JPH0715742U - ガラス基板類の連続熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】左右に入口ａと出口ａ’を有する炉体内に、ガ
ラス基板類Ｗを受載したトレイＴを順次上昇積載させる
上昇エレベータ機構Ｕと、トレイを下降させるエレベー
タ機構Ｄを配置する一方、炉体の上部には、上昇エレベ
ータ機構Ｕで上昇された積載最上位のトレイを受支しこ
れを横移送して下降エレベータ機構Ｄの積載最上位のト
レイの上に受支させるトレイ昇降切換え機構Ｖを設け、
炉体Ａの下部には、両エレベータ機構とクロスする関係
位置に、ガラス基板類を受載したトレイを入口から出口
方向に搬送する上側ウオーキングビーム機構Ｃと、空ト
レイを出口から入口方向に搬送する下側ウォーキングビ
ーム機構Ｃ’を設け、出口ラインには、上側ウオーキン
グビーム機構Ｃからトレイを受支換えするとともにガラ
ス基板類を分離するトラバース機構Ｊより成るガラス基
板類の連続熱処理装置。 【効果】クリーンな雰囲気下で、効率的に熱処理が行な
える。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は主として液晶ディスプレイデバイス用ガラス基板類の連続熱処理装置 に関する。

【０００２】

【従来の技術及びその技術的課題】

液晶ディスプレイデバイス(ＬＣＤ)の製造工程においては、ガラス基板を洗浄 し乾燥したのち、微細高精度な透明電極や対向電極を形成し、そのガラス基板に 分子配向層を形成してラビングした後加熱焼成し、次いで２枚のガラス基板の一 方にシール剤を塗布し、この基板または他方の基板にスペーサを塗布し、位置合 せを行った後加熱焼成して封着することが必要である。 このようなガラス基板の熱処理は、一般にトレイ(パレット）にガラス基板を 受載させて加熱室内を搬送することにより実施されるが、その際に表面欠陥を生 じさせないように、また回路のショート等が生じないようにきわめて高いクリー ン度が要求される。 しかし従来の連続加熱装置においては、被処理物を収容したトレイの搬送手段 としてベルトコンベア式やプッシュロッド式などが採用されており、このため摺 動部が不可避的に存在し、搬送手段の要素同士、あるいは搬送手段とトレイとの 摺動によって摩耗粉が発生し、その摩耗粉によって雰囲気が乱されたり汚損され る問題があった。また、連続加熱装置が水平方向で大型化するため設置スペース が大きくとられるとともにクリーンルームも容積が大きくなり、浄化装置も大型 するという問題があった。 この対策として本考案者は、特願平４−１７７７５４号において、ガラス基板 類を収容したトレイをウオーキングビームの平行四辺形運動で炉内に挿入し、こ こで上昇用エレベータ機構によりトレイを順次高さ方向に多段状に積み上げ、最 上位のトレイを切換え機構により相対摺動なしに平行移動させ、下降用エレベー タ機構により順次多段状に積み重ねながら下降させ、最下段のトレイをウオーキ ングビームの上記運動により炉外に移動させるようにした装置を提案した。これ により、トレイ搬送系の摺動とそれに起因する塵埃の発生が防止されるためクリ ーンな雰囲気にて能率よく熱処理や熱加工を行うことがで可能となった。

【０００３】 しかしながら、上記先行技術では、加熱されたガラス基板類の冷却について開 示がなく、ガラス基板類はトレイに受載された状態でアンローダ口に持ち出され るだけであった。このため大きな熱容量を有しており、アンローダ口で十分な放 冷時間をおかないとガラス基板類の温度が下がらないため、トレイから分離する ことはできない。空トレイは炉内をローダ側に移動するため、ガラス基板類の温 度が低下するまでの間はトレイ循環機構の作動は休止することになるになるため 、加熱処理系全体の能率の低下を招き、また広い放冷スペースを必要とするため 装置が大型となり、さらに、作業員が手でトレイからガラス基板を取出す必要が あるため、煩雑で手間がかかるという問題があった。 この対策としては、アンローダ口でガラス基板類を冷風等により冷却すること が考えられるが、２００℃以上に加熱されたガラス基板類が急冷による熱衝撃や 熱歪により切損や切欠きなどを起こし、不良品発生率が増すという不具合が生ず る。 またガラス基板類は、構造や機能などから、上下、左右が厳密に決められてお り、全工程が終わるまで方向性が変化してはならない。一方、ガラス基板類の加 熱は洗浄後の乾燥、配向膜の焼き付け、ラビング後の乾燥、シール剤の乾燥など 各工程ごとに実施され、各工程ごとに多段状の収納ボックスに納められ、次の工 程でこれから取り出される。しかし先行技術では単にアンローダ口にトレイとと もに搬出されるだけであるため、作業員の操作ミスによりガラス基板類の方向性 に食い違いが生じやすく、方向性が変わった状態で収納ボックスに納められ、次 工程に移るまでに煩雑で時間のかかる方向修正を行わなければならないという問 題があった。

【０００４】 本考案は前記のような問題点を解消するために創案されたもので、その第１の 目的は、摺動とそれに起因する塵埃の発生を防止しきわめてクリーンな雰囲気に て能率よくガラス基板類の熱処理や熱加工を行うことができることに加え、切損 や切欠きなどのトラブルを起こさせずにガラス基板類を短時間で小スペースで適 切に冷却し、搬出を容易化と熱処理サイクルを能率化を達成できるガラス基板類 の連続熱処理装置を提供することにある。 また、本考案の第２の目的は、上記に加えて、ガラス基板類を規定の方向性を 持たせてアンロードすることができ、次工程の作業をスムーズに能率よく行うこ とができるガラス基板類の連続熱処理装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

上記第１の目的を達成するため本考案は、左右に入口と出口を有する炉体内に 、ガラス基板類を受載したトレイを順次上昇積載させる上昇エレベータ機構と、 トレイを積載状態を保ちつつ順次下降させる下降エレベータ機構を並列状に配置 する一方、炉体の上部には、上昇エレベータ機構で上昇された積載最上位のトレ イを受支しこれを横移送して下降エレベータ機構の積載最上位のトレイの上に受 支させるトレイ昇降切換え機構を設け、炉体の下部には、前記両エレベータ機構 とクロスする関係位置に、ガラス基板類を受載したトレイを入口から出口方向に 搬送する上側ウオーキングビーム機構と、空トレイを出口から入口方向に搬送す る下側ウォーキングビーム機構を設け、前記炉体には下降エレベータ機構の下半 にゾーン雰囲気強制循環式の徐冷機構を設け、さらに炉体の出口ラインには、上 側ウオーキングビーム機構から受支換えするとともにガラス基板類を分離するト ラバース機構と、ガラス基板類を受載してこれを直接冷却するガラス基板類冷却 機構と、前記トラバース機構で分離されたガラス基板類をガラス基板類冷却機構 へ移送するガラス基板類引取り移動機構を設けたものである。 また、第２の目的を達成するため本考案は、炉体の出口ラインの端末にガラス 基板類を水平反転して送り出すガラス基板類抽出機構Ｌを設けたものである。 本考案において「ガラス基板類」は、ガラス基板のほかカラーフィルタなどさ らには平坦状の電子回路基板などを含むものである。

【０００６】

【実施例】

以下本考案の実施例を添付図面に基いて説明する。 図１ないし図３は本考案による一実施例を示しており、図４ないし図２３はそ の詳細を示している。 Ａは断熱材などで構築された炉体であり、フレームによって所要高さレベルに 支持され、下部両側には入口ａと出口ａ’とが同軸上に設けられている。入口ａ は所要長さの筒状をなす入口域を介して炉内に通じ、出口ａ’も筒状の出口域を 介して炉内に通じている。炉体はトレイＴが少なくとも平行状に２列互いに干渉 しあわないでかつ高さ方向に所定段数積み上げられ得る容積を有している。 炉体Ａ内には縦筒状の仕切り２が設けられている。この仕切り２はトレイ上昇 側とトレイ下降側間を区画する中間縦仕切り２００を有しており、中間縦仕切り ２００と同位置には図４のように炉内壁に達する外縦仕切り２００’を有してい るしたがって、トレイ上昇側とトレイ下降側には、図２ないし図４のように、炉 内壁とのあいだにそれぞれ通風空間が画成されており、さらにそれら通風空間は 、図２と図３のように複数の横仕切り２０１，２０１によって上下方向で区画さ れ、これによってトレイ上昇側の通風空間とトレイ下降側の通風空間はそれぞれ 複数段(図示するものでは3段)に区画されている。 トレイ上昇側の全段の通風空間とトレイ下降側の上段から所要段の通風空間に は、それぞれ一側に循環撹拌ファン３が設けられており、循環撹拌ファン３とた とえば９０度変位した位置の仕切り２には耐熱フィルタ付きの吹込み口４が設け られるとともに、これと対峙する位置に排風口５が設けられており、かつ少なく とも循環撹拌ファン３の吐出口から耐熱フィルタ付吹込み口４に到る領域にヒー タ１が配設されている。これによりヒータ１と発熱量と循環撹拌ファン３の駆動 で所要温度の雰囲気が耐熱フィルタ付吹込み口４から仕切り２内の搬送用空間に 送り込まれ、積載状の各トレイＴの空隙に流通した後、排風口５から循環撹拌フ ァン３に吸い込まれて強制循環させられるようになっている。 一方、トレイ下降側の下半段すなわち少なくとも最下段の通風空間には徐冷機 構Ｐが設けられている。この徐冷機構Ｐはまず図３と図４のように、通風空間一 側の循環撹拌ファン３と、これとたとえば９０度変位した位置の仕切り２に設け られた耐熱フィルタ付きの吹込み口４と、これと対峙する位置の排風口５と、耐 熱フィルタ付きの吹込み口４の背方から炉内壁に達する横仕切板４１を有してい る。そして、当該通風空間の横仕切り２０１に対応する仕切り２内にはトレイＴ の通過を許す限度で内側に張出す内フランジ状の遮熱板４１０が設けられ、これ によりトレイ下降側空間を区切り、隣接する加熱用ゾーンからの熱影響を低減さ せるようにしている。 前記横仕切板４１は断熱機能を有し、当該通風空間の全部でなく所要範囲たと えば循環撹拌ファン３の吐出側から外縦仕切り２００’までの範囲を上ゾーンｐ と下ゾーンｐ’に区画している。そして、下ゾーンｐ’には、耐熱フィルタ付き の吹込み口４の背方にいたる範囲にフィン付きの水冷配管４２が配置されており 、水冷配管４２は図３のように後述するトレイ支持具よりも下のレベルに達して いる。水冷配管４２の両端は炉外の水循環系４２０に接続されている。これに対 し、上ゾーンｐには同様に耐熱フィルタ付きの吹込み口４の背方にいたる範囲に フィン付きシーズ型のヒータ４３が配設され、外部の図示しない加熱温度制御系 と接続されている。 Ｂは炉体Ａの周りに所要の大きさの処理室を形成するように囲繞するボックス 状カバーであり、前記入口ａと同軸上の側壁位置には被処理物としてのガラス基 板類Ｗの装入口ｂが設けられ、出口ａ’と同軸上の側壁には熱処理を終えたガラ ス基板類Ｗの抽出口ｂ’が設けられている。いうまでもなくボックス状カバーは クリーンルームに設置され、処理室はフィルタなどを介して高純度のエアや雰囲 気ガスが満たされている。

