JP2001184866A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JP2001184866A
JP2001184866A JP37254199A JP37254199A JP2001184866A JP 2001184866 A JP2001184866 A JP 2001184866A JP 37254199 A JP37254199 A JP 37254199A JP 37254199 A JP37254199 A JP 37254199A JP 2001184866 A JP2001184866 A JP 2001184866A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input
level
precharge
control signal
potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP37254199A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3447640B2 (ja
Inventor
Shigeyuki Nakazawa
茂行 中沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP37254199A priority Critical patent/JP3447640B2/ja
Priority to DE10064537A priority patent/DE10064537A1/de
Priority to KR10-2000-0082593A priority patent/KR100414414B1/ko
Priority to US09/750,882 priority patent/US6545922B2/en
Priority to TW089128251A priority patent/TW472363B/zh
Publication of JP2001184866A publication Critical patent/JP2001184866A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3447640B2 publication Critical patent/JP3447640B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
    • G11C7/1057Data output buffers, e.g. comprising level conversion circuits, circuits for adapting load
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4091Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1048Data bus control circuits, e.g. precharging, presetting, equalising
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1078Data input circuits, e.g. write amplifiers, data input buffers, data input registers, data input level conversion circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1078Data input circuits, e.g. write amplifiers, data input buffers, data input registers, data input level conversion circuits
    • G11C7/1096Write circuits, e.g. I/O line write drivers

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プリチャージ制御信号の1周期及びセンス開
始から最初の読み出し又は書き込みまでの時間を共に短
縮することができる半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 信号RASBが立ち下がった時点では、
入出力線は電圧Vaにプリチャージされる。その後、プ
リチャージ制御信号PIOが立ち下がると、入出力線の
電位はメモリセルに接続されたビット線の電位に引きず
られる。このときの動作が選択されたメモリセルからの
データの読み出しの場合であっても、プリチャージレベ
ルである電圧Vaがバランスレベルよりも高いので、一
方のビット線の電位と入出力線の電位との差が大きくな
り、その入出力線の電位は大きく下降する。次にプリチ
ャージ制御信号PIOが立ち上がると、入出力線が電圧
Vb(バランスレベル)にプリチャージされる。このた
め、このプリチャージ前の動作が書き込みであった場合
であっても、入出力線の電位は速やかに電圧Vbに達す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はダイナミック・ラン
ダム・アクセス・メモリ等の半導体記憶装置に関し、特
に、動作の高速化を図った半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シンクロナス・ダイナミック・ラ
ンダム・アクセス・メモリ(SDRAM)等の半導体記
憶装置には、複数のメモリセルに接続されたビット線対
が列選択回路を介して共通接続された入出力線をプリチ
ャージするためのプリチャージ回路が一般に設けられて
いる。ここで対象とするプリチャージ回路は、データの
読み出し又は書き込みを行う前後に入出力線を所定の電
位にするもので、データの読み書きを高速化すると共
に、誤書き込み及び誤読み出しを防止するためのもので
ある。図14は従来の半導体記憶装置におけるプリチャ
ージ回路を示す回路図である。
【0003】従来の半導体記憶装置におけるプリチャー
ジ回路101には、夫々ドレインが入出力線IOT及び
IONに接続された2個のPチャネルトランジスタTr
101a及びTr101bが設けられている。トランジ
スタTr101a及びTr101bの各ソースには定電
位Vcが供給されており、各ゲートにはプリチャージ制
御信号PIOが供給されている。プリチャージ時には、
トランジスタTr101a及びTr101bが共にオン
して、2つの入出力線IOT及びIONの電位は定電位
Vcとなる。また、プリチャージ回路にイコライズ用ト
ランジスタを設け、プリチャージ時にイコライズ用トラ
ンジスタにより2つの入出力線IOT及びIONは短絡
され、これらは同電位(バランスレベル)になるように
設計されることもある。
【0004】次に、このように構成されたプリチャージ
回路を備えた従来の半導体装置の動作について説明す
る。図15は従来の半導体記憶装置の動作を示す図であ
って、(a)は定電位Vc、即ちバランスレベルを高く
(Vcc/2<Vc1<Vcc)した場合のタイミング
チャート(以下、従来例1とする)、(b)は定電位V
c2を電源電位Vccの1/2とした場合のタイミング
チャート(以下、従来例2とする)である。ここで、V
ccはプリチャージ回路に接続された入出力回路(図示
せず)に供給される電源電圧である。また、バランスレ
ベルとは、夫々トランジスタTr101a及びTr10
1bを介して入出力線IOT及びIONに供給された電
位、又は夫々2つの入出力線IOT及びIONをイコラ
イズ用トランジスタ(図示せず)で短絡したときに収束
する入出力線IOT及びIONの電位を意味する。
【0005】図15(a)に示すように、定電位Vcが
Vcc/2<Vc1<Vccを満たすように設定されて
いる場合(従来例1)、書き込み及び読み出し前のプリ
チャージ時には、プリチャージ制御信号PIOがハイと
なっており、入出力線IOT及びIONは電圧Vc1に
プリチャージされている。
【0006】その後、プリチャージ制御信号PIOが立
ち下がって書き込み又は読み出しが開始されると、入出
力線IOT及びIONの電位は、選択された列をなすメ
モリセルに接続されたビット線対の電位に引きずられ
