機構Ｕは、図２に示す前送用ウォーキングビーム機構Ｃの上昇位置よりやや上位レベルにおいて垂直軸線のまわりで回動自在な複数のトレイ支持具７を有している。それらトレイ支持具７は、図示するものでは４つであり、それぞれ図１１と図１３のように幅と長さ寸法が異なるたとえば長方形状のプレートないしブロックとして構成され、長片が内方に向いた時にトレイＴの隅部底面すなわち支柱フランジ６００を支え、長片がたとえば９０度回転したときにトレイＴの支えを解除しうるようになっている。トレイ支持具７の自由端付近には支柱６の第１部体６ａに横から係脱する溝７００が設けられている。前記トレイ支持具７は、図２と図４のように炉体Ａの下方から炉床を貫いて伸びる複数本(図面では4本)の支持ロッド７０１の上端に取付けられており、各支持ロッド７０１は炉床ｃの下方に横架された横梁７０２に中間を保持され、下端がベースフレームに設けた軸受で支承され、軸受の近傍に回転要素たとえばベーベルギヤ７０３が取付けられ、駆動側のベーベルギヤ７０４を図示しないロータリアクチュエータで一斉に駆動するようにしている。ロータリアクチュエータは各支持ロッドごとでもよいし２本ずつあるいは全体を一基で作動させてもよい。

【００１０】上昇エレベータ機構Ｕはさらに、前記トレイ支持具７よりも下位すなわち常態において前送用ウォーキングビーム機構Ｃの後述する平行ビーム１２，１２の上昇時受支面よりも下位レベルに位置し、平行ビーム１２，１２の下降時にトレイＴを受取り前記トレイ支持具７に向かって上昇させるトレイ上昇具９が配されている。前記トレイ上昇具９は少なくとも一対からなり、側面側から見て前記支持ロッド７０１の内側(正面側では図３のように支持ロッド７０１とほぼ同一垂直面上にある）に配されている。各トレイ上昇具９はプレート状ないし爪状をなし、先端部にトレイＴの支柱６に対するボス状の支え９００を有し、その支え９００は支柱端面の凸部が嵌まる凹部を有している。トレイ上昇具９は、複数組(図面では２組)の支持シャフト９０１の上端に固定されており、支持シャフト９０１はトレイ上昇具９が常態において前送用ウォーキングビームＣの上限位置よりも下位にあり、このレベルから図１４のようにトレイ支持具７の近傍レベルまで昇降できるように、炉床ｃを貫いて炉内に伸び、駆動機構に連結されている。この実施例では支持シャフト９０１は横梁７０２を貫いて伸び、連結板９０２によって結合され、その連結板９０２が昇降用アクチュエータ９０３によって作動させられるようになっている。昇降用アクチュエータ９０３は油圧シリンダなど任意であるが、この実施例ではモータが使用され、その出力側に連結したボールスクリュー軸９０４が横梁７０２に軸受で保持され、ボールスクリュー軸９０４に連結板９０２に固定した雌ねじ部材９０５が螺合している。なお、入口領域と出口領域の炉床には、前送用ウォーキングビーム機構Ｃにより入口ａから装入されたトレイ、炉内から出口ａ’に運ばれる前のトレイＴを前送用ウォーキングビーム機構Ｃの下降時に支えるための固定支え８’が設けられている。この固定支え８’は複数本のピンまたは平行プレートなどからなっている。

【００１１】下降エレベータ機構Ｄは前記上昇エレベータ機構Ｕと構成は同じであり、前送用ウォーキングビーム機構Ｃの上限レベルよりやや上位で間隔的に配置され、トレイＴを積載状に支えるとともに垂直軸線のまわりで９０度以上回転してトレイＴの支えを解除しうるトレイ支持具７’と、該トレイ支持具７’よりも下位にあってトレイＴを支えつつトレイ支持具７’に向かって上昇させるトレイ下降具９ ’とを備えている。それらトレイ支持具７’およびトレイ下降具９’は構造的には上昇エレベータ機構Ｕと同じであり、したがって、同じ部分にカンマ付きの符号を付し、説明は省略する。なお、この実施例では上昇エレベータ機構Ｕと下降エレベータ機構Ｄの位置での平行ビーム下降時のトレイ支えとしてトレイ上昇具９とトレイ下降具９’を用いているが、場合によっては前記固定トレイ支え８’と同じものを設けてもよいことは勿論である。この場合トレイ上昇具９とトレイ下降具９’は固定トレイ支えよりも適度に下のレベルで待機するように下限位置を設定すればよい。

【００１２】次に、トレイ昇降切換え機構Ｖは、前記上昇エレベータ機構Ｕで積載された最上位のトレイを受取り、これを下降エレベータ機構Ｄに積載されている最上位のトレイに横送りするための手段であり、上昇エレベータ機構Ｕと下降エレベータ機構Ｄと協働してウオーキングビーム運動を行い、摺動を伴わずにトレイを移置するものである。このトレイ昇降切換え機構Ｖは、図２と図４、図２６ないし図２８のように炉体天井部に近いレベルにおいて、前記上昇エレベータ機構Ｕおよび下降エレベータ機構Ｄと直交するように炉体側壁を貫通し、しかも図３のように互いの間隔がトレイＴの幅よりも少し大きい２本の横ビーム１１，１１と、この横ビーム１１，１１にそれぞれ固定され、トレイＴ幅寸法内に突出する寸法を持ったトレイ受け具１１０，１１０と、２本の横ビーム１１，１１を所定のプログラムに従って軸線方向に正逆移動させる駆動手段とを有している。駆動手段は任意であるが、この実施例ではねじ送り方式を採用しており、炉体Ａの外側またはボックス状カバーに架台１１２を固定し、これにモータ１１１で駆動回転されるボールスクリューねじ１１３を横架するとともに、ボールスクリューねじ１１３に横ビーム１１，１１の後端と結合しためねじ部材１１４を螺合している。そして、横ビーム１１，１１の先端側にはスライダ１１５が設けられ、炉体Ａの外側またはボックス状カバーに固定したガイドブロック１１２’によってガイドされるようになっている。なお、前記仕切り２は横ビーム１１，１１とトレイＴが自由に移動しうるように窓孔を有している。

【００１３】次に前送用ウォーキングビーム機構Ｃは、時計方向での上昇−前進−下降−後退の平行四辺形運動により操業中ではトレイＴを入口ラインから入口ａを経て入口域そして上昇エレベータ機構部位へと移送させ、また下降エレベータ機構Ｄで下降送りされてきた積載最下位のトレイを出口域、次いで出口ａ’を介して出口ラインへと搬出するためのものである。これに対して、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’は反時計方向で上昇− 前進−下降−後退の平行四辺形運動することにより、ガラス基板類Ｗを分離した空トレイＴを炉外で前送用ウォーキングビーム機構Ｃの送り方向と逆方向に移送するためのものである。まず、前送用ウォーキングビーム機構Ｃは、入口ａと出口ａ’を貫通する長さの２本の平行ビーム１２，１２を有している。詳細には、平行ビーム１２，１２は常に前記トレイ支持具７，７’より低いレベルにあり、また幅方向では図４と図１０のように支持ロッド７０１，７０１’の内側位置にあり、かつ、互いの間隔がトレイＴの幅より小さい寸法にある。平行ビーム１２，１２は好ましくは長手方向両端部がそれぞれ横梁によつて連結され、全体として長尺枠状となっている。入口ラインと出口ラインのフレームには平行ビーム１２，１２の真下ないし下側方に２本一組のガイドレール１３，１３’がそれぞれ架台を介して敷設されている。このガイドレール１３，１３’に油圧式または機械式のジャッキ１４，１４’が左右２個ずつ摺動可能に取付けられており、ジャッキ１４，１４’の各作動ロッドは平行ビーム１２，１２の長手方向端部ないしこれに付設した張出し部材に連結しており、したがってジャッキ１４，１４’の同期作動によって平行ビーム１２，１２はトレイ上昇具９やトレイ下降具９’の上面より少し上に達する寸法だけ上昇される。そして、片側(この例では入口ライン側)の２本のガイドレール１３にはブラケットを介してそれぞれモータ１６によって駆動回転されるボールスクリュー軸１６０が支架され、そのボールスクリュー軸１６０にジャッキ１４の基部に固定した図示しないめねじ部材が係合している。したがって、平行ビーム１２，１２は、モータ１６の同期駆動により、入口ライン側に突出した状態から図１と図２に示すように出口ラインに突出した状態となるようにストロークされる。