【０００７】 トレイＴはガラス基板類Ｗを受載する治具であり、ステンレス板など機械的強 度が良好な材料により平面矩形状に構成されている。トレイＴは安定して多段積 載を行えかつその状態で加熱雰囲気がまんべんなく流通するようにすべく、図１ ０ないし図１５に示すように、各隅部に所要高さの支柱６が設けられている。 この実施例では、図１５のようにトレイＴは周縁部に囲壁を有し、支柱６は、 トレイＴの下面に接するフランジ６００を有する第１部体６ａと、トレイＴの上 面に接する板部６０１とトレイ板厚を貫いて第１部体６ａに螺合するねじ軸６０ ２を有する第２部体６ｂとを有しており、第１部体６ａの端面と第２部体６ｂの 板部６０１には位置決め用の凹部と凸部が設けられている。 前記トレイＴは、図１０のように所定の間隔で複数組の孔ｔ１，ｔ２，ｔ３が 設けられている。ｔ１は洗浄用位置決め用孔で、各支柱６に近い位置に等間隔で 配されている。ｔ２はトラバース用位置決め孔であり、前記洗浄用位置決め孔ｔ １よりも幅方向で内側位置に等間隔で配されている。ｔ３はガラス基板類昇降用 孔であり、前記トラバース用位置決め孔ｔ２と幅方向で同一線上でかつ長さ方向 では内側位置に等間隔で配されている。このガラス基板類昇降用孔ｔ３は同時に 位置決め孔も兼ねている。 図１１においては、トレイＴはガラス基板類昇降用孔ｔ３を中心から左右に２ 組ずつ有している。これはガラス基板類Ｗを２枚同時にも受載して熱処理できる ようにするためである。

【０００８】 Ｕは上昇エレベータ機構であり、図２のように入口域に近い領域に配置されて いる。Ｄは下降エレベータ機構であり、出口域に近い領域に前記上昇エレベータ 機構Ｕと並列状に配置されている。Ｖは炉体の上部領域において前記両エレベー タ機構とクロスする関係に配置された昇降切換え機構である。 Ｃは入口ａから出口ａ’間に前記両エレベータ機構とクロスする関係で配置さ れた上側ウォーキングビーム機構、Ｃ’は同様に入口ａから出口ａ’間に前記両 エレベータ機構とクロスする関係で配置された下側ウォーキングビーム機構であ る。 Ｅは装入口ｂに配置されたガラス基板類装入機構、Ｆは前記ガラス基板類装入 機構Ｅからガラス基板類Ｗを受けとって入口ラインすなわち上側ウォーキングビ ーム機構の上方に移送するガラス基板類引取り移動機構、Ｇは下側ウォーキング ビーム機構Ｃ’からトレイＴを受取り、上側ウォーキングビーム機構Ｃへと移送 させる入口側トラバース機構である。この実施例では入口側トラバース機構はま た入口ラインと平行な方向にトレイを移動する手段を兼ねているが、これに限定 されるものではない。 Ｈは出口ａ’の側方の処理室内に必要に応じて配置されるトレイ洗浄機構であ り、この実施例では図１のように出口ラインの両側に１つずつ配置されているが 、片側だけでもよい。 Ｊは出口ラインにおいて上側ウォーキングビーム機構ＣからトレイＴを受取っ て下側ウォーキングビーム機構Ｃ’へと移置させるための出口側トラバース機構 である。この実施例では出口側トラバース機構ＪはトレイＴを受取って出口ライ ンとトレイ洗浄機構Ｈの間で平行移動し得るようにしているが、これに限定され るものではない。 Ｌは抽出口ｂ’に配置されたガラス基板類抽出機構、Ｋはガラス基板類抽出機 構Ｌよりも上流側の出口ライン上に設けられたガラス基板類冷却機構、Ｍは出口 側トラバース機構Ｊからガラス基板類を受取ってガラス基板類冷却機構Ｋとガラ ス基板類抽出機構Ｌへ順次移送するためのガラス基板類引取り移動機構である。

【０００９】 上昇エレベータ機構Ｕは、図２に示す上側ウォーキングビーム機構Ｃの上昇位 置よりやや上位レベルにおいて垂直軸線のまわりで回動自在な複数のトレイ支持 具７を有している。それらトレイ支持具７は、図示するものでは４つであり、そ れぞれ図１０と図１４および図１５のように、幅と長さ寸法が異なるたとえば長 方形状のプレートないしブロックとして構成され、長片が内方に向いた時にトレ イＴの隅部底面すなわち支柱フランジ６００を支え、長片がたとえば９０度回転 したときにトレイＴの支えを解除しうるようになっている。トレイ支持具７の自 由端付近には支柱６の第１部体６ａに横から係脱する溝７００が設けられている 。 前記トレイ支持具７は、図２と図３のように炉体Ａの下方から炉床を貫いて 伸びる複数本(図面では4本)の支持ロッド７０１の上端に取付けられており、各 支持ロッド７０１は炉床ｃの下方に横架された横梁７０２に中間を保持され、下 端がベースフレームに設けた軸受で支承され、軸受の近傍に回転要素たとえばベ ーベルギヤ７０３が取付けられ、駆動側のベーベルギヤ７０４を図示しないロー タリアクチュエータで一斉に駆動するようにしている。ロータリアクチュエータ は各支持ロッドごとでもよいし２本ずつあるいは全体を一基で作動させてもよい 。

【００１０】 上昇エレベータ機構Ｕはさらに、前記トレイ支持具７よりも下位すなわち常態 において上側ウォーキングビーム機構Ｃの後述する平行ビーム１２，１２の上昇 時受支面よりも下位レベルに位置し、平行ビーム１２，１２の下降時にトレイＴ を受取り前記トレイ支持具７に向かって上昇させるトレイ上昇具９が配されてい る。 前記トレイ上昇具９は少なくとも一対からなり、側面側から見て前記支持ロッ ド７０１の内側(正面側では図３のように支持ロッド７０１とほぼ同一垂直面上 にある）に配されている。各トレイ上昇具９はプレート状ないし爪状をなし、先 端部にトレイＴの支柱６に対するボス状の支え９００を有し、その支え９００は 支柱端面の凸部が嵌ま凹部を有している。 トレイ上昇具９は、複数組(図面では２組)の支持シャフト９０１の上端に固定 されており、支持シャフト９０１はトレイ上昇具９が常態において上側ウォーキ ングビームＣの上限位置よりも下位にあり、このレベルから図１５のようにトレ イ支持具７の近傍レベルまで昇降できるように、炉床ｃを貫いて炉内に伸び駆動 機構に連結されている。 この実施例では支持シャフト９０１は横梁７０２を貫いて伸び、連結板９０２ によって結合され、その連結板９０２が昇降用アクチュエータ９０３によって作 動させられるようになっている。昇降用アクチュエータ９０３は油圧シリンダな ど任意であるが、この実施例ではモータが使用され、その出力側に連結したボー ルスクリュー軸９０４が横梁７０２に軸受で保持され、ボールスクリュー軸９０ ４に連結板９０２に固定した雌ねじ部材９０５が螺合している。 なお、図９のように入口領域と出口領域の高さ方向中間から上には中位フレー ム１０を介して固定トレイ支え８’が設けられている。この固定トレイ支え８’ は複数本のピンまたは平行プレートからなり、上側ウォーキングビーム機構Ｃに より入口ａから装入されたトレイ、炉内から出口ａ’に運ばれる前のトレイＴを 上側ウォーキングビーム機構Ｃの下降時に支えるためのものである。 また、入口領域と出口領域、および上昇エレベータ機構下方と下降エレベータ 機構下方の各炉床部位には、下側ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１７ ，１７の上昇レベルよりも低く下降レベルよりも高い固定トレイ支え８が配置さ れており、下側ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行四辺形運動の際にトレイをそ れぞれの位置で受支するようになっている。