る。この結果、読み書きされるデータに応じて、入出力
線IOTの電位は上昇(又は下降)し、入出力線ION
の電位は下降(又は上昇)する。即ち、入出力線IOT
に与えられる信号と入出力線IONに与えられる信号と
は、互いに相補関係にある。このときの動作がデータの
書き込みであれば、ライトアンプ(図示せず)による信
号増幅があるので、各電位の上昇及び下降は大きなもの
となり、一方の入出力線の電位は内部電源電位Vccに
収束し、他方の入出力線の電位は接地電位GNDに収束
する。
【0007】一方、動作がデータの読み出しの場合に
は、DRAMのビット線対は通常Vcc/2にプリチャ
ージされており、読み出し直後においてビット線対は読
み出しデータに対応してVcc/2を中心に差電位が広
がっていく。しかし、ビット線対の差電位のセンスアン
プ(図示せず)による増幅が十分ではないため、一方の
ビット線の電位と入出力線IOT(又はION)の電位
との差が小さく、入出力線IOT(又はION)の電位
の上昇(又は下降)は小さい。これに対して、プリチャ
ージレベルである電圧Vc1がVcc/2よりも高いの
で、他方のビット線の電位と入出力線ION(又はIO
T)の電位との差は大きいので、入出力線ION(又は
IOT)の電位は大きく下降(又は上昇)する。このた
め、十分な入出力線IOT及びIONの差電位が得られ
る。これは、ゲート−ソース間電圧とドレイン電流との
関係が二乗特性を有しており、ゲート−ソース間の電位
差が大きいほど、ドレイン電流は大きく変化するためで
ある。
【0008】次に、プリチャージ制御信号PIOが立ち
上がると、入出力線IOT及びIONが電圧Vc1にプ
リチャージされる。その後、プリチャージ制御信号PI
Oの立ち上がり及び立ち下がりに同期してデータの書き
込み又は読み出しとプリチャージとが交互に行われる。
そして、読み出し及び書き込みが終了すると、プリチャ
ージ制御信号PIOがハイに固定される。
【0009】一方、図15(b)に示すように、定電位
VcがVcc/2である電圧Vc2に設定されている場
合(従来例2)、書き込み及び読み出し前のプリチャー
ジ時には、プリチャージ制御信号PIOがハイとなって
おり、入出力線IOT及びIONは電圧Vc2にプリチ
ャージされている。
【0010】その後、プリチャージ制御信号PIOが立
ち下がって書き込み又は読み出しが開始されると、入出
力線IOT及びIONの電位は、選択された列をなすメ
モリセルに接続されたビット線対の電位に引きずられ
る。この結果、読み書きされるデータに応じて、入出力
線IOTの電位は上昇(又は下降)し、入出力線ION
の電位は下降(又は上昇)する。このときの動作がデー
タの書き込みであれば、ライトアンプ(図示せず)によ
る信号増幅があるので、各電位の上昇及び下降は大きな
ものとなり、一方の入出力線IOT又はIONの電位は
内部電源電位Vccに収束し、他方の入出力線ION又
はIOTの電位は接地電位GNDに収束する。一方、動
作がデータの読み出しの場合には、ビット線対の差電位
のセンスアンプ(図示せず)による増幅が十分ではない
ため、両ビット線の電位と入出力線IOT及びIONの
電位との差が小さく、入出力線IOT及びIONの電位
の上昇は小さい。
【0011】次にプリチャージ制御信号PIOが立ち上
がると、入出力線IOT及びIONが電圧Vc2にプリ
チャージされる。このとき、プリチャージレベルがVc
c/2となっているので、入出力線IOT及びIONの
電位は速やかに電圧Vc2に達する。その後、プリチャ
ージ制御信号PIOの立ち上がり及び立ち下がりに同期
してデータの書き込み又は読み出しとプリチャージとが
交互に行われる。そして、読み出し及び書き込みが終了
すると、プリチャージ制御信号PIOがハイに固定され
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来例1の半導体記憶装置では、定電位Vcが電位Vc
1(Vcc/2<Vc<Vcc)に設定されているの
で、書き込み動作直後にGND側に振られた入出力線I
OT又はIONをプリチャージするとき、プリチャージ
レベルVc1に戻すのに時間がかかる。この復帰時間t
bが長いため、プリチャージ制御信号PIOを活性化し
ている期間(図15(a)でハイの期間)を長く設定す
る必要があり、ひいては、プリチャージ制御信号PIO
の1周期tckを長く設定する必要がある。
【0013】逆に、従来例2のように、定電位Vcが電
位Vc2(Vcc/2)に設定されたときの問題点は以
下のとおりである。外部から半導体記憶装置に行アドレ
スが与えられると、ワード線の1つが活性化され、メモ
リセルに記憶されたデータがビット線に出力される。セ
ンスアンプはビット線対の差電位を増幅して、記憶デー
タを判定すると共に、判定結果を入出力線に出力する。
【0014】しかし、読み出し開始直後でセンスアンプ
による増幅が不十分の場合には、ビット線と入出力線I
OT又はIONとの間の差電位がほとんどないので、入
出力線IOTと入出力線IONとの間に生ずる差電位Δ
Vも極めて小さい。バースト読み出し等、1つのワード
線に接続された複数のメモリセルを順次読み出す場合に
は、最初に読み出すデータの電位差ΔVが最も小さく、
後のデータになるほど電位差ΔVは大きくなる。出力バ
ッファは電位差ΔVが極めて小さい間に読み出しを開始
することになり、正常な読み出し動作が行われなくなっ
てしまうことがある。
【0015】これを防止するために、センス開始から最
初の読み出しまでの時間、即ち、ロウアドレスストロー
ブ信号(RAS)が入力されてからカラムアドレススト
ローブ信号(CAS)が入力されるまでの時間t
RCD(RAS−to−CASディレイ)を長く設定し、
センスアンプの出力が読み出しデータを十分大きく増幅
している必要があるという問題点がある。この結果、半
導体記憶装置がアクセスされてからデータが読み出され
るまでの時間(アクセス時間)が長くなるという問題点
がある。
【0016】つまり、従来例1の場合には、連続書き込
み時間が長くなるという問題点はあるが、初期読み出し
時間は短縮できる。逆に、従来例2の場合には、初期読
み出し時間が長くなるという問題点はあるが、連続書き
込み時間は短縮できる。
【0017】このように、従来の半導体記憶装置におい
ては、製品の仕様に応じて、一方の特性を優先して設計
し、他方の特性を犠牲にしていた。即ち、初期読み出し
時間を優先するか、連続書き込み時間を優先するかによ
って、プリチャージレベルを選択し、設定していた。こ
のため、これらの時間を同時に短縮することはできなか
った。また、クロック信号を高速化しても、これに追従
することができないという問題点がある。
【0018】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、プリチャージ制御信号の1周期及びセンス
開始から最初の読み出し又は書き込みまでの時間を共に
短縮することができる半導体記憶装置を提供することを
目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体記憶
装置は、メモリセルアレイと、このメモリセルアレイに
おいて列をなす複数個のメモリセルが共通接続された複
数のビット線対と、前記複数のビット線対が共通接続さ
れた入出力線対と、この入出力線対をプリチャージする
プリチャージ回路と、を有し、前記プリチャージ回路
は、前記入出力線対のプリチャージレベルを複数の電圧
から選択する選択手段を有することを特徴とする。
【0020】本発明においては、最初のデータの読み出
し時には、選択手段により入手力線対のプリチャージレ
ベルを一方のビット線の電位から大きく離れたものとす
ることにより、入出力線対に大きな差電位を得ることが
できる。また、データの読み出し後には、選択手段によ
り入手力線対のプリチャージレベルを、例えば書き込み
時における入出力線対の差電位の中心電位又はこれに近
い電位とすることにより、書き込み後のバランスを速や
かに行うことができる。
【0021】なお、前記選択手段は、前記メモリセルア
レイにおいて行をなしデータの書き込み又は読み出しが
行われる複数個のメモリセルが選択されてから最初に前
記書き込み又は読み出しが行われる前までの前記プリチ
ャージレベルを第1のレベルとし、書き込み終了後から
次のデータの書き込み又は読み出しまでの前記プリチャ
ージレベルを第2のレベルとするものであってもよい。
【0022】また、前記第1のレベルをVa、前記第2