【００１４】リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’は図１と図３に示されており、前送用ウォーキングビーム機構Ｃと同じような間隔の２本の平行ビーム１７，１７を有し、好ましくは長尺枠状をなしている。この平行ビーム１７，１７の間隔内には処理室フレーム上に固定トレイ受け８が設けられている。この固定トレイ受け８この実施例では平行ビーム状架台が用いられているが、テーブルであってもよい。そして、平行ビーム１７，１７の直下または下側方に架台１７０を介して２本一組のガイドレール１７１，１７１’が敷設され、それらガイドレールに油圧式または機械式のジャッキ１８，１８’を左右２個ずつ備えたスライダ１８０，１８０’が摺動可能に取付けられている。ジャッキ１８，１８’の各作動ロッドは各平行ビーム１７，１７の長手方向端部付近に連結しており、したがってジャッキ１８，１８’の同期作動によって平行ビーム１７，１７は固定トレイ支え８の上端より少し上のレベルに到る寸法だけ上昇される。そして、片側のスライダ１８０の下方には、ブラケットを介してそれぞれモータ１９の出力部と連結したボールスクリュー軸１９０が横架され、そのボールスクリュー軸１９０にスライダ１８０の基部に固定した図示しないめねじ部材が係合している。したがって、平行ビーム１７，１７はモータ１９の駆動によって図３に示す出口ラインと平行方向への突出状態から、入口ライン突出状態になるようストロークされる。

【００１５】ガラス基板類装入機構Ｅは、装入口ｂからガラス基板類Ｗを引込みかつこれを引込み位置で上昇させる手段であり、図１と図６に示されているように、ボックス状カバーＢの装入口ｂの直近から炉体入口方向に伸び、かつ高さ方向では図２のように前送用ウォーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２とほぼ同等のレベルに設けられている。ガラス基板類装入機構Ｅは、この実施例では、フレーム等に支えられた架台２０にＯリングベルトなどをガラス基板類Ｗの幅よりも狭い間隔に設定した多条ベルトコンベア２１を配置し、多条ベルトコンベア２１の近傍にペンシン型などの押上げ用シリンダ２２，２２を配置している。押上げ用シリンダ２２，２２は少なくとも４本(2枚のガラス基板類Ｗを同時処理する場合は少なくとも8本)であり、押上げピン２２０はそれぞれトレイＴの前記孔ｔ１，ｔ２，ｔ３のいずれとも位相がずれた間隔で配置され、常態において多条ベルトコンベア２１の張り側より下位のレベルにある。

【００１６】ガラス基板類引取り移動機構Ｆは、前記ガラス基板類装入機構Ｅの押上げピン２２０で持ち上げられたガラス基板類Ｗを受支して入口ライン(平行ビーム12,12 のストローク位置)に移動するための手段であり、図１、図２、図６ないし図８に示されている。このガラス基板類引取り移動機構Ｆは、ボックス状カバーＢの装入口ｂの直近から炉体入口方向に伸びるように架設された２条の平行ガイドレール２３，２３と、それら平行ガイドレール２３，２３に基部２４０をもって摺動可能に取り付けられた爪状または板状の支え２４，２４と、平行ガイドレール２３と平行に配され、支え２４の基部２４０を螺通するボールねじ２５とこれを駆動するモータ２５１を備えている。平行ガイドレール２３，２３は図６のようにトレイＴの幅よりも広い間隔を有し、支え２４，２４の支え面はガラス基板類Ｗの両側下面を支えうるように張出し、かつ、前記多条ベルトコンベア２１の張り側および平行ビーム１２，１２の上昇レベルよりも高いレベルにあり、支え２４，２４は前記モータ２５１の駆動により図６の実線で示すガラス基板類装入機構直上位置(引取り位置)と仮想線で示す前送位置の間で往復動自在となっている。

【００１７】入口側トラバース機構Ｇは、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’でリターンされたトレイを受けとって前送用ウォーキングビーム機構Ｃに受支させるべく横移動しかつ昇降させるエレベータ手段であるが、これに加えて前記ガラス基板類引取り移動機構Ｆと協働してガラス基板類ＷをトレイＴに受載させる手段も兼ねている。この実施例では、さらには新たなトレイまたは補修したトレイを外部から熱処理ラインに供給する手段をも兼ねている。入口側トラバース機構Ｇは、この実施例では図１と２，図６と図９に示すように、ボックス状カバーＢの装入口側壁面と平行状の梁フレーム２６に横架された上下の横ガイドレール２７，２７と、それら横ガイドレール２７，２７に背部をもって摺動可能に保持されかつ横ガイドレール２７，２７間に横架したボールねじ２９に螺合する雌ねじ部材２８０を備えた第１フレーム２８と、ボールねじ２９を駆動する横送り用モータ２８１と、第１フレーム２８の前部側に設けた縦ガイドレール３０，３０に背部をもって摺動可能に保持されかつ縦ガイドレール３０，３０に縦架したボールねじ３１に螺合する雌ねじ部材３２０を備えた第２フレーム３２と、ボールねじ３１を駆動する上下送り用モータ３２１と、第２フレーム３２に基部が固定された２本の平行アーム３３，３３からなっている。横ガイドレール２７，２７は前記ガラス基板類装入機構Ｅよりも下位にあり、長手方向ではボックス状カバーＢの後側壁ｂ２の近くまで伸びている。平行アーム３３，３３は図６のように前送用ウォーキングビーム機構Ｃおよびリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’の各平行ビーム１２，１２，１７，１７、の間隔Ｌ₁よりも狭い間隔₂、すなわちトレイＴのトレイトラバース時位置決め用孔ｔ１とガラス基板類昇降用孔ｔ３に対応する間隔を有し、さらに平行アーム３３，３３は上面すなわちトレイ受支面に、トレイのトラバース用位置決め用孔ｔ１に合致する間隔で位置決め用の突起３３１，３３１が設けられ、また、ガラス基板類持ち上げ要素として、ガラス基板類昇降用孔ｔ３に合致する間隔で押し上げピン３３０，３３０が突設されている。図１１のトレイの場合には図１２のように片側４本ずつの押し上げピン３３０が設けられる。平行アーム３３，３３は、常態において前送用ウォーキングビーム機構Ｃおよびリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’の各平行ビーム１２，１２，１７，１７の受支面よりも適度に下のレベルに位置し、前記上下送り用モータ３２１の駆動により上側ウオーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２の受支面より高いレベルに上昇するストロークが設定される。平行アーム３３，３３は前記上昇時にガラス基板類装入機構Ｅと衝突しない幅方向間隔を有していれば水平状でもよいが、この実施例では上昇時にガラス基板類装入機構Ｅと衝突しないように高さ方向で段差を設けている。平行アーム３３，３３は第１フレーム２８の移動によって図１と図６のようにボックス状カバーＢの後側壁ｂ２の近くに平行移動されるが、この状態で新規なトレイまたは補修済みのトレイを処理系に取り入れ、あるいは損傷したり古くなったトレイを取り出すことができるようにするため、後側壁ｂ₁にはスライド式またはヒンジ式に開閉自在な開口３４が設けられている。なお、入口側トラバース機構Ｇと出口側トラバース機構Ｊおよびリターン用トラバース機構Ｒの昇降駆動手段、および平行ビーム１２，１２，１７，１７の軸線方向移動用の駆動手段は実施例のようにボールスクリュー式に限定されず、油圧シリンダ式などであってもよい。