【００１１】 下降エレベータ機構Ｄは前記上昇エレベータ機構Ｕと構成は同じであり、上側 ウォーキングビーム機構Ｃの上限レベルよりやや上位で間隔的に配置され、トレ イＴを積載状に支えるとともに垂直軸線のまわりで９０度以上回転してトレイＴ の支えを解除しうるトレイ支持具７’と、該トレイ支持具７’よりも下位にあっ てトレイＴを支えつつトレイ支持具７’に向かって上昇させるトレイ下降具９’ とを備えている。 それらトレイ支持具７’およびトレイ下降具９’は構造的には上昇エレベータ 機構Ｕと同じであり、したがって、同じ部分にカンマ付きの符号を付し、説明は 省略する。 なお、この実施例では上昇エレベータ機構Ｕと下降エレベータ機構Ｄの位置で のトレイ支えとしてトレイ上昇具９とトレイ下降具９’を用いているが、場合に よっては中位フレーム１０を介して固定トレイ支えを設けてもよいことは勿論で ある。この場合トレイ上昇具９とトレイ下降具９’は固定トレイ支えよりも適度 に下のレベルで待機する。

【００１２】 次に、トレイ昇降切換え機構Ｖは、前記上昇エレベータ機構Ｕで積載された最 上位のトレイを受取り、これを下降エレベータ機構Ｄに積載されている最上位の トレイに横送りするための手段であり、上昇エレベータ機構Ｕと下降エレベータ 機構Ｄと協働してウオーキングビーム運動を行い、摺動を伴わずにトレイを移置 するものである。 このトレイ昇降切換え機構Ｖは、図２と図３、図２５ないし図２７のように炉 体天井部に近いレベルにおいて、前記上昇エレベータ機構Ｕおよび下降エレベー タ機構Ｄと直交するように炉体側壁を貫通し、しかも図３のように互いの間隔が トレイＴの幅よりも少し大きい２本の横ビーム１１，１１と、この横ビーム１１ ，１１にそれぞれ固定され、トレイＴ幅寸法内に突出する寸法を持ったトレイ受 け具１１０，１１０と、２本の横ビーム１１，１１を所定のプログラムに従って 軸線方向に正逆移動させる駆動手段とを有している。 駆動手段は任意であるが、この実施例ではねじ送り方式を採用しており、炉体 Ａの外側またはボックス状カバーに架台１１２を固定し、これにモータ１１１で 駆動回転されるボールスクリューねじ１１３を横架するとともに、ボールスクリ ューねじ１１３に横ビーム１１，１１の後端と結合しためねじ部材１１４を螺合 している。 そして、横ビーム１１，１１の先端側にはスライダ１１５が設けられ、炉体Ａ の外側またはボックス状カバーに固定したガイドブロック１１２’によってガイ ドされるようになっている。なお、前記仕切り２は横ビーム１１，１１とトレイ Ｔが自由に移動しうるように窓孔を有している。

【００１３】 次に上側ウォーキングビーム機構Ｃは、時計方向での上昇−前進−下降−後退 の平行四辺形運動により操業中ではトレイＴを入口ラインから入口ａを経て入口 域そして上昇エレベータ機構部位へと移送させ、また下降エレベータ機構Ｄで下 降送りされてきた積載最下位のトレイを出口域、次いで出口ａ’を介して出口ラ インへと搬出するためのものである。これに対して、下側ウォーキングビーム機 構Ｃ’は反時計方向で上昇−前進−下降−後退の平行四辺形運動することにより 、ガラス基板類Ｗを分離した空トレイＴを出口ラインから出口域、炉内そして入 口域さらに入口ａを介して入口ラインにリターンするためのものである。 まず、上側ウォーキングビーム機構Ｃは、入口ａと出口ａ’を貫通する長さの ２本の平行ビーム１２，１２を有している。詳細には、平行ビーム１２，１２は 常に前記トレイ支持具７，７’より低いレベルにあり、また幅方向では図３のよ うに支持ロッド７０１，７０１’の内側位置にあり、かつ、互いの間隔がトレイ Ｔの幅より小さい寸法にある。平行ビーム１２，１２は好ましくは長手方向両端 部がそれぞれ横梁によつて連結され、全体として長尺枠状となっている。 入口ラインと出口ラインのフレームＦには平行ビーム１２，１２の真下ないし 下側方に２本一組のガイドレール１３，１３’がそれぞれ架台を介して敷設され ている。このガイドレール１３，１３’に油圧式または機械式のジャッキ１４， １４’が左右２個ずつ摺動可能に取付けられており、ジャッキ１４，１４’の各 作動ロッドは平行ビーム１２，１２の長手方向端部ないしこれに付設した張出し 部材に連結しており、したがってジャッキ１４，１４’の同期作動によって平行 ビーム１２，１２はトレイ上昇具９やトレイ下降具９’の上面より少し上に達す る寸法だけ上昇される。 そして、片側(この例では入口ライン側)の２本のガイドレール１３にはブラケ ットを介してそれぞれモータ１６によって駆動回転されるボールスクリュー軸１ ６０が支架され、そのボールスクリュー軸１６０にジャッキ１４の基部に固定し た図示しないめねじ部材が係合している。したがって、平行ビーム１２，１２は 、モータ１６の同期駆動により、入口ライン側に突出した状態から図１と図２に 示すように出口ラインに突出した状態となるようにストロークされる。

【００１４】 下側ウォーキングビーム機構Ｃ’も同様に入口ａと出口ａ’を貫通する２本の 平行ビーム１７，１７を有し、好ましくは長尺枠状をなしている。この平行ビー ム１７，１７は常に高さ方向では前記トレイ上昇具９(トレイ下降具９'）よりも 低位レベルにあり、また幅方向では図３のように固定トレイ受け８，８’の内側 にある。 入口ラインと出口ラインには、平行ビーム１７，１７の直下または下側方(い ずれも前記ガイドレール１３，１３’よりも内側)に、前記架台を介して２本一 組のガイドレールが敷設され、それらガイドレールに油圧式または機械式のジャ ッキ１８，１８’が左右２個ずつ摺動可能に取付けられている。ジャッキ１８， １８’の各作動ロッドは各平行ビーム１７，１７の長手方向端部に連結しており 、したがってジャッキ１８，１８’の同期作動によって平行ビーム１７，１７は 固定トレイ支え８の上端より少し上のレベルに到る寸法だけ上昇される。 そして、片側の２本のガイドブロックの下には、ブラケットを介してそれぞれ モータ１９の出力部と連結したボールスクリュー軸１９０が横架され、そのボー ルスクリュー軸１９０にジャッキ１８の基部に固定した図示しないめねじ部材が 係合している。したがって、下側の平行ビーム１７，１７は、２つのモータ１９ の同期駆動によって、出口ラインへの突出状態から、図２に示すような入口ライ ン突出状態になるようストロークされる。

【００１５】 ガラス基板類装入機構Ｅは、装入口ｂからガラス基板類Ｗを引込みかつこれを 引込み位置で上昇させる手段であり、図１と図５に示されているように、ボック ス状カバーＢの装入口ｂの直近から炉体入口方向に伸び、かつ高さ方向では図２ と図８のように上側ウォーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２とほぼ同 等のレベルに設けられている。ガラス基板類装入機構Ｅは、この実施例では、フ レーム等に支えられた架台２０にＯリングベルトなどをガラス基板類Ｗの幅より も狭い間隔に設定した多条ベルトコンベア２１を配置し、多条ベルトコンベア２ １の近傍にペンシン型などの押上げ用シリンダ２２，２２を配置している。 押上げ用シリンダ２２，２２は少なくとも４本(2枚のガラス基板類Ｗを同時処 理する場合は少なくとも8本)であり、押上げピン２２０はそれぞれトレイＴの前 記孔ｔ１，ｔ２，ｔ３のいずれとも位相がずれた間隔で配置され、常態において 多条ベルトコンベア２１の張り側より下位のレベルにある。

【００１６】 ガラス基板類引取り移動機構Ｆは、前記ガラス基板類装入機構Ｅの押上げピン ２２０で持ち上げられたガラス基板類Ｗを受支して入口ライン(上下の平行ビー ム12,12,17,17のストローク位置)に移動するための手段であり、図１、図２、図 ５ないし図８に示されている。 このガラス基板類引取り移動機構Ｆは、ボックス状カバーＢの装入口ｂの直近 から炉体入口方向に伸びるように架設された２条の平行ガイドレール２３，２３ と、それら平行ガイドレール２３，２３に基部２４０をもって摺動可能に取り付 けられた爪状または板状の支え２４，２４と、平行ガイドレール２３と平行に配 され、支え２４の基部２４０を螺通するボールねじ２５とこれを駆動するモータ ２５１を備えている。 平行ガイドレール２３，２３は図５のようにトレイＴの幅よりも広い間隔を有 し、支え２４，２４の支え面はガラス基板類Ｗの両側下面を支えうるように張出 し、かつ、前記多条ベルトコンベア２１の張り側および平行ビーム１２，１２の 上昇レベルよりも高いレベルにあり、支え２４，２４は前記モータ２５１の駆動 により図４の実線で示すガラス基板類装入機構直上位置(引取り位置)と仮想線で 示す前送位置の間で往復動自在となっている。

