JP2002194141A - ブタジエン重合体成形品の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ブタジエン重合体を加熱溶融してもゲル化物
を生ずることなく加熱溶融し成形して、ブタジエン重合
体成形品を製造し得る方法を提供する。 【解決手段】 ブタジエン重合体を一般式（Ｉ） で示される化合物（Ｉ）と共に加熱溶融し成形して、ブ
タジエン重合体成形品を製造する。ブタジエン重合体と
しては、例えばポリブタジエン、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ル−ブタジエン−スチレン共重合体、耐衝撃ポリスチレ
ンなどが挙げられる。化合物（Ｉ）の使用量はブタジエ
ン重合体１００重量部あたり通常０．００１重量部以上
である。射出成形法、押出成形法またはブロー成形法に
より成形する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ブタジエン重合体
成形品の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ブタジエンを単量体単位とするブタジエ
ン重合体は、加硫されたエラストマーと同程度の弾性と
熱可塑性とを兼ね備えた重合体として広く用いられてい
る。

【０００３】かかるブタジエン重合体を成形してその成
形品を製造するには、例えばブタジエン重合体を加熱し
溶融したのち成形する方法が知られている。

【０００４】しかし、ブタジエン重合体は加熱下にゲル
化してゲル化物を生ずるという問題があった。かかるゲ
ル化物は成形品の外観不良の原因となるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、ブ
タジエン重合体を加熱溶融してもゲル化物を生ずること
なく成形して成形品を製造し得る方法を開発するべく鋭
意検討した結果、ブタジエン重合体を一般式（Ｉ） 〔式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子
またはアルキル基を示し、Ｒ³は水素原子、アルキル
基、アルコキシル基、ヒドロキシル基またはアセチル基
を示し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ⁹および
Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアル
ケニル基を示す。〕で示される化合物（以下、化合物
（Ｉ）とする。）と共に加熱し溶融すれば、ゲル化物が
生じないことを見出し、本発明に至った。

【０００６】すなわち本発明は、ブタジエン重合体を化
合物（Ｉ）と共に加熱溶融し成形することを特徴とする
ブタジエン重合体成形品の製造方法を提供するものであ
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の製造方法に適用されるブ
タジエン重合体は、ブタジエンを単量体単位とする重合
体であって、ブタジエン単独の重合体であってもよい
し、ブタジエンと他の単量体との共重合体であってもよ
い。かかるブタジエン重合体としては、例えばポリブタ
ジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−ブ
タジエンブロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン共重合体、耐衝撃ポリスチレンなどが挙げられる。か
かるブタジエン重合体は、例えば溶液重合法、乳化重合
法、塊状重合法などの通常の方法で製造することができ
る。ブタジエン重合体は、樹脂であってもよいし、ゴム
であってもよい。ブタジエン重合体がポリブタジエンで
ある場合には、溶液重合法により製造されたポリブタジ
エンゴムであってもよいし、乳化重合法により製造され
たポリブタジエンゴムであってもよい。

【０００８】化合物（Ｉ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸におけるアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル
基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−
ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素数１〜６
程度のアルキル基などが挙げられる。

【０００９】Ｒ³におけるアルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、
イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメ
チルブチル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素数１〜６のア
ルキル基などが挙げられる。アルコキシル基としては、
例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブ
トキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、
ヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基などの炭素
数１〜６程度のアルコキシル基などが挙げられる。

【００１０】Ｒ⁹およびＲ¹⁰におけるアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，
３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘ
キシル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル
基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘ
キシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデ
シル基、ドデシル基、１，３，３，５，５−ヘキサメチ
ルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデ
シル基などの炭素数１〜１８のアルキル基などが挙げら
れる。アルケニル基としては、例えば４−メチルペント
−３−エニル基、４，８，１２−トリメチル−３，７，
１１−トリデカトリエニル基などの炭素数２〜１８のア
ルケニル基などがあげられる。

【００１１】Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸おけるフェニル基
としては、例えばフェニル基、o-、m-、p-メチルフェニ
ル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェ
ニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフ
ェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチル
フェニル、２−メチル−６−エチルフェニル、４−ｔ−
ブチルフェニル、２−エチルフェニル、２，６−ジエチ
ルフェニル等があげられる。

