JP2002083925A - 集積回路装置 - Google Patents
集積回路装置Info
- Publication number
- JP2002083925A JP2002083925A JP2000274351A JP2000274351A JP2002083925A JP 2002083925 A JP2002083925 A JP 2002083925A JP 2000274351 A JP2000274351 A JP 2000274351A JP 2000274351 A JP2000274351 A JP 2000274351A JP 2002083925 A JP2002083925 A JP 2002083925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- substrate
- integrated circuit
- circuit device
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0657—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/13—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48464—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area also being a ball bond, i.e. ball-to-ball
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06517—Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06527—Special adaptation of electrical connections, e.g. rewiring, engineering changes, pressure contacts, layout
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30107—Inductance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
り扱う場合にインダクタンス成分に起因して発生する誤
動作を低減したチップ・オン・チップ構造の集積回路装
置を提供する。 【解決手段】 チップ・オン・チップ構造の小さい方の
ICチップ2が収まる程度の貫通穴5を基板4に形成し
ておき、ICチップ2が貫通穴5に納まるようにチップ
・オン・チップ構造の大きい方のICチップ1を基板4
に実装する。
Description
をバンプを介して接合するなどして電気的に接続した構
造を有する集積回路装置に関するものである。
実装するにあたって、両方のチップをバンプを介して接
合するなどして電気的に接続した構造(以下、「チップ
・オン・チップ構造」と称する)にする場合がある。こ
のチップ・オン・チップ構造を採用することによって、
各チップを別々に実装する場合に比して、基板の面積を
小さくできるというメリットがある。
は、図7に示すように、チップ・オン・チップ構造のI
Cチップ100及び200を基板300上に単に積み重
ねた構成になっており、厚みが大きくなるという問題が
あった。また、ICチップ100の表面(すなわち、I
Cチップ200が接合する、電極が設けられている側の
面)が基板300と反対側になるため、基板300に形
成された不図示の配線パターンとICチップ100との
間を金線などのワイヤ400で接続する必要があった。
特に高周波信号を取り扱う回路の場合には、ワイヤ40
0のインダクタンス成分に起因して、感度が取れない、
感度がばらつくなどの問題がある。
は、ノイズ対策としてシールドを行う必要があるが、従
来では、図8に示すように、シールド材500を設ける
ことになり、シールド材が多く必要であるとともに、厚
みが一層大きくなり、ICカードや携帯電話等の薄いも
のでは使用できないこともあった。
もに、高周波信号を取り扱う場合にインダクタンス成分
に起因して発生する不具合を低減したチップ・オン・チ
ップ構造の集積回路装置を提供することを目的とする。
て、必要となるシールド材の量を低減させた、あるい
は、シールド材を不要とすることにより、低廉化や軽量
化を実現可能としたチップ・オン・チップ構造の集積回
路装置を提供することを目的とする。
め、請求項1に記載の発明である集積回路装置では、第
1のICチップ、第2のICチップ、及び、該第2のI
Cチップが収まる程度の穴が形成された基板を有し、前
記第1のICチップと前記第2のICチップとを接合さ
せることにより電気的に接続しているとともに、前記第
2のICチップが前記基板の前記穴に収まるように前記
第1のICチップが前記基板に実装されている。
造の一方のICチップが基板に形成された貫通穴に収ま
っているので、厚みが小さくなり、また、ICチップの
表面が基板側になるので、ICチップを基板とバンプ接
続することによりワイヤレスで接続することが可能とな
る。
求項1に記載の集積回路装置において、前記基板には前
記第1のICチップとの接続部の周囲にシールドパター
ンが形成されている。これにより、シールド効果が高ま
る。
求項1または2に記載の集積回路装置において、前記基
板の穴に、定電位点に接続されたシールド材を設けてい
る。
造のICチップが搭載される部分は、基準電位に接続さ
れたシールド材と、シールド効果を持つICチップの裏
面(ICチップ同士が接合していない側の面)とによっ
て囲まれることになる。また、上記シールド材としては
大きい方のICチップよりも若干大きめの寸法にすれ
ば、更にシールド効果が期待できる。
路装置では、第1のICチップ、第2のICチップ、及
び、該第2のICチップが収まる程度の凹部が形成され
た多層基板を有し、前記第1のICチップと前記第2の
ICチップとを接合させることにより電気的に接続して
いるとともに、前記第2のICチップが前記多層基板の
前記凹部に収まるように前記第1のICチップが前記多
層基板に実装されており、さらに、前記多層基板の前記
凹部の周囲には定電位点に接続された配線が形成されて
いる。
造のICチップが搭載される部分は、基準電位に接続さ
れた、多層基板に形成された配線と、シールド効果を持
つICチップの裏面(ICチップ同士が接合していない
側の面)とによって囲まれるとともに、多層基板のある
層に形成した配線をシールド材として利用しているの
で、シールド材を別途設ける必要はなくなる。
を参照しながら説明する。図1の(イ)は本発明の第1
実施形態である集積回路装置の基板部分の上面図、図1
の(ロ)は図1の(イ)に示す基板にICチップを搭載
した場合における図1の(イ)中のX−X’での断面図
である。第1実施形態では、第1のICチップ1と、第
2のICチップ2とが、金などのバンプ3を介して電気
的に接続されることにより、チップ・オン・チップ構造
となっている。基板4のバンプ3からは配線が引き出さ
れている。樹脂やセラミック等から成る基板4には、小
さい方のチップである第2のICチップ2が収まる程度
の貫通穴5が形成されている。第1のICチップ1は、
第2のICチップ2が基板4の貫通穴5に収まるような
位置にて、バンプ3を介することにより基板4に形成さ
れている配線とワイヤレスで電気的に接続されている。
また、基板4の特定のバンプ3の周囲には例えばグラン
ドなどの定電位点に接続された配線パターン12が形成
されて、シールドを形成している。