【００１７】 入口側トラバース機構Ｇは、基本的には下側ウォーキングビーム機構Ｃ’でリ ターンされたトレイを受けとって上側ウォーキングビーム機構Ｃに受支させるべ く上昇させるエレベータ手段であるが、これに加えて前記ガラス基板類引取り移 動機構Ｆと協働してガラス基板類ＷをトレイＴに受載させる手段も兼ねている。 この実施例では、さらには新たなトレイまたは補修したトレイを外部から熱処理 ラインに供給する手段をも兼ねている。 入口側トラバース機構Ｇは、従ってこの実施例では昇降可能かつ平行移動可能 であり、図１、図２、図５および図８のように、ボックス状カバーＢの装入口側 壁面と平行状の梁フレーム２６に横架された上下の横ガイドレール２７，２７と 、それら横ガイドレール２７，２７に背部をもって摺動可能に保持されかつ横ガ イドレール２７，２７間に横架したボールねじ２９に螺合する雌ねじ部材２８０ を備えた第１フレーム２８と、雌ねじ部材２８０を駆動する横送り用モータ２８ １と、第１フレーム２８の前部側に設けた縦ガイドレール３０，３０に背部をも って摺動可能に保持されかつ縦ガイドレール３０，３０に縦架したボールねじ３ １に螺合する雌ねじ部材３２０を備えた第２フレーム３２と、雌ねじ部材３２０ を駆動する上下送り用モータ３２１と、第２フレーム３２に基部が固定された２ 本の平行アーム３３，３３からなっている。横ガイドレール２７，２７は前記ガ ラス基板類装入機構Ｅよりも下位にあり、長手方向ではボックス状カバーＢの他 側壁ｂ₁の近くまで伸びている。昇降機能だけの場合には縦ガイドレール３０， ３０が梁フレーム２６に固定される。 平行アーム３３，３３は図５のように上側ウォーキングビーム機構Ｃの平行ビ ーム１２，１２の間隔Ｌ₁よりも狭く、下側ウォーキングビーム機構Ｃ’の平行 ビーム１７，１７の間隔Ｌ₂よりも広い間隔、すなわちトレイＴのトレイトラバ ース時位置決め用孔ｔ１とガラス基板類昇降用孔ｔ３に対応する間隔Ｌ₃を有し 、さらに平行アーム３３，３３は上面すなわちトレイ受支面に、トレイのトラバ ース用位置決め用孔ｔ１に合致する間隔で位置決め用の突起３３１，３３１が設 けられ、また、ガラス基板類昇降用孔ｔ３に合致する間隔で押し上げピン３３０ ，３３０が突設されている。図１１のトレイの場合には図１２のように片側４本 ずつの押し上げピン３３０が設けられる。 平行アーム３３，３３は、常態において下側ウオーキングビーム機構Ｃ’の平 行ビーム１７，１７（上昇位置）の受支面よりも適度に下のレベルに位置し、前 記上下送り用モータ３２１の駆動により上側ウオーキングビーム機構Ｃの平行ビ ーム１２，１２(下降位置)の受支面より高いレベルに上昇するストロークが設定 される。平行アーム３３，３３は前記上昇時にガラス基板類装入機構Ｅと衝突し ない幅方向間隔を有していれば水平状でもよいが、この実施例では上昇時にガラ ス基板類装入機構Ｅと衝突しないように高さ方向で段差を設けている。 平行アーム３３，３３は第１フレーム２８の移動によって図１と図４のように ボックス状カバーＢの他側壁ｂ₁の近くに平行移動された状態で新規なトレイま たは補修済みのトレイを処理系に取り入れることができるようにするため、他側 壁ｂ₁にはスライド式またはヒンジ式に開閉自在なトレイ挿入口３４が設けられ ている。 なお、入口側トラバース機構Ｇと後述する出口側トラバース機構Ｊの昇降駆動 手段、および上側、下側の平行ビーム１２，１２，１７，１７の軸線方向移動用 の駆動手段は実施例のようにボールスクリュー式に限定されず、油圧シリンダ式 などであってもよい。

【００１８】 トレイ洗浄機構Ｈと、出口側トラバース機構Ｊと、ガラス基板類冷却機構Ｋと 、ガラス基板類抽出機構Ｌおよびガラス基板類引取り移動機構Ｍの詳細は図１６ ないし図２２に示されている。 トレイ洗浄機構Ｈは、この実施例では２基であり、それぞれ炉体出口ラインの 側方のフレーム上に据え付けられた洗浄槽３５と、これの近傍に設置され出口側 トラバース機構Ｊで搬送されたトレイＴを受支して洗浄槽３５に浸漬させるため のトレイ昇降機構３６を備えている。洗浄槽３５は洗浄液３５１が満たされ、内 底など適所に超音波発振器３５０が取り付けられている。 トレイ昇降機構３６は、反出口側トラバース機構側の位置に立設された架台３ ６０と、架台３６０に設けた縦ガイドレール３６１，３６１に背部を持って摺動 可能に保持され、かつ縦ガイドレール３６１，３６１間に縦架したボールねじ３ ６２に螺合する雌ねじ部材３６３を有するスライド３６４と、ボールねじ３６２ を駆動するモータ３６５と、このスライド３６４の前部に固定された平行アーム ３７，３７とを有している。 前記平行アーム３７，３７は図１のように出口側トラバース機構Ｊの後述する 平行アーム３３’，３３’よりも広い間隔すなわち、前記したトレイＴの洗浄用 位置決め孔ｔ１に対応する間隔を有し、受支面には洗浄用位置決め孔ｔ１に合致 する位置決めピン(突起でもよい）３７０，３７０を突設している。

【００１９】 出口側トラバース機構Ｊは、基本的には上側ウォーキングビーム機構Ｃによっ て出口ラインに搬出されたトレイＴを受けとって下側ウォーキングビーム機構Ｃ ’に受支させるべく下降移動するエレベータ手段であるが、これに加えてガラス 基板類引取り移動機構Ｍと協働してトレイＴをガラス基板類と分離する機能を有 している。また、この実施例では、ガラス基板類を分離した空トレイを前記トレ イ洗浄機構Ｈに横送りし、洗浄した空トレイを再び出口ラインに戻す機能を有し ている。 該出口側トラバース機構Ｊは前記入口側トラバース機構Ｇと同様な構造である 。すなわち、ボックス状カバーＢの抽出口側壁面と平行状の梁フレーム２６’に 横架された上下の横ガイドレール２７’，２７’と、それら横ガイドレール２７ ’，２７’に背部をもって摺動可能に保持されかつ横ガイドレール２７’，２７ ’間に横架したボールねじ２９’に螺合する雌ねじ部材２８０’を備えた第１フ レーム２８’と、雌ねじ部材２８０’を駆動する横送り用モータ２８１’と、第 １フレーム２８’の前部側に設けた縦ガイドレール３０’，３０’に背部をもっ て摺動可能に保持されかつ縦ガイドレール３０’，３０’に縦架したボールねじ ３１’に螺合する雌ねじ部材３２０’を備えた第２フレーム３２’と、雌ねじ部 材３２０’を駆動する上下送り用モータ３２１’と、第２フレーム３２’に基部 が固定された２本の平行アーム３３’，３３’からなっている。 横ガイドレール２７’，２７’は前記ガラス基板類抽出機構Ｌとガラス基板類 冷却機構Ｋよりも下位にあり、長手方向ではボックス状カバーＢの前後側壁ｂ₁ ，ｂ₂の近くまで伸びている。 平行アーム３３’，３３’は図１７のように上側ウォーキングビーム機構Ｃの 平行ビーム１２，１２の間隔よりも狭く、下側ウォーキングビーム機構Ｃ’の平 行ビーム１７，１７の間隔よりも広い。すなわちトレイＴのトラバース用位置決 め用孔ｔ１とガラス基板類昇降用孔ｔ３に対応する間隔を有している。また、平 行アーム３３’，３３’はトレイ受支面にトラバース用位置決め孔ｔ１に合致す る間隔の位置決め用の突起３３１’，３３１’が設けられ、また、ガラス基板類 昇降用孔ｔ３に合致する間隔の押し上げピン(または突起)３３０’，３３０’が 突設されている。 平行アーム３３’，３３’は、常態において下側ウオーキングビーム機構Ｃ’ の平行ビーム１７，１７（上昇位置）の上面よりも適度に下のレベルに位置し、 前記上下送り用モータ３２１’の駆動時に上側ウオーキングビーム機構Ｃの平行 ビーム１２，１２(上昇位置)の上面より高いレベルに上昇するストロークが設定 される。平行アーム３３’，３３’は前記上昇時にガラス基板類冷却機構Ｋと衝 突しないように高さ方向で段差を有している。 平行アーム３３’，３３’は第１フレーム２８’の移動によってトレイ洗浄機 構Ｈに平行移動されるが、トレイ洗浄機構Ｈはボックス状カバーＢの前後側壁ｂ ₁ ，ｂ₂に近接しており、そこで、その他側壁ｂ₁，ｂ₂にはスライド式またはヒン ジ式に開閉自在なトレイ取出し口３８，３８が設けられ、洗浄したトレイあるい は洗浄しないままのトレイを回収できるようにしている。