【００１８】トレイ洗浄機構Ｈは炉体出口ラインとリターンラインの間ことに出口側トラバース機構Ｊとリターン用トラバース機構Ｒの間の処理室フレームに据え付けられた洗浄槽３５と、これの近傍に設置され出口側トラバース機構Ｊで搬送されたトレイＴを受支して洗浄槽３５に浸漬させるためのトレイ昇降機構３６を備えている。洗浄槽３５は洗浄液３５１が満たされ、内底など適所に超音波発振器３５０が取り付けられている。トレイ昇降機構３６は、図２０のように反出口側トラバース機構側の位置に立設された架台３６０と、架台３６０に設けた縦ガイドレール３６１，３６１に背部を持って摺動可能に保持され、かつ縦ガイドレール３６１，３６１間に縦架したボールねじ３６２に螺合する雌ねじ部材３６３を有するスライド３６４と、ボールねじ３６２を駆動するモータ３６５と、このスライド３６４の前部に固定された平行アーム３７，３７とを有している。前記平行アーム３７，３７は図１と図１９のように出口側トラバース機構Ｊとリターン用トラバース機構Ｒの後述する平行アーム３３’，３３’よりも広い間隔すなわち、前記したトレイＴの洗浄用位置決め孔ｔ１に対応する間隔を有し、受支面には洗浄用位置決め孔ｔ１に合致する位置決めピン(突起でもよい）３７０，３７０を突設している。

【００１９】出口側トラバース機構Ｊは、前送用ウォーキングビーム機構Ｃによって出口ラインに搬出されたトレイＴを受け取るとともに、ガラス基板類引取り移動機構Ｍと協働してトレイＴをガラス基板類と分離する機能およびガラス基板類を分離した空トレイを前記トレイ洗浄機構Ｈに横送りする機能を有し、リターン用トラバース機構Ｒは洗浄された空トレイをリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’に移送する機能を有している。しかし、前述のようにトレイ洗浄機構Ｈを省略した場合にはリターン用トラバース機構Ｒは不要であり、出口側トラバース機構Ｊがガラス基板類を分離した空トレイをダイレクトにリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’に移送する。出口側トラバース機構Ｊは前記入口側トラバース機構Ｇと同様な構造である。すなわち、ボックス状カバーＢの抽出口側壁面と平行状の梁フレーム２６’に横架された上下の横ガイドレール２７’，２７’と、それら横ガイドレール２７’ ，２７’に背部をもって摺動可能に保持されかつ横ガイドレール２７’，２７’ 間に横架したボールねじ２９’に螺合する雌ねじ部材２８０’を備えた第１フレーム２８’と、ボールねじ２９’を駆動する横送り用モータ２８１’と、第１フレーム２８’の前部側に設けた縦ガイドレール３０’，３０’に背部をもって摺動可能に保持されかつ縦ガイドレール３０’，３０’に縦架したボールねじ３１ ’に螺合する雌ねじ部材３２０’を備えた第２フレーム３２’と、ボールねじ３１’を駆動する上下送り用モータ３２１’と、第２フレーム３２’に基部が固定された２本の平行アーム３３’，３３’からなっている。リターン用トラバース機構Ｒは出口側トラバース機構Ｊと同様に第１フレーム２８’と第２フレーム３２’と２本の平行アーム３３’，３３’を有しており、同じ部分については同じ符号を付し、説明は省略する。ただ、リターン用トラバース機構Ｒの第１フレーム２８’は、出口側トラバース機構Ｊの横ガイドレール２７’，２７’を共用部材として摺動可能に保持されるが、横送り駆動系は独立している。すなわち、出口側トラバース機構Ｊのボールねじ２９’と高さ方向で位相をずらしたボールねじ２９”とこれに螺合する雌ねじ部材２８０’とボールねじ２９”を駆動する横送り用モータ２８１”を有している。横ガイドレール２７’，２７’は前記ガラス基板類抽出機構Ｌとガラス基板類冷却機構Ｋよりも下位にあり、長手方向ではボックス状カバーＢの後側壁ｂ２の近くまで伸びている。出口側トラバース機構Ｊとリターン用トラバース機構Ｒの各平行アーム３３’ ，３３’は前送用ウォーキングビーム機構Ｃおよびリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１２，１２の間隔よりも狭く、トレイＴのトラバース用位置決め用孔ｔ１とガラス基板類昇降用孔ｔ３に対応する間隔を有している。そして、平行アーム３３’，３３’はトレイ受支面にトラバース用位置決め孔ｔ１に合致する間隔の位置決め用の突起３３１’，３３１’が設けられ、また、ガラス基板類昇降用孔ｔ３に合致する間隔の押し上げピン(または突起)３３０’，３３０’が突設されている。各トラバース機構の平行アーム３３’，３３’は、常態において前送用とリターン用ウオーキングビーム機構Ｃ，Ｃ’の平行ビーム１２，１２，１７，１７よりも適度に下のレベルに位置し、前記上下送り用モータ３２１’の駆動時に前記平行ビーム１２，１２，１７，１７の上面より高いレベルに上昇するストロークが設定される。平行アーム３３’，３３’は前記上昇時にガラス基板類冷却機構Ｋと衝突しないように高さ方向で段差を有している。リターン用トラバース機構Ｒの平行アーム３３’，３３’はリターンラインとトレイ洗浄機構Ｈ間で平行移動されるが、リターンラインはボックス状カバーＢの後側壁ｂ₂に近接しており、そこで、後側壁ｂ₂には必要に応じてスライド式またはヒンジ式に開閉自在な開口３８が設けられ、トレイを回収できるようにしている。