のレベルをVb、データの書き込み時における前記入出
力線対の差電位の中心電位をVbalとすると、数式│
Va−Vbal│により得られる値は、数式│Vb−V
bal│により得られる値よりも大きいことが望まし
く、この場合、前記第1のレベルVbが前記中心電位V
balと等しいことがより一層望ましい。
【0023】また、前記第2のレベルは、内部回路に供
給される電圧の半分の電圧であってもよく、前記第1の
レベルは、内部回路に供給される電圧を降圧して得られ
た電圧であってもよい。
【0024】更に、前記選択手段は、前記メモリセルア
レイにおいて行をなしデータの書き込み又は読み出しが
行われる複数個のメモリセルが選択されてから2回目以
降の前記書き込み又は読み出しが行われた後の前記プリ
チャージレベルを前記第2のレベルとするものであって
もよい。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係る半導
体記憶装置について、添付の図面を参照して具体的に説
明する。図1は本発明の第1の実施例に係る半導体記憶
装置の構成を示すブロック図である。
【0026】第1の実施例には、メモリセルが格子状に
配列して構成されたメモリセルアレイ1が設けられてい
る。このメモリセルアレイ1の読み出しアドレス又は書
き込みアドレスを指定するアドレス信号ADDは行アド
レス及び列アドレスを夫々デコードするXデコーダ2及
びYデコーダ3に接続されている。Yデコーダ3には列
選択回路4が接続されている。そして、メモリセルアレ
イ1を構成する各列のメモリセルにビット線BLT及び
BLNからなるビット線対が接続されており、各ビット
線対上に1個ずつセンスアンプ5が設けられている。ま
た、各ビット線対を構成する複数のビット線BLTは列
選択回路4を介して入出力線IOTに共通接続され、各
ビット線対を構成する複数のビット線BLNは列選択回
路4を介して入出力線IONに共通接続される。入出力
線IOT及びIONは、相補関係をなす信号線対を構成
している。各ビット線BLTと入出力線IOTとの間及
び各ビット線BLNと入出力線IONとの間には列選択
回路4の一部として夫々トランジスタからなるスイッチ
SWが接続されており、各ビット線対のスイッチSWに
おいて2個のトランジスタのゲートが共通接続されてい
る。そして、これらの各共通接続点の電位がYデコーダ
3からの選択信号YSELにより制御される。
【0027】また、入出力線IOT及びIONの一端に
はプリチャージ(PC)回路6が接続されており、他端
にはデータアンプ7及びライトアンプ8が互いに並列に
接続されている。更にデータアンプ7にはデータ出力回
路(DOUT)9が接続され、ライトアンプ8にはデー
タ入力回路(DIN)10が接続され、データ出力回路
9及びデータ入力回路10が端子DQに共通接続されて
いる。
【0028】第1の実施例には、更に、制御信号/RA
S、/CAS及び/WEが外部より入力される端子を有
し、クロック信号CLKの立ち上がりに同期してワード
線選択信号RASB、リードライト制御信号RWCMD
及びライト制御信号WCMDを出力するコマンドデコー
ダ11が設けられている。
【0029】リードライト制御信号RWCMDは、コマ
ンドデコーダ11に制御信号/CASがロウレベルにな
ると、ロウレベルからハイレベルに変化する信号であ
る。リードライト制御信号RWCMDは、データアンプ
7、ライトアンプ8、DOUT回路9及びDIN回路1
0に入力される。
【0030】ライト制御信号WCMDは、コマンドデコ
ーダ11に制御信号/CASがロウレベルで、制御信号
/WEがロウレベルのとき、ロウレベルからハイレベル
に変化する信号である。
【0031】ワード線選択信号RASBは、行アドレス
を取り込むときにハイレベルからロウレベルに変化し、
一連の読み出し又は書き込みが終了したときにロウレベ
ルからハイレベルに変化する信号である。ワード線選択
信号RASBの派生信号はXデコーダ2に入力され、そ
の変化によりメモリセルアレイ1中のワード線の1つが
活性化される。
【0032】また、ワード線選択信号RASBを入力し
センス指示信号SESTPを出力するセンスイネーブル
(SE)回路12、リードライト制御信号RWCMDを
入力しカラム系活性化信号YBSを出力するカラム系活
性化回路13及びライト制御信号WCMDを入力しライ
トイネーブル信号WEを出力するライトイネーブル(W
E)回路14が設けられている。
【0033】センス指示信号SESTPは、ワード線選
択信号RASBの遅延信号であるセンスアンプ活性化信
号(図示せず)を遅延させた信号であり、プリチャージ
回路6のみに入力される。なお、センスアンプ活性化信
号は、センスアンプSAに入力され、ハイレベルとなる
ことによりセンスアンプ5をアクティブにする信号であ
る。
【0034】カラム系活性化信号YBSは、カラム系回
路に入力され、ハイレベルとなることによりこれらのカ
ラム系回路をアクティブにする信号である。ここでのカ
ラム系回路とは、例えばYデコーダ3、列選択回路4、
データアンプ7及びライトアンプ8である。カラム系活
性化信号YBSは後述のプリチャージ制御信号PIOの
生成にも使用される。
【0035】また、ライトイネーブル信号WEは、ライ
トアンプ8及びDIN回路10に入力され、ハイレベル
となることによりデータの書き込み時にライトアンプ8
及びDIN回路10をアクティブにする信号である。リ
ードライト制御信号RWCMDがハイレベルのときにラ
イトイネーブル信号WEもハイレベルになると、ライト
アンプ8及びDIN回路10が活性化され、メモリセル
アレイ1へのデータの書き込みが行われる。一方、リー
ドライト制御信号RWCMDがハイレベルのときにライ
トイネーブル信号WEがロウレベルであると、データア
ンプ7及びDOUT回路9が活性化され、メモリセルア
レイ1からのデータの読み出しが行われる。
【0036】そして、本実施例においては、プリチャー
ジ回路6にセンス指示信号SESTP並びに入出力線I
OT及びIONのプリチャージを制御するプリチャージ
制御信号PIOが入力される。
【0037】プリチャージ制御信号PIOは、クロック
信号CLKのICLK生成回路16からの内部クロック
信号ICLK及び前述のカラム系活性化信号YBSを入
力するPIO生成回路15により生成される信号であ
り、入出力線IOT及びIONのプリチャージのタイミ
ングを制御する信号である。
【0038】図2はPIO生成回路におけるプリチャー
ジ制御信号PIOの生成を示すタイミングチャートであ
る。
【0039】クロック信号CLKに遅延して内部クロッ
ク信号ICLKが生成され、カラム系活性化信号YBS
の立ち上がりに同期してプリチャージ制御信号PIOが
立ち下がる。そして、プリチャージ制御信号PIOは内
部クロック信号ICLKの遅延信号としてハイレベル及
びロウレベルを切り替える。
【0040】図3は第1の実施例におけるセンスイネー
ブル回路12の構成を示すブロック図である。センスイ
ネーブル回路12には、ワード線選択信号RASBを入
力する入力端子に入力端が接続された遅延回路12a及
びこの遅延回路12aの出力端に入力端が接続された遅
延回路12bが設けられている。更に、遅延回路12a
及び12bの出力信号の否定論理和をとる否定論理和ゲ
ートNOR12が設けられており、この否定論理和ゲー
トNOR12の出力信号がセンス指示信号SESTPと
なる。このセンスイネーブル回路12内では、前述のセ
ンスアンプ活性化信号が、例えば遅延回路12aの出力
信号として生成される。
【0041】なお、遅延回路12a及び12bによる遅
延量は、ワード線選択信号RASBが立ち下がってから
センス指示信号SESTPが立ち上がるまでの時間が、
ワード線選択信号RASBが立ち下がってから最初にプ
リチャージ制御信号PIOが立ち下がるまでの時間より
も長く、かつプリチャージ制御信号PIOが次に立ち上
がるまでの時間よりも短くなるように設定されている。
また、センスイネーブル回路12において、センス指示
信号SESTPが、ワード線選択信号RASBの立ち下
がりからは遅く反応し、ワード線選択信号RASBの立
ち上がりからは比較的早く反応するように遅延回路12
a及び12bが設定されている。
【0042】図4は第1の実施例におけるプリチャージ
回路6並びに入出力線IOT及びIONを示すブロック
図である。プリチャージ回路6には、プリチャージ制御
信号PIO及びセンス指示信号SESTPの否定論理積