【００２０】 本考案で特徴とするガラス基板類冷却機構Ｋとガラス基板類抽出機構Ｌは図１ と図１６のように出口ライン上に直列状に配置されている。 まず、ガラス基板類冷却機構Ｋは、前記した徐冷機構Ｐにより徐冷されたガラ ス基板類Ｗを急速に冷却して温度降下を促進し、装置からの搬出および収納ボッ クスＱ(図23,24参照)への装入を円滑に能率よく行うためのものである。 ガラス基板類冷却機構Ｋは、基床から立ち上がる支持手段３９０により図１４ のように上側ウェーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２(上昇位置)とほ ぼ同等の高さレベルに固定されたクールボックス３９からなり、上部にはステン レス板などからなる受載冷却面３９４を有し、ボックス内には給水管３９１と排 水管３９２によって水などの冷媒３９３が満たされ、かつ外部の供給源との間で 循環されるようになっている。 そしてクールボックス３９の所定位置には、後述するガラス基板類引取り移動 機構Ｍにより直上まで移動されてきたガラス基板類を浮上・下降させ冷却後は受 載冷却面から浮上させるための昇降手段４０が取付けられており、常態において 作動ロッド４００はクールボックス３９の受載冷却面３９４よりも下のレベルに ある。昇降手段４０は図１９では４個所であるが、２枚のガラス基板類を同時に 冷却する場合には、４か所ずつを２組設ける。 ガラス基板類抽出機構Ｌは、冷却されたガラス基板類を装置外に搬出するため のものであるが、さらにこの考案では搬出に先だってガラス基板類を水平状のま ま１８０度反転させ、ガラス基板類の方向性を調整する機能を有している。 詳述すると、ガラス基板類抽出機構Ｌは全体としてボックス状カバーＢの抽出 口ｂ’から外方に伸び、かつ高さ方向では前記クールボックス３９とほぼ同等の レベルに設けられている。まず、ガラス基板類抽出機構Ｌは、前記ガラス基板類 装入機構Ｅと同様にフレーム等に支えられた架台２０’にＯリングベルトなどを ガラス基板類Ｗよりも間隔を狭くとった２基の多条ベルトコンベア２１’，２１ ’を出口ライン方向で適度に間隔を置いて直列状に配置している。そして、多条 ベルトコンベア２１’，２１’の間には、それらの長手方向に伸び中間に幅方向 に張り出すアーム部４４０，４４０を備えた受台４４を配しており、該受台４４ は中央部下方に設けた反転用アクチュエータ４５に支持されている。受台４４は 常態において図２１のように多条ベルトコンベア２１’，２１’の搬送面よりも 下位のレベルに保持されている。 反転用アクチュエータ４５はこの実施例では、昇降自在かつ回転自在なロボッ トシリンダが用いられているが、これに限定されるものではなく、上下用と回転 用の各モータを組み合わせた機械的形式のもの(たとえば前記トレイ支持具やト レイ上昇具に用いられていたようなもの)でもよい。 なお、受台４４の長手方向端部とアーム部４４０，４４０の端部にはガラス基 板類の位置ずれを防止するためそれぞれ立上り部４４１を有している。

【００２１】 ガラス基板類引取り移動機構Ｍは、上側ウォーキングビーム機構Ｃで移送され たトレイＴ(ガラス基板類が受載されているアッセンブリトレイ)から前記出口側 トラバース機構Ｊと協働してガラス基板類を分離し、これを受支してガラス基板 類冷却機構Ｋとガラス基板類抽出機構Ｌの直上に順次移動させるための手段であ る。 このガラス基板類引取り移動機構Ｍは、ガラス基板類抽出機構Ｌの側方から炉 体出口方向に伸びるように架設された２条の平行ガイドレール２３’，２３’と 、それら平行ガイドレール２３’，２３’に基部２４０’をもって摺動可能に取 り付けられた爪状または板状の支え２４’，２４’と、平行ガイドレール２３’ と平行に配され、支え２４’の基部２４０’を螺通するボールねじ２５’とこれ を駆動するモータ２５１’を備えている。 平行ガイドレール２３’，２３’は図１６のようにトレイＴの幅よりも広い間 隔を有し、支え２４’，２４’の支え面はガラス基板類Ｗの両側下面を支えうる ように張出し、かつ、前記多条ベルトコンベア２１’の張り側および平行ビーム １２，１２の上昇レベルよりも高いレベルにあり、支え２４’，２４’は前記モ ータ２５１’の駆動により図１６に示すガラス基板類抽出機構Ｌの位置とガラス 基板類冷却機構Ｋおよび炉体出口外側位置の間で往復動自在となっている。

【００２２】 実施例は本考案の一例であり、ガラス基板類装入機構Ｅは場合によってはボッ クス状カバーＢの装入口ｂよりも外方に伸びていてもよく、この場合にはガラス 基板類引取り移動機構Ｆは出口側のガラス基板類引取り移動機構Ｍと同様に外方 に延長される。 また、本実施例では炉体Ａの入口域と出口域でそれぞれトレイを受支させてい るが、入口外から直ちに熱処理ゾーンに入れ、熱処理ゾーンから直ちに出口外に 搬出するようにしてもよい。 また、この実施例では出口側トラバース機構Ｊが１基であるが、図１の仮想線 で示すように２基としてもよい。この場合、２基の出口側トラバース機構Ｊはボ ールねじ２５’とモータ２５１が共用であり、一方が図１の実線のように洗浄槽 位置にあるときに、他方が出口ライン上に位置する作動関係となるように配置さ れる。

【００２３】 操業に当たっては、初期セット状態を形成しておく。これは炉体の一部を開放 してトレイをつめ込む方法としてもよいが、この例のように入口側トラバース機 構Ｇが入口ラインに対し平行移動できる場合はより簡便である。すなわち、第２ フレーム３２を下降させた状態で横送りモータ２８１を駆動し、第１フレーム２ ８と平行アーム３３，３３を図１のように入口ラインに対し平行移動させる。こ れにより平行アーム３３，３３の受支部がトレイ挿入口３４の近傍に位置する。 そこでトレイ挿入口３４を開き、トレイＴを平行アーム３３，３３に載せるもの であり、平行アーム３３，３３の受支部にはトレイＴのトラバース用位置決め孔 ｔ２に合致した間隔で突起３３１を有しており、またガラス基板類昇降用孔ｔ３ に合致した間隔で押し上げピン３３０が配置されているため、トレイＴは突起３ ３１と押し上げピン３３０によって規定位置に安定よく支えられる。そこでこの 状態で横送りモータ２８１を逆駆動し、第１フレーム２８と平行アーム３３，３ ３を図５の実線のように入口ライン上に移動させる。 この状態で上側ウオーキングビーム機構Ｃのモータ１６を駆動すれば、平行ビ ーム１２，１２は平行アーム３３，３３の高さレベルよりも低い下降位置で炉体 Ａの入口ラインに所定長さ突出する。そこで次にジャッキ１４，１４’を作動す れば平行ビーム１２，１２は上昇し、それによって平行アーム３３，３３に受支 されていたトレイＴは平行ビーム１２，１２に受支される。平行ビーム１２，１ ２へのトレイの受支は、平行アーム３３，３３のライン上への移動後一旦上下送 りモータ３２１により平行アーム３３，３３を上昇させ、平行ビーム１２，１２ の後進後、上下送りモータ３２１により平行アーム３３，３３を下降させる形式 としてもよい。

【００２４】 次にモータ１６を逆駆動すれば、平行ビーム１２，１２は図２のように出口ラ イン所定長さ突出するように軸線方向に移動し、これによりトレイＴは入口域に 到り、次いでジャッキ１４，１４’の下降動で平行ビーム１２，１２が下がるこ とによりトレイＴは固定トレイ支え８’で受支される。 この間に平行アーム３３，３３は前記したトレイ挿入口３４へ平行移動してお り、次のトレイがトレイ挿入口３４から平行アーム３３，３３に載せられ、再び 平行アーム３３，３３の移動により入口ラインに搬送される。 平行ビーム１２，１２が後進後上昇すると、次トレイは平行アーム３３，３３ から、先行トレイは固定トレイ支え８’から、それぞれ平行ビーム１２，１２に 受支換えされ、次の平行ビーム１２，１２の前進により先行トレイは上昇エレベ ータ機構Ｕの位置に到り、次トレイは入口域に到る。 先行トレイが到達し、平行ビーム１２，１２が下降すると該トレイは上昇エレ 前記のように平行ビーム１２，１２が下降すると、後行トレイは入口域の固定 トレイ支え８’で受支され、その間前記のような平行アーム３３，３３の往復動 によって次のトレイが入口ライン上に移送されているため、平行ビーム１２，１ ２が後進−上昇−前進することにより後行トレイが入口域から上昇エレベータ機 構Ｕに、さらに後続のトレイが入口ラインから入口域に移置される。上昇エレベ ータ機構Ｕに到った後続トレイは、トレイ上昇具９の上昇によって上記のように 支柱６を介して持ち上げられ、なおも上昇することによって後続トレイは板部６ ０１が先行トレイの支柱６と凹凸部を係合しあうように当接する。この状態とき に各トレイ支持具７は罷動し、後続トレイは先行トレイともどもトレイ上昇具９ によって支持され、後続トレイが前記位置まで上昇すると、各トレイ支持具７が 再び作動位置に戻り、後続トレイが支持され、トレイ上昇具９は元位置に戻る。 これで２つのトレイは積層状態となる。

【００２５】 以下、上記したサイクルが繰返されることにより、トレイは外部から自動的に 炉内に移送され、順次積み上げられる。かくして上昇域のトレイが所定枚数まで すなわち最上位のトレイが昇降切換え機構Ｖの下に達する高さまで積み上げられ ると上昇エレベータ機構Ｕは作動を休止する。 そして、この状態で今度は前記した入口側トラバース機構Ｇと上側ウオーキン グビーム機構Ｃの連携動作により、トレイを上昇エレベータ機構Ｕ域よりもさら に先の下降エレベータ機構Ｄの位置まで移動させるものであり、トレイは上昇エ レベータ機構Ｕのトレイ上昇具９で受支され、次いで平行ビーム１２，１２の次 のサイクルの上昇時にトレイ上昇具９から平行ビーム１２，１２に受支され、こ れの前進により下降エレベータ機構Ｄに到る。ここで上記と同じようにトレイ支 持具７’とトレイ下降具９’を連携作動させるものである。すなわち下降エレベ ータ機構Ｄを上昇エレベータ機構として作動させるものである。 こうすれば、トレイは下降域において高さ方向に順次積み上げられ、トレイが 所定枚数まですなわち最上位のトレイが昇降切換え機構Ｖの下に達する高さに達 したところで下降エレベータ機構Ｄの作動を停止させる。以上で炉内にトレイが 必要枚数積み上げられた初期状態が創生される。