【００２０】本考案で特徴とするガラス基板類冷却機構Ｋとガラス基板類抽出機構Ｌは図１と図２および図１７のように出口ライン上に直列状に配置されている。まず、ガラス基板類冷却機構Ｋは、前記した徐冷機構Ｐにより徐冷されたガラス基板類Ｗを急速に冷却して温度降下を促進し、装置からの搬出および収納ボックスＱ(図23,25参照)への装入を円滑に能率よく行うためのものである。ガラス基板類冷却機構Ｋは、基床から立ち上がる支持手段３９０により図１８のように上側ウェーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２(上昇位置)とほぼ同等の高さレベルに固定されたクールボックス３９を有し、上部にはステンレス板などからなる受載冷却面３９４を有し、ボックス内には給水管３９１と排水管３９２によって水などの冷媒３９３が満たされ、かつ外部の供給源との間で循環されるようになっている。そしてクールボックス３９の所定位置には、後述するガラス基板類引取り移動機構Ｍにより直上まで移動されてきたガラス基板類を浮上・下降させ冷却後は受載冷却面から浮上させるための昇降手段４０が取付けられている。常態において作動ロッド４００はクールボックス３９の受載冷却面３９４よりも下のレベルにある。昇降手段４０は図１９では４個所であるが、２枚のガラス基板類を同時に冷却する場合には、４か所ずつを２組設ける。ガラス基板類抽出機構Ｌは、冷却されたガラス基板類を装置外に搬出するためのものであるが、さらにこの考案では搬出に先だってガラス基板類を水平状のまま１８０度反転させ、ガラス基板類の方向性を調整する手段もかねている。ガラス基板類抽出機構Ｌは図１７，２１，２２のように、全体としてボックス状カバーＢの抽出口ｂ’から外方に伸び、かつ高さ方向では前記クールボックス３９とほぼ同等のレベルに設けられている。詳述すると、ガラス基板類抽出機構Ｌは、前記ガラス基板類装入機構Ｅと同様にフレーム等に支えられた架台２０’ にＯリングベルトなどをガラス基板類Ｗよりも間隔を狭くとった２基の多条ベルトコンベア２１’，２１’を出口ライン方向で適度に間隔を置いて直列状に配置している。そして、多条ベルトコンベア２１’，２１’の間には、それらの長手方向に伸び中間に幅方向に張り出すアーム部４４０，４４０を備えた受台４４を配しており、該受台４４は中央部下方に設けた反転用アクチュエータ４５に支持されている。受台４４は常態において図２２のように多条ベルトコンベア２１’ ，２１’の搬送面よりも下位のレベルに保持されている。反転用アクチュエータ４５はこの実施例では、昇降自在かつ回転自在なロボットシリンダが用いられているが、これに限定されるものではなく、上下用と回転用の各モータを組み合わせた機械的形式のもの(たとえば前記トレイ支持具やトレイ上昇具に用いられていたようなもの)でもよい。なお、受台４４はガラス基板類の位置ずれを防止するため長手方向端部とアーム部４４０，４４０の端部にそれぞれ立上り部４４１を有している。

【００２１】ガラス基板類引取り移動機構Ｍは、前送用ウォーキングビーム機構Ｃで移送されたトレイＴ(ガラス基板類が受載されているアッセンブリトレイ)から前記出口側トラバース機構Ｊと協働してガラス基板類を分離し、これを受支してガラス基板類冷却機構Ｋとガラス基板類抽出機構Ｌの直上に順次移動させるための手段である。このガラス基板類引取り移動機構Ｍは、図１７，１８，２１および２２に示されており、ガラス基板類抽出機構Ｌの側方から炉体出口方向に伸びるように架設された２条の平行ガイドレール２３’，２３’と、それら平行ガイドレール２３ ’，２３’に基部２４０’をもって摺動可能に取り付けられた爪状または板状の支え２４’，２４’と、平行ガイドレール２３’と平行に配され、支え２４’の基部２４０’を螺通するボールねじ２５’とこれを駆動するモータ２５１’を備えている。平行ガイドレール２３’，２３’は図１７のようにトレイＴの幅よりも広い間隔を有し、支え２４’，２４’の支え面はガラス基板類Ｗの両側下面を支えうるように張出し、かつ、前記多条ベルトコンベア２１’の張り側および平行ビーム１２，１２の上昇レベルよりも高いレベルにあり、支え２４’，２４’は前記モータ２５１’の駆動により図１７に示すガラス基板類抽出機構Ｌの位置とガラス基板類冷却機構Ｋおよび炉体出口外側位置の間で往復動自在となっている。

【００２２】実施例は本考案の一例であり、ガラス基板類装入機構Ｅは場合によってはボックス状カバーＢの装入口ｂよりも外方に伸びていてもよく、この場合にはガラス基板類引取り移動機構Ｆは出口側のガラス基板類引取り移動機構Ｍと同様に外方に延長される。また、ガラス基板類装入機構Ｅは押し上げ用シリンダに代えて前記ガラス基板類抽出機構Ｌのように受台とアクチュエータの組合せとしてもよく、この場合、アクチュエータは昇降機能を有していればよい。また、本実施例では炉体Ａの入口域と出口域でそれぞれトレイを受支させているが、入口外から直ちに熱処理ゾーンに入れ、熱処理ゾーンから直ちに出口外に搬出するようにしてもよい。さらに、ガラス基板類を２枚以上１トレイに受載して処理する場合、ガラス基板類冷却機構Ｋの昇降手段４０はトレイのガラス基板類昇降用孔ｔ３と同数同間隔で配置すればよい。

【００２３】操業に当たっては、初期セット状態を形成しておく。これは炉体の一部を開放してトレイをつめ込む方法としてもよいが、この例のように入口側トラバース機構Ｇが入口ラインに対し平行移動できるため自動的に行うことができる。すなわち、入口側トラバース機構Ｇの第２フレーム３２を下降させた状態で横送りモータ２８１を駆動し、第１フレーム２８と平行アーム３３，３３を図１のように入口ラインに対し平行移動させる。これにより平行アーム３３，３３の受支部が開口３４の近傍に位置する。そこで開口３４を開き、トレイＴを平行アーム３３，３３に載せるものであり、平行アーム３３，３３の受支部にトレイＴのトラバース用位置決め孔ｔ２に合致した間隔で突起３３１があり、またガラス基板類昇降用孔ｔ３に合致した間隔で押し上げピン３３０が配置されているため、トレイＴは突起３３１と押し上げピン３３０によって規定位置に安定よく支えられる。そこでこの状態で横送りモータ２８１を逆駆動し、第１フレーム２８と平行アーム３３，３３を図６の実線のように入口ライン上に移動させる。この状態で前送用ウオーキングビーム機構Ｃのモータ１６を駆動すれば、平行ビーム１２，１２は平行アーム３３，３３の高さレベルよりも低い下降位置で炉体Ａの入口ラインに所定長さ突出する。そこで次にジャッキ１４，１４’を作動すれば平行ビーム１２，１２は上昇し、それによって平行アーム３３，３３に受支されていたトレイＴは平行ビーム１２，１２に受支される。平行ビーム１２，１２へのトレイの受支は、平行アーム３３，３３のライン上への移動後一旦上下送りモータ３２１により平行アーム３３，３３を上昇させ、平行ビーム１２，１２の後進後、上下送りモータ３２１により平行アーム３３，３３を下降させる形式としてもよい。

【００２４】次にモータ１６を逆駆動すれば、平行ビーム１２，１２は図２のように出口ライン所定長さ突出するように軸線方向に移動し、これによりトレイＴは入口域に到り、次いでジャッキ１４，１４’の下降動で平行ビーム１２，１２が下がることによりトレイＴは固定トレイ支え８’で受支される。この間に平行アーム３３，３３は前記開口３４へ平行移動しており、次のトレイが開口３４から平行アーム３３，３３に載せられ、再び平行アーム３３，３３の移動により入口ラインに搬送される。平行ビーム１２，１２が後進後上昇すると、次トレイは平行アーム３３，３３から、先行トレイは固定トレイ支え８’から、それぞれ平行ビーム１２，１２に受支換えされ、次の平行ビーム１２，１２の前進により先行トレイは上昇エレベータ機構Ｕの位置に到り、次トレイは入口域に到る。先行トレイが上昇エレベータ機構Ｕの位置に到達し、平行ビーム１２，１２が下降すると該トレイは上昇エレベータ機構Ｕのトレイ上昇具９によって受支される。すなわち支え９００がトレイＴの下面４隅の支柱６に当接し凸部と凹部が係合する。次いで昇降用アクチュエータ９０３が作動し、これにより支持シャフト９０１が上昇し、図１３のようにトレイＴの下面４隅の支柱６の基部が上方のトレイ支持具７のレベルに達するまで持ち上げられる。この時に支持ロッド７０１が回動し、それにより各トレイ支持具７は図１０の仮想線で示す罷動位置から作動位置に変位し、それぞれの溝７００が支柱６に係合する。次いで、トレイ上昇具９が下降すると各トレイ支持具７の上面がフランジ６００を受支する。これで先行トレイＴは炉内に中空状に支持される。前記のように平行ビーム１２，１２が下降すると、後行トレイは入口域の固定トレイ支え８’で受支され、その間、前記のような平行アーム３３，３３の往復動によって次のトレイが入口ライン上に移送されているため、平行ビーム１２，１２が後進−上昇−前進することにより後行トレイが入口域から上昇エレベータ機構Ｕに、さらに後続のトレイが入口ラインから入口域に移置される。上昇エレベータ機構Ｕに到った後続トレイは、トレイ上昇具９の上昇によって上記のように支柱６を介して持ち上げられ、なおも上昇することによって後続トレイは板部６０１が先行トレイの支柱６と凹凸部を係合しあうように当接する。この状態ときに各トレイ支持具７は罷動し、後続トレイは先行トレイともどもトレイ上昇具９によって支持され、後続トレイが前記位置まで上昇すると、各トレイ支持具７が再び作動位置に戻り、後続トレイが支持され、トレイ上昇具９は元位置に戻る。これで２つのトレイは積層状態となる。