【００１２】化合物（Ｉ）においてＲ¹、Ｒ²およびＲ⁴
はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ
³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ
ル基、ヒドロキシル基またはアセチル基を示し、Ｒ⁵、
Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基またはフェニル基を示し、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞ
れ独立に水素原子アルキル基またはアルケニル基であ
り、Ｒ³³が水素原子またはヒドロキシル基であることが
好ましく、さらに好ましくはＲ³¹、Ｒ³²、Ｒ³⁴、Ｒ ³⁹お
よびＲ³⁰がメチル基であり、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷およびＲ
³⁸が水素原子であることが好ましい。

【００１３】かかる化合物（Ｉ）としては、例えば２，
２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマ
ン、２，２，５，７−テトラメチル−６−ヒドロキシク
ロマン、２，２，７−トリメチル−６−ヒドロキシクロ
マン、２，２，８−トリメチル−６−ヒドロキシクロマ
ン、２，２−ジメチル−６−ヒドロキシクロマン、２，
２，５−トリメチル−７−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシ
クロマン、２，２，５−トリメチル−８−ｔ−ブチル−
６−ヒドロキシクロマン、２，２，７，８−テトラメチ
ル−６−ヒドロキシクロマン、２，２，５，８−テトラ
メチル−６−ヒドロキシクロマン、２，２−ジメチル−
７−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシクロマン、４−ｉ−プ
ロピル−２，２，５−トリメチル−７−ｔ−ブチル−６
−ヒドロキシクロマン、４−ｉ−プロピル−２，２−ジ
メチル−７−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２−ジメチル−５−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシク
ロマン、２，５，７，８−テトラメチル−２−（４−メ
チルペント−３−エニル）−５−ヒドロキシクロマン、
２，５−ジメチル−８−ｔ−ブチル−２−（４−メチル
ペント−３−エニル９−６−ヒドロキシクロマン、２−
メチル−２−（４−メチルペント−３−エニル）−６−
ヒドロキシクロマン、２，２，５−トリメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン、α−トコフェロール、β−トコフェ
ロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、ε
−トコフェロール、ζ１−トコフェロール、ζ２−トコ
フェロール、η−トコフェロール、トコール、

【００１４】２，２，４−トリメチル−４−（ヒドロキ
シフェニル）クロマン、２，２，４，６−テトラメチル
−４−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
クロマン、２，３，４−トリメチル−２−エチル−４−
（３−ノニル−４−ヒドロキシフェニル）−７−ノニル
クロマン、２，２，４−トリメチル−４−（３，５−ジ
エチル−４−ヒドロキシフェニル）−６−エチルクロマ
ン、２，２，４，６，８−ペンタメチル−４−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）クロマン、２，
２，４−トリエチル−３−メチル−４−（４−ヒドロキ
シフェニル）クロマン、２，２，３−トリメチル−３−
（４−ヒドロキシフェニル）クロマン、２，２，３，６
−テトラメチル−３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）クロマン、２，３，４−トリメチル−２
−エチル−３−（３−ノニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−７−ノニルクロマン、２，２，３−トリメチル−
３−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）−
６−エチルクロマン、２，２，３，６，８−ペンタメチ
ル−３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）クロマン、２，２，５−トリエチル−３−メチル−
３−（４−ヒドロキシフェニル）クロマン、２，４，
４，６−テトラメチル−２−（３，５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）クロマン、２，４，４−トリエチ
ル−２−（４−ヒドロキシフェニル）クロマン、２，
３，４−トリメチル−４−エチル−２−（３，５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−７−ノニルクロマ
ン、２，４，４−トリメチル−２−（３，５−ジエチル
−４−ヒドロキシフェニル）−６−エチルクロマン、
２，４，４，７，８−ペンタメチル−２−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−６−エチルクロマ
ン、２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマンなどが
挙げられる。

【００１５】かかる化合物（Ｉ）は、それぞれ単独で用
いられてもよいし、２種以上の化合物（Ｉ）を用いても
よい。化合物（Ｉ）の使用量は、ブタジエン重合体１０
０重量部あたり通常は０．００１重量部以上である。
０．００１重量部未満であるとゲル化物の生成を十分に
防止できない場合があり、好ましくは０．０１重量部以
上、さらに好ましくは０．００５重量部以上である。ま
た使用量の上限は、ブタジエン重合体を加熱溶融して成
形しえるのであれば特に限定されないが、１０重量部を
超えて使用してもそれに見合う効果が得られないため、
経済性の点で実用的には通常１０重量部以下、好ましく
は５重量部以下である。

【００１６】本発明の製造方法においては、化合物
（Ｉ）と共にフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止
剤、イオウ系酸化防止剤などの酸化防止剤を用いてもよ
い。

【００１７】フェノール系酸化防止剤としては、例えば
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，
４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ
−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチ
ルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフ
ェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフ
ェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフ
ェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェ
ノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−
ジメチルフェノール、２，６−ジオクダデシル−４−メ
チルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェ
ノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチル
フェノール、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシル
−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルヘプタデシル−１’−イル）フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシル
−１’−イル）フェノールおよびそれらの混合物などの
アルキル化モノフェノール、

【００１８】２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔ−
ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６
−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル
−４−ノニルフェノールおよびそれらの混合物などのア
ルキルチオメチルフェノール、

【００１９】２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフ
ェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，
５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル
−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ
−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル ステアレート、ビス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル） アジペート
およびそれらの混合物などのヒドロキノン及びアルキル
化ヒドロキノン、

【００２０】２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチ
ルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ
ビス（３，６−ジ−ｔ−アミルフェノール）、４，４’
−（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィドなどのヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
ル、

【００２１】２，２’−メチレンビス（４−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’
−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロ
ヘキシル）フェノール）］、２，２’−メチレンビス
（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４−メチル−６−ノニルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−
ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビ
ス（４−イソブチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）
−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス
［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール］、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−
２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス
（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブ
チリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３
−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）
−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコール ビス［３，３−ビス−３’
−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレー
ト］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−
（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチル
ベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テ
レフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン、２−ｔ−ブ
チル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−
ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル アクリレ
ート、２，４−ジ−ｔ−ペンチル−６−［１−（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチ
ル］フェニル アクリレートおよびそれらの混合物など
のアルキリデンビスフェノールおよびその誘導体、

【００２２】３，５，３’，５’−テトラ−ｔ−ブチル
−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタ
デシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメ
ルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブ
チル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジ
チオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメル
カプトアセテートおよびそれらの混合物などのＯ−ベン
ジル誘導体、Ｎ−ベンジル誘導体およびＳ−ベンジル誘
導体、

【００２３】ジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ジオクタデシル２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカ
プトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−
２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）マロネートおよびそれらの混合物などのヒ
ドロキシベンジル化マロネート誘導体、

【００２４】１，３，５−トリメチル−２，４，６−ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）フェノールおよびそれ
らの混合物などの芳香族ヒドロキシベンジル誘導体、

【００２５】２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−
（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−
４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチ
ルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オク
チルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フ
ェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ
−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，
４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピル）−１，３，５−トリアジン、ト
リス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−
ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキ
シ）エチル］イソシアヌレートおよびそれらの混合物な
どのトリアジン誘導体、

【００２６】ジメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホス
ホネート、 ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩および
それらの混合物などのベンジルホスホネート誘導体、

【００２７】４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−
ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル−Ｎ−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
カルバネートおよびそれらの混合物などのアシルアミノ
フェノール誘導体、

【００２８】β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタノー
ル、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコ
ール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコー
ル、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの
一価アルコールまたは多価アルコールとのエステル、

【００２９】β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタ
ノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレング
リコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタン
ジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナン
ジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコ
ール、チオエチレングリコール、スピログリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの
一価アルコールまたは多価アルコールとのエステル、

【００３０】β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタノ
ール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリ
コール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジ
オール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコー
ル、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの
一価アルコールまたは多価アルコールとのエステル、

【００３１】３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル酢酸とメタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−
プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−
ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペン
チルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレン
グリコール、スピログリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエ
チル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］
オクタンおよびそれらの混合物などの一価アルコールま
たは多価アルコールとのエステル、

【００３２】Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−
ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−
ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ニル］ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニル］トリメチレンジアミンおよびそれ
らの混合物などのβ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドなどが挙げ
られる。かかるフェノール系酸化防止剤それぞれ単独で
または２種以上を組み合わせて用いられる。

【００３３】リン系酸化防止剤としては、例えばトリフ
ェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデ
シルホスファイト、ジステアリル ペンタエリスリトー
ル ジホスファイト、ジイソデシル ペンタエリスリト
ール ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビ
ス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペ
ンタエリスリトール ジホスファイト、ビス（２，６−
ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリ
トール ジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ
−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール ジホスファ
イト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、
テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，
４’−ジフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレ
ンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）２−エチル
ヘキシル ホスファイト、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル） フルオロ ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチル
フェニル） エチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−
ｔ−ブチル−６−メチルフェニル） メチルホスファイ
ト、２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−
５−エチル−５−ブチル−１，３，２−オキサホスホリ
ナン、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリ
ス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，
１’−ビフェニル−２，２’−ジイル） ホスファイト
およびそれらの混合物などが挙げられる。かかるリン系
酸化防止剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わ
せて用いられる。