【００２６】 そして、上昇エレベータ機構Ｕと下降エレベータ機構Ｄを停止させた状態で、 入口側トラバース機構Ｇと上側ウオーキングビーム機構Ｃと下側ウォーキングビ ーム機構Ｃ’および出口側トラバース機構Ｊを連携作動させる。これによりトレ イ挿入口３４から挿入したトレイは時計方向の平行四辺形運動により入口域−上 昇エレベータ機構域−下降エレベータ機構域−出口域−出口ラインに順次移送さ れる。出口ラインにおいて、出口側トラバース機構Ｊの平行アーム３３’，３３ ’の上昇または平行ビーム１２，１２の下降によりトレイは平行ビーム１２，１ ２から平行アーム３３’，３３’に受支換えされ、平行アーム３３’，３３’が モータ３２１’の駆動により下降し、反時計方向の平行四辺形運動する下側ウォ ーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１７，１７が下降位置で出口側に突出し、 次いで上昇することによりトレイは平行アーム３３’，３３’から平行ビーム１ ７，１７に受支換えされる。そして、平行ビーム１７，１７が入口側に突出する ことによりトレイは出口域に送り込まれ、以下、平行アーム３３’，３３’と平 行ビーム１７，１７の連携サイクルの繰返しにより後続トレイは下降エレベータ 機構下方域−上昇エレベータ機構下方域−入口域にそれぞれ配置される。 そして、下側ウォーキングビーム機構Ｃ’および出口側トラバース機構Ｊの運 転を停止させ、入口側トラバース機構Ｇと上側ウオーキングビーム機構Ｃにより トレイを入口域と下降エレベータ機構域および出口域に配置する。これにより、 トレイは、ひとつが入口域の固定トレイ支え８’に支持され、ひとつが下降エレ ベータ機構Ｄのトレイ下降具９’に支持され、ひとつが出口域の固定トレイ支え ８’に受支される。さらにひとつのトレイは出口側トラバース機構Ｃ’の平行ア ーム３７，３７により受支され、リターン側では出口域下側と両エレベータ機構 下側および入口域下側の４つの各固定トレイ支え８にそれぞれトレイが受支され る。以上で初期状態が完成する。

【００２７】 以上のように必要枚数のトレイが充填、配置された状態で、ガラス基板類を 乾燥、焼成などのため熱処理するに当たっては、トレイを平行アーム３３，３３ に載せて入口側トラバース機構Ｇを図５の仮想線のように入口ライン上に移動さ せた状態とする。このときに、トレイＴの少なくとも４か所のトラバース用位置 決め孔ｔ２に平行アーム３３，３３の各突起３３１がそれぞれはまり、また少な くとも４カ所のガラス基板類昇降用孔ｔ３に押し上げピン３３０が貫通している 。 この状態でガラス基板類Ｗを挿入口ｂから装入すれば、ガラス基板類装入機 構Ｅの多条ベルトコンベア２１の作動によりガラス基板類Ｗは引き込まれ、図６ および図８のように多条ベルトコンベア２１の上に受載される。この状態で押し 上げ用シリンダ２２，２２を作動すれば、少なくとも４本の押上げピン２２０， ２２０が突出し、ガラス基板類Ｗは図６の仮想線のように多条ベルトコンベア２ １の直上に水平状に持ち上げられる。 次いでガラス基板類引取り移動機構Ｆのモータ２５１を作動すれば、それまで 図５の仮想線のように炉入口寄りに位置していた支え２４，２４がボールねじ２ ５に沿って左方に移動し、図６のように多条ベルトコンベア２１の真上でかつガ ラス基板類Ｗの幅方向側部の下面より適度に下に位置する。これが確認されると 押し上げ用シリンダ２２，２２が下降作動し、それによりガラス基板類Ｗは支え ２４，２４に受支される。

【００２８】 次いでモータ２５１が後退側に作動すると、ガラス基板類Ｗは図７のように平 行アーム３３，３３で受支されているトレイＴの真上まで搬送される。この状態 で上下送りモータ３２１が作動すると第２フレーム３２の上昇により平行アーム ３３，３３も一体に上昇する。トレイＴに押し上げピン３３０が貫通しているた め、平行アーム３３，３３の上昇により押し上げピン３３０がガラス基板類に接 触し、図７と図８の仮想線のように支え２４，２４からガラス基板類Ｗを所要高 さ浮きあがらせる。この状態でモータ２５１が作動することにより支え２４，２ ４は装入機構Ｅの位置に逃げる。 この段階で上側ウォーキングビーム機構Ｃの平行ビーム１２，１２(下降位置) が入口ライン側(図面では左方)に突出し、トレイＴの真下の位置に到る。この状 態で平行ビーム１２，１２を上昇させるかまたは上下送りモータ３２１の駆動で 第２フレーム３２を下降させれば、トレイＴは平行アーム３３，３３から平行ビ ーム１２，１２の上に受載される。同時に押し上げピン３３０がトレイＴのガラ ス基板類昇降用孔ｔ３から抜けてゆくため、ガラス基板類は水平のまま下降して トレイＴ内に収納受載され、これでガラス基板類はトレイＴに自動セットされる 。

【００２９】 これ以降は、上記した装入作業と、上側ウォーキングビーム機構Ｃ，下側ウォ ーキングビーム機構Ｃ’、上昇エレベータ機構Ｕ、下降エレベータ機構Ｄ、昇降 切換え機構Ｖおよび入口側と出口側の両トラバース機構Ｇ，Ｊの連携作動が行わ れ、それにより、ガラス基板類アッセンブリ状態のトレイ(以下アッセンブリト レイと称す)は炉外から入口域を経て上昇エレベータ機構Ｕに横送りされ、ここ で上昇・支持され、後続のトレイの下からの積み上げにより炉内を順次上昇しな がら所定温度に雰囲気加熱され、所定の高さまで達すると昇降切換え機構Ｖによ り横送りされて下降エレベータ機構Ｄの最上位のトレイに移置され、次いで炉内 を順次下降されながら加熱・徐冷される。この間、最下位のトレイは下降エレベ ータ機構Ｄによって上側ウォーキングビーム機構Ｃに移置され、トレイは出口域 を経て炉外の出口ラインに搬出される。 最初のアッセンブリトレイが下降エレベータ機構Ｄから上側ウォーキングビー ム機構Ｃにより出口ラインに搬出されると、出口ラインにおいては、出口側トラ バース機構Ｊと引取り移動機構Ｍによりトレイとガラス基板類に分離される。空 トレイはそのまま出口側トラバース機構Ｊと下側ウォーキングビーム機構Ｃ’に より炉内下部域を逆送される。あるいは出口側トラバース機構Ｊで横送りされて トレイ洗浄機構Ｈにより洗浄され、出口側トラバース機構Ｊで出口ラインに戻さ れるとともに、下側ウォーキングビーム機構Ｃ’により炉内下部域を逆送され、 入口ラインに戻った空トレイは入口側トラバース機構Ｇにより上昇させられ、前 記した操作でガラス基板類がセットされる。 一方、出口ラインでトレイと切り離されたガラス基板類Ｗは、引取り移動機構 Ｍによりガラス基板類冷却機構Ｋに移送され、ここで冷却されてからガラス基板 類抽出機構Ｌによりボックス状カバーＢ外に抽出され、収納ボックスなどに装入 される。

【００３０】 詳しく説明すると、入口ラインに突出していた平行ビーム１２，１２が出口ラ イン側に前進すると、前記アッセンブリトレイは、炉体入口域に搬入され、一方 、入口域にあったアッセンブリトレイは平行ビーム１２，１２に受支されて上昇 エレベータ機構Ｕの位置に到り、下降エレベータ機構Ｄのトレイ下降具９’に受 支されていたアッセンブリトレイも平行ビーム１２，１２に受支されて出口域に 送られ、出口域にあったアッセンブリトレイは出口ａ’に搬出される。 また、出口ラインに突出していた平行ビーム１７，１７が平行ビーム１２，１ ２と同期して入口ライン側に突出するように前進することにより出口域の空トレ イは下降エレベータ機構下側域に、下降エレベータ機構下側域の空トレイは上昇 エレベータ機構下側域に、上昇エレベータ機構下側域の空トレイは入口域に、入 口域の空トレイは入口ａにそれぞれ移動する。 前記のように、上昇エレベータ機構Ｕの位置に到ったアッセンブリトレイは平 行ビーム１２，１２の下降によりトレイ上昇具９により支持され、平行ビーム１ ２，１２が後退する間に持ち上げられ、トレイ支持具７で支持される。すなわち 、トレイ上昇具９の支え９００がトレイＴの下面４隅の支柱６に当接し凸部と凹 部が係合し、次いで昇降用アクチュエータ９０３が作動し、これにより支持シャ フト９０１が上昇し、図１５のようにトレイＴの下面４隅の支柱６の基部が上方 のトレイ支持具７のレベルに達するまで持ち上げられる。この時に支持ロッド７ ０１が回動し、それにより各トレイ支持具７は図１０の仮想線で示す罷動位置か ら作動位置に変位し、それぞれの溝７００が支柱６に係合する。次いで、トレイ 上昇具９が下降すると各トレイ支持具７の上面がフランジ６００を受支する。こ れで先行トレイＴは炉内に中空状に支持される。 前記持ち上げ作動により積み上げ状態の最上位のアッセンブリトレイがトレイ 昇降切換え機構Ｖの横ビーム１１，１１とほぼ同じ高さレベルに到ると、アクチ ュエータ１１１が作動して、トレイ受け具１１０，１１０は、図２５(a)の下降 エレベータ機構側の位置から図２５(b)および図２６(a)のように最上位のアッセ ンブリトレイトレイの位置に到る。この状態でトレイ上昇具９が下がると最上位 のアッセンブリトレイだけが図２５(c)と図２６(b)のようにトレイ受け具１１０ ，１１０で受支される。アクチュエータ１１１が逆方向に作動すると、アッセン ブリトレイはトレイ受け具１１０，１１０で受支されたまま図２７（ａ）のよう に下降エレベータ機構Ｄの直上位置に移動する。 このとき、下降エレベータ機構Ｄにおいては、トレイ下降具９’が所定ストロ ーク上昇してトレイ支持具７'で支持されている積み上げ状態のトレイ群を持ち 上げるため、下降エレベータ機構側の最上位のアッセンブリトレイによってトレ イ受け具１１０，１１０で受支されているアッセンブリトレイが持ち上げられ、 トレイ受け具１１０，１１０による受支が解除される。次いで横ビーム１１，１ １が左方に移動するため、切換え位置されたアッセンブリトレイは下降エレベー タ機構のトレイ下降具９’で受支され、これが下降することにより切換え位置さ れたアッセンブリトレイは下降側のトレイ群の最上位に積載されたかたちでトレ イ支持具７'により支えられる。