【００２５】以下、上記したサイクルが繰返されることにより、トレイは外部から自動的に炉内に移送され、順次積み上げられる。かくして上昇域のトレイが所定枚数まですなわち最上位のトレイが昇降切換え機構Ｖの下に達する高さまで積み上げられると上昇エレベータ機構Ｕは作動を休止する。そして、この状態で今度は前記した入口側トラバース機構Ｇと前送用ウオーキングビーム機構Ｃの連携動作により、トレイを上昇エレベータ機構Ｕ域を越えて下降エレベータ機構Ｄの位置まで移動させるものであり、トレイは上昇エレベータ機構Ｕのトレイ上昇具９で受支され、次いで前送用ウオーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２の次のサイクルの上昇時にトレイ上昇具９から平行ビーム１２，１２に受支され、これの前進により下降エレベータ機構Ｄに到る。ここで上記と同じようにトレイ支持具７’とトレイ下降具９’を連携作動させるものである。すなわち下降エレベータ機構Ｄを上昇エレベータ機構として作動させるものである。こうすれば、トレイは下降域において高さ方向に順次積み上げられ、トレイが所定枚数まですなわち最上位のトレイが昇降切換え機構Ｖの下に達する高さに達したところで下降エレベータ機構Ｄの作動を停止させる。以上で炉内にトレイが必要枚数積み上げられた初期状態が創生される。

【００２６】あとは、上昇エレベータ機構Ｕと下降エレベータ機構Ｄを停止させた状態で、入口側トラバース機構Ｇと前送用ウオーキングビーム機構Ｃおよび出口側トラバース機構Ｊ、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’とリターン用トラバース機構Ｒを連携作動させる。入口側トラバース機構Ｇと前送用ウオーキングビーム機構Ｃの連携作動により、開口３４から挿入したトレイは時計方向の平行四辺形運動により入口域−上昇エレベータ機構域−下降エレベータ機構域−出口域−出口ラインに順次移送される。出口ラインにおいて、出口側トラバース機構Ｊの平行アーム３３’，３３’ の上昇または平行ビーム１２，１２の下降によりトレイは平行ビーム１２，１２から平行アーム３３’，３３’に受支される。これにより、トレイは、ひとつが入口域の固定トレイ支え８’に支持され、ひとつが下降エレベータ機構Ｄのトレイ下降具９’に支持され、ひとつが出口域の固定トレイ支え８’に受支される。さらにひとつのトレイは出口側トラバース機構Ｃ’の平行アーム３７，３７により受支される。次に、開口３８からトレイを挿入し、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’ とリターン用トラバース機構Ｒを連携作動する。平行アーム３３’，３３’に載せられたトレイはリターン側ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１７，１７の下降位置での突出と上昇により平行ビーム１７，１７に受支換えされ、そして、平行ビーム１７，１７の反対側への突出と下降により固定トレイ支え８で受支され、以下、平行アーム３３’，３３’と平行ビーム１７，１７の連携サイクルの繰返しにより開口３８から挿入された後続トレイは図１のようにリターンラインに順次配置される。以上で初期状態が完成する。なお、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’を時計方向に平行四辺形運動させる場合には、開口３４からトレイを挿入し、入口側トラバース機構Ｇを連携作動させてもよい。

【００２７】以上のように必要枚数のトレイが充填、配置された状態で、ガラス基板類を乾燥、焼成などのため熱処理するに当たっては、トレイを平行アーム３３，３３に載せて入口側トラバース機構Ｇを図６の仮想線のように入口ライン上に移動させた状態とする。このときに、トレイＴの少なくとも４か所のトラバース用位置決め孔ｔ２に平行アーム３３，３３の各突起３３１がそれぞれはまり、また少なくとも４カ所のガラス基板類昇降用孔ｔ３に押し上げピン３３０が貫通している。この状態でガラス基板類Ｗを挿入口ｂから装入すれば、ガラス基板類装入機構Ｅの多条ベルトコンベア２１の作動によりガラス基板類Ｗは引き込まれ、図６および図８のように多条ベルトコンベア２１の上に受載される。この状態で押し上げ用シリンダ２２，２２を作動すれば、少なくとも４本の押上げピン２２０，２２０が突出し、ガラス基板類Ｗは図７の仮想線のように多条ベルトコンベア２１の直上に水平状に持ち上げられる。次いでガラス基板類引取り移動機構Ｆのモータ２５１を作動すれば、それまで図６の仮想線のように炉入口寄りに位置していた支え２４，２４がボールねじ２５に沿って左方に移動し、図７のように多条ベルトコンベア２１の真上でかつガラス基板類Ｗの幅方向側部の下面より適度に下に位置する。これが確認されると押し上げ用シリンダ２２，２２が下降作動し、それによりガラス基板類Ｗは支え２４，２４に受支される。

【００２８】次いでモータ２５１が後退側に作動すると、ガラス基板類Ｗは図９のように平行アーム３３，３３で受支されているトレイＴの真上まで搬送される。この状態で上下送りモータ３２１が作動すると第２フレーム３２の上昇により平行アーム３３，３３も一体に上昇する。トレイＴに押し上げピン３３０が貫通しているため、平行アーム３３，３３の上昇により押し上げピン３３０がガラス基板類に接触し、図７と図８の仮想線のように支え２４，２４からガラス基板類Ｗを所要高さ浮きあがらせる。この状態でモータ２５１が作動することにより支え２４，２４は装入機構Ｅの位置に逃げる。この段階で前送用ウォーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２(下降位置)が入口ライン側(図面では左方)に突出し、トレイＴの真下の位置に到る。この状態で平行ビーム１２，１２を上昇させるかまたは上下送りモータ３２１の駆動で第２フレーム３２を下降させれば、トレイＴは平行アーム３３，３３から平行ビーム１２，１２の上に受載される。同時に押し上げピン３３０がトレイＴのガラス基板類昇降用孔ｔ３から抜けてゆくため、ガラス基板類は水平のまま下降してトレイＴ内に収納受載され、これでガラス基板類はトレイＴに自動セットされる。