【００３４】イオウ系酸化防止剤としては、例えばジラ
ウリル ３，３’−チオジプロピオネート、トリデシル
３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル
３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル ３，
３’−チオジプロピオネート、ラウリル ステアリル
３，３’−チオジプロピオネート、ネオペンタンテトラ
イルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）な
どが挙げられる。かかるイオウ系酸化防止剤は、それぞ
れ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。

【００３５】かかる酸化防止剤を使用する場合、その使
用量はブタジエン重合体１００重量部あたり通常０．０
０１重量部以上であり、経済性の点で通常１０重量部以
下である。

【００３６】本発明の製造方法においては、紫外線吸収
剤、光安定剤、ヒドロキシアミン、金属不活性剤、滑
剤、金属石鹸、造核剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染
料などの着色剤、充填剤などの添加剤と共にブタジエン
重合体を加熱溶融してもよい。

【００３７】紫外線吸収剤としては、例えばフェニル
サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル サリシレー
ト、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３’，５’−ジ
−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ
−オクチルフェニル サリシレート、ビス（４−ｔ−ブ
チルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、ヘシサデシル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−
４’−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル ３’，
５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエー
ト、２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル
３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾ
エートおよびそれらの混合物などのサリシレート誘導
体、

【００３８】２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−
ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）
メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾ
フェノンおよびそれらの混合物などの２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン誘導体、

【００３９】２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−
ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
ｓ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキ
シ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フ
ェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［（３’−
ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５’−（２
−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−
５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニル
エチル］−２’−ヒドロキシフェニル］−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒ
ドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フ
ェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’
−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキ
シカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、
２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５−（２
−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾ
トリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロ
キシ−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カル
ボニルエチル］フェニル］ベンゾトリアゾール、２−
［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒド
ロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾ
トリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒ
ドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−［３’−ｔ
−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチ
ルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾ
ールの混合物、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−
ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２’−メチ
レンビス［４−ｔ−ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール］、ポリ（３〜１１）
（エチレングリコール）と２−［３’−ｔ−ブチル−
２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエ
チル）フェニル］ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ
（３〜１１）（エチレングリコール）とメチル ３−
［３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート
との縮合物、２−エチルヘキシル ３−［３−ｔ−ブチ
ル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、
オクチル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキ
シフェニル］プロピオネート、メチル ３−［３−ｔ−
ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネー
ト、３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−
ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェ
ニル］プロピオン酸およびそれらの混合物などの２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなど
が挙げられる。かかる紫外線吸収剤はそれぞれ単独でま
たは２種以上を組み合わせて用いられる。

【００４０】光安定剤としては、例えばビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） セバケー
ト、ビス（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル） スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチル−４−ピペリジル） セバケート、ビス
（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル） セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−ア
クロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル） ２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル
デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル メタクリレート、４−［３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エ
チル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２
−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テト
ラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールお
よび１−トリデカノールとの混合エステル化物、

【００４１】１，２，３，４−ブタンテトラボン酸と
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールお
よび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，
２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３、
９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウ
ンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキ
シ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テ
トラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステ
ル化物、ジメチルサクシネートと１−（２−ヒドロキシ
エチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ
−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）
ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−ト
リアジン−２，４−ジイル（（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン
（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ）］、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと
１，２−ジブロモエタンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’，４，
７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ア
ミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７
−ジアザデカン−１，１０ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−ト
リス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，
３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカ
ン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキ
ス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−
１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザ
デカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス
［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，
３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカ
ン−１，１０−ジアミンおよびそれらの混合物などのヒ
ンダードアミン系光安定剤、

【００４２】エチル α−シアノ−β，β−ジフェニル
アクリレート、イソオクチル α−シアノ−β，β−ジ
フェニルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシ
ンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メト
キシシンナメート、ブチル α−シアノ−β−メチル−
ｐ−メトキシシンナメート、メチル α−カルボメトキ
シ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボ
メトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン
およびそれらの混合物などのアクリレート系光安定剤、

【００４３】２，２’−チオビス−［４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル
錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアル
キルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体
およびそれらの混合物などのニッケル系光安定剤、

【００４４】４，４’−ジオクチルオキシオキサニリ
ド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジ
オクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、
２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチ
ルアニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリ
ド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オ
キサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エト
キシアニリド、２−エトキシ−５，４’−ジ−ｔ−ブチ
ル−２’−エチルオキサニリドおよびそれらの混合物な
どのオキサミド系光安定剤、

【００４５】２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２，４−ジヒドロキシ
フェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル］
−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロ
キシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシ
フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ
−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキ
シ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキ
シ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポ
キシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジンおよびそれらの混合
物などの２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５
−トリアジン系光安定剤などが挙げられる。これらの光
安定剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせ
て用いられる。

【００４６】ヒドロキシアミンとしては、例えばＮ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒド
ロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、
Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテト
ラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒ
ドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシア
ミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシ
アミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキ
シアミンおよびそれらの混合物などが挙げられる。かか
るヒドロキシアミンはそれぞれ単独でまたは２種以上を
組み合わせて用いられる。

【００４７】金属不活性化剤としては、例えばＮ，Ｎ’
−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリ
チロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）
ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサ
ニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビス
フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）
オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイ
ル）チオプロピオニルジヒドラジドおよびそれらの混合
物などが挙げられる。かかる金属不活性剤は、それぞれ
単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。

【００４８】滑剤としては、例えばパラフィン、ワック
スなどの脂肪族炭化水素、炭素数８〜２２の高級脂肪族
酸、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸のアルミニウム塩、
カルシウム塩、マグネシウム塩、亜鉛塩などの金属塩、
炭素数８〜２２の脂肪族アルコール、ポリグリコール、
炭素数４〜２２の高級脂肪酸と炭素数４〜１８の脂肪族
１価アルコールとのエステル、炭素数８〜２２の高級脂
肪族アマイド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げ
られる。

【００４９】ブタジエン重合体を化合物（Ｉ）と共に加
熱溶融するには、例えばブタジエン重合体ならびに化合
物（Ｉ）を含むブタジエン重合体組成物を加熱すればよ
い。ブタジエン重合体組成物は、ブタジエン重合体およ
び化合物（Ｉ）を混合する方法により得ることができ
る。ブタジエン重合体は、粉末などの固体状態であって
もよいし、加熱されて溶融している状態であってもよ
い。化合物（Ｉ）は、例えば粉末などの固体状態のまま
混合されてもよいし、加熱されて溶融している状態で混
合されてもよいし、溶媒に溶解された溶液として混合さ
れてもよい。ブタジエン重合体が溶融状態で混合する
と、ブタジエン重合体に化合物（Ｉ）が均一に分散した
組成物を得ることができる。かかる組成物における化合
物（Ｉ）の含有量は、ブタジエン重合体１００重量部あ
たり通常０．００１重量部以上、好ましくは０．０１重
量部以上、さらに好ましくは０．０５重量部以上であ
り、通常１０重量部以下、好ましくは５重量部以下であ
る。

【００５０】かかる組成物は、上記した酸化防止剤、添
加剤などを含有していてもよく、これらは化合物（Ｉ）
と共にブタジエン重合体に混合される。

【００５１】ブタジエン重合体組成物を加熱する際の加
熱温度は、通常１５０℃以上、好ましくは１７０℃以上
である。加熱温度の上限はブタジエン重合体および化合
物（Ｉ）が分解しない温度であればよく、例えば２５０
℃以下、好ましくは２２０℃以下である。

【００５２】かくして加熱溶融したのち、成形する。成
形は、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法などの通
常の方法により成形することができる。

【００５３】かくして成形することにより、ブタジエン
重合体成形品を得るが、かかる成形品は、ゲル化物がな
く、外観不良もないので、例えばホース、履物、玩具、
フィルム、容器などに好適に使用することができる。

【００５４】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、ブタジエン
重合体に化合物（Ｉ）を含有させているので、ブタジエ
ン重合体が安定化されて、ゲル化物を生ずることなく、
ブタジエン重合体成形品を製造することができる。