【００３１】 トレイ下降具９’の前記した上昇によりアッセンブリトレイ群が持ち上げられ 、トレイ支持具７'が罷動したのちトレイ下降具９’が下降してアッセンブリト レイ群の全体が下がり、最下位アッセンブリトレイがトレイ支持具７'の支持レ ベルより下がり、次位のアッセンブリトレイの支柱ｔが図１２のレベルに到り、 トレイ支持具７'が作動位置に戻ることで次位のアッセンブリトレイが最下位ト レイとして支持される。そして次いで平行ビーム１２，１２が下限位置で後進し 、次のサイクルで上昇するとトレイ下降具９’に一枚だけ載っている最下位アッ センブリトレイは平行ビーム１２，１２に受載される。

【００３２】 この時、炉内のトレイ上昇側とトレイ下降側の上半領域においては、ヒータ１ の熱が循環撹拌ファン３によって加熱雰囲気として調整され、耐熱フィルタ付き 吹出し口４からボックス状の仕切り２内に吹き込まれ、各アッセンブリトレイの 支柱６によって形成されているそれぞれの空隙を通ってガラス基板類Ｗを加熱し 、排風口５から撹拌ファン３に吸い込まれ強制対流循環加熱が行われる。そして 前記のようにアッセンブリトレイは無摺動で順次積み上げられていく。したがっ てガラス基板類Ｗはクリーンな条件で能率よく均一加熱される。 そして、トレイ下降側の下半域においては、横仕切板４１で区画された上ゾー ンｐでは循環撹拌ファン３の吐出側において雰囲気にヒータ４３の熱量が与えら れ、熱風として耐熱フィルタ付き吹出し口４から仕切り２内の搬送空間に吹き込 まれ、排風口５から循環撹拌ファン３に吸い込まれる。また、下ゾーンｐ’では 、循環撹拌ファン３の吐出側において雰囲気が水冷配管４２により冷され、冷風 として耐熱フィルタ付き吹出し口４から仕切り２内の搬送空間に吹き込まれ、排 風口５から循環撹拌ファン３に吸い込まれる。該搬送空間は遮熱板４１０でそれ より上方の搬送空間と仕切られているため、前記のように吹き込まれた熱風と冷 風は当該搬送空間で混合し対流循環するため所要温度の温風となり、したがって 搬送空間を通るガラス基板類は適切な温度勾配で徐冷される。この温風温度はヒ ータ４３の温度調節により任意に制御することができる。

【００３３】 そして、出口域のアッセンブリトレイが図１６のように上側ウォーキングビー ム機構Ｃの平行ビーム１２，１２により出口ラインに搬出されると、出口側トラ バース機構Ｊの上下送りモータ３２１’が駆動する。それによって平行アーム３ ３’，３３’は上昇し、押し上げピン３３０’，３３０’がガラス基板類昇降用 孔ｔ３を貫通し、受支面がアッセンブリトレイの下面を支持し、突起３３１’， ３３１’がトラバース用位置決め孔ｔ２に嵌まる。 平行ビーム１２，１２が下降動すると、トレイは平行アーム３３’，３３’に 受支され、同時に前記押し上げピン３３０’，３３０’の突出しによりガラス基 板類は図１７と図１９の仮想線のように持ち上げられる。この状態で引取り移動 機構Ｍが連携作動する。すなわち、モータ２５１’が駆動し、それまで他所に位 置していた支え２４’，２４’が図１７のようにガラス基板類位置の下方に移動 する。次いで、上下送りモータ３２１’により平行アーム３３’，３３’が下降 すると、これと一体の押し上げピン３３０’，３３０’も下降するため、ガラス 基板類は下降して支え２４’，２４’に受支される。これでトレイとガラス基板 類は自動的に分離される。次いでモータ２５１’が逆方向に駆動することにより 支え２４’，２４’はガラス基板類を受支したままガラス基板類冷却機構Ｋの上 に移動する。

【００３４】 空トレイは前記のように支え２４’，２４’の移動の後または移動と同期して そのまま下側ウォーキングビーム機構Ｃ’に移置されるか、または、洗浄される 。 前者の場合には、平行アーム３３’，３３’はそのまま下降し、次の段階で 下側ウオーキングビーム機構Ｃ’の平行ビーム１７，１７が出口ラインに突出し 上昇することによってこれに受支換えされ、平行ビーム１７，１７の入口側への 突出ストロークによってリターン工程に移行される。 後者の場合には、平行アーム３３’，３３’は横送りモータ２８１’の駆動に より出口ラインと平行移動し、空トレイは洗浄槽３５へと移送される。この時洗 浄槽近傍のトレイ昇降機構３６においては、図１７のように平行アーム３７，３ ７が平行アーム３３’，３３’の高さレベルよりも下位に戻されている。平行ア ーム３３’，３３’が洗浄槽３５上で停止し、この状態でモータ３６５が駆動す ることにより平行アーム３７，３７が上昇し、平行アーム３７，３７に設けられ ている位置決めピン３７０，３７０がトレイの洗浄用位置決め孔ｔ１を貫通する 。したがってトレイは平行アーム３７，３７に安定的に位置決めされた状態で受 支される。この状態とともに平行アーム３３’，３３’は横送りモータ２８１’ の駆動により出口ラインに戻り、次のアッセンブリトレイを受支すべく待機し、 前記と同じ動作により次のアッセンブリトレイからトレイだけを受支して他方の 洗浄槽３５へと移送する。

【００３５】 平行アーム３３’，３３’の移動とともに平行アーム３７，３７はモータ３６ ５の駆動により洗浄槽３５内に沈降し、洗滌液に浸漬されつつ超音波振動の作用 で短時間で洗浄され、汚れおよび異物が除去される。一定時間経過し、モータ３ ６５が駆動することにより平行アーム３７，３７は洗浄槽３５から引き上げられ る。この状態で他方の洗浄槽へのトレイ移送を終えた平行アーム３３’，３３’ が移動して停止すると、モータ３６５の駆動により平行アーム３７，３７は元位 置まで下降され、それにより、洗浄済みのトレイはガラス類昇降用孔ｔ３とトラ バース用位置決め孔ｔ３と平行アーム３３’，３３’の押し上げピンと突起との 関係で位置決め受支される。平行アーム３３’，３３’は次いで横送りモータ２ ８１’の駆動により出口ラインに戻り、前記のように下側ウォーキングビーム機 構Ｃ’の平行ビーム１７，１７の動作によりこれに受支換えされる。従って、ト レイを良好なクリーン度に復元されて入口ラインに戻すことができる。

【００３６】 一方、ガラス基板類は、この間に前記のように支え２４’，２４’によってガ ラス基板類冷却機構Ｋの上に移動され、これで直接冷却されてから抽出機構Ｌに 移置され、ここで１８０度反転されてから抽出口ｂ’から外部に搬出される。 すなわち、上記のようにガラス基板類がガラス基板類冷却機構Ｋのクールボッ クス３９上に到ると、昇降手段４０が作動して少なくとも４本のピン４００がク ールボックス３９上に突出し、それによりガラス基板類は支え２４’，２４’の 上に浮かされる。 この状態になったときに支え２４’，２４’は出口ラインまたは抽出機構Ｌ上 へと移動し、次いで昇降手段４０が後退側に作動することによりガラス基板類は 下降してクールボックス３９の受載冷却面３９４に受載される。このクールボッ クス３９には冷媒が循環されているため、前記工程で徐冷されているガラス基板 類は急速に冷却される。 所定時間後、昇降手段４０が再び作動することにより、冷却済みのガラス基板 類は上昇させられる。ここで支え２４’，２４’は再びクールボックス３９上に 移動し、昇降手段４０の下降動により冷却済みのガラス基板類は支え２４’，２ ４’により受支され、続いて支え２４’，２４’の移動により抽出機構Ｌの上に 移送される。この状態が図２０ないし図２２である。