【００２９】これ以降は、上記した装入作業と、前送用ウォーキングビーム機構Ｃ，リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’、上昇エレベータ機構Ｕ、下降エレベータ機構Ｄ、昇降切換え機構Ｖおよび入口側と出口側の両トラバース機構Ｇ，Ｊおよびこの実施例ではリターン用トラバース機Ｒの連携作動が行われ、それにより、ガラス基板類アッセンブリ状態のトレイ(以下アッセンブリトレイと称す)は炉外から入口域を経て上昇エレベータ機構Ｕに横送りされ、ここで上昇・支持され、後続のトレイの下からの積み上げにより炉内を順次上昇しながら所定温度に雰囲気加熱され、所定の高さまで達すると昇降切換え機構Ｖにより横送りされて下降エレベータ機構Ｄの最上位のトレイに移置され、次いで炉内を順次下降されながら加熱・徐冷される。この間、最下位のトレイは下降エレベータ機構Ｄによって前送用ウォーキングビーム機構Ｃに移置され、トレイは出口域を経て炉外の出口ラインに搬出される。アッセンブリトレイが下降エレベータ機構Ｄから前送用ウォーキングビーム機構Ｃにより出口ラインに搬出されると、出口ラインにおいては、出口側トラバース機構Ｊと引取り移動機構Ｍによりトレイとガラス基板類に分離される。空トレイは、この実施例では出口側トラバース機構Ｊで横送りされてトレイ洗浄機構Ｈにより洗浄され、次いでリターン用トラバース機構Ｒで炉外のリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’に移送され、空トレイは入口側トラバース機構Ｇにより入口ラインに戻される。トレイ洗浄機構Ｈがない場合には、空トレイは出口側トラバース機構Ｊとリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’により逆送される。一方、出口ラインでトレイと切り離されたガラス基板類Ｗは、引取り移動機構Ｍによりガラス基板類冷却機構Ｋに移送され、ここで冷却されてからガラス基板類抽出機構Ｌにより反転され、次いでボックス状カバーＢ外に抽出され、収納ボックスなどに装入される。

【００３０】詳しく説明すると、入口ラインに突出していた平行ビーム１２，１２が出口ライン側に前進すると、前記アッセンブリトレイは炉体入口域に搬入され、一方、入口域にあったアッセンブリトレイは平行ビーム１２，１２に受支されて上昇エレベータ機構Ｕの位置に到り、下降エレベータ機構Ｄのトレイ下降具９’に受支されていたアッセンブリトレイも平行ビーム１２，１２に受支されて出口域に送られ、出口域にあったアッセンブリトレイは出口ａ’に搬出される。一方、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１７，１７が平行ビーム１２，１２と同期して入口ライン側と平行に突出するごとく前進することにより出口域に対応する位置の空トレイは下降エレベータ機構に対応する域に、下降エレベータ機構域に対応する位置の空トレイは上昇エレベータ機構に対応する位置に、上昇エレベータ機構に対応する位置の空トレイは入口域に対応する位置に、入口域に対応する位置の空トレイは入口側トラバース機構位置ににそれぞれ移動する。前記のように、上昇エレベータ機構Ｕの位置に到ったアッセンブリトレイは平行ビーム１２，１２の下降によりトレイ上昇具９により支持され、平行ビーム１２，１２が後退する間に持ち上げられ、トレイ支持具７で支持される。すなわち、トレイ上昇具９の支え９００がトレイＴの下面４隅の支柱６に当接し凸部と凹部が係合し、次いで昇降用アクチュエータ９０３が作動し、これにより支持シャフト９０１が上昇し、図１５のようにトレイＴの下面４隅の支柱６の基部が上方のトレイ支持具７のレベルに達するまで持ち上げられる。この時に支持ロッド７０１が回動し、それにより各トレイ支持具７は図１０の仮想線で示す罷動位置から作動位置に変位し、それぞれの溝７００が支柱６に係合する。次いで、トレイ上昇具９が下降すると各トレイ支持具７の上面がフランジ６００を受支する。これで先行トレイＴは炉内に中空状に支持される。前記持ち上げ作動により積み上げ状態の最上位のアッセンブリトレイがトレイ昇降切換え機構Ｖの横ビーム１１，１１とほぼ同じ高さレベルに到ると、アクチュエータ１１１が作動して、トレイ受け具１１０，１１０は、図２６(a)の下降エレベータ機構側の位置から図２６(b)および図２７(a)のように最上位のアッセンブリトレイトレイの位置に到る。この状態でトレイ上昇具９が下がると最上位のアッセンブリトレイだけが図２６(c)と図２７(b)のようにトレイ受け具１１０，１１０で受支される。アクチュエータ１１１が逆方向に作動すると、アッセンブリトレイはトレイ受け具１１０，１１０で受支されたまま図２８（ａ）のように下降エレベータ機構Ｄの直上位置に移動する。このとき、下降エレベータ機構Ｄにおいては、トレイ下降具９’が所定ストローク上昇してトレイ支持具７'で支持されている積み上げ状態のトレイ群を持ち上げるため、下降エレベータ機構側の最上位のアッセンブリトレイによってトレイ受け具１１０，１１０で受支されているアッセンブリトレイが持ち上げられ、トレイ受け具１１０，１１０による受支が解除される。次いで横ビーム１１，１１が左方に移動するため、切換え位置されたアッセンブリトレイは下降エレベータ機構のトレイ下降具９’で受支され、これが下降することにより切換え位置されたアッセンブリトレイは下降側のトレイ群の最上位に積載されたかたちでトレイ支持具７'により支えられる。

【００３１】トレイ下降具９’の前記した上昇によりアッセンブリトレイ群が持ち上げられ、トレイ支持具７'が罷動したのちトレイ下降具９’が下降してアッセンブリトレイ群の全体が下がり、最下位アッセンブリトレイがトレイ支持具７'の支持レベルより下がり、次位のアッセンブリトレイの支柱ｔが図１２のレベルに到り、トレイ支持具７'が作動位置に戻ることで次位のアッセンブリトレイが最下位トレイとして支持される。そして次いで平行ビーム１２，１２が下限位置で後進し、次のサイクルで上昇するとトレイ下降具９’に一枚だけ載っている最下位アッセンブリトレイは平行ビーム１２，１２に受載される。

【００３２】この時、炉内のトレイ上昇側とトレイ下降側の上半領域においては、ヒータ１の熱が循環撹拌ファン３によって加熱雰囲気として調整され、耐熱フィルタ付き吹出し口４からボックス状の仕切り２内に吹き込まれ、各アッセンブリトレイの支柱６によって形成されているそれぞれの空隙を通ってガラス基板類Ｗを加熱し、排風口５から撹拌ファン３に吸い込まれ強制対流循環加熱が行われる。そして前記のようにアッセンブリトレイは無摺動で順次積み上げられていく。したがってガラス基板類Ｗはクリーンな条件で能率よく均一加熱される。そして、トレイ下降側の下半域においては、横仕切板４１で区画された上ゾーンｐでは循環撹拌ファン３の吐出側において雰囲気にヒータ４３の熱量が与えられ、熱風として耐熱フィルタ付き吹出し口４から仕切り２内の搬送空間に吹き込まれ、排風口５から循環撹拌ファン３に吸い込まれる。また、下ゾーンｐ’では、循環撹拌ファン３の吐出側において雰囲気が水冷配管４２により冷され、冷風として耐熱フィルタ付き吹出し口４から仕切り２内の搬送空間に吹き込まれ、排風口５から循環撹拌ファン３に吸い込まれる。該搬送空間は遮熱板４１０でそれより上方の搬送空間と仕切られているため、前記のように吹き込まれた熱風と冷風は当該搬送空間で混合し対流循環するため所要温度の温風となり、したがって搬送空間を通るガラス基板類は適切な温度勾配で徐冷される。この温風温度はヒータ４３の温度調節により任意に制御することができる。