【００５５】

【実施例】以下、実施例により本発明を拠り詳細に説明
するが、本発明はかかる実施例により限定されるもので
はない。

【００５６】実施例１ スチレン−ブタジエンブロック共重合体〔スチレン単位
含有量は７５重量％、ブタジエン単位含有量は２５重量
％、淡黄色透明、フィリップス社製、「Ｋ−Ｒｅｓｉｎ
ＫＲ−０５」〕の粉末１００重量部に２，２，５，
７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマン（粉末
状）０．１重量部を添加した。次いで、３０ｍｍφ一軸
押出機を用いて２００℃で約２分間溶融混練しペレット
化して、ペレット状のスチレン−ブタジエン共重合体組
成物を得た。このペレット状の組成物のＭＦＲをメルト
インデクサー〔「Ｌ２４６−２５３１」〕を用いて２６
０℃で荷重２１６０ｇ、滞留時間１５分として測定した
ところ、２９ｇ／１０分であった。ＭＦＲが大きいほど
流動し易いことを示し、ゲル化が進行していないことを
示す。上記で得たペレットを加熱し溶融混練し、射出成
形して得られる成形体は、ゲル化物がなく、外観も良好
である。

【００５７】実施例２ ２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシク
ロマンに代えて２，２，５，７，８−ペンタメチルクロ
マン（粉末状）０．１重量部を用いる以外は実施例１と
同様に操作して、スチレン−ブタジエン共重合体組成物
を得た。この組成物のＭＦＲを実施例と同様にして測定
したところ、３１ｇ／１０分であった。上記で得たペレ
ットを加熱し溶融混練し、射出成形して得られる成形体
は、ゲル化物がなく、外観も良好である。

【００５８】比較例１ ２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシク
ロマンを用いることなくスチレン−ブタジエンブロック
共重合体をそのまま溶融混練する以外は実施例１と同様
に操作して、スチレン−ブタジエンブロック共重合体の
ペレットを得た。このペレットのＭＦＲを上記メルトイ
ンデクサー〔「Ｌ２４６−２５３１」〕を用いて２６０
℃で荷重２１６０ｇ、滞留時間１５分として測定したと
ころ、４ｇ／１０分であり、この値はゲル化が進行して
いることを示す。上記で得たペレットを加熱し溶融混練
し、射出成形して得られる成形体は、ゲル化物が多く存
在し、該ゲル化物に起因して表面に微細な凸部が発生し
ている。

【００５９】以上の結果を表１にまとめて示す。

【００６０】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｋ 5/1545 Ｃ０８Ｋ 5/1545 Ｃ０８Ｌ 51/04 Ｃ０８Ｌ 51/04 53/02 53/02 // Ｂ２９Ｋ 9:00 Ｂ２９Ｋ 9:00 (72)発明者 肥後 睦子 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4F071 AA12 AA12X AA22X AA34X AA75 AA76 AC04 BB05 BB06 BC17 4F206 AA13 AA20 AH55 AH56 AM32 JA07 JQ81 4F207 AA13 AA20 AM32 KA01 KA17 4F208 AA13 AA20 AM32 LA07 LB01 LN01 4J002 AC031 AC071 AC081 BN141 BN151 BP011 EL096

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ブタジエン重合体を一般式（Ｉ） 〔式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子
   またはアルキル基を示し、Ｒ³は水素原子、アルキル
   基、アルコキシル基、ヒドロキシル基またはアセチル基
   を示し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に水素
   原子、アルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ⁹および
   Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアル
   ケニル基を示す。〕で示される化合物と共に加熱溶融し
   成形することを特徴とするブタジエン重合体成形品の製
   造方法。
2. 【請求項２】ブタジエン重合体が、ポリブタジエン、ス
   チレン-ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンブ
   ロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合
   体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体
   または耐衝撃ポリスチレンである請求項１に記載の製造
   方法。
3. 【請求項３】一般式（Ｉ）で示される化合物の使用量が
   ブタジエン重合体１００重量部あたり０．００１重量部
   以上である請求項１に記載の製造方法。
4. 【請求項４】射出成形法、押出成形法またはブロー成形
   法により成形する請求項１に記載の製造方法。
5. 【請求項５】ブタジエン重合体および前記一般式（Ｉ）
   で示される化合物を含むことを特徴とするブタジエン重
   合体組成物。
6. 【請求項６】ブタジエン重合体が、ポリブタジエン、ス
   チレン-ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンブ
   ロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合
   体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体
   または耐衝撃ポリスチレンである請求項５に記載のブタ
   ジエン重合体組成物。
7. 【請求項７】一般式（Ｉ）で示される化合物の含有量が
   ブタジエン重合体１００重量部あたり０．００１重量部
   以上である請求項５に記載のブタジエン重合体組成物。
8. 【請求項８】ブタジエン重合体に前記一般式（Ｉ）で示
   される化合物を含有させることを特徴とするブタジエン
   重合体の安定化方法。