JP2001152292A - 磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 - Google Patents
磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管Info
- Publication number
- JP2001152292A JP2001152292A JP33393499A JP33393499A JP2001152292A JP 2001152292 A JP2001152292 A JP 2001152292A JP 33393499 A JP33393499 A JP 33393499A JP 33393499 A JP33393499 A JP 33393499A JP 2001152292 A JP2001152292 A JP 2001152292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semi
- tension mask
- less
- alloy
- equation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/08—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/004—Very low carbon steels, i.e. having a carbon content of less than 0,01%
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/04—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing manganese
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/06—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/863—Passive shielding means associated with the vessel
- H01J2229/8634—Magnetic shielding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】プレスタイプで使用されているインバー合金を
張力を架けてマスクにするセミテンションマスクタイプ
のマスク用材料として使用すると磁気シールド性が悪く
なってビームドリフト量が大きくなる。 【解決手段】 Niを34質量百分率（以下%とする）以上45
%以下、Mnを0.01%以上0.5%以下、残部Feおよび不可避的
不純物から成るFe-Ni系合金で、最終冷間圧延後の板表
面における下記式〔数1〕で表わされる(111)集合度と(2
20)集合度の和α( 111)+(220)が15%以上であることを特
徴とするセミテンションマスク用Fe-Ni系合金。 【数１】
張力を架けてマスクにするセミテンションマスクタイプ
のマスク用材料として使用すると磁気シールド性が悪く
なってビームドリフト量が大きくなる。 【解決手段】 Niを34質量百分率（以下%とする）以上45
%以下、Mnを0.01%以上0.5%以下、残部Feおよび不可避的
不純物から成るFe-Ni系合金で、最終冷間圧延後の板表
面における下記式〔数1〕で表わされる(111)集合度と(2
20)集合度の和α( 111)+(220)が15%以上であることを特
徴とするセミテンションマスク用Fe-Ni系合金。 【数１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管（ブラウン
管）に使用されるFe-Ni系合金から成るセミテンション
マスクにおいて、磁気特性が良好で、地磁気の影響によ
るビームドリフトの抑制に優れる材料に関する。
管）に使用されるFe-Ni系合金から成るセミテンション
マスクにおいて、磁気特性が良好で、地磁気の影響によ
るビームドリフトの抑制に優れる材料に関する。
【０００２】
【従来技術】ブラウン管のマスクは、ドット状もしくは
スロット状にエッチング加工された後プレス成形される
シャドウマスク方式と、すだれ状にエッチング後、架張
するアパーチャグリル方式に大別される。
スロット状にエッチング加工された後プレス成形される
シャドウマスク方式と、すだれ状にエッチング後、架張
するアパーチャグリル方式に大別される。
【０００３】シャドウマスク方式は、熱膨張から生じる
ドーミング特性を改善するため、Fe-36%Ni（インバー合
金）が一般的に使用されている。一方、アパーチャグリ
ル方式では、その構造的特徴から熱膨張によるドーミン
グが発生しにくく、熱膨張係数が高くてもより安価な軟
鋼が使用されている。
ドーミング特性を改善するため、Fe-36%Ni（インバー合
金）が一般的に使用されている。一方、アパーチャグリ
ル方式では、その構造的特徴から熱膨張によるドーミン
グが発生しにくく、熱膨張係数が高くてもより安価な軟
鋼が使用されている。
【０００４】それぞれの方式は、一長一短があり、どち
らの方式も市場で用いられているが、最近、この２方式
のそれぞれの長所を取り入れたセミテンションマスク(S
emiTension Mask)方式が新たに検討され始めた。
らの方式も市場で用いられているが、最近、この２方式
のそれぞれの長所を取り入れたセミテンションマスク(S
emiTension Mask)方式が新たに検討され始めた。
【０００５】この方式は、ドット状もしくはスロット状
にエッチング加工された板をプレスすることなく、アパ
ーチャグリル方式同様上下に引張（架張方式）、マスク
を支持する方法である。プレスによるシャドウマスク方
式に比べ、より平面化が可能となり、かつ、高輝度化、
高解像化が可能となる。さらには、アパーチャグリル方
式より振動特性に優れており、ダンパー線を必要とせ
ず、また、上下に引っ張る荷重も低くすみ、コスト低減
に寄与する。
にエッチング加工された板をプレスすることなく、アパ
ーチャグリル方式同様上下に引張（架張方式）、マスク
を支持する方法である。プレスによるシャドウマスク方
式に比べ、より平面化が可能となり、かつ、高輝度化、