【００３３】そして、出口域のアッセンブリトレイが図１７のように前送用ウォーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２により出口ラインに搬出されると、出口側トラバース機構Ｊの上下送りモータ３２１’が駆動する。それによって平行アーム３３’，３３’は上昇し、押し上げピン３３０’，３３０’がガラス基板類昇降用孔ｔ３を貫通し、受支面がアッセンブリトレイの下面を支持し、突起３３１’ ，３３１’がトラバース用位置決め孔ｔ２に嵌まる。平行ビーム１２，１２が下降動すると、トレイは平行アーム３３’，３３’に受支され、同時に前記押し上げピン３３０’，３３０’の突出しによりガラス基板類は図１８と図１９の仮想線のように持ち上げられる。この状態で引取り移動機構Ｍが連携作動する。すなわち、モータ２５１’が駆動し、それまで他所に位置していた支え２４’，２４’が図１８のようにガラス基板類位置の下方に移動する。次いで、上下送りモータ３２１’により平行アーム３３’，３３’が下降すると、これと一体の押し上げピン３３０’，３３０’も下降するため、ガラス基板類は下降して支え２４’，２４’に受支される。これでトレイとガラス基板類は自動的に分離される。次いでモータ２５１’が逆方向に駆動することにより支え２４’，２４’はガラス基板類を受支したままガラス基板類冷却機構Ｋの上に移動する。

【００３４】前記のように支え２４’，２４’の移動の後または移動と同期して平行アーム３３’，３３’は横送りモータ２８１’の駆動により出口ラインに対し平行移動し、空トレイは洗浄槽３５へと移送される。この時、洗浄槽近傍のトレイ昇降機構３６では図１９のように平行アーム３７，３７が平行アーム３３’，３３’の高さレベルよりも下位に戻されている。平行アーム３３’，３３’が洗浄槽３５上で停止し、この状態でモータ３６５が駆動することにより平行アーム３７，３７が上昇し、平行アーム３７，３７に設けられている位置決めピン３７０，３７０がトレイの洗浄用位置決め孔ｔ１を貫通する。したがってトレイは平行アーム３７，３７に安定的に位置決めされた状態で受支される。この状態とともに平行アーム３３’，３３’は横送りモータ２８１’の駆動により出口ラインに戻り、次のアッセンブリトレイを受支すべく待機する。

【００３５】平行アーム３３’，３３’の移動後、平行アーム３７，３７はモータ３６５の駆動により図２０のように洗浄槽３５内に沈降し、洗滌液に浸漬されつつ超音波振動の作用で短時間で洗浄され、汚れおよび異物が除去される。一定時間経過し、モータ３６５が駆動することにより平行アーム３７，３７は洗浄槽３５から引き上げられ、図２０の仮想線のように平行アーム３３’，３３’の高さレベルよりも高い位置に移動される。この状態でモータ２８１”の駆動によりリターン用トラバース機構Ｒの平行アーム３３’，３３’が横移動し、平面上で平行アーム３７，３７と交合する。次いで、モータ３６５の駆動により平行アーム３７，３７が元位置まで下降される。それにより、洗浄済みのトレイはガラス類昇降用孔ｔ３とトラバース用位置決め孔ｔ３と平行アーム３３’，３３’の押し上げピン３３０’，３３０’と突起３３１’，３３１’との関係で位置決め受支される。平行アーム３３’，３３’ は次いで横送りモータ２８１”の駆動によりリターンラインに戻り、前記のようにリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１７，１７の動作によりこれに受支換えされられ、これの平行四辺形運動により逆送される。従って、トレイを良好なクリーン度に復元して搬送ラインに戻すことができ、トレイは逆送される過程で自然乾燥されるかまたは乾燥手段４６により強制乾燥される。なお、トレイ洗浄機構Ｈを設けない場合、出口ラインで空トレイを受支した平行アーム３３’，３３’は横送りモータ２８１’の駆動によりリターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’に移動され、平行ビーム１７，１７との相対動作によりこれに受支換えされられ、リターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’により逆送される。

【００３６】一方、ガラス基板類は、この間に前記のように支え２４’，２４’によってガラス基板類冷却機構Ｋの上に移動され、これで直接冷却されてから抽出機構Ｌに移置され、ここで１８０度反転されてから抽出口ｂ’から外部に搬出される。すなわち、上記のようにガラス基板類がガラス基板類冷却機構Ｋのクールボックス３９上に到ると、昇降手段４０が作動して少なくとも４本のピン４００がクールボックス３９上に突出し、それによりガラス基板類は支え２４’，２４’の上に浮かされる。この状態になったときに支え２４’，２４’は出口ラインまたは抽出機構Ｌ上へと移動し、次いで昇降手段４０が後退側に作動することによりガラス基板類は下降してクールボックス３９の受載冷却面３９４に受載される。このクールボックス３９には冷媒が循環されているため、前記工程で徐冷されているガラス基板類は急速に冷却される。所定時間後、昇降手段４０が再び作動することにより、冷却済みのガラス基板類は上昇させられる。ここで支え２４’，２４’は再びクールボックス３９上に移動し、昇降手段４０の下降動により冷却済みのガラス基板類は支え２４’，２４’により受支され、続いて支え２４’，２４’の移動により抽出機構Ｌの上に移送される。この状態が図２１と図２２である。

【００３７】この図２０と図２２ではガラス基板類が２枚の場合を例に取っており、各ガラス基板類Ｗ，Ｗは一枚ずつ幅方向で向かいあっている支え２４’，２４’により一枚ずつ受支されている。上記のようにガラス基板類Ｗ，Ｗが到ると、それ迄待機位置にあった受台４４が反転用アクチュエータ４５の上昇作動により図２３(b)のように支え２４’，２４’の高さレベルよりも上位まで上昇し、それによりガラス基板類Ｗ，Ｗは受台４４で持ち上げられる。この段階で支え２４’，２４’はクールボックス３９方向へと退避する。そこで反転用アクチュエータ４５を回転駆動すれば、ガラス基板類Ｗ，Ｗは受台４４とともに垂直軸線のまわりで180度回転する。これによりガラス基板類Ｗ，Ｗの進行方向はそれまでの向きと逆転する。ついで反転用アクチュエータ４５を下降動すれば、ガラス基板類Ｗ，Ｗは受台４４に受載されたまま降下し、その過程でガラス基板類Ｗ，Ｗは図２３(ｃ）のように多条ベルトコンベア２１’，２１’に置かれる。ガラス基板類Ｗ，Ｗは前記のようにクールボックス３９で十分に冷却されているため、多条ベルトコンベア２１’は熱で損傷されることがない。この状態で多条ベルトコンベア２１’，２１’を駆動することで方向変換されたガラス基板類Ｗ，Ｗは抽出口ｂ’に搬送され、ロード時と同じ方向性を持たされて収納ボックスＱに装入される。すなわち、収納ボックスＱは図２４のように一側のみ開放され内部に受載仕切りｑを多段状に設けた構造となっており、図２５のようにガラス基板類Ｗ，Ｗは所定の方向、この例では最上位のガラス基板類Ｗ１が収納ボックスＱの奥側に、開口側にの方向で納められ、次位のガラス基板類Ｗ２が収納ボックスＱの奥側に、開口側にの方向で納められている。この状態で２枚のガラス基板類Ｗは下位側から取り出され、前記のように挿入口ｂから搬入される。この時のガラス基板類Ｗ１，Ｗ２の方向は下流側から上流側に，である。この状態でトレイに受載され、前記のように加熱、徐冷、冷却される。このまま搬出されて収納ボックスに納められた場合には、次工程で処理装置にロードするときに各ガラス基板類Ｗ１，Ｗ２を収納ボックス取出した後、いちいち１８０度反転してからロードしなければならず極めて煩雑である。本考案では抽出装置に反転機構が設けられているため、前記のように受台４４の上昇・回転によりガラス基板類Ｗ１，Ｗ２は下流側から上流側に，と並ぶことになり、抽出口ｂ’から収納ボックスＱに上段から納められることにより、ガラス基板類Ｗ１が収納ボックスＱの奥側に、開口側にの方向で、次位のガラス基板類Ｗ２が収納ボックスＱの奥側に、開口側にの方向で収納される。従って、次の工程において収納ボックスＱから前工程と同じ方向性でガラス基板類Ｗ１，Ｗ２を取り出すことができる。

【００３８】

【考案の効果】

以上説明した本考案の請求項１によるときには、良好なクリーン度を維持しながらガラス基板類を連続搬送して熱処理することができ、しかもガラス基板類を大きな熱容量のまま常温の炉外に搬出させず、炉内でほどよく降温させてから搬出するため、熱歪による切損の発生を防止することができ、さらに出口ライン上で自動的にトレイから分離されるためウオーキングビーム運動式の連続搬送インターバルを短くすることができるとともに、トレイから分離したガラス基板類を単独で急冷するため、次工程への搬出を迅速に実施でき、全体の熱処理能率の向上を図ることができ、また、トレイが炉内リターンされるのでなく炉外でリターンされるため炉体構造が簡単になるなどのすぐれた効果が得られる。また、請求項５，６によれば、冷却したガラス基板類を１８０度反転してから搬出するため、厳密に規定されているガラス基板類の方向性を的確に維持してロード時と同じ方向で収納ボックスに納めることができ、これにより次工程の処理を円滑に能率よく行うことができるというすぐれた効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案によるガラス基板類の連続熱処理装置の
一実施例を示す平面図である。

【図２】図１の縦断側面図である。

【図３】図１におけるリターンライン縦断側面図であ
る。

【図４】図１の下降エレベータ機構部位の縦断正面図で
ある。

【図５】図１の炉体下部域の部分的横断面図である。

【図６】図１における入口領域の拡大平面図である。

【図７】図６のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。

【図８】図６のＹ−Ｙ線に沿う断面図である。

【図９】図６のＺ−Ｚ線に沿う部分切欠断面図である。

【図１０】図４の部分的拡大図である。

【図１１】トレイとエレベータ機構およびウォーキング
ビーム機構の関係を示す平面図である。

【図１２】トレイの積み上げ状態を示す正面図である。

【図１３】トレイ支持具とトレイ上昇具(トレイ下降具)
の関係を示す部分拡大平面図である。

【図１４】トレイ支持具とトレイ上昇具(トレイ下降具)
によるトレイの受支状態を示す部分的拡大正面図であ
る。

【図１５】本考案で使用するトレイの別の実施例を示す
平面図である。

【図１６】図１５のトレイに使用する平行アームの側面
図である。

【図１７】図１における出口領域の拡大平面図である。

【図１８】図１７の部分的縦断側面図である。

【図１９】トラバース機構とガラス基板類冷却機構と引
取り移動機構の関係を示す部分切欠側面図である。

【図２０】トレイ洗浄機構とトラバース機構の取り合い
を示す縦断側面図である。

【図２１】ガラス基板類抽出機構の詳細を示す平面図で
ある。

【図２２】図２１の縦断正面図である。

【図２３】ガラス基板類抽出機構の作動を段階的に示す
側面図である。

【図２４】トレイ収納ボックスの斜視図である。

【図２５】ガラス基板類抽出機構を使用したときのガラ
ス基板類の移動方向を示す説明図である。

【図２６】本考案におけるトレイ昇降切換え機構の作動
を段階的に示す側面図である。

【図２７】本考案におけるトレイ昇降切換え機構の作動
を段階的に示す正面図である。

【図２８】本考案におけるトレイ昇降切換え機構の作動
を段階的に示す側面図である。

【符号の説明】Ａ炉体Ｂボックス状カバーＣ前送用上側ウォーキングビーム機構Ｃ’ リターン用ウォーキングビーム機構Ｄ下降エレベータ機構Ｅガラス基板類装入機構Ｆガラス基板類引取り移動機構Ｇ入口側トラバース機構Ｊ出口側トラバース機構Ｌガラス基板類抽出機構Ｍガラス基板類引取り移動機構Ｐ徐冷機構ＴトレイＵ上昇エレベータ機構Ｖ昇降切換え機構Ｗガラス基板類ａ入口ａ’ 出口２仕切り３循環撹拌ファン４吹込み口５排風口２１，２１’ 多条ベルトコンベア３９クールボックス４０昇降手段４１横仕切り板４２水冷配管４３ヒータ４４受台４５反転用アクチュエータ３９４受載面

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】左右に入口ａと出口ａ’を有する炉体内
に、ガラス基板類Ｗを受載したトレイＴを順次上昇積載
させる上昇エレベータ機構Ｕと、トレイを積載状態を保
ちつつ順次下降させる下降エレベータ機構Ｄを並列状に
配置する一方、炉体の上部には、上昇エレベータ機構Ｕ
で上昇された積載最上位のトレイを受支しこれを横移送
して下降エレベータ機構Ｄの積載最上位のトレイの上に
受支させるトレイ昇降切換え機構Ｖを設け、炉体Ａ内の
前記両エレベータ機構とクロスする関係位置にはガラス
基板類を受載したトレイを入口から出口方向に搬送する
前送用ウオーキングビーム機構Ｃを設ける一方、炉体外
には前記前送用ウオーキングビーム機構Ｃと平行状にリ
ターン用ウォーキングビーム機構Ｃ’を設け、前記炉体には下降エレベータ機構側の下半ゾーンに雰囲
気強制循環式の徐冷機構Ｐを設け、さらに炉体の出口ラ
インには、前送用ウオーキングビーム機構Ｃからトレイ
を受支換えするとともにガラス基板類を分離するトラバ
ース機構Ｊと、ガラス基板類を受載してこれを直接冷却
するガラス基板類冷却機構Ｋと、前記トラバース機構Ｊ
で分離されたガラス基板類をガラス基板類冷却機構Ｋへ
移送するガラス基板類引取り移動機構Ｌを設けたことを
特徴とするガラス基板類の連続熱処理装置。
【請求項２】徐冷機構Ｐが、トレイの自由な下降を許す
断面積を有し一側に耐熱フィルタ付きの吹込み口４を他
側に排風口５を有する縦筒状の仕切り２と、前記仕切り
２と炉体内壁間の空間に配された循環撹拌用ファン３
と、循環撹拌用ファン３の吐出側の空間に配された水冷
配管４２とを備えている請求項１に記載のガラス基板類
の連続熱処理装置。
【請求項３】水冷配管４２よりも上方の空間が横仕切り
板４１で区画され、その横仕切り板４１より上の空間に
徐冷雰囲気温度調節用のヒータ４３が配されているもの
を含む請求項２に記載のガラス基板類の連続熱処理装
置。
【請求項４】ガラス基板類冷却機構Ｋが、ガラス受載面
３９４を有し内部に冷媒を満たしたクールボックス３９
と、ガラス受載面３９４を貫いて突出可能な作動ロッド
を有するガラス基板類昇降手段４０を備えている請求項
１ないし３のいずれかに記載のガラス基板類の連続熱処
理装置。
【請求項５】炉体の出口ラインの端末にガラス基板類を
水平反転して送り出すガラス基板類抽出機構Ｌを設けて
いるものを含む請求項１ないし４のいずれかに記載のガ
ラス基板類の連続熱処理装置。
【請求項６】ガラス基板類抽出機構Ｌが、多条ベルトコ
ンベア２１’と、多条ベルトコンベア２１’間に配され
たガラス基板類の受台４４と、該受台４４を常態におい
て多条ベルトコンベア２１’の張り側より下位に位置さ
せ、要時に受台４４を多条ベルトコンベア２１’の張り
側より上位に上昇させるとともに回転させる反転用アク
チュエータ４５を備えている請求項５に記載のガラス基
板類の連続熱処理装置。