をとる否定論理積ゲートNAND6a及びこの否定論理
積ゲートNAND6aの出力信号を反転するインバータ
IV6aが設けられている。更に、センス指示信号SE
STPを反転するインバータIV6b、このインバータ
IV6bの出力信号及びプリチャージ制御信号PIOの
否定論理積をとる否定論理積ゲートNAND6b並びに
この否定論理積ゲートNAND6bの出力信号を反転す
るインバータIV6cが設けられている。
【0043】プリチャージ回路6には、更に、インバー
タIV6aの出力信号がゲートに供給されるPチャネル
トランジスタTr6a及びTr6bが設けられている。
トランジスタTr6a及びTr6bのソースには電圧V
bが供給されており、ドレインは夫々入出力線IOT及
びIONに接続されている。また、インバータIV6c
の出力信号がゲートに供給されるPチャネルトランジス
タTr6c及びTr6dが設けられている。トランジス
タTr6a及びTr6bのソースには電圧Vaが供給さ
れており、ドレインは夫々入出力線IOT及びIONに
接続されている。なお、電圧Vbは、メモリセルからの
読み出し時における振幅の平均値(バランスレベル)V
balであり、電圧Vaは電圧Vbよりも高い電圧であ
って、例えばメモリセルアレイ1及び/又はセンスアン
プ5等の内部回路に供給される電圧を降圧回路で降圧し
たものである。
【0044】次に、上述のように構成された第1の実施
例の動作について説明する。図5は本発明の第1の実施
例に係る半導体記憶装置の動作を示すタイミングチャー
トである。なお、図5には、IO(Read)とIO
(Write)とを個別に記載しているが、これは各動
作のみが連続して行われる場合の電圧変化を分かりやす
くするためであり、読み出し動作と書き込み動作とが混
在していてもよい。なお、図5では、同一図面中に読み
出し及び書き込みを示したが、読み出しと書き込みとが
同時に発生することはありえないことはいうまでもな
い。また、以下に示す動作は、メモリセルアレイ1にお
いて行をなしデータの書き込み又は読み出しが行われる
メモリセルが選択され、即ち、ワード線が選択されてか
ら、連続するデータの読み出し又は書き込みが終了する
までの動作である。更に、信号RASB、RWCMD、
WCMD、SESTP、YBS及びWEの変化は第1の
実施例と後述の第2及び第3の実施例とで共通してお
り、信号RWCMD、WCMD、YBS及びWEの具体
的な変化については、後述する。
【0045】クロック信号CLKが立ち上がったときに
制御信号/RASがロウ、制御信号/CASがハイ、制
御信号/WEがハイであると、コマンドデコーダ11は
これをデコードして動作命令ACTを出力し、これに遅
延してワード線選択信号RASBを立ち下げる。この時
点では、センス指示信号SESTPがロウであるため、
トランジスタTr6a及びTr6bが非導通状態にあ
り、トランジスタTr6c及びTr6dが導通状態にあ
り、入出力線IOT及びIONは電圧Vaにプリチャー
ジされる。
【0046】その後、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがハイ、制御信号/CASが
ロウ、制御信号/WEがロウであると、コマンドデコー
ダ11が書込命令Wを出力し、クロック信号CLKが立
ち上がったときに制御信号/RASがハイ、制御信号/
CASがロウ、制御信号/WEがハイであると、コマン
ドデコーダ11が読出命令Rを出力する。
【0047】次いで、プリチャージ制御信号PIOが立
ち下がると、入出力線IOT及びIONの電位は、夫々
列選択回路4により選択された列をなすメモリセルに接
続されたビット線BLT及びBLNの電位に引きずられ
る。この結果、入出力線IOTの電位は上昇し、入出力
線IONの電位は下降する。このときの動作が選択され
たメモリセルへのデータの書き込みであれば、ライトア
ンプ8による信号増幅があるので、各電位の上昇及び下
降は大きなものとなり、入出力線IOTの電位は内部電
源電位Vccに収束し、入出力線IONの電位は接地電
位GNDに収束する。一方、動作が選択されたメモリセ
ルからのデータの読み出しの場合には、ビット線対の差
電位のセンスアンプ5による増幅が十分ではないため、
ビット線BLTの電位と入出力線IOTの電位との差が
小さく、入出力線IOTの電位の上昇は小さい。但し、
本実施例においては、プリチャージレベルである電圧V
aがバランスレベルVbalよりも高いので、ビット線
BLNの電位と入出力線IONの電位との差が大きくな
って、入出力線IONの電位は大きく下降するので、十
分な入出力線IOT及びIONの差電位が得られる。
【0048】また、最初のメモリセルからの読み出し又
はメモリセルへの書き込みが行われている間に、センス
指示信号SESTPが立ち上がる。従って、次にプリチ
ャージ制御信号PIOが立ち上がると、トランジスタT
r6a及びTr6bが導通状態になり、トランジスタT
r6c及びTr6dが非導通状態になる。この結果、入
出力線IOT及びIONが電圧Vb(バランスレベルV
bal)にプリチャージされる。このため、このプリチ
ャージ前の動作が書き込みであった場合であっても、入
出力線IOT及びIONの電位は速やかに電圧Vb(バ
ランスレベルVbal)に達する。
【0049】その後、プリチャージ制御信号PIOの立
ち上がり及び立ち下がりに同期してデータの書き込み又
は読み出しとプリチャージとが交互に行われる。
【0050】そして、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがロウ、制御信号/CASが
ハイ、制御信号/WEがロウが入力されると、コマンド
デコーダ11がプリチャージ命令PREを出力し、これ
に遅延してワード線選択信号RASBが立ち上がる。す
ると、選択されていたワード線が非選択状態に戻り、メ
モリセルとビット線との接続が遮断される。その後、プ
リチャージ制御信号PIOは次のクロック信号CLKの
立ち下がりに同期してハイに固定され、読み出し及び書
き込みが終了する。また、ワード線選択信号RASBの
立ち上がりから一定の遅延の後、センス指示信号SES
TPが立ち下がって入出力線IOT及びIONが電圧V
aにプリチャージされる。
【0051】このように、本実施例によれば、最初にプ
リチャージ制御信号PIOが立ち下がる直前の入出力線
IOT及びIONのプリチャージレベルが電圧Vaとな
っているので、ビット線対の差電位がセンスアンプ5に
より十分に増幅されていなくても、入出力線IOT及び
ION間の差電位を読み出し可能な程度まで大きなもの
とすることができる。また、その後最初にプリチャージ
制御信号PIOが立ち上がるまでに、センス指示信号S
ESTPの立ち上がりにより入出力線IOT及びION
のプリチャージレベルがバランスレベルVbalである
電圧Vbに変更されるので、その後に書き込みが行われ
ても、その直後のプリチャージまでの時間tbは極めて
短い。従って、センスアンプ5によるセンス開始からプ
リチャージ制御信号PIOの立ち下がりまでの時間t
RCDを短縮しながら、連続書き込み時のバランスまでの
時間tbを短縮してプリチャージ制御信号PIOの1周
期t ckを短縮することができる。このため、クロック信
号CLKの高速化に対応することができる。
【0052】また、従来のプリチャージレベルが常に高
く設定されている半導体記憶装置と比較すると、書き込
み後のバランスが容易になるので、動作電流を低減する
こともできる。
【0053】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。第2の実施例においては、プリチャージ回路6に
センス指示信号SESTPの代わりにカラム系活性化信
号YBSが入力される。図6は本発明の第2の実施例に
係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。図
7は第2の実施例におけるカラム系活性化回路13の構
成を示すブロック図である。図8は第2の実施例におけ
るプリチャージ回路6並びに入出力線IOT及びION
を示すブロック図である。
【0054】第2の実施例においては、カラム系活性化
回路13に、リードライト制御信号RWCMDを入力す
る入力端子に入力端が接続された遅延回路13a及びこ
の遅延回路13aの出力端に入力端が接続された遅延回
路13bが設けられている。更に、遅延回路13a及び
13bの出力信号の否定論理積をとる否定論理積ゲート