【００３７】 この図２０ないし図２２ではガラス基板類が２枚の場合を例に取っており、各 ガラス基板類Ｗ，Ｗは一枚ずつ幅方向で向かいあっている支え２４’，２４’に より受支されている。 上記のようにガラス基板類Ｗ，Ｗが到ると、それ迄待機位置にあった受台４４ が反転用アクチュエータ４５の上昇作動により図２２(b)のように支え２４’， ２４’の高さレベルよりも上位まで上昇し、それによりガラス基板類Ｗ，Ｗは受 台４４で持ち上げられる。この段階で支え２４’，２４’はクールボックス３９ 方向へと退避する。そこで反転用アクチュエータ４５を回転駆動すれば、ガラス 基板類Ｗ，Ｗは受台４４とともに垂直軸線のまわりで180度回転する。これによ りガラス基板類Ｗ，Ｗの進行方向はそれまでの向きと逆転する。 ついで反転用アクチュエータ４５を下降動すれば、ガラス基板類Ｗ，Ｗは受台 ４４に受載されたまま降下し、その過程でガラス基板類Ｗ，Ｗは図２２(ｃ）の ように多条ベルトコンベア２１’，２１’に置かれる。ガラス基板類Ｗ，Ｗは前 記のようにクールボックス３９で十分に冷却されているため、多条ベルトコンベ ア２１’は熱で損傷されることがない。 この状態で多条ベルトコンベア２１’，２１’を駆動することで方向変換され たガラス基板類Ｗ，Ｗは抽出口ｂ’に搬送され、ロード時と同じ方向性を持たさ れて収納ボックスＱに装入される。 すなわち、収納ボックスＱは図２３のように一側のみ開放され内部に受載仕切 りｑを多段状に設けた構造となっており、図２４のようにガラス基板類Ｗ，Ｗは 所定の方向、この例では最上位のガラス基板類Ｗ１が収納ボックスＱの奥側に 、開口側にの方向で納められ、次位のガラス基板類Ｗ２が収納ボックスＱの奥 側に、開口側にの方向で納められている。この状態で２枚のガラス基板類Ｗ は下位側から取り出され、前記のように挿入口ｂから搬入される。この時のガラ ス基板類Ｗ１，Ｗ２の方向は下流側から上流側に，である。この状態で トレイに受載され、前記のように加熱、徐冷、冷却される。 このまま搬出されて収納ボックスに納められた場合には、次工程で処理装置に ロードするときに各ガラス基板類Ｗ１，Ｗ２を収納ボックス取出した後、いちい ち１８０度反転してからロードしなければならず極めて煩雑である。 本考案では抽出装置に反転機構が設けられているため、前記のように受台４４ の上昇・回転によりガラス基板類Ｗ１，Ｗ２は下流側から上流側に，と 並ぶことになり、抽出口ｂ’から収納ボックスＱに上段から納められることによ り、ガラス基板類Ｗ１が収納ボックスＱの奥側に、開口側にの方向で、次位 のガラス基板類Ｗ２が収納ボックスＱの奥側に、開口側にの方向で収納され る。従って、次の工程において収納ボックスＱから前工程と同じ方向性でガラス 基板類Ｗ１，Ｗ２を取り出すことができる。

【００３８】

【考案の効果】

以上説明した本考案の請求項１によるときには、高さの低い装置でありながら 、良好なクリーン度を維持しながらガラス基板類を連続搬送して熱処理すること ができ、しかもガラス基板類を大きな熱容量のまま常温の炉外に搬出させず炉内 でほどよく降温させてから搬出するため、熱歪による切損の発生を防止すること ができ、さらに出口ライン上で自動的にトレイから分離されるためウオーキング ビーム運動式の連続搬送インターバルを短くすることができるとともに、トレイ から分離したガラス基板類を単独で急冷するため、次工程への搬出を迅速に実施 でき、全体の熱処理能率の向上を図ることができ、また、放冷用のスペースを確 保しなくてよいため装置を小型化することができるなどのすぐれた効果が得られ る。 また、請求項５，６によれば、冷却したガラス基板類を１８０度反転して から搬出するため、厳密に規定されているガラス基板類の方向性を的確に維持し てロード時と同じ方向で収納ボックスに納めることができ、これにより次工程の 処理を円滑に能率よく行うことができるというすぐれた効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案によるガラス基板類の連続熱処理装置の
一実施例を示す平面図である。

【図２】図１の縦断側面図である。

【図３】図１の下降レベータ機構側の縦断正面図であ
る。

【図４】図１の炉体下部域の部分的横断面図である。

【図５】図１における入口領域の拡大平面図である。

【図６】図５のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。

【図７】図５のＶＩ−ＶＩ線に沿う断面図である。

【図８】図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿う部分切欠断面図
である。

【図９】炉体入口域と出口域の部分的拡大正面図であ
る。

【図１０】トレイとエレベータ機構およびウォーキング
ビーム機構の関係を示す平面図である。

【図１１】本考案で使用するトレイの別の実施例を示す
平面図である。

【図１２】図１１のトレイに使用する平行アームの側面
図である。

【図１３】トレイの積み上げ状態を示す正面図である。

【図１４】トレイ支持具とトレイ上昇具(トレイ下降具)
の関係を示す部分拡大平面図である。

【図１５】トレイ支持具とトレイ上昇具(トレイ下降具)
によるトレイの受支状態を示す部分的拡大正面図であ
る。

【図１６】図１における出口領域の拡大平面図である。

【図１７】図１６のＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に沿う断面図
である。

【図１８】トレイ洗浄機構とトラバース機構の取り合い
を示す縦断側面図である。

【図１９】トラバース機構とガラス基板類冷却機構と引
取り移動機構の関係を示す部分切欠側面図である。

【図２０】ガラス基板類抽出機構の詳細を示す平面図で
ある。

【図２１】同じくその縦断正面図である。

【図２２】ガラス基板類抽出機構の作動を段階的に示す
側面図である。

【図２３】トレイ収納ボックスの斜視図である。

【図２４】ガラス基板類抽出機構を使用したときのガラ
ス基板類の移動方向を示す説明図である。

【図２５】本考案におけるトレイ昇降切換え機構の作動
を段階的に示す側面図である。

【図２６】本考案におけるトレイ昇降切換え機構の作動
を段階的に示す正面図である。

【図２７】本考案におけるトレイ昇降切換え機構の作動
を段階的に示す側面図である。

【符号の説明】

Ａ 炉体 Ｂ ボックス状カバー Ｃ 上側ウォーキングビーム機構 Ｃ’ 下側ウォーキングビーム機構 Ｄ 下降エレベータ機構 Ｅ ガラス基板類装入機構 Ｆ ガラス基板類引取り移動機構 Ｇ 入口側トラバース機構 Ｈ トレイ洗浄機構 Ｊ 出口側トラバース機構 Ｌ ガラス基板類抽出機構 Ｍ ガラス基板類引取り移動機構 Ｐ 徐冷機構 Ｔ トレイ Ｕ 上昇エレベータ機構 Ｖ 昇降切換え機構 Ｗ ガラス基板類 ａ 入口 ａ’ 出口 ２ 仕切利 ３ 循環撹拌ファン ４ 吹込み口 ５ 排風口 ２１，２１’ 多条ベルトコンベア ３９ クールボックス ４０ 昇降手段 ４１ 横仕切り板 ４２ 水冷配管 ４３ ヒータ ４４ 受台 ４５ 反転用アクチュエータ ３９４ 受載面

Claims (7)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】左右に入口ａと出口ａ’を有する炉体内
   に、ガラス基板類Ｗを受載したトレイＴを順次上昇積載
   させる上昇エレベータ機構Ｕと、トレイを積載状態を保
   ちつつ順次下降させる下降エレベータ機構Ｄを並列状に
   配置する一方、炉体の上部には、上昇エレベータ機構Ｕ
   で上昇された積載最上位のトレイを受支しこれを横移送
   して下降エレベータ機構Ｄの積載最上位のトレイの上に
   受支させるトレイ昇降切換え機構Ｖを設け、炉体Ａの下
   部には、前記両エレベータ機構とクロスする関係位置
   に、ガラス基板類を受載したトレイを入口から出口方向
   に搬送する上側ウオーキングビーム機構Ｃと、空トレイ
   を出口から入口方向に搬送する下側ウォーキングビーム
   機構Ｃ’を設け、前記炉体には下降エレベータ機構Ｄの
   下半ゾーンに雰囲気強制循環式の徐冷機構Ｐを設け、さ
   らに炉体の出口ラインには、上側ウオーキングビーム機
   構Ｃからトレイを受支換えするとともにガラス基板類を
   分離するトラバース機構Ｊと、ガラス基板類を受載して
   これを直接冷却するガラス基板類冷却機構Ｋと、前記ト
   ラバース機構Ｊで分離されたガラス基板類をガラス基板
   類冷却機構Ｋへ移送するガラス基板類引取り移動機構Ｌ
   を設けたことを特徴とするガラス基板類の連続熱処理装
   置。
2. 【請求項２】徐冷機構Ｐが、トレイの自由な下降を許す
   断面積を有し一側に耐熱フィルタ付きの吹込み口４を他
   側に排風口５を有する縦筒状の仕切り２と、前記仕切り
   ２と炉体内壁間の空間に配された循環撹拌用ファン３
   と、循環撹拌用ファン３の吐出側の空間に配された水冷
   配管４２とを備えている請求項１に記載のガラス基板類
   の連続熱処理装置。
3. 【請求項３】水冷配管４２よりも上方の空間が横仕切り
   板４１で区画され、その横仕切り板４１より上の空間に
   徐冷雰囲気温度調節用のヒータ４３が配されているもの
   を含む請求項２に記載のガラス基板類の連続熱処理装
   置。
4. 【請求項４】ガラス基板類冷却機構Ｋが、ガラス受載面
   ３９４を有し内部に冷媒を満たしたクールボックス３９
   と、ガラス受載面３９４を貫いて突出可能な作動ロッド
   を有するガラス基板類昇降手段４０を備えている請求項
   １ないし３のいずれかに記載のガラス基板類の連続熱処
   理装置。
5. 【請求項５】炉体の出口ラインの端末にガラス基板類を
   水平反転して送り出すガラス基板類抽出機構Ｌを設けて
   いるものを含む請求項１ないし４のいずれかに記載のガ
   ラス基板類の連続熱処理装置。
6. 【請求項６】ガラス基板類抽出機構Ｌが、多条ベルトコ
   ンベア２１’と、多条ベルトコンベア２１’間に配され
   たガラス基板類の受台４４と、該受台４４を常態におい
   て多条ベルトコンベア２１’の張り側より下位に位置さ
   せ、要時に受台４４を多条ベルトコンベア２１’の張り
   側より上位に上昇させるとともに回転させる反転用アク
   チュエータ４５を備えている請求項５に記載のガラス基
   板類の連続熱処理装置。
7. 【請求項７】炉体の出口ライン側方にトレイ洗浄機構Ｈ
   を有し、トラバース機構Ｊがトレイをトレイ洗浄機構Ｈ
   に移送すべく出口ラインに対し平行移動自在となってい
   るものを含む請求項１ないし６のいずれかに記載のガラ
   ス基板類の連続熱処理装置。