高解像化が可能となる。さらには、アパーチャグリル方
式より振動特性に優れており、ダンパー線を必要とせ
ず、また、上下に引っ張る荷重も低くすみ、コスト低減
に寄与する。
【０００６】一方、セミテンションマスク方式では、ア
パーチャグリル方式と異なることから熱膨張によるドー
ミング現象が発生するため、熱膨張係数の低いインバー
合金を中心とするFe-Ni系合金の採用が検討されている。
ところが、高精細カラーディスプレイ用として使用され
ているインバー合金をセミテンションマスクに使用した
場合、マスクの端部でビームドリフトが大きくなるとい
った問題を生じることが判明した。これは、セミテンシ
ョンマスクが平面管のためにマスク端部では、マスクと
ビームとのなす角度が小さく、わずかなビームドリフト
で蛍光体へのミスランディング量が大きくなるからであ
る。また、セミテンションマスク方式は、開口面積を大
きくして高輝度にすることも目的の一つであり、そのた
めにマスク自体の磁気シールド性が低下するためにビー
ムドリフトが起きやすい状況にあった。
パーチャグリル方式と異なることから熱膨張によるドー
ミング現象が発生するため、熱膨張係数の低いインバー
合金を中心とするFe-Ni系合金の採用が検討されている。
ところが、高精細カラーディスプレイ用として使用され
ているインバー合金をセミテンションマスクに使用した
場合、マスクの端部でビームドリフトが大きくなるとい
った問題を生じることが判明した。これは、セミテンシ
ョンマスクが平面管のためにマスク端部では、マスクと
ビームとのなす角度が小さく、わずかなビームドリフト
で蛍光体へのミスランディング量が大きくなるからであ
る。また、セミテンションマスク方式は、開口面積を大
きくして高輝度にすることも目的の一つであり、そのた
めにマスク自体の磁気シールド性が低下するためにビー
ムドリフトが起きやすい状況にあった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、熱膨張
の観点から、軟鋼等がセミテンションマスク用材料とし
て使用できないことから、インバー合金のような低熱膨
張合金で磁気シールド性を良くする必要があった。そこ
で、プレスタイプのシャドウマスクでは磁気シールド性
で問題なく使用できるインバー合金をセミテンションマ
スクに使用すると磁気シールド性が悪くなる原因を、マ
スク製造の各段階で詳細に調査した結果、材料を架張し
た時の磁気特性が架張前の磁気特性から大きく変化する
ことが判明した。
の観点から、軟鋼等がセミテンションマスク用材料とし
て使用できないことから、インバー合金のような低熱膨
張合金で磁気シールド性を良くする必要があった。そこ
で、プレスタイプのシャドウマスクでは磁気シールド性
で問題なく使用できるインバー合金をセミテンションマ
スクに使用すると磁気シールド性が悪くなる原因を、マ
スク製造の各段階で詳細に調査した結果、材料を架張し
た時の磁気特性が架張前の磁気特性から大きく変化する
ことが判明した。
【０００８】具体的には、プレスタイプのシャドウマス
クは、その形状（曲率）を保てる強度をブリッジ（ドッ
ト状またはスロット状のビームを透過する孔と孔との間
の部分）に持たせる必要があるため、高輝度にするには
エッチングファクタ（深さ方向のエッチング量/サイド
エッチング量）を大きくする必要があり、そのために、
圧延面に腐食速度が小さい原子最密面である(111)を集
合させないようにすることが一般的に行われている。こ
の材料を圧延方向(<100>方向)と圧延方向に対して90度
および45度の方向(<110>方向)とに架張して磁気特性を
測定した。ブラウン管のように交流消磁後の地磁気シー
ルドにおいては，残留磁束密度(Br)が大きく、保磁力(H
c)が小さい方が磁気シールド性に優れることから、Br/H
cで計算される比透磁率μBr/Hcが大きいほど磁気シール
ド性に優れることになる。圧延方向および圧延方向に対
して90度の方向に架張すると、比透磁率μBr/Hcが架張
しない場合よりも小さくなって磁気シールド性は悪くな
り、圧延方向に対して45度の方向に架張した場合は比透
磁率μBr/Hcが大きくなって磁気シールド性が良くなる
ことが判明した。また、この比透磁率μBr/Hcは黒化処理
温度と架張する応力によっても変化することも判明し
た。しかしながら、マスクを斜め45度の角度で条から加
工することはロスが多く現実性がない。
クは、その形状（曲率）を保てる強度をブリッジ（ドッ
ト状またはスロット状のビームを透過する孔と孔との間
の部分）に持たせる必要があるため、高輝度にするには
エッチングファクタ（深さ方向のエッチング量/サイド
エッチング量）を大きくする必要があり、そのために、
圧延面に腐食速度が小さい原子最密面である(111)を集
合させないようにすることが一般的に行われている。こ
の材料を圧延方向(<100>方向)と圧延方向に対して90度
および45度の方向(<110>方向)とに架張して磁気特性を
測定した。ブラウン管のように交流消磁後の地磁気シー
ルドにおいては，残留磁束密度(Br)が大きく、保磁力(H
c)が小さい方が磁気シールド性に優れることから、Br/H
cで計算される比透磁率μBr/Hcが大きいほど磁気シール
ド性に優れることになる。圧延方向および圧延方向に対
して90度の方向に架張すると、比透磁率μBr/Hcが架張
しない場合よりも小さくなって磁気シールド性は悪くな
り、圧延方向に対して45度の方向に架張した場合は比透
磁率μBr/Hcが大きくなって磁気シールド性が良くなる
ことが判明した。また、この比透磁率μBr/Hcは黒化処理
温度と架張する応力によっても変化することも判明し
た。しかしながら、マスクを斜め45度の角度で条から加
工することはロスが多く現実性がない。
【０００９】
【課題を解決するための手段】即ち本発明は、上記の問
題点を解決したものであり、 （１）Niを34%以上45%以下、Mnを0.01%以上0.5%以下、
残部Feおよび不可避的不純物から成るFe-Ni系合金で、
最終冷間圧延後の板表面における下記式〔数４〕で表わ
される(111)集合度と(220)集合度の和α(111)+(220)が1
5%以上であることを特徴とするセミテンションマスク用
Fe-Ni系合金。
題点を解決したものであり、 （１）Niを34%以上45%以下、Mnを0.01%以上0.5%以下、
残部Feおよび不可避的不純物から成るFe-Ni系合金で、
最終冷間圧延後の板表面における下記式〔数４〕で表わ
される(111)集合度と(220)集合度の和α(111)+(220)が1
5%以上であることを特徴とするセミテンションマスク用
Fe-Ni系合金。
【数４】
【００１０】（２）マスクを黒化処理する温度をT℃、
セミテンションマスクとして架張する応力をσN/mm2と
すると、最終冷間圧延後の板表面における下記式〔数
５〕で表わされるα(111)+(220)が、下記式〔数６〕を
満足することを特徴とする（１）に記載のセミテンショ
ンマスク用Fe-Ni系合金。
セミテンションマスクとして架張する応力をσN/mm2と
すると、最終冷間圧延後の板表面における下記式〔数
５〕で表わされるα(111)+(220)が、下記式〔数６〕を
満足することを特徴とする（１）に記載のセミテンショ
ンマスク用Fe-Ni系合金。
【数５】
【数６】
【００１１】（３）Siを0.005%以上0.20%以下、Alを0.0
05%以上0.030%以下含有する（１）〜（２）に記載のセ
ミテンションマスク用低熱膨張Fe-Ni系合金。
05%以上0.030%以下含有する（１）〜（２）に記載のセ
ミテンションマスク用低熱膨張Fe-Ni系合金。
【００１２】（４）不可避的不純物のうち、Cが0.010%
以下、Pが0.015%以下、Sが0.010%以下であることを特徴
とする（１）〜（３）に記載のセミテンションマスク用
Fe-Ni系合金。
以下、Pが0.015%以下、Sが0.010%以下であることを特徴
とする（１）〜（３）に記載のセミテンションマスク用
Fe-Ni系合金。
【００１３】（５）上記（１）〜（４）のFe-Ni系合金
を用いたことを特徴とするセミテンションマスク。
を用いたことを特徴とするセミテンションマスク。
【００１４】（６）上記（５）のセミテンションマスク
を用いることを特徴とするカラーブラウン管。
を用いることを特徴とするカラーブラウン管。
【００１５】すなわち、本発明はFe-Ni系合金の(111)集
合度が1%未満のプレスマスク用インバー金属条から、グ
リッドの長手方向が、圧延平行方向に対して0度〜45度
までの5度間隔になるようにエッチングしてマスクを作
成し、640℃で黒化処理し、100N/mm2で架張して、グリ
ッドを通過するビームのドリフト量を調べるとともに、
圧延平行方向に対して0度〜45度の角度で短冊形の試験
片を切り出し、100N/mm2で架張して最大磁場3183A/mの
ヒステリシス曲線を測定し、比透磁率μBr/Hcを計算し
たところ、比透磁率μBr/Hcが2400以上あればビームの
ドリフトが満足できる程度に抑えられることがわかっ
た。 そして、圧延面の(111)集合度と(220)集合度の和を変え
ることによっても、(111)集合度が1%未満の条からの採
取角度を変えた場合と同様に磁気シールド性を確保でき
ることがわかった。
合度が1%未満のプレスマスク用インバー金属条から、グ
リッドの長手方向が、圧延平行方向に対して0度〜45度
までの5度間隔になるようにエッチングしてマスクを作
成し、640℃で黒化処理し、100N/mm2で架張して、グリ
ッドを通過するビームのドリフト量を調べるとともに、
圧延平行方向に対して0度〜45度の角度で短冊形の試験
片を切り出し、100N/mm2で架張して最大磁場3183A/mの
ヒステリシス曲線を測定し、比透磁率μBr/Hcを計算し
たところ、比透磁率μBr/Hcが2400以上あればビームの
ドリフトが満足できる程度に抑えられることがわかっ
た。 そして、圧延面の(111)集合度と(220)集合度の和を変え
ることによっても、(111)集合度が1%未満の条からの採
取角度を変えた場合と同様に磁気シールド性を確保でき
ることがわかった。
【００１６】つまりは、本発明者らは、Fe-Ni系合金に
おける圧延面の(111)集合度と(220)集合度との和を制御
することで、磁気シールド性を確保してビームドリフト
による色ずれ発生を抑制できることを見出した。それ
は、マスクの黒化処理温度とセミテンションマスクへの
架張の応力に応じて制御される。
おける圧延面の(111)集合度と(220)集合度との和を制御
することで、磁気シールド性を確保してビームドリフト
による色ずれ発生を抑制できることを見出した。それ
は、マスクの黒化処理温度とセミテンションマスクへの
架張の応力に応じて制御される。
【００１７】次に本発明の限定理由を述べる。 Ni：Niは36%より少なく、あるいは多くても熱膨張係数
が高くなり色純度の低下につながる。Niが34%より少なく
なると、熱膨張係数が急激に大きくなる以外に、軟化温
度も低くなり黒化処理後の耐力が下がり、架張した時の
クリープ伸びが大きくなり易い。よってNiの下限を34%と
した。 また、Niが36%を超えると熱膨張係数が大きくなるが、
軟化温度が高くなるために黒化処理後の耐力の低下が小
さく、架張力を大きくして熱膨張によるドーミング特性
劣化を防ぐことができる。さらにNiが多いほど磁気特性
は良くなる。しかしながら、Niが45%より多くなると熱膨
張係数で軟鋼との差が小さくなるためにコストも考慮す
るとFe-Ni系合金をセミテンションマスク用材料として
使用するメリットがなくなる。よってその成分範囲を34%
以上45%以下とする。 Mn：Mnは熱間加工性を阻害する不純物として含まれるS
を無害化させるのに必要である。そしてMnが0.01%より少
ないとこの効果がなく、0.5%を超えるとエッチング性を
阻害し、熱膨張係数が大きくなる。よって、その成分範
囲を0.01%以上0.5%以下とするが、エッチング性と熱膨
張特性をより良くするのに好ましい範囲は、0.01%以上
0.1%以下である。
が高くなり色純度の低下につながる。Niが34%より少なく
なると、熱膨張係数が急激に大きくなる以外に、軟化温
度も低くなり黒化処理後の耐力が下がり、架張した時の
クリープ伸びが大きくなり易い。よってNiの下限を34%と
した。 また、Niが36%を超えると熱膨張係数が大きくなるが、
軟化温度が高くなるために黒化処理後の耐力の低下が小
さく、架張力を大きくして熱膨張によるドーミング特性
劣化を防ぐことができる。さらにNiが多いほど磁気特性
は良くなる。しかしながら、Niが45%より多くなると熱膨
張係数で軟鋼との差が小さくなるためにコストも考慮す
るとFe-Ni系合金をセミテンションマスク用材料として
使用するメリットがなくなる。よってその成分範囲を34%
以上45%以下とする。 Mn：Mnは熱間加工性を阻害する不純物として含まれるS
を無害化させるのに必要である。そしてMnが0.01%より少
ないとこの効果がなく、0.5%を超えるとエッチング性を
阻害し、熱膨張係数が大きくなる。よって、その成分範
囲を0.01%以上0.5%以下とするが、エッチング性と熱膨
張特性をより良くするのに好ましい範囲は、0.01%以上
0.1%以下である。
【００１８】Si：Siは脱酸剤として添加されるが、Siが
多いとエッチング性を大きく阻害することから少ないほ
うが好ましい。しかしながら、小さいながらもクリープ
特性を改善する効果があることからその成分範囲を0.01
%以上0.20%以下とする。ただし、エッチング性をより良
くするのに好ましい範囲は0.03%以下である。 Al：Alは脱酸材として使用され、Alを多く固溶させると
クリープ特性を改善する効果がある。しかしながら、Al
含有量を多くするとアルミナを形成して、エッチング性
を阻害するとともに、冷間圧延においてアルミナ起因の
表面疵が発生する。よってその成分範囲を0.005%以上0.0
30%以下とする。
多いとエッチング性を大きく阻害することから少ないほ
うが好ましい。しかしながら、小さいながらもクリープ
特性を改善する効果があることからその成分範囲を0.01
%以上0.20%以下とする。ただし、エッチング性をより良
くするのに好ましい範囲は0.03%以下である。 Al：Alは脱酸材として使用され、Alを多く固溶させると
クリープ特性を改善する効果がある。しかしながら、Al
含有量を多くするとアルミナを形成して、エッチング性
を阻害するとともに、冷間圧延においてアルミナ起因の
表面疵が発生する。よってその成分範囲を0.005%以上0.0
30%以下とする。
【００１９】C： Cは炭化物を形成するが、Cが0.010%を
超えると炭化物が過剰に生成しこれがエッチング性を阻
害する。よってCを0.010%以下とするが、固溶Cもエッチ
ング性に悪影響を及ぼすためCはできるだけ少ないほう
がよく、Cのさらに好ましい範囲は0.005%以下である。 P：Pは過剰に含有されるとエッチング不良の原因とな
る。このため含有量を0.015%以下とする必要がある。 S：Sは0.010%を超えると熱間加工性を阻害するととも
に、硫化物系介在物が多くなってエッチング性に悪影響
を及ぼす。このため上限を0.010%以下とする。
超えると炭化物が過剰に生成しこれがエッチング性を阻
害する。よってCを0.010%以下とするが、固溶Cもエッチ
ング性に悪影響を及ぼすためCはできるだけ少ないほう
がよく、Cのさらに好ましい範囲は0.005%以下である。 P：Pは過剰に含有されるとエッチング不良の原因とな
る。このため含有量を0.015%以下とする必要がある。 S：Sは0.010%を超えると熱間加工性を阻害するととも
に、硫化物系介在物が多くなってエッチング性に悪影響
を及ぼす。このため上限を0.010%以下とする。
【００２０】圧延面の(111)集合度と(220)集合度との和
α(111)+(220)：α(111)+(220)は、圧延平行方向および
圧延方向に対して90度の方向に架張した時の磁気特性に
大きく影響し、α(111)+(220)が小さいと、架張したと
きの比透磁率が低くなり磁気シールド性が悪くなる。磁
気シールド性を確保するためにα(111)+(220)は15%以上
とする。一方、α(111)+(220)を大きくするためには、冷
間圧延の加工度を小さくする必要があり、焼鈍回数が増
えるためにコスト高になり、マスクを黒化処理する温度
が高いと同じα(111)+(220)でも比透磁率が高くなる。よ
ってα(111)+(2 20)は、実験によって黒化処理温度T℃と
架張の応力σN/mm2との関係から得た下記式〔数７〕の
範囲とすることが望ましい。 ここで、α(111)+(220)は下記式〔数８〕で計算される
値であって次のようにして規定した。
α(111)+(220)：α(111)+(220)は、圧延平行方向および
圧延方向に対して90度の方向に架張した時の磁気特性に
大きく影響し、α(111)+(220)が小さいと、架張したと
きの比透磁率が低くなり磁気シールド性が悪くなる。磁
気シールド性を確保するためにα(111)+(220)は15%以上
とする。一方、α(111)+(220)を大きくするためには、冷
間圧延の加工度を小さくする必要があり、焼鈍回数が増
えるためにコスト高になり、マスクを黒化処理する温度
が高いと同じα(111)+(220)でも比透磁率が高くなる。よ
ってα(111)+(2 20)は、実験によって黒化処理温度T℃と
架張の応力σN/mm2との関係から得た下記式〔数７〕の
範囲とすることが望ましい。 ここで、α(111)+(220)は下記式〔数８〕で計算される
値であって次のようにして規定した。
【数７】
【数８】
【００２１】Ni:36.1%、Mn:0.25%、残鉄と不可避的不純
物からなるFe-Ni合金を真空溶解で溶製し、熱間鍛造と
熱間圧延で3mm厚みとした後、酸洗を行いスケールを除
去した。次に(111)集合度と(220)集合度との和α
(111)+(220)を変えるために間に1回または2回の焼鈍を
行ったものを含めて、数種類の加工度で冷間圧延で0.13
mm厚みにし、これらの材料を再結晶焼鈍後に冷間にて0.
1mm厚みまで圧延した。そして、これらの圧延面の結晶方
位をX線回折で測定してα(111)+(220)を求めるととも
に、580℃、600℃、640℃で15分間黒化処理した後、100
N/mm2、150N/mm2、200N/mm2の引張応力を圧延平行方向
に負荷して、最大磁場3183A/mのヒステリシス曲線から
比透磁率μBr/Hcを測定した。
物からなるFe-Ni合金を真空溶解で溶製し、熱間鍛造と
熱間圧延で3mm厚みとした後、酸洗を行いスケールを除
去した。次に(111)集合度と(220)集合度との和α
(111)+(220)を変えるために間に1回または2回の焼鈍を
行ったものを含めて、数種類の加工度で冷間圧延で0.13
mm厚みにし、これらの材料を再結晶焼鈍後に冷間にて0.
1mm厚みまで圧延した。そして、これらの圧延面の結晶方
位をX線回折で測定してα(111)+(220)を求めるととも
に、580℃、600℃、640℃で15分間黒化処理した後、100
N/mm2、150N/mm2、200N/mm2の引張応力を圧延平行方向
に負荷して、最大磁場3183A/mのヒステリシス曲線から
比透磁率μBr/Hcを測定した。
【００２２】図1〜３に引張応力と黒化処理温度別に最
終冷間圧延後の圧延面のα(111)+(22 0)と比透磁率μ
Br/Hcとの関係を示す。そして、引張応力と黒化処理温度
との組み合わせにおいて、ビームのドリフトが生じない
と判断した比透磁率μBr/Hcが2400となる最終冷間圧延
後の圧延面のα(111)+(220)を求めると表1のようになっ
た。従って、黒化処理温度が640℃以下（640℃を超える
と軟化温度に近く強度が低くなるため）で、架張応力が
200N/ mm2以下（200N/ mm2を超えると耐力に近くクリー
プ伸びが大きくなるため）でのα(111)+(220)は、15%以
上あれば良いことがわかる。さらに、表1の結果をもと
に、黒化処理温度T℃と引張応力σN/mm2との2変数で、
比透磁率μBr/Hcが2400以上となるα(111)+(220)を表わ
す近似式を求めると下記式〔数９〕の左辺を得た。
終冷間圧延後の圧延面のα(111)+(22 0)と比透磁率μ
Br/Hcとの関係を示す。そして、引張応力と黒化処理温度
との組み合わせにおいて、ビームのドリフトが生じない
と判断した比透磁率μBr/Hcが2400となる最終冷間圧延
後の圧延面のα(111)+(220)を求めると表1のようになっ
た。従って、黒化処理温度が640℃以下（640℃を超える
と軟化温度に近く強度が低くなるため）で、架張応力が
200N/ mm2以下（200N/ mm2を超えると耐力に近くクリー
プ伸びが大きくなるため）でのα(111)+(220)は、15%以
上あれば良いことがわかる。さらに、表1の結果をもと
に、黒化処理温度T℃と引張応力σN/mm2との2変数で、
比透磁率μBr/Hcが2400以上となるα(111)+(220)を表わ
す近似式を求めると下記式〔数９〕の左辺を得た。
【数９】
【００２３】
【表１】
【００２４】また、最終冷間圧延後の圧延面のα
(111)+(220)を小さくするには、最終焼鈍前以前の冷間
圧延加工度を小さくする必要があるが、加工度が小さい
とその後の再結晶焼鈍で混粒になる。混粒になっていな
い限界の加工度で製造した場合の最終冷間圧延後の圧延
面のα(111)+(220)の上限は55%となった。これで下記式
〔数１０〕の右辺が決まり、最終的に下記式〔数１１〕
を得た。
(111)+(220)を小さくするには、最終焼鈍前以前の冷間
圧延加工度を小さくする必要があるが、加工度が小さい
とその後の再結晶焼鈍で混粒になる。混粒になっていな
い限界の加工度で製造した場合の最終冷間圧延後の圧延
面のα(111)+(220)の上限は55%となった。これで下記式
〔数１０〕の右辺が決まり、最終的に下記式〔数１１〕
を得た。
【数１０】
【数１１】
【００２５】
【実施例】以下に本発明を詳しく説明する。 表2に示した成分を有するFe-Ni系合金を溶製後、鍛造お
よび熱間圧延にて3mm厚みにした後、酸洗を行いスケー
ルを除去した。
よび熱間圧延にて3mm厚みにした後、酸洗を行いスケー
ルを除去した。
【００２６】
【表２】
【００２７】次にα(111)+(220)を変えるために間に1回
または2回の焼鈍を行ったものを含めて、数種類の加工
度で0.13mm厚みにし、これらの材料を再結晶焼鈍後に冷
間にて0.1mm厚みまで圧延した。そして、これらの圧延面
の結晶方位をX線回折で測定してα(111)+(220)を測定す
るとともに、640℃で15分間黒化処理した後、100N/mm2
の引張応力を負荷して、3183A/mの交流磁場中で比透磁
率μBr/Hcを測定した。 また、460℃に加熱しながら100N/mm2の引張り応力を負
荷して、1時間後のクリープ伸びを測定した。引張方向は
圧延平行方向とした。
または2回の焼鈍を行ったものを含めて、数種類の加工
度で0.13mm厚みにし、これらの材料を再結晶焼鈍後に冷
間にて0.1mm厚みまで圧延した。そして、これらの圧延面
の結晶方位をX線回折で測定してα(111)+(220)を測定す
るとともに、640℃で15分間黒化処理した後、100N/mm2
の引張応力を負荷して、3183A/mの交流磁場中で比透磁
率μBr/Hcを測定した。 また、460℃に加熱しながら100N/mm2の引張り応力を負
荷して、1時間後のクリープ伸びを測定した。引張方向は
圧延平行方向とした。
【００２８】表3に最終冷間圧延後の圧延面の(111)集合
度と(220)集合度との和α(111)+(22 0)、比透磁率μ
Br/Hc、クリープ伸び、30℃から100℃の平均熱膨張係
数、エッチング性としてエッチング面の状態を示す。
度と(220)集合度との和α(111)+(22 0)、比透磁率μ
Br/Hc、クリープ伸び、30℃から100℃の平均熱膨張係
数、エッチング性としてエッチング面の状態を示す。
【００２９】
【表３】
【００３０】No.1からNo.6は、請求項1〜請求項４を満
たすものである。これらは、比透磁率μBr/Hcがビームド
リフトを抑えることが可能な2400以上あって磁気シール
ド性に優れ、クリープ伸びも0.07%未満と小さく、エッ
チング面も良好である。熱膨張係数は、Ni含有量に応じ
て大きくなっているが、架張力の調整でドーミング特性
の劣化を防ぐことができる。
たすものである。これらは、比透磁率μBr/Hcがビームド
リフトを抑えることが可能な2400以上あって磁気シール
ド性に優れ、クリープ伸びも0.07%未満と小さく、エッ
チング面も良好である。熱膨張係数は、Ni含有量に応じ
て大きくなっているが、架張力の調整でドーミング特性
の劣化を防ぐことができる。
【００３１】一方、No.7〜No.9においては、比透磁率μ
Br/Hcは4000を超えて良好であるが、最終冷間圧延後の
圧延面のα(111)+(220)が請求項２で規定した55%を超え
ているためにNo.1〜No.6までのクリープ伸びよりも大き
い。従って、これ以上架張力を大きくした場合には、セ
ミテンションマスクとした時にマスクしわが発生するこ
とが懸念される。
Br/Hcは4000を超えて良好であるが、最終冷間圧延後の
圧延面のα(111)+(220)が請求項２で規定した55%を超え
ているためにNo.1〜No.6までのクリープ伸びよりも大き
い。従って、これ以上架張力を大きくした場合には、セ
ミテンションマスクとした時にマスクしわが発生するこ
とが懸念される。
【００３２】No.10〜No.13においては、比透磁率μ
Br/Hcは2400を超えており、クリープ伸びもNo.1〜No.6
のクリープ伸びと同じである。しかしながら、エッチン
グ面に微少な凹凸が存在していた。その微少な凹凸の原
因は、No.10では鉄炭化物、No.11では硫化マンガン(Mn
S)、No.12では二酸化珪素(SiO2）、 No.13ではアルミナ
(Al 2O3）と考えられる。 これらの凹凸はエッチング条件（液比重、液温等）に左
右されるので、その条件によっては、エッチング面の状
態が問題となることが懸念される。
Br/Hcは2400を超えており、クリープ伸びもNo.1〜No.6
のクリープ伸びと同じである。しかしながら、エッチン
グ面に微少な凹凸が存在していた。その微少な凹凸の原
因は、No.10では鉄炭化物、No.11では硫化マンガン(Mn
S)、No.12では二酸化珪素(SiO2）、 No.13ではアルミナ
(Al 2O3）と考えられる。 これらの凹凸はエッチング条件（液比重、液温等）に左
右されるので、その条件によっては、エッチング面の状
態が問題となることが懸念される。
【００３３】No.14はMnが請求項１で規定した範囲を超
えるために、エッチング面にMnSのエッチング痕が多数
存在する。このMnSは延性を有するために圧延で長く伸ば
される。これらは多数あるために、スロット状やドット
状のビーム透過孔の壁面に存在し、その形状を劣化させ
る。一方、No.15はMnが請求項１で規定した範囲よりも少
ないために、材料中に含まれるSが熱間延性を劣化させ
ることを無害化できず、熱間加工時に割れやへげ疵が多
数発生するため、工業的に製造することが困難である。
えるために、エッチング面にMnSのエッチング痕が多数
存在する。このMnSは延性を有するために圧延で長く伸ば
される。これらは多数あるために、スロット状やドット
状のビーム透過孔の壁面に存在し、その形状を劣化させ
る。一方、No.15はMnが請求項１で規定した範囲よりも少
ないために、材料中に含まれるSが熱間延性を劣化させ
ることを無害化できず、熱間加工時に割れやへげ疵が多
数発生するため、工業的に製造することが困難である。
【００３４】No.16とNo.17とは、Niが請求項１で規定し
た範囲から外れるために、熱膨張係数が大きくセミテン
ションマスク用材料として不適当である。さらに、No.17
はNiが少ないためにクリープ伸びが非常に大きい。
た範囲から外れるために、熱膨張係数が大きくセミテン
ションマスク用材料として不適当である。さらに、No.17
はNiが少ないためにクリープ伸びが非常に大きい。
【００３５】No.18〜No.21は、α(111)+(220)が請求項
２で規定した15%未満であるために、比透磁率μBr/Hcが
2400未満であり、磁気シールド性が不十分である。さら
に、No.20はエッチング面に燐偏析の影響と考えられる
エッチング痕が存在しており、これはエッチング条件に
よっては、凹凸が大きくなって透過するビームの散乱に
影響を及ぼすことが懸念される。
２で規定した15%未満であるために、比透磁率μBr/Hcが
2400未満であり、磁気シールド性が不十分である。さら
に、No.20はエッチング面に燐偏析の影響と考えられる
エッチング痕が存在しており、これはエッチング条件に
よっては、凹凸が大きくなって透過するビームの散乱に
影響を及ぼすことが懸念される。
【００３６】なお、本発明の実施例では、最終冷間圧延
後に歪み取り焼鈍を行っていないが、歪み取りを行って
もα(111)+(220)はほとんど変わらず、従って、磁気特
性も変化しないことを確認している。ただし、歪み取り
を行わない場合は、エッチングでドット状またはスロッ
ト状のマスクに加工した際に残留応力分布のバランスが
崩れ、それが黒化処理で解放されて形状が劣化する場合
があるので、架張する作業上は歪取焼鈍を行い黒化処理
で形状が変化しないようにすることが望ましい。さら
に、必要に応じてテンションレベラー等による形状矯正
を実施する場合があるが、当然これらの工程が入っても
本特許の有効性は問題なく、本特許請求の範囲に含まれ
るのは言うまでもない。
後に歪み取り焼鈍を行っていないが、歪み取りを行って
もα(111)+(220)はほとんど変わらず、従って、磁気特
性も変化しないことを確認している。ただし、歪み取り
を行わない場合は、エッチングでドット状またはスロッ
ト状のマスクに加工した際に残留応力分布のバランスが
崩れ、それが黒化処理で解放されて形状が劣化する場合
があるので、架張する作業上は歪取焼鈍を行い黒化処理
で形状が変化しないようにすることが望ましい。さら
に、必要に応じてテンションレベラー等による形状矯正
を実施する場合があるが、当然これらの工程が入っても
本特許の有効性は問題なく、本特許請求の範囲に含まれ
るのは言うまでもない。
【００３７】
【発明の効果】本発明のFe-Ni系合金は優れた磁気特性
を備えるのでビームドリフトがなく色ずれのないカラー
ブラウン管用材料として好適である。特に本発明からな
るセミテンションマスクは、カラーブラウン管の画面の
平面化を可能とするのに好適である。
を備えるのでビームドリフトがなく色ずれのないカラー
ブラウン管用材料として好適である。特に本発明からな
るセミテンションマスクは、カラーブラウン管の画面の
平面化を可能とするのに好適である。
【図１】100N/mm2の引張応力を負荷した黒化処理後の比
透磁率との関係を示すグラフである。
透磁率との関係を示すグラフである。
【図２】150N/mm2の引張応力を負荷した黒化処理後の比
透磁率との関係を示すグラフである。
透磁率との関係を示すグラフである。
【図３】200N/mm2の引張応力を負荷した黒化処理後の比
透磁率との関係を示すグラフである。
透磁率との関係を示すグラフである。
Claims (7)
- 【請求項１】Niを34質量百分率（以下%とする）以上45%
以下、Mnを0.01%以上0.5%以下、残部Feおよび不可避的
不純物から成るFe-Ni系合金で、最終冷間圧延後の板表
面における下記式〔数１〕で表わされる(111)集合度と
(220)集合度の和α(1 11)+(220)が15%以上であることを
特徴とするセミテンションマスク用Fe-Ni系合金。 【数１】 - 【請求項２】マスクを黒化処理する温度をT℃、セミテ
ンションマスクとして架張する応力をσN/mm2とする
と、最終冷間圧延後の板表面における下記式〔数２〕で
表わされるα(111)+(220)が、下記式〔数３〕を満足す
ることを特徴とする請求項１に記載のセミテンションマ
スク用Fe-Ni系合金。 【数２】 【数３】 - 【請求項３】Siを0.005%以上0.20%以下、Alを0.005%以
上0.030%以下含有する請求項1〜請求項２に記載のセミ
テンションマスク用低熱膨張Fe-Ni系合金。 - 【請求項４】不可避的不純物のうち、Cが0.010%以下、P
が0.015%以下、Sが0.010%以下であることを特徴とする
請求項１〜請求項３に記載のセミテンションマスク用Fe
-Ni系合金。 - 【請求項５】最終冷間圧延後に歪取焼鈍を行うことを特
徴とする請求項１〜請求項４に記載のセミテンションマ
スク用Fe-Ni系合金。 - 【請求項６】請求項１〜請求項５のFe-Ni系合金を用い
たことを特徴とするセミテンションマスク。 - 【請求項７】請求項６のセミテンションマスクを用いる
ことを特徴とするカラーブラウン管。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33393499A JP2001152292A (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 |
| TW089114992A TW460592B (en) | 1999-11-25 | 2000-07-27 | Fe-Ni alloy for semi-tension mask having excellent magnetic property, semi-tension mask and color cathode ray tube using the same |
| US10/148,368 US6600259B1 (en) | 1999-11-25 | 2000-08-14 | Fe-Ni alloy with excellent magnetic properties for semi-tension mask, semi-tension mask of the alloy, and color picture tube using the mask |
| PCT/JP2000/005446 WO2001038594A1 (fr) | 1999-11-25 | 2000-08-14 | ALLIAGE A BASE DE Fe-Ni POUR MASQUE DEMI-TENSION AUX REMARQUABLES PROPRIETES MAGNETIQUES, MASQUE DEMI-TENSION ET TUBE CATHODIQUE COULEUR L'UTILISANT |
| EP00951990A EP1253211A4 (en) | 1999-11-25 | 2000-08-14 | FE-Ni-BASED ALLOY FOR HALF-VOLTAGE MASK WITH REMARKABLE MAGNETIC PROPERTIES, HALF-VOLTAGE MASK AND COLOR CATHODIC TUBE USING THE SAME |
| KR1020000047527A KR20010050106A (ko) | 1999-11-25 | 2000-08-17 | 자기특성이 우수한 세미텐션마스크용 Ｆｅ-Ｎｉ계 합금그리고 그것을 이용한 세미텐션마스크 및 컬러브라운관 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33393499A JP2001152292A (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001152292A true JP2001152292A (ja) | 2001-06-05 |
Family
ID=18271617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33393499A Pending JP2001152292A (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6600259B1 (ja) |
| EP (1) | EP1253211A4 (ja) |
| JP (1) | JP2001152292A (ja) |
| KR (1) | KR20010050106A (ja) |
| TW (1) | TW460592B (ja) |
| WO (1) | WO2001038594A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2371817A (en) * | 2000-05-31 | 2002-08-07 | Ingen Process Ltd | Method of providing artificial lift in a well |
| KR20030064936A (ko) * | 2002-01-29 | 2003-08-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 인장 마스크 방식 음극선관 |
| KR200286480Y1 (ko) * | 2002-04-22 | 2002-08-22 | 유닉스전자주식회사 | 헤어드라이어의 전자기파 차폐 구조 |
| CN110629127B (zh) * | 2019-11-22 | 2020-02-18 | 东北大学 | 一种因瓦合金箔材的制造方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0754671B2 (ja) * | 1985-10-30 | 1995-06-07 | 株式会社東芝 | シャドウマスク原板の製造方法、シャドウマスク原板、シャドウマスクの製造方法、およびシャドウマスク |
| JP2702731B2 (ja) * | 1988-03-30 | 1998-01-26 | 日立金属株式会社 | エッチング加工性ならびに耐応力腐食割れ性にすぐれたＦｅ−Ｎｉ合金 |
| JP2567159B2 (ja) * | 1991-05-17 | 1996-12-25 | 日本冶金工業株式会社 | 黒化処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク材 |
| JPH0657382A (ja) * | 1992-08-11 | 1994-03-01 | Toshiba Corp | シャドウマスク用素材 |
| JPH06264190A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-20 | Toshiba Corp | シャドウマスク用素材 |
| JPH07141997A (ja) | 1993-11-15 | 1995-06-02 | Hitachi Ltd | スロット型シャドウマスク構体 |
| JP3259552B2 (ja) * | 1994-12-12 | 2002-02-25 | 三菱電機株式会社 | カラーブラウン管用色選別電極構体 |
| JP3471465B2 (ja) * | 1995-01-27 | 2003-12-02 | 日新製鋼株式会社 | プレス性及びエッチング性に優れたシャドウマスク用材料 |
| JPH0941099A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-02-10 | Nikko Kinzoku Kk | 熱間加工性及びエッチング穿孔性に優れた電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金素材 |
| JPH09157799A (ja) | 1995-10-05 | 1997-06-17 | Hitachi Metals Ltd | エッチング性に優れたＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク素材ならびに成形性に優れたＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク材、およびシャドウマスクの製造方法 |
| JP3518707B2 (ja) | 1995-11-29 | 2004-04-12 | 日立金属株式会社 | 被加工性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板およびその製造方法 |
| JP3222062B2 (ja) | 1996-05-21 | 2001-10-22 | 日鉱金属株式会社 | エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材 |
| JPH09316604A (ja) | 1996-05-29 | 1997-12-09 | Nikko Kinzoku Kk | スジムラの発生を抑制したＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材 |
| JP3434158B2 (ja) * | 1997-02-12 | 2003-08-04 | 日立金属株式会社 | エッチング性に優れたＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク素材およびプレス成形性に優れたＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク材 |
| JP2001131709A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-15 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | セミテンションマスク用低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 |
-
1999
- 1999-11-25 JP JP33393499A patent/JP2001152292A/ja active Pending
-
2000
- 2000-07-27 TW TW089114992A patent/TW460592B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-08-14 EP EP00951990A patent/EP1253211A4/en not_active Withdrawn
- 2000-08-14 WO PCT/JP2000/005446 patent/WO2001038594A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2000-08-14 US US10/148,368 patent/US6600259B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-17 KR KR1020000047527A patent/KR20010050106A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW460592B (en) | 2001-10-21 |
| WO2001038594A1 (fr) | 2001-05-31 |
| US6600259B1 (en) | 2003-07-29 |
| KR20010050106A (ko) | 2001-06-15 |
| EP1253211A1 (en) | 2002-10-30 |
| EP1253211A4 (en) | 2006-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2109839C1 (ru) | Холоднокатаный стальной лист для теневой маски и способ его изготовления | |
| JP2001152292A (ja) | 磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 | |
| EP1335034B1 (en) | Low-carbon steel sheet for mask of tension type cathode ray tube with bridge and mask and cathode ray tube | |
| JPWO2001059169A1 (ja) | プレス成形型完全フラットマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金並びにそれを用いる完全フラットマスクおよびカラーブラウン管 | |
| JP3557395B2 (ja) | プレス成形型フラットマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金材の製造方法 | |
| JP3854121B2 (ja) | 耐食性に優れるシャドウマスク素材用Ｆｅ−Ｎｉ系合金およびシャドウマスク材料 | |
| KR100479778B1 (ko) | 내낙하충격변형성 및 저열팽창성 철-니켈계 합금재의열간압연균열을 방지하는 제조방법 | |
| KR100388285B1 (ko) | 세미텐션마스크용 저열팽창Ｆｅ-Ｎｉ계 합금, 이를 이용한세미텐션마스크 및 상기 세미텐션마스크를 사용하는컬러수상관 | |
| JP3467020B2 (ja) | プレス成形型フラットマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いるフラットマスクおよびカラーブラウン管 | |
| JP3892312B2 (ja) | ブラウン管フレーム用高強度鋼板の製造方法 | |
| JP2004331997A (ja) | シャドウマスク用高強度Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金 | |
| EP1122327B1 (en) | Aperture grill material for color picture tube, production method thereof, aperture grill and picture tube | |
| JP3469882B2 (ja) | エッチング穿孔性に優れたフラットマスク用高強度合金条 | |
| JPS60181252A (ja) | 消磁特性に優れたａ１キルド冷延鋼板及びその製造方法並びにそれを用いたシヤドウマスク及びカラ−テレビ | |
| JP2004018959A (ja) | 強度および磁気特性に優れた高強度低熱膨張合金薄板およびその製造方法 | |
| JP2001131715A (ja) | セミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 | |
| US20030047246A1 (en) | Material for tension type color-selective device for color cathode-ray tube and method of producing same | |
| JPH01264143A (ja) | シャドウマスク及びその製造方法 | |
| JP2004156096A (ja) | 磁気シールド性に優れたテンションタイプのシャドウマスク用合金薄板 | |
| JP2005187886A (ja) | シャドウマスク用高強度Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金条 | |
| JP2003193140A (ja) | 磁気特性に優れたテンションマスク用鋼板の製造方法 | |
| JPH01111819A (ja) | シャドウマスクの製造方法 | |
| JP2002012949A (ja) | 強度特性に優れた架張型シャドウマスク用素材およびアパーチャグリル用素材と、その用いてなるシャドウマスクおよびアパーチャグリル、受像管 | |
| WO2003085148A1 (fr) | Feuille mince d'alliage a faible dilatation thermique et son procede de fabrication | |
| JP2002003948A (ja) | 耐高温クリープ性に優れたテンションマスク用鋼板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050920 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051117 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060427 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060822 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070116 |