NAND13及びこの否定論理積ゲートNAND13の
出力信号を反転するインバータIV13が設けられてお
り、このインバータIV13の出力信号がカラム系活性
化信号YBSとなる。
【0055】また、プリチャージ回路6については、図
6及び8に示すように、センス指示信号SESTPでは
なくカラム系活性化信号YBSが入力されること以外
は、第1の実施例と同様に構成されている。
【0056】なお、遅延回路13a及び13bによる遅
延量は、リードライト制御信号RWCMDが立ち上がっ
てからカラム系活性化信号YBSが立ち上がるまでの時
間が、リードライト制御信号RWCMDが立ち上がって
から最初にプリチャージ制御信号PIOが立ち下がるま
での時間よりも長く、かつプリチャージ制御信号PIO
が次に立ち上がるまでの時間よりも短くなるように設定
されている。また、カラム系活性化回路13において、
カラム系活性化信号YBSが、リードライト制御信号R
WCMDの立ち上がりからは遅く反応し、リードライト
制御信号RWCMDの立ち下がりからは比較的早く反応
するように遅延回路13a及び13bが設定されてい
る。但し、カラム系活性化信号YBSのリードライト制
御信号RWCMDの立ち上がりからの遅延量は、第1の
実施例におけるセンス指示信号SESTPのワード線選
択信号RASBの立ち下がりからの遅延量よりも小さく
設定されている。
【0057】次に、上述のように構成された第2の実施
例の動作について説明する。図9は本発明の第2の実施
例に係る半導体記憶装置の動作を示すタイミングチャー
トである。なお、図9には、IO(Read)とIO
(Write)とを個別に記載しているが、これは各動
作のみが連続して行われる場合の電圧変化を分かりやす
くするためであり、読み出し動作と書き込み動作とが混
在していてもよい。また、第1の実施例と同様、以下に
示す動作は、メモリセルアレイ1において行をなしデー
タの書き込み又は読み出しが行われるメモリセルが選択
された後のものである。即ち、ワード線が選択された後
の動作である。更に、信号RASB、RWCMD、WC
MD、YBS及びWEの変化は第2の実施例と第1及び
第3の実施例とで共通しており、信号WCMD及びWE
の具体的な変化については、後述する。
【0058】クロック信号CLKが立ち上がったときに
制御信号/RASがロウ、制御信号/CASがハイ、制
御信号/WEがハイであると、コマンドデコーダ11は
動作命令ACTを出力する。
【0059】その後、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがハイ、制御信号/CASが
ロウ、制御信号/WEがロウであると、コマンドデコー
ダ11は書込命令Wを出力し、クロック信号CLKが立
ち上がったときに制御信号/RASがハイ、制御信号/
CASがロウ、制御信号/WEがハイであると、コマン
ドデコーダ11は読出命令Rを出力し、この命令の出力
から一定の遅延の後、リードライト制御信号RWCMD
を立ち上げる。この時点では、カラム系活性化信号YB
Sがロウであるため、トランジスタTr6a及びTr6
bが非導通状態にあり、トランジスタTr6c及びTr
6dが導通状態にあり、入出力線IOT及びIONは電
圧Vaにプリチャージされる。
【0060】次いで、プリチャージ制御信号PIOが立
ち下がると、入出力線IOT及びIONの電位は、夫々
列選択回路4により選択された列をなすメモリセルに接
続されたビット線BLT及びBLNの電位に引きずられ
る。この結果、入出力線IOTの電位は上昇し、入出力
線IONの電位は下降する。このときの動作が選択され
たメモリセルへのデータの書き込みであれば、ライトア
ンプ8による信号増幅があるので、各電位の上昇及び下
降は大きなものとなり、入出力線IOTの電位は内部電
源電位Vccに収束し、入出力線IONの電位は接地電
位GNDに収束する。また、動作が選択されたメモリセ
ルからのデータの読み出しの場合であっても、第1の実
施例と同様に、ビット線BLNの電位と入出力線ION
の電位との差が大きくなって、入出力線IONの電位は
大きく下降するので、十分な入出力線IOT及びION
の差電位が得られる。
【0061】また、最初のメモリセルからの読み出し又
はメモリセルへの書き込みが行われている間に、カラム
系活性化信号YBSが立ち上がる。従って、次にプリチ
ャージ制御信号PIOが立ち上がると、トランジスタT
r6a及びTr6bが導通状態になり、トランジスタT
r6c及びTr6dが非導通状態になる。この結果、入
出力線IOT及びIONが電圧Vb(バランスレベルV
bal)にプリチャージされる。このため、このプリチ
ャージ前の動作が書き込みであった場合であっても、入
出力線IOT及びIONの電位は速やかに電圧Vb(バ
ランスレベルvbal)に達する。
【0062】その後、プリチャージ制御信号PIOの立
ち上がり及び立ち下がりに同期してデータの書き込み又
は読み出しとプリチャージとが交互に行われる。
【0063】そして、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがロウ、制御信号/CASが
ハイ、制御信号/WEがロウであると、コマンドデコー
ダ11がプリチャージ命令PREを出力し、これに遅延
して制御信号RWCMDが立ち下がる。その後、プリチ
ャージ制御信号PIOは次のクロック信号CLKの立ち
下がりに同期してハイに固定され、読み出し及び書き込
みが終了する。また、リードライト制御信号RWCMD
の立ち下がりから一定の遅延の後、カラム系活性化信号
YBSが立ち下がって入出力線IOT及びIONが電圧
Vaにプリチャージされる。
【0064】このように、本実施例によっても、最初に
プリチャージ制御信号PIOが立ち下がる直前の入出力
線IOT及びIONのプリチャージレベルが電圧Vaと
なっており、かつ最初の動作開始からその後最初にプリ
チャージ制御信号PIOが立ち上がるまでに、入出力線
IOT及びIONのプリチャージレベルがバランスレベ
ルVbalである電圧Vbに変更されるので、センスア
ンプ5によるセンス開始からプリチャージ制御信号PI
Oの立ち下がりまでの時間tRCDを短縮しながら、連続
書き込み時のバランスまでの時間tbを短縮してプリチ
ャージ制御信号PIOの1周期tckを短縮することがで
きる。従って、クロック信号CLKの高速化に対応する
ことができる。
【0065】次に、本発明の第3の実施例について説明
する。第3の実施例においては、プリチャージ回路6に
信号SESTP又はYBSの代わりにライトイネーブル
信号WEが入力される。図10は本発明の第3の実施例
に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
図11は第3の実施例におけるライトイネーブル回路1
4の構成を示すブロック図である。図12は第3の実施
例におけるプリチャージ回路6並びに入出力線IOT及
びIONを示すブロック図である。
【0066】第3の実施例においては、ライトイネーブ
ル回路14に、ライト制御信号WCMDを入力する入力
端子に入力端が接続された遅延回路14aが設けられて
いる。この遅延回路14aの出力信号がライトイネーブ
ル信号WEとなる。
【0067】また、プリチャージ回路6については、図
10及び12に示すように、信号SESTP又はYBS
ではなくライトイネーブル信号WEが入力されること以
外は、第1及び第2の実施例と同様に構成されている。
【0068】なお、遅延回路14aによる遅延量は、最
初の動作が書き込みだった場合にライト制御信号WCM
Dが立ち上がってからライトイネーブル信号WEが立ち
上がるまでの時間が、ライト制御信号WCMDが立ち上
がってから最初にプリチャージ制御信号PIOが立ち下
がるまでの時間よりも長く、かつプリチャージ制御信号
PIOが次に立ち上がるまでの時間よりも短くなるよう
に設定されている。
【0069】次に、上述のように構成された第3の実施
例の動作について説明する。図13は本発明の第2の実
施例に係る半導体記憶装置の動作を示す図であって、
(a)はデータの連続書き込み動作を示すタイミングチ
ャート、(b)はデータの連続読み出し動作を示すタイ
ミングチャートである。なお、図13(a)及び(b)
には、IO(Write)とIO(Read)とを個別
に記載しているが、これは各動作のみが行われる場合の
電圧変化を分かりやすくするためであり、実際には読み
出し動作と書き込み動作とが混在していてもよい。ま