・オン・チップ構造の一方のICチップが基板に形成さ
れた貫通穴の内側に収まっているので、厚みが小さくな
り薄型化が促進される。また、ICチップと基板の配線
との間の電気的な接続をワイヤレスで行っているので、
高周波信号を取り扱う回路の場合にインダクタンス成分
に起因して発生する不具合が低減する。
を形成する代わりに、基板4に凹部6を形成して、この
凹部6に第2のICチップ2が収まるように第1のIC
チップ1を基板4にバンプ接続するようにしても、同様
の効果を得ることができる。
路装置の断面図を図3に示す。尚、上記第1実施形態と
同一部分には同一符号を付して説明を省略する。図1と
の違いは、貫通穴5の側面及び底面を覆う形状のシール
ド材7が貫通穴5にはめ込まれて固定されている点であ
る。シールド材7は例えばグランドなどの定電位点に接
続される。シールド材7は外径が貫通穴5の径よりも大
きな部分であるストッパー部71を有しており、これに
より、シールド材7の位置決め及び固定を容易にしてい
る。シールド材7の材質は、例えば、銅、アルミ、鉄な
どである。
側のみを貫通穴5の径よりも若干大きな寸法のシールド
材7で塞ぐようにしてもよい。この場合、シールド材7
と配線パターン12とをスルーホール13で接続するよ
うにしてもよい。また、図5に示すように、第1のIC
チップ1よりも若干大きな寸法のシールド材7で貫通穴
5の底面側のみを塞ぐようにしてもよい。
ICチップ1及び第2のICチップ2が搭載される部分
は、基準電位に接続されたシールド材7と、シールド効
果を持つ第1のICチップ1の裏面(第2のICチップ
2が接合されていない側の面)とによって囲まれるの
で、十分なシールド効果を得ることができるとともに、
シールド材7は小さい方のチップである第2のICチッ
プ2よりも若干大きめの寸法〜第1のICチップ1程度
の寸法であればよいので、必要となるシールド材の量を
低減することができ、これにより、低廉化や軽量化を実
現することができる。
路装置の断面図を図6に示す。尚、上記第1実施形態と
同一部分には同一符号を付して説明を省略する。8はM
個の層8−1、8−2、…、8−Mから成る多層基板で
あり、第2のICチップ2が収まる程度の大きさで第1
層8−1〜第N層8−Nまでがくり抜かれることにより
凹部9が形成されている。基板8には凹部9の周囲を取
り囲む形で配線10及びビアコン(層間コンタクト)1
1が形成されており、この配線10及びビアコン11
は、例えばグランドなどの定電位点に接続された配線パ
ターン12と導通状態にある。第1のICチップ1は、
第2のICチップ2が多層基板8の凹部9に収まるよう
な位置で、バンプ3を介することによりワイヤレスで基
板8に形成されている配線と電気的に接続されている。
ICチップ1及び第2のICチップ2が搭載される部分
は、基準電位に接続された、多層基板8に形成された配
線10及びビアコン11と、シールド効果を持つ第1の
ICチップ1の裏面(第2のICチップ2が接合されて
いない側の面)とによって囲まれるので、十分なシール
ド効果を得ることができるとともに、多層基板8に形成
した配線をシールド材として利用しているので、シール
ド材を別途設ける必要はなくなり、これにより、一層の
低廉化や軽量化を実現することができる。
発明である集積回路装置によれば、チップ・オン・チッ
プ構造の一方のICチップが基板に形成された貫通穴に
収まっているので、厚みが小さくなり小型化が促進さ
れ、また、ICチップと基板の配線との間の電気的な接
続をバンプで行っているので、高周波信号を取り扱う回
路の場合にインダクタンス成分に起因して発生する不具
合が低減する。
路装置によれば、チップ・オン・チップ構造のICチッ
プと基板の配線との間の電気的な接続を行うバンプ周辺
の配線をシールドとして用いるようにしているので、シ
ールド効果を高めることができる。
路装置によれば、チップ・オン・チップ構造のICチッ
プが搭載される部分は、基準電位に接続されたシールド
材と、シールド効果を持つICチップの裏面(ICチッ
プ同士が接合していない側の面)とによって囲まれるの
で、十分なシールド効果を得ることができるとともに、
シールド材はチップ・オン・チップ構造の小さい方のI
Cチップよりも若干大きめの寸法であればよいので、必
要となるシールド材の量を低減することができ、これに
より、低廉化や軽量化を実現することができる。
路装置によれば、チップ・オン・チップ構造のICチッ
プが搭載される部分は、基準電位に接続された、多層基
板に形成された配線と、シールド効果を持つICチップ
の裏面(ICチップ同士が接合していない側の面)とに
よって囲まれるので、十分なシールド効果を得ることが
できるとともに、多層基板のある層に形成した配線をシ
ールド材として利用しているので、シールド材を別途設
ける必要はなくなり、これにより、一層の低廉化や軽量
化を実現することができる。
上面図及び断面図である。
断面図である。
装置の断面図である。
装置の断面図である。
装置の断面図である。
装置の断面図である。
装置の断面図である。
の従来の集積回路装置の断面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 第1のICチップ、第2のICチップ、
及び、該第2のICチップが収まる程度の穴が形成され
た基板を有し、前記第1のICチップと前記第2のIC
チップとを接合させることにより電気的に接続している
とともに、前記第2のICチップが前記基板の前記穴に
収まるように前記第1のICチップが前記基板に実装さ
れていることを特徴とする集積回路装置。 - 【請求項2】 前記基板には前記第1のICチップとの
接続部の周囲にシールド用のパターンが形成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。 - 【請求項3】 前記基板の穴には、定電位点に接続され
たシールド材が設けられていることを特徴とする請求項
1または2に記載の集積回路装置。 - 【請求項4】 第1のICチップ、第2のICチップ、
及び、該第2のICチップが収まる程度の凹部が形成さ
れた多層基板を有し、前記第1のICチップと前記第2
のICチップとを接合させることにより電気的に接続し
ているとともに、前記第2のICチップが前記多層基板
の前記凹部に収まるように前記第1のICチップが前記
多層基板に実装されており、さらに、前記多層基板の前
記凹部の周囲には定電位点に接続された配線が形成され
ていることを特徴とする集積回路装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000274351A JP4497683B2 (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 集積回路装置 |
US09/938,498 US6489669B2 (en) | 2000-09-11 | 2001-08-27 | Integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000274351A JP4497683B2 (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002083925A true JP2002083925A (ja) | 2002-03-22 |
JP4497683B2 JP4497683B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=18760121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000274351A Expired - Fee Related JP4497683B2 (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 集積回路装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6489669B2 (ja) |
JP (1) | JP4497683B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004274259A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Tdk Corp | アンテナ一体型モジュールおよび通信機 |
JP2006080350A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Denso Corp | 半導体装置およびその実装構造 |
WO2007086152A1 (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 基板構造 |
US8138594B2 (en) | 2008-09-22 | 2012-03-20 | Nec Corporation | Semiconductor device and manufacturing method of a semiconductor device |
US8299925B2 (en) | 2007-10-26 | 2012-10-30 | Fujitsu Limited | RFID tag and manufacturing method thereof |
KR101342829B1 (ko) * | 2011-12-29 | 2014-01-13 | 주식회사 네패스 | 반도체 패키지 및 그 제조 방법 |
US8748229B2 (en) | 2008-06-11 | 2014-06-10 | Fujitsu Semiconductor Limited | Manufacturing method including deformation of supporting board to accommodate semiconductor device |
JP2015111425A (ja) * | 2009-12-31 | 2015-06-18 | インテル コーポレイション | ハイブリッドメモリのためのシステム、方法及び装置 |
Families Citing this family (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10142655A1 (de) * | 2001-08-31 | 2003-04-03 | Epcos Ag | Bauelementanordnung |
US6993298B2 (en) * | 2001-09-07 | 2006-01-31 | Siemens Energy & Automation, Inc. | Programmable controller with RF wireless interface |
US20030094677A1 (en) * | 2001-11-22 | 2003-05-22 | Cheng Wang Zhong | Suspended semiconductor package |
US20030183934A1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-02 | Barrett Joseph C. | Method and apparatus for stacking multiple die in a flip chip semiconductor package |
US6659512B1 (en) * | 2002-07-18 | 2003-12-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Integrated circuit package employing flip-chip technology and method of assembly |
DE10246101B4 (de) * | 2002-10-02 | 2005-12-01 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen eines Gehäuses für einen Chip mit einer mikromechanischen Struktur |
US6836022B2 (en) * | 2003-02-13 | 2004-12-28 | Medtronic, Inc. | High voltage flip-chip component package and method for forming the same |
US20040201970A1 (en) * | 2003-04-10 | 2004-10-14 | International Business Machines Corporation | Chip interconnection method and apparatus |
JP3858854B2 (ja) * | 2003-06-24 | 2006-12-20 | 富士通株式会社 | 積層型半導体装置 |
CN1985371B (zh) * | 2004-07-13 | 2011-12-28 | Nxp股份有限公司 | 包含集成电路的电子器件 |
TWI253701B (en) * | 2005-01-21 | 2006-04-21 | Via Tech Inc | Bump-less chip package |
US20080028136A1 (en) | 2006-07-31 | 2008-01-31 | Schakel Keith R | Method and apparatus for refresh management of memory modules |
US8438328B2 (en) | 2008-02-21 | 2013-05-07 | Google Inc. | Emulation of abstracted DIMMs using abstracted DRAMs |
US8111566B1 (en) | 2007-11-16 | 2012-02-07 | Google, Inc. | Optimal channel design for memory devices for providing a high-speed memory interface |
US8796830B1 (en) | 2006-09-01 | 2014-08-05 | Google Inc. | Stackable low-profile lead frame package |
US9542352B2 (en) | 2006-02-09 | 2017-01-10 | Google Inc. | System and method for reducing command scheduling constraints of memory circuits |
US8359187B2 (en) | 2005-06-24 | 2013-01-22 | Google Inc. | Simulating a different number of memory circuit devices |
US8090897B2 (en) | 2006-07-31 | 2012-01-03 | Google Inc. | System and method for simulating an aspect of a memory circuit |
US8169233B2 (en) | 2009-06-09 | 2012-05-01 | Google Inc. | Programming of DIMM termination resistance values |
US8060774B2 (en) | 2005-06-24 | 2011-11-15 | Google Inc. | Memory systems and memory modules |
US7386656B2 (en) | 2006-07-31 | 2008-06-10 | Metaram, Inc. | Interface circuit system and method for performing power management operations in conjunction with only a portion of a memory circuit |
US20080082763A1 (en) | 2006-10-02 | 2008-04-03 | Metaram, Inc. | Apparatus and method for power management of memory circuits by a system or component thereof |
US9171585B2 (en) | 2005-06-24 | 2015-10-27 | Google Inc. | Configurable memory circuit system and method |
US7609567B2 (en) | 2005-06-24 | 2009-10-27 | Metaram, Inc. | System and method for simulating an aspect of a memory circuit |
US8081474B1 (en) | 2007-12-18 | 2011-12-20 | Google Inc. | Embossed heat spreader |
US8089795B2 (en) | 2006-02-09 | 2012-01-03 | Google Inc. | Memory module with memory stack and interface with enhanced capabilities |
US8041881B2 (en) | 2006-07-31 | 2011-10-18 | Google Inc. | Memory device with emulated characteristics |
US8327104B2 (en) | 2006-07-31 | 2012-12-04 | Google Inc. | Adjusting the timing of signals associated with a memory system |
US10013371B2 (en) | 2005-06-24 | 2018-07-03 | Google Llc | Configurable memory circuit system and method |
US8397013B1 (en) | 2006-10-05 | 2013-03-12 | Google Inc. | Hybrid memory module |
US8244971B2 (en) | 2006-07-31 | 2012-08-14 | Google Inc. | Memory circuit system and method |
US8055833B2 (en) | 2006-10-05 | 2011-11-08 | Google Inc. | System and method for increasing capacity, performance, and flexibility of flash storage |
US8619452B2 (en) | 2005-09-02 | 2013-12-31 | Google Inc. | Methods and apparatus of stacking DRAMs |
US9507739B2 (en) | 2005-06-24 | 2016-11-29 | Google Inc. | Configurable memory circuit system and method |
US8077535B2 (en) | 2006-07-31 | 2011-12-13 | Google Inc. | Memory refresh apparatus and method |
US8386722B1 (en) | 2008-06-23 | 2013-02-26 | Google Inc. | Stacked DIMM memory interface |
US8335894B1 (en) | 2008-07-25 | 2012-12-18 | Google Inc. | Configurable memory system with interface circuit |
US8130560B1 (en) | 2006-11-13 | 2012-03-06 | Google Inc. | Multi-rank partial width memory modules |
US9632929B2 (en) | 2006-02-09 | 2017-04-25 | Google Inc. | Translating an address associated with a command communicated between a system and memory circuits |
US7724589B2 (en) | 2006-07-31 | 2010-05-25 | Google Inc. | System and method for delaying a signal communicated from a system to at least one of a plurality of memory circuits |
US9466545B1 (en) * | 2007-02-21 | 2016-10-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package in package |
US8209479B2 (en) | 2007-07-18 | 2012-06-26 | Google Inc. | Memory circuit system and method |
US8080874B1 (en) | 2007-09-14 | 2011-12-20 | Google Inc. | Providing additional space between an integrated circuit and a circuit board for positioning a component therebetween |
US8144479B2 (en) * | 2007-12-24 | 2012-03-27 | Universal Scientific Industrial Co., Ltd. | Wireless communication module |
US20100244276A1 (en) * | 2009-03-25 | 2010-09-30 | Lsi Corporation | Three-dimensional electronics package |
US20110051352A1 (en) * | 2009-09-02 | 2011-03-03 | Kim Gyu Han | Stacking-Type USB Memory Device And Method Of Fabricating The Same |
US8664756B2 (en) | 2012-07-24 | 2014-03-04 | Medtronic, Inc. | Reconstituted wafer package with high voltage discrete active dice and integrated field plate for high temperature leakage current stability |
JP2013120838A (ja) * | 2011-12-07 | 2013-06-17 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及び半導体チップ |
US10840536B2 (en) | 2013-02-06 | 2020-11-17 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Stretchable electronic systems with containment chambers |
JP2016520986A (ja) * | 2013-02-06 | 2016-07-14 | ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ イリノイ | 伸縮性エレクトロニクス用の自己相似フラクタルデザイン |
US9613911B2 (en) | 2013-02-06 | 2017-04-04 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Self-similar and fractal design for stretchable electronics |
US10497633B2 (en) | 2013-02-06 | 2019-12-03 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Stretchable electronic systems with fluid containment |
KR101983142B1 (ko) * | 2013-06-28 | 2019-08-28 | 삼성전기주식회사 | 반도체 패키지 |
US10645797B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-05-05 | Intel Corporation | Electromagnetic interference (EMI) shield for a printed circuit board (PCB) |
US10548249B2 (en) * | 2017-09-27 | 2020-01-28 | Intel Corporation | Shielding in electronic assemblies |
US20210375845A1 (en) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | Qualcomm Incorporated | Package cavity for enhanced device performance with an integrated passive device |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5337383A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit |
JPS5994441A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-31 | Nippon Denso Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPS6080232A (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Lsiチツプ実装用カ−ド |
JPS615549A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-11 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 半導体装置 |
JPS61259533A (ja) * | 1985-05-13 | 1986-11-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
JPH05129516A (ja) * | 1991-11-01 | 1993-05-25 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH08250652A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-27 | At & T Corp | マルチチップモジュールパッケージ |
JPH08255992A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Toshiba Corp | 回路基板のシールド装置 |
JP2001308258A (ja) * | 2000-04-26 | 2001-11-02 | Sony Corp | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5198963A (en) * | 1991-11-21 | 1993-03-30 | Motorola, Inc. | Multiple integrated circuit module which simplifies handling and testing |
US5608262A (en) * | 1995-02-24 | 1997-03-04 | Lucent Technologies Inc. | Packaging multi-chip modules without wire-bond interconnection |
US6154370A (en) * | 1998-07-21 | 2000-11-28 | Lucent Technologies Inc. | Recessed flip-chip package |
US6297551B1 (en) * | 1999-09-22 | 2001-10-02 | Agere Systems Guardian Corp. | Integrated circuit packages with improved EMI characteristics |
-
2000
- 2000-09-11 JP JP2000274351A patent/JP4497683B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-08-27 US US09/938,498 patent/US6489669B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5337383A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit |
JPS5994441A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-31 | Nippon Denso Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPS6080232A (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Lsiチツプ実装用カ−ド |
JPS615549A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-11 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 半導体装置 |
JPS61259533A (ja) * | 1985-05-13 | 1986-11-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
JPH05129516A (ja) * | 1991-11-01 | 1993-05-25 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH08250652A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-27 | At & T Corp | マルチチップモジュールパッケージ |
JPH08255992A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Toshiba Corp | 回路基板のシールド装置 |
JP2001308258A (ja) * | 2000-04-26 | 2001-11-02 | Sony Corp | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004274259A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Tdk Corp | アンテナ一体型モジュールおよび通信機 |
JP2006080350A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Denso Corp | 半導体装置およびその実装構造 |
WO2007086152A1 (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 基板構造 |
US8299925B2 (en) | 2007-10-26 | 2012-10-30 | Fujitsu Limited | RFID tag and manufacturing method thereof |
US8748229B2 (en) | 2008-06-11 | 2014-06-10 | Fujitsu Semiconductor Limited | Manufacturing method including deformation of supporting board to accommodate semiconductor device |
US8138594B2 (en) | 2008-09-22 | 2012-03-20 | Nec Corporation | Semiconductor device and manufacturing method of a semiconductor device |
JP2015111425A (ja) * | 2009-12-31 | 2015-06-18 | インテル コーポレイション | ハイブリッドメモリのためのシステム、方法及び装置 |
KR101342829B1 (ko) * | 2011-12-29 | 2014-01-13 | 주식회사 네패스 | 반도체 패키지 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4497683B2 (ja) | 2010-07-07 |
US20020030264A1 (en) | 2002-03-14 |
US6489669B2 (en) | 2002-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002083925A (ja) | 集積回路装置 | |
JP4185499B2 (ja) | 半導体装置 | |
US20030038331A1 (en) | Semiconductor device having a barrier layer | |
KR960002762A (ko) | 노이즈가 적은 적층 멀티칩 패키지 | |
JP2000223653A (ja) | チップ・オン・チップ構造の半導体装置およびそれに用いる半導体チップ | |
JP2008010859A (ja) | 半導体装置 | |
JP4876618B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
US20060202335A1 (en) | Tape ball grid array package with electromagnetic interference protection and method for fabricating the package | |
JPH07307413A (ja) | 半導体装置 | |
JP4284744B2 (ja) | 高周波集積回路装置 | |
KR19980080823A (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
JP2004128356A (ja) | 半導体装置 | |
US6984882B2 (en) | Semiconductor device with reduced wiring paths between an array of semiconductor chip parts | |
JP2003068974A (ja) | 半導体装置 | |
KR20050027384A (ko) | 재배선 패드를 갖는 칩 사이즈 패키지 및 그 적층체 | |
KR20190124012A (ko) | 전자기 차폐층을 갖는 반도체 패키지 | |
KR102400533B1 (ko) | 전자 소자 모듈 및 이의 제조방법 | |
US10798815B2 (en) | Protection circuit module and electronic device | |
US8089164B2 (en) | Substrate having optional circuits and structure of flip chip bonding | |
JP2003101186A (ja) | 電子部品及び電子部品カバー | |
JP2005228901A (ja) | 半導体装置 | |
US20030057569A1 (en) | Semiconductor device | |
US20090179326A1 (en) | Semiconductor device package | |
JP2006165333A (ja) | 半導体素子搭載装置及び半導体素子搭載方法 | |
JP3645701B2 (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070809 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100126 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100413 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |