JP2001527136A - マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子ドナーを含む触媒成分、その製造法および使用法 - Google Patents

マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子ドナーを含む触媒成分、その製造法および使用法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子ドナーを含むオレフィン重合触媒成分の新規製造法に関する。該方法は、下記工程を含む。すなわち、(i)アルコキシ部分を含むチタン不含マグネシウム化合物(a)(ここで、チタン不含マグネシウム化合物は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびアルコキシドを含む化合物または複合体、マグネシウムジハライドおよびアルコールを含む複合体、および複合体でないマグネシウムジアルコキシドから成る群から選択される)を、該アルコキシ部分によるそのハロゲンの置換によって電子ドナーを形成し得るハロゲン化合物(b)と反応させて中間体(ab)を得る工程、および(ii)該中間体(ab)をチタンハライド(c)と反応させる工程、または(i)’ アルコキシ部分を含むチタン不含マグネシウム化合物(a)(ここで、チタン不含マグネシウム化合物は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびアルコキシドを含む化合物または複合体、およびマグネシウムジハライドおよびアルコールを含む複合体から成る群から選択される)を、チタンハライド(c)と反応させて中間体(ac)を得る工程、および(ii)’該中間体(ac)を該アルコキシ部分によるそのハロゲンの置換によって電子ドナーを形成し得るハロゲン化合物(b)と反応させる工程である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子ドナーを含むオレフィ
ン重合触媒成分の製造法に関する。本発明はまた、かかる触媒成分、およびプロ
ペンなどのα−オレフィンの重合のためのその使用法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、上記種類のいわゆるチーグラー−ナッタ成分は、マグネシウムハライ
ド−アルコール複合体とチタンテトラハライドおよび電子ドナー(通常はフタル
酸ジエステル)との反応によって製造されている。該製造は、多量の試薬および
洗浄液の使用を伴い、それらは取扱いが困難である。さらに、再生または破壊を
容易に行うことができず、環境上の問題を生じる副生物が生成する。
【0003】 例えば、通常のポリプロペン触媒成分の製造は、マグネシウムジクロライド−
アルコール複合体とチタンテトラクロライドとの反応により、中間体としての反
応性β−マグネシウムジクロライド、および副生物としての塩化水素およびチタ
ンアルコキシトリクロライドが生じることを伴う。次いで、反応性β−マグネシ
ウムジクロライド中間体が更なるチタンテトラクロライドによって活性化されて
、該触媒成分を生じる(チタンテトラクロライドなどのチタンハライドによる処
理を、以後、チタネート化と言う)。
【0004】 チタネート化において生成したチタンアルコキシトリクロライド副生物は触媒
毒であり、多量のチタンテトラクロライドを使用して十分洗浄することにより注
意深く除去されなければならない。さらに、チタンアルコキシトリクロライドは
、チタンテトラクロライド洗浄液が例えば反応性β−マグネシウムジクロライド
を活性化するために再使用されるべきであるならば、該洗浄液から注意深く分離
されなければならない。最後に、チタンアルコキシトリクロライドは、問題の多
い廃棄物であり、廃棄が困難である。
【0005】 したがって、2回のチタネート化および3回のヘプタン洗浄を伴う典型的なプロ
ぺン重合触媒成分の製造では、1モルの製造された触媒成分(モルMg)が約4
0モルのチタンテトラクロライドを例えば循環され得る洗浄液として必要とし(
下記表15参照)、問題の多い廃棄物としての約3モルのチタンアルコキシトリ クロライド、ならびに約3モルの塩化水素を生じる。
【0006】 SumitomoのEP0748820A1(以降、「Sumitomo」と言う)は、ジアル
コキシマグネシウムを製造し、それをチタンテトラクロライドと反応させて中間
体を生成し、次いで、中間体をフタル酸ジクロライドと反応させて触媒的に活性
なプロペン重合触媒成分を生成した。活性は、チタネート化を繰り返すと共に、
トルエンおよびヘキサンによる洗浄を繰り返すことにより高められた。上記文献
の第10頁第14〜37行を参照。 Sumitomoの該方法は、マグネシウムジクロライド−アルコール複合体とチタンテ
トラクロライドとの反応を回避し、それによって、触媒的に毒性のチタンアルコ
キシトリクロライド副生物の生成を排除した。しかし、満足のいく触媒活性を得
るためには、4回ものチタネート化および炭化水素処理がなおも必要である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記チタンアルコキシトリクロライドなどの有害な副生物を
生成することなく、または多量のチタネート化試薬および/または洗浄液の使用
を必要とすることなく、満足のいく活性を有する触媒成分を生じる方法を提供す
ることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記問題は、上記種類の触媒成分を製造するための新規方法によって今解決さ
れた。該方法は、主として、下記工程を特徴とする。すなわち (i)アルコキシ部分を含むチタン不含マグネシウム化合物(a)(ここで、チ
タン不含マグネシウム化合物は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびアルコ
キシドを含む化合物または複合体、マグネシウムジハライドおよびアルコールを
含む複合体、および複合体でないマグネシウムジアルコキシドから成る群から選
択される)を、該アルコキシ部分によるそのハロゲンの置換によって電子ドナー
を形成し得るハロゲン化合物(b)と反応させて中間体(ab)を得る工程、お
よび (ii)該中間体(ab)をチタンハライド(c)と反応させる工程、または (i)’ アルコキシ部分を含むチタン不含マグネシウム化合物(a)(ここで 、チタン不含マグネシウム化合物は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびア
ルコキシドを含む化合物または複合体、およびマグネシウムジハライドおよびア
ルコールを含む複合体から成る群から選択される)を、チタンハライド(c)と
反応させて中間体(ac)を得る工程、および (ii)’該中間体(ac)を該アルコキシ部分によるそのハロゲンの置換によっ
て電子ドナーを形成し得るハロゲン化合物(b)と反応させる工程 である。
【0009】 本出願人は、マグネシウムジハライドをより多く含むほど、マグネシウムジハ
ライド、チタンテトラハライドおよび電子ドナーを含む化学量論的触媒成分の活
性が高いことを見出した。すなわち、例えばSumitomoの繰り返されるトルエン洗
浄の目的は、一部は、最終の触媒成分のマグネシウムジクロライド含量、従って
触媒活性を増加させるために、チタンテトラクロライドおよび電子ドナーを触媒
成分前駆体から除去することであったと考えられる。本発明は、別の方法でその
問題を解決する。本発明方法では、いずれかのチタネート化が起こる前に、マグ
ネシウムジハライドが、反応物質の一部として含められ、または合成され、従っ
て、チタネート化および洗浄サイクルの繰り返しの必要がかなり減少する。
【0010】 工程(i)、(ii)、(i)’および(ii)’ の好ましくは1つ、最も好ま しくは全てが溶液中で行われる。次いで、工程(ii)または(ii)’の反応生成
物が、好ましくは沈殿によって回収される。
【0011】
【発明の実施の態様】
本発明の一実施態様によれば、該化合物(a)、(b)および(c)を、本発
明方法において、本質的に化学量論量で接触させる。他の実施態様によれば、該
マグネシウム化合物(a)に関して化学量論量より過剰、好ましくは5〜20倍
過剰の該チタンハライド(c)がさらに良好な結果を与える。
【0012】 本発明方法で使用される該ハロゲン化合物(b)は、電子ドナー前駆体、すな
わちアルコキシ基によるそのハロゲンの置換によって触媒成分の電子ドナーを形
成し得るものである。電子ドナーは、この文脈では、本発明方法によって製造さ
れるチタン触媒成分の一部を形成し、従来は内部電子ドナーとも言われる電子ド
ナーを意味する。かかるハロゲン化合物(b)は、例えば、C1〜C20アルキル ハライド、C7〜C27アラルキルハライドおよびC2〜C22アシルハライドであり
、これらは、アルコキシ化合物と反応して、ハロゲンをアルコキシ化合物のアル
コキシ基で置換し、例えば、内部電子ドナーとして作用する対応するエーテルお
よびエステルを形成する。
【0013】 好ましくは、該ハロゲン化合物(b)は、式R”(COX’)n[ここで、R ”は1〜20個の炭素原子を有するn価の有機基、好ましくはn価のベンゼン環
であり、X’は、ハロゲン、好ましくは塩素であり、nはR”の原子価であり1
〜6、好ましくは1、2、3または4、より好ましくは2である。]を有する有
機酸ハライドである。最も好ましくは、該ハロゲン化合物はフタル酸ジクロライ
ドPh(COCl)2[ここで、Phはo−フェニレンである]である。対応し て、それから形成される電子ドナーは、好ましくは、式R”(COOR)n[こ こで、Rはn価のC1〜C20脂肪族基またはn価のC7〜C27 アリール脂肪族基 であり、R”およびnは上記と同じである]を有する有機酸エステルであり、よ
り好ましくはフタル酸ジエステルPh(COOR)2[ここで、RはC1〜C20
ルキルまたはC7〜C27 アラルキル、より好ましくはC1〜C16アルキルである ]である。最も好ましくは、該電子ドナーはジオクチルフタレートである。
【0014】 本発明方法で使用されるチタンハライド(c)は、好ましくは、式(OR’) k TiX4-k[ここで、R’は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基または7
〜16個の炭素原子を有するアラルキル基であり、Xはハロゲンであり、kは0
〜3である]のチタンハライドである。より好ましくは、該チタンハライド(c
)は、チタンテトラハライドTiX4[ここで、Xは上記と同じである]であり 、最も好ましくはチタンテトラクロライドTiCl4である。
【0015】 該チタン不含マグネシウム化合物(a)が、固体マグネシウムハライドの一部
でない、例えば、固体マグネシウムハライド担体の表面上の複合体分子の形状で
ないが、本質的に化学量論的組成を有する別個の化合物を形成することが好まし
い。しばしば、該チタン不含マグネシウム化合物は複合体である。複合体は、Ro
mpps Chemie-Lexicon, 第7版, Franckhsche Verlagshandlung, W. Keller & C
o, Stuttgart, 1973, page 1831によれば、「分子の組み合わせに由来する高次 の化合物の誘導された名前−その組立てにおいて原子が関与する一次の化合物と
は異なる」である。
【0016】 本発明の一実施態様によれば、本発明方法で使用されるチタン不含マグネシウ
ム化合物(a)は、式[MgX2x・[K(OR)my[ここで、Xはハロゲン
であり、Kは水素,周期表の1、2または13族の金属であり、Rは1〜20個
の炭素原子を有するアルキル、7〜27個の炭素原子を有するアラルキルまたは
2〜22個の炭素原子を有するアシルであり、xは、0〜20であり、mはKの
原子価であって1〜6の整数であり、yは1〜20である]のチタン不含複合体
である。
【0017】 該チタン不含複合体(a)のマグネシウムジハライドMgX2は、塩化マグネ シウム、臭化マグネシウムおよびヨウ化マグネシウムから選択され得る。好まし
くは、マグネシウムジクロライドである。
【0018】 アルコキシ化合物K(OR)mは、該チタン不含複合体(a)の成分として定 義されるその最も一般的な形状であり、該複合体(a)を、該ハロゲン化合物(
b)および該チタンハライド(c)あるいは該チタンハライド(c)および該ハ
ロゲン化合物(b)とさらに反応させる。しかし、アルコキシ化合物は、本発明
方法の3つの主要な実施態様の以下の説明においてより厳密に定義される。
【0019】 本発明の目的は、チタンハライド(c)を反応させるときにマグネシウムジハ
ライドが存在するように反応体およびその反応順序を選択することである。
【0020】 第一の主要な実施態様 本発明の第一の主要な実施態様によれば、該チタン不含マグネシウム化合物(a
)は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびアルコキシドを含む化合物または
複合体である。それは、マグネシウムハロアルコキシド、典型的にはMgXOR
・nR’OH[ここで、Xはハロゲン、好ましくは塩素であり、RおよびR’は
1〜C12ヒドロカルビルであり、nは0〜6である]などの化合物であり得る 。典型的には、それは、本質的に下記式(1)を有することを特徴とする、マグ
ネシウム、ハロゲンおよびアルコキシを含む複合体生成物である。
【0021】
【化1】 ここで、Xはハロゲン、好ましくは塩素であり、Rは1〜20個の炭素原子を有
するアルキル基であり、pは2〜20であり、qは<p、好ましくは<0.66
pである。複合体生成物中にいくつかのハロゲンXおよびアルコキシ基ORが存
在する場合、それらは異なっていても同じであってもよい。
【0022】 本発明で使用されるマグネシウム、ハロゲンおよびアルコキシを含む複合体は
、元素および基の性質および量に依存して、好ましくは非極性有機溶媒に可溶で
あり得る。従って、好ましくは、可溶性複合体が、触媒的に活性な化学量論的プ
ロ触媒複合体のための出発物質として使用される。さらに、マグネシウム、ハロ
ゲンおよびアルコキシを含む複合体は、マグネシウムアルキルMgR2およびR MgXよりも常に反応性が小さく、従って、遷移金属化合物の活性化により適し
ている。
【0023】 第一の主要な実施態様に係るチタン不含マグネシウム化合物(a)の化学構造
は、マグネシウムの2価および架橋形成能に基づく。本発明の範囲を制限するこ
となく、p≧3を有する複合体の化学構造は(a)であると考えられる。
【0024】
【化2】 ここで、各Gは同じでも異なっていてもよく、該Xおよび該ORから選択されて
q単位のXおよび(2p−q)単位のORを形成する。p/3が1より大きい場 合、式(a)には、最も遠いMg−Gから隣の単位の最も近いMg−Gへ…架橋
が存在する。
【0025】 化学構造は(b)または(c)でもあり得る。
【化3】 ここで、各Gは同じでも異なっていてもよく、該Xおよび該ORから選択されて
q単位のXおよび(2p−q)単位のORを形成し、pは3〜20である。
【0026】
【化4】 ここで、各Gは同じでも異なっていてもよく、該Xおよび該ORから選択されて
q単位のXおよび(2p−q)単位のORを形成し、pは3〜20である。
【0027】 チタン不含マグネシウム化合物(a)が第一の主要な実施態様に従う組成物お
よび構造を有する場合、本発明方法は次のように行われる。すなわち、 (i)該チタン不含マグネシウム化合物(a)としての、マグネシウムに結合し
たハロゲンおよびアルコキシドを含む該複合体を、該ハロゲン化合物(b)と反
応させて中間体(ab)を得た後、 (ii)該中間体(ab)を該チタンハライド(c)と反応させる、すなわち[(
a)+(b)]+(c)、あるいは、 (i)’ 該チタン不含マグネシウム化合物(a)としての、マグネシウムに結 合したハロゲンおよびアルコキシドを含む該複合体を、該チタンハライド(c)
と反応させさせて中間体(ac)を得た後、 (ii)’該中間体(ac)を該ハロゲン化合物(b)と反応させる、すなわち[
(a)+(c)]+(b) である。
【0028】 どちらの接触順序でも、Sumitomoとは反対に、マグネシウムに結合したハロゲ
ンを含むチタン不含化合物をチタンハライドと反応させる。Sumitomoを繰り返す
と、本発明より劣る結果を生じた。 該第一の主要な実施態様では、該複合体が好ましくは、該マグネシウム化合物(
a)としての、マグネシウムジハライドとマグネシウムジアルコキシドとの複合
体である。より好ましくは、式MgCl2・[Mg(OR)2t[ここで、Rは C1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16アルキル であり、tは1〜6、好ましくは約2である]を有するマグネシウムジクロライ
ド−マグネシウムアルコキシド複合体である。それは例えば、マグネシウムジク
ロライドMgCl2をアルコールROHと反応させて、マグネシウムジクロライ ド−アルコール複合体MgCl2・(ROH)2tである中間体にし、マグネシウ ムジクロライド−アルコール複合体をtモルのマグネシウムジアルキルMgR”
2[ここで、R”’は1〜20個の炭素原子を有するヒドロカルビル基である ]と反応させることにより製造される。
【0029】 最も好ましくは、該アルコキシ化合物としての、該マグネシウムジハライドと
マグネシウムジアルコキシドとの複合体が、式MgCl2・[Mg(OR)22 [ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6 〜C16アルキルである]を有するマグネシウムジクロライド−ジマグネシウムジ
アルコキシド複合体である。複合体は、例えば、マグネシウムジクロライドをア
ルコールROHと反応させ、得られた中間体をジアルキルマグネシウムR”’2
Mgと反応させることにより製造され得る。本質的には以下の通りである。
【0030】
【化5】 マグネシウムジハライド、アルコールおよびジアルキルマグネシウムの間の反応
では、MgCl2:ROHのモル比が好ましくは1:1〜1:8、最も好ましく は1:2〜1:5である。MgCl2:4ROH:MgR”’2 のモル比は、好 ましくは1:1〜1:4、最も好ましくは約1:2である。温度は好ましくは1
00℃〜200℃であり、反応時間は好ましくは約2時間〜約8時間である。ト
ルエンなどの炭化水素溶媒が反応中に存在してもよい。
【0031】 恐らく、複合体は、MgCl2・[Mg(OR)22複合体の下記の三量体平 衡によって示されるように(非限定)、構造(a1)、(a2)、(b)および(
c)の間で平衡の構造を有する。
【0032】
【化6】 上記式(a1)、(a2)、(b)および(c)において、Clはフッ素、塩素、
臭素およびヨウ素などの任意のハロゲンによって置換され得るが、本発明の目的
は、塩素の場合に最も満たされる。
【0033】 アルコキシ基のアルキルRは、本発明の目的のために適する任意のアルキルで
あり得る。任意的な溶媒と同様の構造および溶解度パラメーターは、活性プロ触
媒複合体の化学量論的製造のための可溶な複合体を与える。異なる構造および溶
解度パラメーターは、活性化支持体として使用するための不溶複合体を与える。
トルエンなどの5〜10個の炭素原子を有する溶媒を使用する場合、Rは好まし
くは、1〜16個の炭素原子、より好ましくは4〜12個の炭素原子、最も好ま
しくは6〜10個の炭素原子を有するアルキル基である。
【0034】 該第一の主要な実施態様の最も好ましい変形によれば、 (i)’該マグネシウムジクロライド−ジマグネシウムジアルコキシド複合体M
gCl2・[Mg(OR)22(a)[ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC 7 〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16アルキルである]を、上記チタンテト
ラクロライドTiCl4である該チタンハライド(c)と反応させて中間体(a c)を得た後、 (ii)’該中間体(ac)を、上記フタル酸ジクロライドPh(COCl)2[ ここで、Phはo−フェニレンである]である該ハロゲン化合物(b)と反応さ
せる。 この変形の反応は、保護の範囲を限定することなく、例えば、下記式によって記
載され得る。
【0035】
【化7】 工程(1’) 工程(2’) 通常、qは1または2である。例えば、有害なCl3TiOR(q=1の場合) は、それが形成された後、複合体のままであり、最後に触媒的に活性なTiCl 4 に転化される。組成物Cl3TiORに関する精製または廃棄物問題は何ら生じ
ない。
【0036】 該第一の主要な実施態様の工程(ii)では、該中間体(ab)および/または 該マグネシウム化合物(a)としての該マグネシウムジハライドとマグネシウム
アルコキシドとの該複合体が各々、好ましくは、チタンハライド(c)に添加さ
れ、逆ではない。さらにより好ましくは、それらは、該チタンハライド(c)に
滴下される。チタンハライド(c)は好ましくは、液状であり、最も好ましくは
、高温(例えば70〜140℃)である。
【0037】 該第一の主要な実施態様では、反応体(a)、(b)および(c)の間のモル
比は好ましくは、ほぼ化学量論的であるが、ただし、工程(ii)におけるチタン
ハライド(c)は、マグネシウムハライドに関して好ましくは5〜20倍過剰に
使用される。好ましくは高められた温度が使用され、それによって、該ハロゲン
化合物(b)を好ましくは、50℃〜75℃で反応させ、工程(ii)での該チタ
ンハライド(c)を好ましくは70℃〜110℃で反応させる。 第一の主要な実施態様は、チタネート化および洗浄の繰り返しの必要性を減少さ
せるが、チタネート化および炭化水素洗浄が1〜3回繰り返されるならば、さら
に活性かつ純粋な生成物が得られる。
【0038】 第一の主要な実施態様の例を添付の模式図に示す(図1参照)。
【0039】 第二の主要な実施態様 本発明の第二の主要な実施態様によれば、該チタン不含マグネシウム化合物(a
)は、該マグネシウムジハライドと該アルコキシ部分を有するアルコールとの複
合体であり、あるいは、複合体でないマグネシウムジアルコキシドである。 本発明方法は次いで、次のように行われる。すなわち、 (i)該マグネシウムジハライドと該アルコールとの該複合体および該複合体で
ないマグネシウムジアルコキシドから選択される該チタン不含マグネシウム化合
物(a)を該ハロゲン化合物(b)と反応させて、マグネシウムジハライドと該
電子ドナーとの複合体である中間体(ab)を得、そして (ii)該マグネシウムジハライドと該電子ドナーとの複合体である該中間体(a
b)を該チタンハライド(c)と反応させる。
【0040】 該第二の主要な実施態様の第一の変形では、複合体でないマグネシウムジアル
コキシドを工程(i)の出発物質(a)として使用する。それは、好ましくは、
マグネシウムジアルコキシドMg(OR)2[ここで、RはC1〜C20アルキルま
たはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16アルキルである]である。それ
は、Sumitomo(第9欄第56行〜第10欄第13行を参照)によって記載された 方法などの任意の適する方法によって製造され得る。しかし、本発明では、好ま
しくは、マグネシウムジアルキルとアルコールROHを反応させることにより製
造される。反応は、例えば下記式によって記載され得る。
【0041】
【化8】 ここで、RおよびR”’は上記で定義した通りである。
【0042】 該第二の主要な実施態様の第一の変形において、最も好ましい方法は、下記工
程を含む。すなわち、 (i)該マグネシウムジアルコキシドMg(OR)2[ここで、RはC1〜C20
ルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16アルキルである]であ
る該チタン不含マグネシウム化合物(a)を、上記フタル酸ジクロライドPh(
COCl)2[ここで、Phはo−フェニレンである]である該ハロゲン化合物 (b)と反応させて、該マグネシウムジクロライドと該フタル酸ジエステルPh
(COOR)2との複合体である中間体(ab)を得、そして (ii)該マグネシウムジクロライドと該フタル酸ジエステルPh(COOR)2 との該複合体である該中間体(ab)を、該チタンテトラクロライドTiCl4 である該チタンハライド(c)と反応させる。
【0043】 反応は、保護の範囲を限定することなく、例えば、下記式によって記載され得
る。
【0044】
【化9】 工程(i) および 工程(ii) ここで、m’は約1〜約2である。
【0045】 該第二の主要な実施態様の第二の変形では、該マグネシウムジハライドとアル
コールとの複合体が工程(i)の該チタン不含マグネシウム化合物(a)として
使用される。それは、好ましくは、マグネシウムジクロライドアルコール複合体
MgCl2・(ROH)m[ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラ
ルキル、好ましくはC6〜C16アルキルであり、mは1〜6である]である。複 合体は好ましくは、例えば下記式によって説明されるように、マグネシウムジク
ロライドとアルコールとを反応させることによって製造される。
【0046】
【化10】
【0047】 該第二の主要な実施態様の第二の変形において、最も好ましい方法はその時、
下記工程を含む。すなわち、 (i)該マグネシウムジクロライド−アルコール複合体MgCl2・(ROH)m [ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6 〜C16アルキルであり、mは1〜6である]である該チタン不含マグネシウム化
合物(a)を、上記フタル酸ジクロライドPh(COCl)2[ここで、Phは o−フェニレンである]である該ハロゲン化合物(b)と反応させて、該マグネ
シウムジクロライドと該フタル酸ジエステルPh(COOR)2との複合体であ る中間体(ab)を得、そして (ii)該マグネシウムジクロライドと該フタル酸ジエステルPh(COOR)2 との該複合体である該中間体(ab)を、該チタンテトラクロライドTiCl4 である該チタンハライド(c)と反応させる。
【0048】 反応は、保護の範囲を限定することなく、下記式によって記載され得る。
【0049】
【化11】 工程(i) 工程(ii) ここで、mは1〜6であり、m’は0.5〜mである。
【0050】 該第二の主要な実施態様の工程(ii)では、該マグネシウムジハライドと該電
子ドナーとの該複合体が、好ましくはチタンハライド(c)に添加され、逆では
ない。さらに好ましくは、それは、該チタンハライド(c)に滴下される。チタ
ンハライド(c)は好ましくは、液状であり、最も好ましくは高温(例えば70
〜140℃)である。
【0051】 該第二の主要な実施態様では、反応体(a)、(b)および(c)の間のモル
比はほぼ化学量論的であるが、ただし、チタンハライド(c)は、より好ましく
は、マグネシウムハライドに関して5〜20倍過剰に使用される。好ましくは高
められた温度が使用され、それによって、該ハロゲン化合物(b)を好ましくは
、50℃〜75℃で反応させ、該チタンハライド(c)を好ましくは70℃〜1
10℃で反応させる。
【0052】 該第二の実施態様は、チタネート化および洗浄の繰り返しの必要性を減少させ
るが、チタネート化および炭化水素洗浄が1〜3回繰り返されるならば、さらに
活性かつ純粋な生成物が得られる。
【0053】 第二の主要な実施態様の例を添付の模式図に示す(図2参照)。
【0054】 第三の主要な実施態様 本発明の第三の主要な実施態様によれば、該チタン不含マグネシウム化合物(a
)は、該マグネシウムジハライドと該アルコキシ基を有するアルコールとの複合
体である。 その場合、 (i)’該マグネシウムジハライドとアルコールとの該複合体である該チタン不
含マグネシウム化合物(a)を該チタンハライド(c)と反応させて、中間体(
ac)を得、そして (ii)’該中間体(ac)を該ハロゲン化合物(b)と反応させる。 第三の主要な実施態様では、該マグネシウムジハライドとアルコールとの複合
体が、好ましくは、マグネシウムジクロライド−アルコール複合体MgCl2・ (ROH)m[ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキルであ り、mは1〜6である]である。それは、上記したように製造され得る。
【0055】 該第三の実施態様の最も好ましい変形によれば、該方法は下記工程を含む。す
なわち、 (i)’該マグネシウムジクロライド−アルコール複合体MgCl2・(ROH )m[ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキルであり、mは 1〜6である]であるチタン不含マグネシウム化合物(a)を、上記チタンテト
ラクロライドTiCl4である該チタンジハライド(c)と反応させて中間体( ac)を得る工程、および (ii)’該中間体(ac)を、上記フタル酸ジクロライドPh(COCl)2[ ここで、Phはo−フェニレンである]である該ハロゲン化合物(b)と反応さ
せる工程 である。
【0056】 この反応は、保護の範囲を限定することなく、例えば、下記式によって記載さ
れ得る。
【0057】
【化12】 工程(i) 工程(ii) ここで、mは約1〜約6、好ましくは約2であり、qは1〜4、好ましくは約2
であり、Rは上記の通りである。
【0058】 該第三の主要な実施態様の工程(i)’では、該チタンハライド(c)が好ま
しくは、該チタン不含マグネシウム化合物(a)としての該マグネシウムジハラ
イドとアルコールとの複合体に添加され、逆ではない。さらにより好ましくは、
それらは、該チタン不含マグネシウム化合物(a)に滴下される。チタンハライ
ド(c)は好ましくは、液状である。 該第三の主要な実施態様では、反応体(a)、(b)および(c)の間のモル比
は好ましくは、ほぼ化学量論的である。
【0059】 該第三の実施態様は、チタネート化および洗浄の繰り返しの必要性を減少させ
るが、最終のチタネート化および炭化水素(例えば、トルエン)洗浄が1〜3回
繰り返されるならば、さらに活性かつ純粋な生成物が好ましく得られる。 第三の主要な実施態様の例を添付の模式図に示す(図3参照)。 上記したように、第一および第二の主要な実施態様と共通することは、工程(ii
)において該中間体(ab)が、好ましくは該チタンハライド(c)に添加され
、より好ましくは滴下されるということである。該チタンハライド(c)は液状
であり、好ましくは高温、より好ましくは75〜150℃である。さらに、全て
の実施態様はさらに次の工程を含み得る。すなわち、 (iii)工程(ii)または(ii)’で得られた生成物を該チタンハライド(c) でさらに処理し、および/またはトルエンなどの芳香族炭化水素もしくは該芳香
族炭化水素と同じ溶解度パラメーターを有する有機液体で洗浄し、好ましくは繰
り返し洗浄する工程 である。 洗浄は、保護の範囲を限定することなく、下記式によって記載され得る。
【0060】
【化13】 ここで、xは1より大きい数である。 MgCl2が触媒成分に凝集され、それがより高い活性をもたらすことが分かる 。
【0061】 生成物および使用法 上記方法の他に、本発明は、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子ドナー
を含む触媒成分にも関する。触媒成分は、請求項1〜15のいずれか1項または
先の本文に記載の方法によって製造されることを特徴とする。好ましくは、本発
明の触媒成分は、マグネシウムジハライド、好ましくはマグネシウムジクロライ
ド、ハロゲン化合物のハロゲンをアルコキシ基によって置換することにより得ら
れる電子ドナー、好ましくはフタル酸ジエステル、およびチタンハライド、好ま
しくはチタンテトラクロライドの単離された複合体である。好ましくは、該複合
体は、成分(a)、(b)および(c)の化学量論量を接触させることにより製
造される。好ましくは、該複合体は、5°〜10°2θにピークを含むX線パタ
ーン(Siemens D500装置、CuKα放射線波長1.541オングストローム、エ
フェクト40kVおよび35mA)を有する。最も好ましくは、該複合体は、16
°〜18°2θにピークをを示す結晶高を含むX線パターンを有する。
【0062】 本発明は、該触媒成分をα−オレフィン、好ましくはプロペンの重合のために
使用する方法にも関する。かかる重合において、該触媒成分は好ましくは、周期
表(IUPAC1990)の1、2または13族に属する金属の有機金属化合物
を含む別の触媒成分と共に使用され、好ましくは、アルキルアルミニウム化合物
が使用される。有機金属化合物は従来、助触媒と言われる。さらに、別の電子ド
ナーが、該触媒成分および助触媒と共に使用され得る。かかるドナーは従来、外
部電子ドナーと言われる。
【0063】 実施例1〜4(第一の主要な実施態様) 触媒成分複合体の製造 1.69g(17.70ミリモル)の無水MgCl2を、不活性条件下で100 ml容の隔壁ビン(septum bottle)に入れた。11.12ml(9.27g、 70.80ミリモル)の2−エチルヘキサノール(EHA)をMgCl2上に入 れ、この後、温度を125〜128℃に上げて反応成分を互いに反応させた。こ
の後、反応溶液が110℃に冷却し後に、8.81ml(7.67g、83.1
9ミリモル)のトルエンを添加した。トルエンの添加後、反応溶液を21℃に冷
却した。次いで、ブチル−オクチル−マグネシウム(BOMAG)の20重量%
ヘプタン溶液40ml(29.16g、35.4ミリモル)を添加した。この後
、5.10ml(7.19g、35.4ミリモル)のフタロイルジクロライド(
PDC)を添加してMgCl2ドナー複合体溶液を製造した。
【0064】 次に、MgCl2ドナー複合体を、38.91ml(67.16g、354ミ リモル)のTiCl4に滴下し、この試薬と共に95℃の温度で反応させた。反 応体を互いに30分間反応させた。 TiCl4処理の後、複合体を沈殿させ、液体をサイホンで吸収した。この後、 100ml(86.6g、0.94モル)のトルエンを複合体上に添加し、複合
体を90℃で20分間、この溶液中で洗浄した。どの合成が行われているかに応
じて、この洗浄工程は1回(実施例1)、2回(実施例2)、3回(実施例3)
または4回(実施例4)行われた。最後に、触媒複合体を、80℃で20分間、
65ml(44.44g、0.44モル)のヘプタンで2回洗浄し、その後、複
合体を室温で55ml(34.44g、0.48モル)のペンタンで20分間洗
浄して乾燥条件を改善した。触媒を窒素流下で1時間乾燥させた。
【0065】 複合体の化学的解析 触媒複合体を、そのTiおよびCl含量を測定することにより、化学組成に関し
て解析した。Ti分析は、硝酸およびフッ化水素酸の混合物中にサンプルを溶解
することにより開始された。金属は、窒素アセチレン炎による炎光原子吸収が測
定された。塩素は、希硫酸に溶解した後、標準硝酸銀溶液を用いた電位差滴定に
より測定された。
【0066】 ドナーおよび無水フタル酸の測定 フタル酸エステルおよび無水フタル酸の測定を、まずサンプルをアセトに溶解す
ることにより行った。溶解は、アセトンスラリーを超音波浴中に5分間保持する
ことにより改善された。この後、サンプルを濾過し、溶液クロマトグラフィーに
付した。溶離液として、水およびアセトニトリル(4/96の割合)から成る溶
液を使用した。溶離液の流速は、1.5ml/分であった。光ダイオードアレイ
を検出器として使用した。各成分を、各保持時間およびUVスペクトルを標準成
分と比較することにより確認した。
【0067】 アルコール含量を測定するためのGC研究 合成において添加されたエタノール(EtOH)、2−エチルヘキサノール(E
HA)または他のアルコールの転化速度を調べるために、触媒のアルコール含量
をガスクロマトグラフィー(GC)により測定した。これは、まず触媒のサンプ
ル100mgのを1mlのn−ペンタノールに溶解することにより行われた。測
定されるべきアルコールに応じて、内部アルコール標準を選択した。エタノール
を測定すべき場合は、n−ペンタノール溶液がn−プロペノールを内部標準とし
て含んだ。溶液中の触媒の溶解度を改善するために、サンプルを超音波浴に保持
した。有機溶液から無機物を除去するために、1mlの水で抽出し、完全な溶解
を確実にするために、さらに1mlのn−ペンタノール溶液を添加した。有機層
と水相との間の繰り返し可能な平衡条件を確実にするために、サンプルを一夜放
置した。GCのためのサンプルをアルコール層から取り出した。60m DB− 1カラムを有するHewlett Packard 5890 GCをGC分析に使用した。カラムは、 0.25mmの直径および1μmの膜圧を有していた。FID検出器を使用した
【0068】 バルク重合 プロピレンを、5リットルの容積を有する攪拌タンク反応器中で重合させた。助
触媒としての約0.9mlのトリエチルアルミニウム(TEA)、外部ドナーと
してのシクロヘキシルメチルジメトキシシランの100%溶液約0.12ml、
および30mlのn−ペンタンを混合し、5分間反応させた。混合物の半分を重
合反応器に添加し、他の半分を約20mgの触媒複合体と混合した。さらに5分
後、触媒/TEA/ドナー/n−ヘプタン混合物を反応器に入れた。Al/Ti
モル比は250であり、Al/外部ドナーモル比は10モル/モルであった。7
0ミリモルの水素および1400gのプロピレンを反応器に入れ、温度を15〜
30分で70℃に上げた。重合時間は60分であった。その後、生成したポリマ
ーを反応器から取り出した。ポリマーを、メルトフローレート(MFR2)、バ ルク密度(BD)およびキシレン中の全溶解物(TS)の画分に関して解析した
【0069】 結果 複合体の製造 この研究で達成された触媒複合体を表1に示す。
【0070】
【表1】
【0071】 触媒の化学組成 触媒の化学組成を、実験の項の記載に従って測定した。表2に、触媒の化学組成
を重量%単位で示し、表3に組成をモル%単位で示し、表4では、Mg、Tiお
よびDOPの間のモル比を比較する。 3回の洗浄により(MgCl26TiCl4DOPの組成物が達成された。洗浄 中、最後の触媒でのDOPと比較してTiCl4のわずかに高い洗い出し浄があ った。遊離アルコール(EHA)の量も、化学組成における役割は非常に低かっ
た(ここで0.004〜0.006モル%)。すなわち、約5%のモル量のTi
Cl4またはDOPであった。無水フタル酸の量は、DOP量の約50%であっ た。化学的測定からの結果をまとめると、MgCl2に富むMg(OR’)2を触
媒合成における試薬として使用すると、触媒複合体の化学組成は(MgCl23 TiCl4DOP(PA)0.5であると言うことができる。
【0072】
【表2】
【0073】
【表3】
【0074】
【表4】
【0075】 塩素含量の計算値および実験値 触媒中の塩素含量を、MgおよびTi含量に基づいて計算した。計算は、Mgが
触媒中にMgCl2として存在し、TiがTiCl4として存在するという仮定に
基づいた。これらの計算結果を次いで、測定結果と比較した。結果を表5に示す
。結果は、良好に一致することを示した。これは、MgおよびTiが共に触媒複
合体中に完全に塩素化された形状で存在することを示す。
【0076】
【表5】
【0077】 TiCl4・DOPの洗浄 全ての化学的測定値が同じ結論を支持する。すなわち、トルエンにより、TiC
4およびDOPが触媒から1:1のモル比で洗浄される。これは、Tiモル% およびDOPモル%の一定の減少、ならびにMgモル%およびClモル%の一定
の増加として現れる。
【0078】 触媒の活性 全ての触媒複合体を、実験の項の記載に従って試験重合した。結果を表5に示す
。結果は、全ての触媒複合体がほぼ同じ活性を有し、1.0〜1.5kgPP/
g触媒であることを示す。
【0079】
【表6】
【0080】 ポリマーのMFR 表7に、試験重合結果から達成されたMFR値を示す。結果は、MFRが第一
のポリマーにおける2.0から第三における13.7へと増加しているように、
トルエン洗浄回数の増加と共にMFRが系統的に増加することを示した。
【0081】
【表7】
【0082】 実施例5〜9(第二の主要な実施態様) 触媒成分複合体の製造 全ての化学物質を厳重な不活性条件下で取り扱い、全ての反応も窒素雰囲気中、
厳重な不活性条件下で行った。 8.85ミリモルのブチル−オクチル−マグネシウムを150ml容のガラス製
反応器に入れた。20%ヘプタン溶液(BOMAG−A)を、供給体積を10m
l(7.29g)として使用した。17.7ミリモル(2.78ml、2.32
g)の2−エチル−1−ヘキサノール(EHA)を次いで室温で添加した。温度
を60℃に上げ、反応体をその温度で30分間互いに反応させた。この後、8.
85ミリモル(1.28ml、1.80g)の塩化フタロイル(PDC)を添加
し、反応体を再び、60℃で30分間互いに反応させた。得られた溶液を、95
℃に予熱された88.5ミリモル(9.73ml、16.79g)のTiCl4 に滴下した。この場合も、反応体を95℃で30分間、互いに反応させた。この
後、60mlのトルエンを添加した。析出物を沈降させた後、母液をサイホンで
吸収した。この記載に従って、5つの異なる実施例を行った。この後、触媒複合
体を30mlのトルエンで洗浄した。実施例5では、複合体をトルエンで1回洗
浄し、実施例6では2回、実施例7では3回、実施例8では4回、実施例9では
6回、30mlのトルエンで洗浄した。トルエン洗浄は90℃で行われた。最後
に複合体を30mlのペンタンで3回洗浄した。複合体を最後に窒素流下で乾燥
させた。触媒の収量は約2gであり、これは理論量の約75%に相当する。
【0083】 触媒成分の解析 触媒成分複合体を、そのMg、ClおよびTi含量に関して分析した。この他に
、ドナー化合物である、合成で生成したジクチルフタレート(DOP)の量を触
媒から測定した。生成したドナー化合物(DOP)が合成でどの程度分解してい
るかを示すために、無水フタル酸(PA)の量も触媒から測定した。 未洗浄Mg:Ti:DOP複合体のIRおよびX線 化学量論的複合体のMgCl2・TiCl4・DOPを、6.37ミリモル(7.
19ml、5.24g)のBOMAGを12.729ミリモル(2.00ml、
1.67g)のEHAと50ml容のガラス製反応器で反応させることにより製
造した。この後、6.37ミリモル(0.92ml,1.29g)の塩化フタロ
イルを入れ、最後に6.37ミリモル(0.70ml、1.21g)のTiCl 4 を添加した。固体生成物をペンタンで洗浄し、最後にサンプルを窒素流中で乾 燥させた。サンプルをIRスペクトル分析機およびX線回折パターンによって解
析した。
【0084】 IR研究 IRスペクトルを、2cm-1分解能を有するNicolet 510 FTIR装置によって調べ
た。走査数は128であった。全てのサンプルを2個のKBr錠の間の毛管膜と
して調べた。純粋なEHAは、不活性条件下では取り扱わなかったが、MgCl 2 サンプルは、サンプルを空気および水分から保護するために、不活性窒素環境 においてグローブボックス中で取り扱った。
【0085】 X線回折パターン WAXSパターンを、Siemens D500装置を用いて2°〜70°2θの反射モード
において集めた。回折計は、Cuアノード、および反射ビームにおけるグラファ
イトモノクロメーターを備えていた。CuKα放射線波長は、1.541オング
ストロームであった。使用されたエフェクトは40kVおよび35mAであった
。サンプルをグローブボックスに入れ、Mylar膜でカバーされたサンプルホルダ ーに置いた。
【0086】 バルク重合 バルク試験重合を、第26頁の記載に従って行った。
【0087】 結果 複合体の製造 Mg-アルキルとアルコールとの間の反応により、わずかに高い粘度を有する透 明な溶液が得られた。反応は、反応体を混合すると溶液が温かくなるので、発熱
的であり、温度上昇は室温から50℃までであった。塩化フタロイルを添加する
と、わずかに黄色が現れた。また、この反応はわずかに発熱的であった。反応溶
液は低い粘度を伴って再び自由に流動するようになった。 TiCl4を150ml容のガラス製反応器に入れ、95℃に加熱した。Mg溶 液を次いで、高温のTiCl4溶液に滴下した。添加を始めるとすぐにベージュ 色の析出物が生成し始めた。添加中、溶液は濁ってきた。部分的に自由に浮かん
でいる析出物が、よりタール状の析出物と共に生成し、後者は反応器壁に付着し
始めた。沈降条件を改善するために、トルエンを反応溶液に添加した。そのとき
、反応溶液がサイホンで吸収され得るように生成物の満足のいく沈降が達成され
た。トルエン洗浄の回数に応じて、得られる生成物はより自由に流動するように
なった。1回のみのトルエン洗浄を使用した場合、生成物はなおも凝集体であっ たが、2回のトルエン洗浄ですでに、自由に流動する粉末様の生成物を生じた。
【0088】 実施例5、6および7の触媒成分の場合、一緒にされたMgCl2−DOP複 合体、およびTiCl4溶液への一緒にされた添加が行われた。最初のトルエン 洗浄の後、溶液スラリーの1/3を分離した。分離された部分を次いで、脂肪族
炭化水素で洗浄し、乾燥させて実施例5の生成物を得た。スラリーの残りの部分
をトルエンによる2回目の洗浄に付した。この溶液スラリーの半分を反応器から
取り出し、実施例5と同様の炭化水素処理を行うと、実施例6の生成物が得られ
た。反応器中の触媒スラリーの残りの部分をトルエンで2回洗浄した後、最初の 2つの実施例と同様にして脂肪族炭化水素で洗浄した。このサンプルは実施例7
の生成物であった。触媒形態学を表8に示す。
【0089】
【表8】
【0090】 触媒の化学組成 触媒のMg、Ti、Cl、DOP、EHAおよび無水フタル酸(PA)含量を測
定した。結果を表9に重量%単位で示す。表10には、化学組成をモル%単位で 示し、表11では、MgおよびDOP量をTi量と比較する(モル単位)。表1
2は、触媒のCl含量を示す
【0091】
【表9】
【0092】
【表10】
【0093】
【表11】
【0094】
【表12】
【0095】 触媒の活性 全ての触媒を、上記情報に従って試験重合した。重合結果を表13にkgPP/
g触媒およびkgPP/gTiの単位で示す。活性を図4および図5にも示す。
ほぼ8kgPP/g触媒の活性が達成された。実施例5、6および7の触媒は良
好な重合結果を与え、最高の活性はトルエンで2回洗浄された触媒の場合に達成
された。実施例5、6および7の触媒の場合、kgPP/gTiの単位で示した
活性は、トルエン洗浄の回数に関して直線的に増加することを示した(図5)。
500kgPP/gTiより上の活性が達成された。
【0096】 ポリマーの解析 全てのポリマーを、そのメルトフローレート(MFR)およびバルク密度(BD
)に関して解析した。全てのポリマーが、11〜12g/10分のMFR2を有 することを示した。これは、非常に良好な水素応答を示す。バルク密度は、0.
35〜0.39g/mlであった。総溶解物は2〜3%であり、これはより高い
活性を示す触媒によって達成されたポリマーの場合により良好である。結果を表
14に示す
【0097】
【表13】
【0098】
【表14】
【0099】 触媒のIR研究 1500〜1950cm-1(図6)および1000〜1450cm-1(図7)の
対応する領域におけるIRスペクトルを、実施例6で得られた触媒から取り、M
gCl2・(EtOH)3支持物質を出発物質とする合成から得られる典型的な活
性触媒複合体のIRスペクトルと比較した。スペクトルは本質的に異なり、また
、TiCl4/DOPおよびMgCl2/DOPの単離された複合体のIRスペク
トルとも異なる。
【0100】 触媒のX線研究 上記したように、X線回折パターンを、得られた触媒から取り、不活性触媒複合
体、およびMgCl2・3EtOH支持物質から合成された典型的な活性触媒複 合体からのX線パターンと比較した。 図8に、MgCl2・3EtOHから製造されたMg(OR)2(A)、MgCl 2 ・TiCl4・DOP(B)および1モルのMgCl2・DOPを10モルのT iCl4に添加することによって製造された(MgCl21.7・TiCl4・DO
P(C)のX線パターンを示す。これら全ての場合において、5°〜9°2θの
どこかに強いピークがあった。さらに、17°〜23°2θにはハロ形成がある
と思われる。パターンの左側の強いピークは、大きい有機基が9〜17オングス
トロームの距離で金属層を分離していることを示し、距離は有機化合物(DOP
またはジウンデシルフタレートDUP)の大きさに依存する。すなわち、本発明
方法から生じる触媒複合体のX線回折パターンは全て、Mg(OR)2およびM gCl2・DOPの出発化合物に由来するユニークな特徴を示すと言うことがで きる。これらのパターンは、無定形または結晶性MgCl2の兆候をほとんど何 も示していない。
【0101】 化学量論的比較 本発明方法が通常のチーグラー−ナッタ触媒成分方法と比較してどのくらいより
化学量論的であるかについての正しい像を得るために、廃棄物量および循環され
得る化学物質の体積を表15に示す。参照として、2回のチタネート化および続
く3回のヘプタン洗浄を伴う伝統的なZ−N PP触媒成分合成(EP0491 566)を使用する。最良の代表例として、実施例6が選択された。ここでは、
2回のトルエン洗浄を使用して触媒を精製した。表から分かるように、これら2
つの合成ルート間の最も本質的な相違は、この新規処方ではチタンアルコキシト
リクロライド廃棄物ORTiCl3が無いということである。Ti廃棄物が無い ということは、TiCl4の循環の容易性に大きな違いをもたらす。他の重要な 変化は、TiCl4の総使用の減少であり、これは、伝統的処方の場合の4分の 1に減少している。伝統的処方における脂肪族炭化水素洗浄は、新規処方ではト
ルエン洗浄に変わった。
【0102】
【表15】
【0103】 実施例8(第二の主要な実施態様)、9および10(第三の主要な実施態様)
次の試薬を使用する。すなわち、MgCl2またはMgR2、2−エチルヘキサノ
ール(EHA)、フタロイルジクロライド(PDC)およびTiCl4であり、 それらを1:2:1:1の分子比で添加する。第一の合成(実施例8)では、M
g−アルキルをアルコールと反応させ、次いでフタロイルクロライド(PDC)
を添加し、最後にTiCl4を添加する。次の2つの合成(実施例9および10 )では、Mg−アルキルがMgCl2で置き換えられる。TiCl4またはフタロ
イルクロライドのいずれかが次の工程で添加され、続いて最後の試薬が添加され
る。合成の構成を表16に示す。
【0104】
【表16】
【0105】 複合体の製造 同体積の試薬が、添加される順序に関係なく、全ての実験で使用された。すなわ
ち、ブチル−オクチル−Mg(BOMAG)の20%ヘプタン溶液22.22ミ
リモル(25.10ml、18.3g)が実験(8)で添加され、22.60ミ
リモル(2.15g)のMgCl2が実験(9)および(10)で添加された。 これに、45.19ミリモル(7.10ml,5.92g)の2−エチル−1−
ヘキサノールEHAが添加された。添加されたTiCl4のモル量は、MgCl2 のモル量、すなわち22.60ミリモル(2.48ml,4.29g)と等しく
、また、添加されたPDCのモル量、すなわち22.60ミリモル(3.26m
l,4.59g)とも等しかった。各触媒合成における反応成分の添加順序を表
16に示す。全ての複合体を、90℃で15分間、100mlのヘプタンで3回
洗浄し、最後に室温で100mlのペンタンにより洗浄した。最後に触媒を窒素
流下で乾燥させた。
【0106】 触媒の解析 全ての触媒を、それらのMg、Ti、Clおよびジオクチルフタレート(DOP
)含量を測定することにより、それらの化学組成に関して解析した。Tiおよび
Mgを含む触媒サンプルを、硝酸およびフッ化水素酸の混合物に溶解し、金属を
亜酸化窒素/アセチレン炎による炎光原子吸収によって測定した。塩素は、希硫
酸に溶解した後、標準硝酸銀溶液を用いた電位差滴定により測定された。 フタル酸エステルおよび無水フタル酸の測定は、まずサンプルをアセトンに溶解
することにより行われた。溶解は、アセトンスラリーを超音波浴に5分間保持す
ることにより改善された。この後、サンプルを濾過し溶液クロマトグラフィーに
付した。溶離液として、水およびアセトニトリル(4/96の割合)から成る溶
液を使用した。溶離液の流速は、1.5ml/分であった。光ダイオードアレイ
を検出器として使用した。各成分を、その保持時間およびUVスペクトルを標準
成分と比較することにより確認した。複合体をさらに解析するために、IRスペ
クトルおよびX線回折パターンをそれらから取った。
【0107】 バルク重合 重合を上記と同様に行った。第26頁を参照。
【0108】 結果 触媒の化学組成 実験の項で述べたように、触媒をその化学組成に関して解析した。表17に、M
g、Ti、ジ(2−エチル−1−ヘキシル)フタレート(DOP)、2−エチル
−1−ヘキシルアルコール(EHA)および無水フタル酸PA含量に関する触媒
の化学組成を重量%単位で示し、表18に同様の組成をモル%単位で示し、最後
に、表19に、Mg、TiおよびDOPの間のモル組成を示す。実施例8および
10は、各々2個の触媒、すなわち8aおよび8b、ならびに10aおよび10
bで代表した。塩素含量を表20に示す。
【0109】
【表17】
【0110】
【表18】
【0111】
【表19】
【0112】
【表20】
【0113】 IR結果 図9に、実施例9および10aの触媒成分のIRスペクトルを示す。MgR2か ら製造された触媒では、無水フタル酸の存在が明らかであった(実施例8a)。
無水フタル酸は、MgCl2から製造されたサンプル(実施例9および10a) からはほとんど完全になくなっていた。これらの結果は、化学分析の結果を確か
にするものである。トルエン洗浄された実施例10b触媒のIRスペクトル(示
していない)は、無水フタル酸が無いことを示したが、C=O…Tiピークの左
には、いくつかの遊離カルボン酸基(−COOH)の存在を示す肩が現れた。
【0114】 X線回折パターン 図10、11および12に、触媒のX線回折パターンを示す。結果は、PDCの
前にTiCl4を添加するとより結晶性の物質が得られることを示している。こ のことは、図11に見ることができる。実施例9は、7°2θに有機分離ピーク
および18〜22°2θにハロを依然として示すが、実施例10aのスペクトル
では、ハロがほんのわずかに残っていることが分かる。全てのパターンにおいて
、ほぼ32〜33°2θに追加のピークがあるように思われる。このピークは、
結晶性MgCl2とは関係ない。実施例10aの触媒成分には、いくつかの未反 応MgCl2が存在するように思われる。これは、触媒をトルエンで洗浄すると 支配的になり始める(図12)。
【0115】 重合結果 1つ(実施例8a)を除く全ての触媒を、実験の項の記載に従って試験重合した
。重合結果を、kgPP/g触媒およびkgPP/gTiの単位で表21に示す
。図13には結果をグラフによって示す。活性はほ対数直線的に増加した。全体
として、以下のことが言える。 1.PDCの前のTiCl4の添加は、より良好な活性を与える(実施例9およ び10を比較)。 2.MgR2の代わりにMgCl2から出発すると、より高い活性が得られる(実
施例8を実施例9および10と比較) 3.トルエン洗浄が活性を改善する(実施例10aおよび10bを比較)
【0116】
【表21】
【0117】
【図面の簡単な説明】
【図1】 第一の主要な実施態様の例を示す模式図である。
【図2】 第二の主要な実施態様の例を示す模式図である。
【図3】 第三の主要な実施態様の例を示す模式図である。
【図4】 活性(kgPP/g触媒単位)とトルエン洗浄回数との関係を示すグラフである
【図5】 活性(kgPP/gTi単位)とトルエン洗浄回数との関係を示すグラフである
【図6】 MgCl2・3ROHから得られた触媒および実施例6で得られた触媒の150 0〜1950cm-1におけるIRスペクトルである。
【図7】 MgCl2・3ROHから得られた触媒および実施例6で得られた触媒の100 0〜1450cm-1におけるIRスペクトルを示す。
【図8】 Mg(OR)2(A)、MgCl2・TiCl4・DOP(B)および(MgCl21.7・TiCl4・DOP(C)のX線回折パターンを示す。
【図9】 実施例9(A)および10a(B)の触媒成分のIRスペクトルを示す。
【図10】 実施例8aの触媒のX線回折パターンを示す。
【図11】 実施例9(A)および10a(B)の触媒のX線回折パターンを示す。
【図12】 実施例10bの触媒のX線回折パターンを示す。
【図13】 実施例8b〜10bで得られた触媒の活性を示すグラフである。
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Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記工程を特徴とする、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよ
    び電子ドナーを含むオレフィン重合触媒成分の製造法、 (i)アルコキシ部分を含むチタン不含マグネシウム化合物(a)(ここで、チ
    タン不含マグネシウム化合物は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびアルコ
    キシドを含む化合物または複合体、マグネシウムジハライドおよびアルコールを
    含む複合体、および複合体でないマグネシウムジアルコキシドから成る群から選
    択される)を、該アルコキシ部分によるそのハロゲンの置換によって電子ドナー
    を形成し得るハロゲン化合物(b)と反応させて中間体(ab)を得る工程、お
    よび (ii)該中間体(ab)をチタンハライド(c)と反応させる工程、または (i)’ アルコキシ部分を含むチタン不含マグネシウム化合物(a)(ここで 、チタン不含マグネシウム化合物は、マグネシウムに結合したハロゲンおよびア
    ルコキシドを含む化合物または複合体、およびマグネシウムジハライドおよびア
    ルコールを含む複合体から成る群から選択される)を、チタンハライド(c)と
    反応させて中間体(ac)を得る工程、および (ii)’該中間体(ac)を該アルコキシ部分によるそのハロゲンの置換によっ
    て電子ドナーを形成し得るハロゲン化合物(b)と反応させる工程。
  2. 【請求項2】 工程(i)、(ii)、(i)’および(ii)’ の少なくとも 1つ、好ましくは全てが溶液中で行われることを特徴とする請求項1記載の方法 。
  3. 【請求項3】 工程(ii)または工程(ii)’の反応生成物が沈殿によって回
    収されることを特徴とする請求項1または2記載の方法。
  4. 【請求項4】 該化合物(a)、(b)および(c)を本質的に化学量論量で
    接触させる、または、該チタン不含マグネシウム化合物(a)に関して化学量論
    的過剰の、好ましくは化学量論的に5〜20倍過剰の該チタンハライド(c)が
    使用されることを特徴とする請求項1、2または3記載の方法。
  5. 【請求項5】 該マグネシウムジハライドがマグネシウムジクロライドMgC
    2であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
  6. 【請求項6】 該ハロゲン化合物(b)が有機酸ハライド、好ましくはフタル
    酸ジクロライドPh(COCl)2[ここで、Phはo−フェニレンである]で あり、それによって、それから形成される電子ドナーが、対応して、有機酸エス
    テル、好ましくは、フタル酸ジエステルPh(COOR)2[ここで、RはC1
    20アルキルまたはC7〜C27 アラルキルである]、より好ましくはジ−C6〜 C16アルキルフタレート、最も好ましくはジオクチルフタレートであることを特
    徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の方法。
  7. 【請求項7】 該チタンハライド(c)がチタンテトラハライド、好ましくは
    チタンテトラクロライドTiCl4であることを特徴とする請求項1〜6のいずれ
    か1項記載の方法。
  8. 【請求項8】 (i)該チタン不含マグネシウム化合物(a)としての、マグ
    ネシウムに結合したハロゲンおよびアルコキシドを含む該化合物または複合体を
    、該ハロゲン化合物(b)と反応させて中間体(ab)を得る工程、および (ii)該中間体(ab)を該チタンハライド(c)と反応させる工程、または、 (i)’ 該チタン不含マグネシウム化合物(a)としての、該マグネシウムジ ハライドと該マグネシウムジアルコキシドとの該複合体を、該チタンハライド(
    c)と反応させさせて中間体(ac)を得る工程、および (ii)’該中間体(ac)を該ハロゲン化合物(b)と反応させる工程 を特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の方法、
  9. 【請求項9】 該チタン不含マグネシウム化合物(a)としての、マグネシウ
    ムに結合したハロゲンおよびアルコキシドを含む該化合物または複合体が、マグ
    ネシウムジハライドとマグネシウムジアルコキシドとの複合体、より好ましくは
    、マグネシウムジクロライド−ジマグネシウムジアルコキシド複合体MgCl2 ・[Mg(OR)22[ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラル
    キル、最も好ましくはC6〜C16アルキルである]であり、該複合体が、好まし くは、マグネシウムジクロライドMgCl2をアルコールROHと反応させて中 間体を得、そして得られた中間体をジアルキルマグネシウムMgR”’2[ここ で、R”’はRに関して定義した通りである]と反応させることにより製造され
    ることを特徴とする請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 (i)’該マグネシウムジクロライド−ジマグネシウムジア ルコキシド複合体MgCl2・[Mg(OR)22(a)[ここで、RはC1〜C 20 アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16アルキルである]
    を、該チタンテトラクロライドTiCl4である該チタンハライド(c)と反応 させて中間体(ac)を得る工程、および (ii)’該中間体(ac)を、該フタル酸ジクロライドPh(COCl)2[こ こで、Phはo−フェニレンである]である該ハロゲン化合物(b)と反応させ
    る工程 を特徴とする請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】 (i)該マグネシウムジハライドと該アルコールとの該複合 体および該複合体でないマグネシウムジアルコキシドから選択される該チタン不
    含マグネシウム化合物(a)を該ハロゲン化合物(b)と反応させて、該マグネ
    シウムジハライドと該電子ドナーとの複合体である中間体(ab)を得る工程、
    および (ii)該マグネシウムジハライドと該電子ドナーとの複合体である該中間体(a
    b)を該チタンハライド(c)と反応させる工程 を特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の方法。
  12. 【請求項12】 該マグネシウムジハライドと該アルコールとの該複合体が、 マグネシウムジクロライド−アルコール複合体MgCl2・(ROH)m[ここで
    、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16ア ルキルであり、mは1〜6である]であること、および、該複合体でないマグネ
    シウムアルコキシドがマグネシウムジアルコキシドMg(OR)2[ここで、R はC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C16アルキ ルである]であり、好ましくは、マグネシウムジアルキルとアルコールROHと
    を反応させることによって製造されることを特徴とする請求項11記載の方法。
  13. 【請求項13】 (i)’該マグネシウムジハライドと該アルコールとの該複
    合体である該チタン不含マグネシウム化合物(a)を該チタンハライド(c)と
    反応させて、中間体(ac)を得る工程、および (ii)’該中間体を該ハロゲン化合物(b)と反応させる工程 を特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の方法。
  14. 【請求項14】 該マグネシウムジハライドと該アルコール化合物との該複合
    体がマグネシウムジクロライド−アルコール複合体MgCl2・(ROH)m[こ
    こで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラルキル、好ましくはC6〜C1 6 アルキルであり、mは1〜6である]であることを特徴とする請求項13記載の
    方法。
  15. 【請求項15】 (i)’該マグネシウムジクロライド−アルコール複合体M
    gCl2・(ROH)m[ここで、RはC1〜C20アルキルまたはC7〜C27アラル
    キル、好ましくはC6〜C16アルキルであり、mは1〜6である]である該チタ ン不含マグネシウム化合物(a)を、該チタンテトラクロライドTiCl4であ る該チタンジハライド(c)と反応させて中間体(ac)を得る工程、および (ii)’該中間体(ac)を、該フタル酸ジクロライドPh(COCl)2[こ こで、Phはo−フェニレンである]である該ハロゲン化合物(b)と反応させ
    る工程 を特徴とする請求項14記載の方法。
  16. 【請求項16】 工程(ii)において、該中間体(ab)が好ましくは該チタ
    ンハライド(c)に滴下され、該チタンハライド(c)が液状、好ましくは高温
    、最も好ましくは75〜150℃であることを特徴とする請求項8〜15のいず
    れか1項記載の方法。
  17. 【請求項17】 (iii)工程(ii)または(ii)’で得られた反応生成物を 該チタンハライド(c)でさらに処理し、および/またはトルエンもしくはその
    他の芳香族炭化水素または該芳香族炭化水素と同じ溶解度パラメーターを有する
    有機液体で洗浄し、好ましくは繰り返し洗浄する工程 を特徴とする請求項8〜16のいずれか1項記載の方法。
  18. 【請求項18】 請求項1〜17のいずれか1項記載の方法によって製造され
    ることを特徴とする、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子ドナーを含む
    触媒成分。
  19. 【請求項19】 マグネシウムジハライド、好ましくはマグネシウムジクロラ
    イド、ハロゲン化合物のハロゲンをアルコキシ基によって置換することにより得
    られる電子ドナー、好ましくはフタル酸ジエステル、およびチタンハライド、好
    ましくはチタンテトラクロライドの単離された複合体であることを特徴とする請
    求項18記載の触媒成分。
  20. 【請求項20】 該複合体が、16°〜18°2θにピークを示す結晶高を含
    むX線パターン(Siemens D500装置、CuKα放射線波長1.541オングスト
    ローム、エフェクト40kVおよび35mA)を有することを特徴とする請求項1
    9記載の触媒成分。
  21. 【請求項21】 該複合体が該成分(a)、(b)および(c)の化学量論量
    を接触させることにより製造されることを特徴とする請求項18、19または2
    0記載の触媒成分。
  22. 【請求項22】 該複合体が、5°〜10°2θにピークを含むX線回折パタ
    ーン(Siemens D500装置、CuKα放射線波長1.541オングストローム、エ
    フェクト40kVおよび35mA)を有することを特徴とする請求項18〜21の
    いずれか1項記載の触媒成分。
  23. 【請求項23】 触媒合成においてTiCl3OR廃棄物が製造されないこと を特徴とする請求項18〜22のいずれか1項記載の触媒成分。
  24. 【請求項24】 請求項18〜23のいずれか1項記載の触媒成分をα−オレ
    フィン、好ましくはプロペンの重合に使用する方法。
  25. 【請求項25】 周期表(IUPAC1990)の1、2または13族に属す
    る金属の有機金属化合物、好ましくはアルキルアルミニウム化合物を含む触媒成
    分がさらに使用される、請求項24記載の方法。
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