た、第1及び第2の実施例と同様、以下に示す動作は、
メモリセルアレイ1において行をなしデータの書き込み
又は読み出しが行われるメモリセルが選択された後のも
のである。即ち、ワード線が選択された後の動作であ
る。
【0070】連続書き込み及び連続読み出しのいずれで
あっても、クロック信号CLKが立ち上がったときに制
御信号/RASがロウ、制御信号/CASがハイ、制御
信号/WEがハイであると、コマンドデコーダ11は動
作命令ACTを出力する。
【0071】その後、連続書き込みの場合には、図13
(a)に示すように、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがハイ、制御信号/CASが
ロウ、制御信号/WEがロウであると、コマンドデコー
ダ11は書込命令WRTを出力し、この命令の出力から
一定の遅延の後、ライト制御信号WCMDを立ち上げ
る。この時点では、ライトイネーブル信号WEがロウで
あるため、トランジスタTr6a及びTr6bが非導通
状態にあり、トランジスタTr6c及びTr6dが導通
状態にあり、入出力線IOT及びIONは電圧Vaにプ
リチャージされる。
【0072】次いで、プリチャージ制御信号PIOが立
ち下がると、入出力線IOT及びIONの電位は、夫々
列選択回路4により選択された列をなすメモリセルに接
続されたビット線BLT及びBLNの電位に引きずられ
る。この結果、入出力線IOTの電位は上昇し、入出力
線IONの電位は下降する。このとき、ライトアンプ8
による信号増幅があるので、各電位の上昇及び下降は大
きなものとなり、入出力線IOTの電位は内部電源電位
Vccに収束し、入出力線IONの電位は接地電位GN
Dに収束する。
【0073】また、最初のメモリセルへの書き込みが行
われている間に、ライトイネーブル信号WEが立ち上が
る。従って、次にプリチャージ制御信号PIOが立ち上
がると、トランジスタTr6a及びTr6bが導通状態
になり、トランジスタTr6c及びTr6dが非導通状
態になる。この結果、入出力線IOT及びIONが電圧
Vb(バランスレベルVbal)にプリチャージされ
る。このため、このプリチャージ前の動作が書き込みで
あっても、入出力線IOT及びIONの電位は速やかに
電圧Vb(バランスレベルVbal)に達する。
【0074】その後、プリチャージ制御信号PIOの立
ち上がり及び立ち下がりに同期してデータの読み出しと
プリチャージとが交互に行われる。
【0075】そして、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがロウ、制御信号/CASが
ハイ、制御信号/WEがロウであると、コマンドデコー
ダ11がプリチャージ命令PREを出力し、これに遅延
してライト制御信号WCMDが立ち下がる。その後、プ
リチャージ制御信号PIOは次のクロック信号CLKの
立ち下がりに同期してハイに固定され、連続書き込みが
終了する。また、ライト制御信号WCMDの立ち下がり
から一定の遅延の後、ライトイネーブル信号WEが立ち
下がって入出力線IOT及びIONが電圧Vaにプリチ
ャージされる。
【0076】一方、連続読み出しの場合には、図13
(b)に示すように、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがハイ、制御信号/CASが
ロウ、制御信号/WEがハイであると、コマンドデコー
ダ11が読出命令READを出力する。この時点では、
ライトイネーブル信号WEがロウであるため、トランジ
スタTr6a及びTr6bが非導通状態にあり、トラン
ジスタTr6c及びTr6dが導通状態にあり、入出力
線IOT及びIONは電圧Vaにプリチャージされる。
【0077】次いで、プリチャージ制御信号PIOが立
ち下がると、入出力線IOT及びIONの電位は、夫々
列選択回路4により選択された列をなすメモリセルに接
続されたビット線BLT及びBLNの電位に引きずられ
る。この結果、入出力線IOTの電位は上昇し、入出力
線IONの電位は下降する。このとき、第1及び第2の
実施例と同様に、ビット線BLNの電位と入出力線IO
Nの電位との差が大きくなって、入出力線IONの電位
は大きく下降するので、十分な入出力線IOT及びIO
Nの差電位が得られる。
【0078】その後、プリチャージ制御信号PIOの立
ち上がり及び立ち下がりに同期してデータの書き込みと
プリチャージとが交互に行われる。この間、ライトイネ
ーブル信号WEが立ち上がることはないため、プリチャ
ージレベルは常時電圧Vaとなる。
【0079】そして、クロック信号CLKが立ち上がっ
たときに制御信号/RASがロウ、制御信号/CASが
ハイ、制御信号/WEがロウであると、コマンドデコー
ダ11がプリチャージ命令PREを出力し、プリチャー
ジ制御信号PIOは次のクロック信号CLKの立ち下が
りに同期してハイに固定され、連続読み出しが終了す
る。そして、入出力線IOT及びIONが電圧Vaにプ
リチャージされる。
【0080】このように、本実施例によっても、最初に
プリチャージ制御信号PIOが立ち下がる直前の入出力
線IOT及びIONのプリチャージレベルが電圧Vaと
なっており、かつ最初の書き込み動作開始からその後最
初にプリチャージ制御信号PIOが立ち上がるまでに、
入出力線IOT及びIONのプリチャージレベルがバラ
ンスレベルVbalである電圧Vbに変更されるので、
センスアンプ5によるセンス開始からプリチャージ制御
信号PIOの立ち下がりまでの時間tRCDを短縮しなが
ら、連続書き込み時のバランスまでの時間tbを短縮し
てプリチャージ制御信号PIOの1周期tckを短縮する
ことができる。従って、クロック信号CLKの高速化に
対応することができる。
【0081】なお、第1乃至第3の実施例においては、
書き込み後のプリチャージレベルを書き込み時のバラン
スレベルとしているが、本発明においては、これに限定
されるものではなく、書き込み後のプリチャージレベル
を内部回路に供給される電圧の半分の電圧としてもよ
い。
【0082】また、これらの実施例においては、入出力
線IOTの電位が上昇し、入出力線IONの電位が下降
する場合の動作について説明しているが、書き込まれる
データ及び読み出されるデータに応じて電位が上昇又は
下降する入出力線が入れ替わる場合もある。但し、この
場合においても、両者は相補関係にある。
【0083】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
入出力線対のプリチャージレベルを複数の電圧から選択
する選択手段をプリチャージ回路に設けているので、最
初のデータの読み出し時とデータの読み出し後とでプリ
チャージレベルを切替えることができる。従って、最初
のデータの読み出し時には入出力線対の差電位が大きく
なるようにし、データの読み出し後にはバランスを容易
に行うことができるようにすれば、クロック信号を高速
化しても、これに追従することができる。更に、従来の
プリチャージレベルが常に高く設定されているものと比
較すると、書き込み後のバランスが容易になるので、動
作電流を低減することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る半導体記憶装置の
構成を示すブロック図である。
【図2】PIO生成回路におけるプリチャージ制御信号
PIOの生成を示すタイミングチャートである。
【図3】第1の実施例におけるセンスイネーブル回路1
2の構成を示すブロック図である。
【図4】第1の実施例におけるプリチャージ回路6並び
に入出力線IOT及びIONを示すブロック図である。
【図5】本発明の第1の実施例に係る半導体記憶装置の
動作を示すタイミングチャートである。
【図6】本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装置の
構成を示すブロック図である。
【図7】第2の実施例におけるカラム系活性化回路13
の構成を示すブロック図である。
【図8】第2の実施例におけるプリチャージ回路6並び
に入出力線IOT及びIONを示すブロック図である。
【図9】本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装置の
動作を示すタイミングチャートである。
【図10】本発明の第3の実施例に係る半導体記憶装置
の構成を示すブロック図である。
【図11】第3の実施例におけるライトイネーブル回路
14の構成を示すブロック図である。
【図12】第3の実施例におけるプリチャージ回路6並
びに入出力線IOT及びIONを示すブロック図であ
る。
【図13】(a)及び(b)は本発明の第2の実施例に
係る半導体記憶装置の動作を示すタイミングチャートで
ある。
【図14】従来の半導体記憶装置におけるプリチャージ
回路を示す回路図である。
【図15】(a)及び(b)は従来の半導体記憶装置の
動作を示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
1;メモリセルアレイ 2;Xデコーダ 3;Yデコーダ 4;列選択回路 5;センスアンプ 6;プリチャージ回路 7;データアンプ 8;ライトアンプ 9;データ出力回路 10;データ入力回路 11;コマンドデコーダ 12;センスイネーブル回路 13;カラム系活性化回路 14;ライトイネーブル回路 15;PIO生成回路 16;CLK生成回路

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリセルアレイと、このメモリセルア
    レイにおいて列をなす複数個のメモリセルが共通接続さ
    れた複数のビット線対と、前記複数のビット線対が共通
    接続された入出力線対と、この入出力線対をプリチャー
    ジするプリチャージ回路と、を有し、前記プリチャージ
    回路は、前記入出力線対のプリチャージレベルを複数の
    電圧から選択する選択手段を有することを特徴とする半
    導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記選択手段は、前記メモリセルアレイ
    において行をなしデータの書き込み又は読み出しが行わ
    れる複数個のメモリセルが選択されてから最初に前記書
    き込み又は読み出しが行われる前までの前記プリチャー
    ジレベルを第1のレベルとし、書き込み終了後から次の
    データの書き込み又は読み出しまでの前記プリチャージ
    レベルを第2のレベルとするものであることを特徴とす
    る請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記第1のレベルをVa、前記第2のレ
    ベルをVb、データの書き込み時における前記入出力線
    対の差電位の中心電位をVbalとすると、数式│Va
    −Vbal│により得られる値は、数式│Vb−Vba
    l│により得られる値よりも大きいことを特徴とする請
    求項2に記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記第1のレベルVbは、前記中心電位
    Vbalと等しいことを特徴とする請求項3に記載の半
    導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記第2のレベルは、内部回路に供給さ
    れる電圧の半分の電圧であることを特徴とする請求項2
    に記載の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記第1のレベルは、内部回路に供給さ
    れる電圧を降圧して得られた電圧であることを特徴とす
    る請求項2に記載の半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 前記選択手段は、前記メモリセルアレイ
    において行をなしデータの書き込み又は読み出しが行わ
    れる複数個のメモリセルが選択されてから2回目以降の
    前記書き込み又は読み出しが行われた後の前記プリチャ
    ージレベルを前記第2のレベルとするものであることを
    特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の半導
    体記憶装置。
JP37254199A 1999-12-28 1999-12-28 半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP3447640B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP37254199A JP3447640B2 (ja) 1999-12-28 1999-12-28 半導体記憶装置
DE10064537A DE10064537A1 (de) 1999-12-28 2000-12-22 Halbleiterspeichervorrichtung
KR10-2000-0082593A KR100414414B1 (ko) 1999-12-28 2000-12-27 반도체 기억장치
US09/750,882 US6545922B2 (en) 1999-12-28 2000-12-28 Semiconductor memory device
TW089128251A TW472363B (en) 1999-12-28 2000-12-28 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP37254199A JP3447640B2 (ja) 1999-12-28 1999-12-28 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001184866A true JP2001184866A (ja) 2001-07-06
JP3447640B2 JP3447640B2 (ja) 2003-09-16

Family

ID=18500620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP37254199A Expired - Fee Related JP3447640B2 (ja) 1999-12-28 1999-12-28 半導体記憶装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6545922B2 (ja)
JP (1) JP3447640B2 (ja)
KR (1) KR100414414B1 (ja)
DE (1) DE10064537A1 (ja)
TW (1) TW472363B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030049003A (ko) * 2001-12-13 2003-06-25 삼성전자주식회사 공유된 입출력 라인을 프리차지할 수 있는 반도체 메모리장치
KR100762905B1 (ko) 2006-06-30 2007-10-08 주식회사 하이닉스반도체 입출력 라인 프리차지 회로 및 그를 포함하는 반도체메모리 장치
US8213248B2 (en) 2009-03-06 2012-07-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory device having improved local input/output line precharge scheme

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7959395B2 (en) * 2002-07-22 2011-06-14 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus
KR100762906B1 (ko) 2006-06-30 2007-10-08 주식회사 하이닉스반도체 입출력 라인 프리차지 회로 및 그를 포함하는 반도체메모리 장치
DE102007004638A1 (de) * 2007-01-30 2008-08-07 Qimonda Ag Integrierter Halbleiterspeicher und Verfahren zum Betreiben eines Datenpfads in einem Halbleiterspeicher
TWI423256B (zh) * 2008-10-29 2014-01-11 Etron Technology Inc 資料感測裝置與方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR940001644B1 (ko) 1991-05-24 1994-02-28 삼성전자 주식회사 메모리 장치의 입출력 라인 프리차아지 방법
JP3100849B2 (ja) * 1994-11-11 2000-10-23 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3672633B2 (ja) * 1995-09-07 2005-07-20 株式会社ルネサステクノロジ 半導体メモリ装置
JP3359209B2 (ja) * 1995-11-29 2002-12-24 シャープ株式会社 半導体記憶装置及びメモリアクセス方法
KR19980037951A (ko) * 1996-11-22 1998-08-05 김광호 입출력 라인 프리차지 회로
KR100224685B1 (ko) * 1997-01-30 1999-10-15 윤종용 비트라인 제어회로 및 방법
JP3088340B2 (ja) * 1997-06-18 2000-09-18 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体記憶装置
KR100295041B1 (ko) * 1998-02-28 2001-07-12 윤종용 프리차지제어회로를구비하는반도체장치및프리차지방법
KR100301811B1 (ko) * 1998-03-13 2001-09-22 김영환 칼럼 선택 회로
DE19844479C1 (de) * 1998-09-28 2000-04-13 Siemens Ag Integrierter Speicher mit einem differentiellen Leseverstärker
JP3913377B2 (ja) * 1998-11-04 2007-05-09 富士通株式会社 半導体記憶装置
JP2000231791A (ja) * 1998-12-10 2000-08-22 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置及びデータバスのリセット方法
KR100290286B1 (ko) * 1999-02-05 2001-05-15 윤종용 빠른 입출력 라인 프리차지 스킴을 구비한 반도체 메모리 장치
KR20000066730A (ko) * 1999-04-20 2000-11-15 김영환 메모리의 워드라인 구동회로
KR100343138B1 (ko) * 1999-06-25 2002-07-05 윤종용 기입 마스킹 기능을 갖는 반도체 메모리 장치 및 그 기입 마스킹 방법
US6366512B1 (en) * 2000-11-30 2002-04-02 Global Unichip Corporation Error write protection circuit used in semiconductor memory device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030049003A (ko) * 2001-12-13 2003-06-25 삼성전자주식회사 공유된 입출력 라인을 프리차지할 수 있는 반도체 메모리장치
KR100762905B1 (ko) 2006-06-30 2007-10-08 주식회사 하이닉스반도체 입출력 라인 프리차지 회로 및 그를 포함하는 반도체메모리 장치
US8213248B2 (en) 2009-03-06 2012-07-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory device having improved local input/output line precharge scheme

Also Published As

Publication number Publication date
KR100414414B1 (ko) 2004-01-07
TW472363B (en) 2002-01-11
KR20010062736A (ko) 2001-07-07
US20010005334A1 (en) 2001-06-28
DE10064537A1 (de) 2001-08-02
JP3447640B2 (ja) 2003-09-16
US6545922B2 (en) 2003-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6205071B1 (en) Semiconductor memory device including sense amplifier circuit differing in drivability between data write mode and data read mode
KR100381968B1 (ko) 고속동작용디램
JP4993912B2 (ja) 半導体メモリ素子及び半導体メモリ素子のビットライン感知増幅器の駆動方法
US6504761B2 (en) Non-volatile semiconductor memory device improved sense amplification configuration
KR100776612B1 (ko) 반도체 기억 장치
JP4629249B2 (ja) 半導体記憶装置及びその情報読み出し方法
JPH1139875A (ja) 半導体記憶装置
KR100438469B1 (ko) 반도체 집적 회로 메모리 및 버스 제어 방법
KR20080022737A (ko) 메모리 장치 및 메모리 장치의 프리차지 방법
JP2001101863A (ja) 半導体集積回路およびその制御方法
JPH11306758A (ja) 半導体記憶装置
GB2380036A (en) Boosted ground voltage sense amplifier
JP3447640B2 (ja) 半導体記憶装置
US6930952B2 (en) Method of reading memory device in page mode and row decoder control circuit using the same
JPH11273346A (ja) 半導体装置
US6310825B1 (en) Data writing method for semiconductor memory device
JPH06176568A (ja) 半導体記憶装置
US7263026B2 (en) Semiconductor memory device and method for controlling the same
US7054210B2 (en) Write/precharge flag signal generation circuit and circuit for driving bit line isolation circuit in sense amplifier using the same
KR101697686B1 (ko) 반도체 메모리 장치 및 그 구동 방법
US5553032A (en) Dynamic random access memory wherein timing of completion of data reading is advanced
JP4452529B2 (ja) タイミングレファレンス制御機能を有する不揮発性強誘電体メモリ装置及びその制御方法
JP3192709B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH11328958A (ja) 半導体記憶装置
KR100695287B1 (ko) 반도체 메모리 장치의 센스앰프 제어 회로

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070704

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080704

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090704

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100704

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130704

Year of fee payment: 10

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees