JP3222062B2 - エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材 - Google Patents
エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、微細エッチングに
より加工されるシャドウマスクに用いられるＦｅ−Ｎｉ
系合金シャドウマスク素材、特にシャドウマスク素材の
エッチング加工により形成する電子線透過孔の穿孔性に
優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材に関するも
のである。本発明はまた、良好な真円度を有する電子線
透過孔を備えるシャドウマスク素材に関する。
より加工されるシャドウマスクに用いられるＦｅ−Ｎｉ
系合金シャドウマスク素材、特にシャドウマスク素材の
エッチング加工により形成する電子線透過孔の穿孔性に
優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材に関するも
のである。本発明はまた、良好な真円度を有する電子線
透過孔を備えるシャドウマスク素材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カラーブラウン管用シャドウマス
クには一般に軟鋼が使用されていた。しかし、ブラウン
管を連続使用すると、シャドウマスクは電子線の照射に
よって温度が上昇し、熱膨張によって蛍光体と電子線の
照射位置が一致しなくなり色ズレを生じる。そこで、近
年、カラーブラウン管用のシャドウマスクの分野でも、
色ズレの観点から低熱膨張係数の「３６合金」と呼ばれ
るＦｅ−Ｎｉ系合金が使用されつつある。
クには一般に軟鋼が使用されていた。しかし、ブラウン
管を連続使用すると、シャドウマスクは電子線の照射に
よって温度が上昇し、熱膨張によって蛍光体と電子線の
照射位置が一致しなくなり色ズレを生じる。そこで、近
年、カラーブラウン管用のシャドウマスクの分野でも、
色ズレの観点から低熱膨張係数の「３６合金」と呼ばれ
るＦｅ−Ｎｉ系合金が使用されつつある。
【０００３】こうしたシャドウマスクは、一般的に塩化
第二鉄水溶液を使用しての周知のエッチングにより電子
線の透過孔を形成する。しかしながら、Ｆｅ−Ｎｉ系合
金は従来の軟鋼に比べてエッチング穿孔性が劣ることが
問題となっていた。
第二鉄水溶液を使用しての周知のエッチングにより電子
線の透過孔を形成する。しかしながら、Ｆｅ−Ｎｉ系合
金は従来の軟鋼に比べてエッチング穿孔性が劣ることが
問題となっていた。
【０００４】これに対して、結晶粒が小さいほどエッチ
ング後の孔形状及び孔壁面が平滑になり、マスクの品質
が向上することは従来より知られており、特開昭５９−
１４９６３８号に記載されるように、結晶粒を微細化す
るとともに圧延面への｛１００｝集積度を高めることで
エッチングの均一性をはかることが行われていた。
ング後の孔形状及び孔壁面が平滑になり、マスクの品質
が向上することは従来より知られており、特開昭５９−
１４９６３８号に記載されるように、結晶粒を微細化す
るとともに圧延面への｛１００｝集積度を高めることで
エッチングの均一性をはかることが行われていた。
【０００５】しかし、最近になってシャドウマスクの高
精細化が進み、エッチング壁面の平滑性が要求されると
ともに、生産性を上げるためにエッチング速度の向上が
要求されるようになると、｛１００｝集積度の高い材料
では透過孔の形状が真円にならないといった新たな問題
を生じるようになった。
精細化が進み、エッチング壁面の平滑性が要求されると
ともに、生産性を上げるためにエッチング速度の向上が
要求されるようになると、｛１００｝集積度の高い材料
では透過孔の形状が真円にならないといった新たな問題
を生じるようになった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】｛１００｝集積度を高
くした場合に透過孔の形状が真円にならなくなる理由
は、次のように考えることができる。面心立方晶である
Ｆｅ−Ｎｉ系合金はエッチング速度の最も遅い面（最密
面）である（１１１）面が残るようにエッチングが進行
する。従って、圧延面に（１００）面を揃えると、圧延
方向に対して４５度の角度を持つ四辺を底面とする逆四
角錐の形にエッチングされてしまう。これに対して、特
開平５−３１１３５７のように、｛１００｝集積度を低
くしてエッチングをランダムに進行させる方法が提案さ
れており、透過孔の真円度を主とした形状の均一性を向
上させるには一応の効果が得られるようになった。しか
しながら、｛１００｝集積度を低くするには、焼鈍間の
加工度を小さくしなければならず、焼鈍回数が増えるこ
とから生産コストがかかるといった問題があり、加工度
を小さくする方法によらずに｛１００｝集積度を低くで
きるシャドウマスク素材が望まれていた。
くした場合に透過孔の形状が真円にならなくなる理由
は、次のように考えることができる。面心立方晶である
Ｆｅ−Ｎｉ系合金はエッチング速度の最も遅い面（最密
面）である（１１１）面が残るようにエッチングが進行
する。従って、圧延面に（１００）面を揃えると、圧延
方向に対して４５度の角度を持つ四辺を底面とする逆四
角錐の形にエッチングされてしまう。これに対して、特
開平５−３１１３５７のように、｛１００｝集積度を低
くしてエッチングをランダムに進行させる方法が提案さ
れており、透過孔の真円度を主とした形状の均一性を向
上させるには一応の効果が得られるようになった。しか
しながら、｛１００｝集積度を低くするには、焼鈍間の
加工度を小さくしなければならず、焼鈍回数が増えるこ
とから生産コストがかかるといった問題があり、加工度
を小さくする方法によらずに｛１００｝集積度を低くで
きるシャドウマスク素材が望まれていた。
【０００７】このようなことから、本発明が課題とした
のは、加工度を小さくする方法によらずに｛１００｝集
積度を低くできるシャドウマスク素材を開発し、シャド
ウマスクの製造工程における電子線の透過孔のエッチン
グ穿孔性に優れたシャドウマスク素材を提供することで
ある。
のは、加工度を小さくする方法によらずに｛１００｝集
積度を低くできるシャドウマスク素材を開発し、シャド
ウマスクの製造工程における電子線の透過孔のエッチン
グ穿孔性に優れたシャドウマスク素材を提供することで
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を達成すべく、微量成分および不可避的不純物がＦｅ−
Ｎｉ系合金の集合組織に及ぼす影響を詳細に調査した結
果、Ｍｎが０．１０ｗｔ％以下で、エッチング面の結晶
粒度が９．０以上のものは、最終焼鈍前の加工度が８０
％以上の場合にも透過孔の真円度が損なわれず、良好な
エッチング穿孔性を示すとの新しい知見を得た。Ｍｎを
０．１０ｗｔ％以下にすると、｛１００｝集積度を低く
でき、そのため透過孔の真円度が損なわれない。ここで
｛１００｝集積度とは数１で計算した値を言う。
を達成すべく、微量成分および不可避的不純物がＦｅ−
Ｎｉ系合金の集合組織に及ぼす影響を詳細に調査した結
果、Ｍｎが０．１０ｗｔ％以下で、エッチング面の結晶
粒度が９．０以上のものは、最終焼鈍前の加工度が８０
％以上の場合にも透過孔の真円度が損なわれず、良好な
エッチング穿孔性を示すとの新しい知見を得た。Ｍｎを
０．１０ｗｔ％以下にすると、｛１００｝集積度を低く
でき、そのため透過孔の真円度が損なわれない。ここで
｛１００｝集積度とは数１で計算した値を言う。
【０００９】
【数１】
【００１０】本発明は、上記知見事項に基づいてなされ
たものであり、Ｎｉを３０〜４５ｗｔ％含有し、残部Ｆ
ｅ及び不可避的不純物もしくは随伴元素−但しＣ：０．
１０ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．３０ｗｔ％以下、Ａｌ：
０．３０ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｐ：
０．００５ｗｔ％以下−の組成のＦｅ−Ｎｉ系合金から
なり、最終焼鈍前の加工度を８０％以上として圧延する
ことにより製造されたシャドウマスク素材において、Ｍ
ｎを０．１０ｗｔ％以下として｛１００｝集積度を低く
しかつエッチング面の結晶粒度が粒度番号で９．０以上
であり、エッチング穿孔性に優れることを特徴とするシ
ャドウマスク素材を提供する。
たものであり、Ｎｉを３０〜４５ｗｔ％含有し、残部Ｆ
ｅ及び不可避的不純物もしくは随伴元素−但しＣ：０．
１０ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．３０ｗｔ％以下、Ａｌ：
０．３０ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｐ：
０．００５ｗｔ％以下−の組成のＦｅ−Ｎｉ系合金から
なり、最終焼鈍前の加工度を８０％以上として圧延する
ことにより製造されたシャドウマスク素材において、Ｍ
ｎを０．１０ｗｔ％以下として｛１００｝集積度を低く
しかつエッチング面の結晶粒度が粒度番号で９．０以上
であり、エッチング穿孔性に優れることを特徴とするシ
ャドウマスク素材を提供する。
【００１１】本発明はまた、Ｎｉを３０〜４５ｗｔ％含
有し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物もしくは随伴元素−
但しＣ：０．１０ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．３０ｗｔ％以
下、Ａｌ：０．３０ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％
以下、Ｐ：０．００５ｗｔ％以下−の組成のＦｅ−Ｎｉ
系合金からなり、最終焼鈍前の加工度を８０％以上とし
て圧延することにより製造されたシャドウマスク素材を
エッチング穿孔した電子線透過孔を備えるシャドウマス
ク素材において、Ｍｎを０．１０ｗｔ％以下として｛１
００｝集積度を低くしかつエッチング面の結晶粒度が粒
度番号で９．０以上としてエッチング穿孔された、良好
な真円度を有する電子線透過孔を備えることを特徴とす
る電子線透過孔を備えるシャドウマスク素材を提供す
る。
有し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物もしくは随伴元素−
但しＣ：０．１０ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．３０ｗｔ％以
下、Ａｌ：０．３０ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％
以下、Ｐ：０．００５ｗｔ％以下−の組成のＦｅ−Ｎｉ
系合金からなり、最終焼鈍前の加工度を８０％以上とし
て圧延することにより製造されたシャドウマスク素材を
エッチング穿孔した電子線透過孔を備えるシャドウマス
ク素材において、Ｍｎを０．１０ｗｔ％以下として｛１
００｝集積度を低くしかつエッチング面の結晶粒度が粒
度番号で９．０以上としてエッチング穿孔された、良好
な真円度を有する電子線透過孔を備えることを特徴とす
る電子線透過孔を備えるシャドウマスク素材を提供す
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明におけるＦｅ−Ｎｉ系合金
素材のＮｉ含有量は３０ｗｔ％未満、または４５ｗｔ％
を超えると熱膨張係数が大きくシャドウマスク用として
不適当であるために、３０〜４５ｗｔ％の範囲に限定し
ている。さらに、該合金素材の不純物及び随伴元素の量
は以下説明する理由により上限を限定している。
素材のＮｉ含有量は３０ｗｔ％未満、または４５ｗｔ％
を超えると熱膨張係数が大きくシャドウマスク用として
不適当であるために、３０〜４５ｗｔ％の範囲に限定し
ている。さらに、該合金素材の不純物及び随伴元素の量
は以下説明する理由により上限を限定している。
【００１３】ａ）Ｃ含有量 Ｃが０．１０ｗｔ％を超えると、炭化物の生成によって
エッチング穿孔性が阻害されシャドウマスク用素材とし
て適さない。従って、Ｃ含有量の上限を０．１０ｗｔ％
と定めた。
エッチング穿孔性が阻害されシャドウマスク用素材とし
て適さない。従って、Ｃ含有量の上限を０．１０ｗｔ％
と定めた。
【００１４】ｂ）Ｓｉ含有量 Ｓｉが０．３０ｗｔ％を超えると、エッチング穿孔性が
阻害され、シャドウマスク用素材として適さない。従っ
て、Ｓｉ含有量の上限を０．３０ｗｔ％と定めた。
阻害され、シャドウマスク用素材として適さない。従っ
て、Ｓｉ含有量の上限を０．３０ｗｔ％と定めた。
【００１５】ｃ）Ａｌ含有量 Ａｌが０．３０ｗｔ％を超えると、アルミナ系の介在物
の形成が著しく、エッチング穿孔性を阻害する。従っ
て、Ａｌ含有量の上限を０．３０ｗｔ％と定めた。
の形成が著しく、エッチング穿孔性を阻害する。従っ
て、Ａｌ含有量の上限を０．３０ｗｔ％と定めた。
【００１６】ｄ）Ｓ含有量 Ｓは、０．００５ｗｔ％を超えると、素材の熱間加工性
を著しく阻害する。従って、Ｓ含有量の上限を０．００
５ｗｔ％と定めた。
を著しく阻害する。従って、Ｓ含有量の上限を０．００
５ｗｔ％と定めた。
【００１７】ｅ）Ｐ含有量 Ｐが０．００５ｗｔ％を超えると、素材のエッチング穿
孔性が阻害され、シャドウマスク用素材として適さな
い。従って、Ｐ含有量の上限を０．００５ｗｔ％と定め
た。
孔性が阻害され、シャドウマスク用素材として適さな
い。従って、Ｐ含有量の上限を０．００５ｗｔ％と定め
た。
【００１８】ｆ）Ｍｎ含有量 Ｍｎは、熱間加工性を阻害するＳを無害化するために鉄
系合金に随伴されている。しかし、Ｍｎは、その含有量
が少なければ少ないほどエッチング穿孔した透過孔が真
円となる。またＭｎが０．１０ｗｔ％を超えると、最終
焼鈍前の加工度を８０％以下にしないと、最終焼鈍後の
圧延面への｛１００｝集積度がエッチング穿孔した透過
孔の真円度が損なわれる境界値の８０％を超えてしま
う。従って、その上限を０．１０ｗｔ％と定めた。但
し、その含有量が少なければ少ないほど図１で定義され
るエッチングファクター（ｄ：エッチング深さ、ＳＥ：
エッチングに際してレジストの下側側方にまで回り込ん
でエッチングされたサイドエッチ量とするとき、エッチ
ングファクターＥＦはｄ／ＳＥとして表される。）が著
しく向上することからも、０．０５ｗｔ％以下が好まし
い。Ｓ量を上記の含有量以下なるたけ低減して、Ｓ固定
に必要なＭｎ量を少なくすることが好ましい。
系合金に随伴されている。しかし、Ｍｎは、その含有量
が少なければ少ないほどエッチング穿孔した透過孔が真
円となる。またＭｎが０．１０ｗｔ％を超えると、最終
焼鈍前の加工度を８０％以下にしないと、最終焼鈍後の
圧延面への｛１００｝集積度がエッチング穿孔した透過
孔の真円度が損なわれる境界値の８０％を超えてしま
う。従って、その上限を０．１０ｗｔ％と定めた。但
し、その含有量が少なければ少ないほど図１で定義され
るエッチングファクター（ｄ：エッチング深さ、ＳＥ：
エッチングに際してレジストの下側側方にまで回り込ん
でエッチングされたサイドエッチ量とするとき、エッチ
ングファクターＥＦはｄ／ＳＥとして表される。）が著
しく向上することからも、０．０５ｗｔ％以下が好まし
い。Ｓ量を上記の含有量以下なるたけ低減して、Ｓ固定
に必要なＭｎ量を少なくすることが好ましい。
【００１９】次に、結晶粒度の規定理由を説明する。結
晶粒度が小さいほど、エッチング後の孔形状及びエッチ
ング壁面が平滑になり、シャドウマスクの品質が向上す
ることは従来より知られており、本発明においてもこの
点は同様で、結晶粒度が粒度番号で９．０以上であるこ
とが必要である。好ましくは９．５〜１２．０の範囲と
される。なお、９．０未満の場合、Ｍｎの効果で圧延面
への｛１００｝集積度を低くしても、孔形状の均一性が
得られない。ここでの粒度番号はＪＩＳＧ０５５１の規
定に基づく。
晶粒度が小さいほど、エッチング後の孔形状及びエッチ
ング壁面が平滑になり、シャドウマスクの品質が向上す
ることは従来より知られており、本発明においてもこの
点は同様で、結晶粒度が粒度番号で９．０以上であるこ
とが必要である。好ましくは９．５〜１２．０の範囲と
される。なお、９．０未満の場合、Ｍｎの効果で圧延面
への｛１００｝集積度を低くしても、孔形状の均一性が
得られない。ここでの粒度番号はＪＩＳＧ０５５１の規
定に基づく。
【００２０】本発明におけるシャドウマスク材は、基本
的には、特にＭｎ含有量を０．１０ｗｔ％以下に低減し
た、所定の組成のスラブを調製し、熱間圧延後に表面の
酸化スケールを除去し、冷間圧延と焼鈍を繰り返して厚
さ０．３ｍｍ以下のシャドウマスク素材に仕上げられ
る。例えば、冷間圧延→焼鈍→中間冷間圧延→焼鈍→最
終冷間圧延の順に加工し、厚さ０．３ｍｍ以下のシャド
ウマスク素材に仕上げられる。各焼鈍は完全に再結晶す
るのに充分な温度と時間で実施される。最終冷間圧延終
了後の圧延面への｛１００｝集積度を例えば７０〜８０
％に制御するために、中間冷間圧延の加工度が例えば８
０〜９０％の範囲で調整される。再結晶化を完全なもの
にするために、熱間圧延後に焼鈍を行っても良い。結晶
粒度は、焼鈍温度と保持時間によって調整される。結晶
粒度番号を９．０以上とした最終冷間圧延後の圧延面へ
エッチング穿孔がなされて電子線透過孔が形成される。
真円度の良好なそして孔形状及びエッチング壁面が平滑
な電子線透過孔を形成することができる。エッチング
は、周知のフォトグラフィー技術を適用し、素材の片側
の表面に例えば直径８０μｍの真円状開口部を多数有
し、もう一方の表面の相対する位置に例えば直径１８０
μｍの真円状開口部を有するレジストマスクを形成した
後、塩化第二鉄水溶液をスプレー状に吹付け、透過孔を
形成する。
的には、特にＭｎ含有量を０．１０ｗｔ％以下に低減し
た、所定の組成のスラブを調製し、熱間圧延後に表面の
酸化スケールを除去し、冷間圧延と焼鈍を繰り返して厚
さ０．３ｍｍ以下のシャドウマスク素材に仕上げられ
る。例えば、冷間圧延→焼鈍→中間冷間圧延→焼鈍→最
終冷間圧延の順に加工し、厚さ０．３ｍｍ以下のシャド
ウマスク素材に仕上げられる。各焼鈍は完全に再結晶す
るのに充分な温度と時間で実施される。最終冷間圧延終
了後の圧延面への｛１００｝集積度を例えば７０〜８０
％に制御するために、中間冷間圧延の加工度が例えば８
０〜９０％の範囲で調整される。再結晶化を完全なもの
にするために、熱間圧延後に焼鈍を行っても良い。結晶
粒度は、焼鈍温度と保持時間によって調整される。結晶
粒度番号を９．０以上とした最終冷間圧延後の圧延面へ
エッチング穿孔がなされて電子線透過孔が形成される。
真円度の良好なそして孔形状及びエッチング壁面が平滑
な電子線透過孔を形成することができる。エッチング
は、周知のフォトグラフィー技術を適用し、素材の片側
の表面に例えば直径８０μｍの真円状開口部を多数有
し、もう一方の表面の相対する位置に例えば直径１８０
μｍの真円状開口部を有するレジストマスクを形成した
後、塩化第二鉄水溶液をスプレー状に吹付け、透過孔を
形成する。
【００２１】次いで、本発明の実施例を比較例と対比し
ながら説明する。
ながら説明する。
【００２２】
【実施例】まず、真空溶解法にてＭｎ以外の随伴元素を
下記成分に調整して溶解鋳造したＦｅ−Ｎｉ系合金イン
ゴットを熱間鍛造、熱間圧延した。ついで表面の酸化ス
ケール除去後に冷間圧延→焼鈍→冷間圧延→焼鈍
→冷間圧延の順に加工し、０．１３ｍｍ厚さの合金
帯を製造した。なお、冷間圧延は加工度２０％のダル
圧延で実施した。ここで、各焼鈍は完全に再結晶するの
に充分な温度と時間で実施し、冷間圧延の加工度を表
１の範囲で変化させ、その加工度にするために冷間圧延
の仕上げ厚さを調整した。なお、Ｆｅ−Ｎｉ系合金の
成分は次のように調整した。 Ｎｉ：３６．２％、Ｃ：０．００７％、Ｓｉ：０．０５
％、 Ａｌ：０．００５％、Ｓ：０．００２％、Ｐ：０．００
３％
下記成分に調整して溶解鋳造したＦｅ−Ｎｉ系合金イン
ゴットを熱間鍛造、熱間圧延した。ついで表面の酸化ス
ケール除去後に冷間圧延→焼鈍→冷間圧延→焼鈍
→冷間圧延の順に加工し、０．１３ｍｍ厚さの合金
帯を製造した。なお、冷間圧延は加工度２０％のダル
圧延で実施した。ここで、各焼鈍は完全に再結晶するの
に充分な温度と時間で実施し、冷間圧延の加工度を表
１の範囲で変化させ、その加工度にするために冷間圧延
の仕上げ厚さを調整した。なお、Ｆｅ−Ｎｉ系合金の
成分は次のように調整した。 Ｎｉ：３６．２％、Ｃ：０．００７％、Ｓｉ：０．０５
％、 Ａｌ：０．００５％、Ｓ：０．００２％、Ｐ：０．００
３％
【００２３】ここで、得られた合金帯のうち、試料Ｎ
ｏ．１〜５の本発明の要件を満たす実施例であり、そし
て試料Ｎｏ．６〜１０は比較例である。
ｏ．１〜５の本発明の要件を満たす実施例であり、そし
て試料Ｎｏ．６〜１０は比較例である。
【００２４】次に、これら合金帯に周知のフォトグラフ
ィー技術を適用し、合金帯の片側の表面に直径８０μｍ
の真円状開口部を多数有し、もう一方の表面の相対する
位置に直径１８０μｍの真円状開口部を有するレジスト
マスクを形成した後、塩化第二鉄水溶液をスプレー状に
吹付け、透過孔を形成しシャドウマスクを作製した。そ
して、透過孔の貫通部の形状について、真円度の評価
は、透過孔の貫通部の形状を、その最大径の２乗と円周
率の積を面積で割った値を１００倍した形状係数を用い
て評価した。この形状係数は真円の場合に４００とな
り、正方形の場合に６２８（２×円周率×１００）とな
る。真円度の評価は、形状係数で４００〜４４０の場合
を良とし、４４０を超える場合を不良とした。
ィー技術を適用し、合金帯の片側の表面に直径８０μｍ
の真円状開口部を多数有し、もう一方の表面の相対する
位置に直径１８０μｍの真円状開口部を有するレジスト
マスクを形成した後、塩化第二鉄水溶液をスプレー状に
吹付け、透過孔を形成しシャドウマスクを作製した。そ
して、透過孔の貫通部の形状について、真円度の評価
は、透過孔の貫通部の形状を、その最大径の２乗と円周
率の積を面積で割った値を１００倍した形状係数を用い
て評価した。この形状係数は真円の場合に４００とな
り、正方形の場合に６２８（２×円周率×１００）とな
る。真円度の評価は、形状係数で４００〜４４０の場合
を良とし、４４０を超える場合を不良とした。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１に示した結果から、本発明に係る試料
Ｎｏ．１〜５のようにＭｎが０．１０ｗｔ％以下で結晶
粒度が９．０以上のものは、最終焼鈍前の加工度が８０
％以上の場合にも透過孔の真円度が損なわれず、良好な
エッチング穿孔性を示した。特にＭｎ量を０．００１ｗ
ｔ％とした試料Ｎｏ．５は最終加工度が９０％でも良好
なエッチング穿孔性が得られた。
Ｎｏ．１〜５のようにＭｎが０．１０ｗｔ％以下で結晶
粒度が９．０以上のものは、最終焼鈍前の加工度が８０
％以上の場合にも透過孔の真円度が損なわれず、良好な
エッチング穿孔性を示した。特にＭｎ量を０．００１ｗ
ｔ％とした試料Ｎｏ．５は最終加工度が９０％でも良好
なエッチング穿孔性が得られた。
【００２７】これに対して、試料Ｎｏ．６〜８はＭｎ量
が０．１％を超えるために最終焼鈍前の加工度が８０％
を超えると圧延面への｛１００｝集積度が８０％を超え
ているため透過孔の真円度の評価は不良であった。ま
た、試料Ｎｏ．９と１０は結晶粒度が９．０未満である
ため穿孔後の孔形状が不均一なためにシャドウマスクと
して不適当であった。
が０．１％を超えるために最終焼鈍前の加工度が８０％
を超えると圧延面への｛１００｝集積度が８０％を超え
ているため透過孔の真円度の評価は不良であった。ま
た、試料Ｎｏ．９と１０は結晶粒度が９．０未満である
ため穿孔後の孔形状が不均一なためにシャドウマスクと
して不適当であった。
【００２８】つまり、上記結果から、本発明の要件を満
足することによって、エッチング加工により形成する電
子線の透過孔の真円度を損なわないという優れたエッチ
ング穿孔性をＦｅ−Ｎｉ系合金のシャドウマスク素材に
付与することが初めて可能となったのである。
足することによって、エッチング加工により形成する電
子線の透過孔の真円度を損なわないという優れたエッチ
ング穿孔性をＦｅ−Ｎｉ系合金のシャドウマスク素材に
付与することが初めて可能となったのである。
【００２９】
【発明の効果】以上に説明した如く、本発明によれば、
Ｆｅ−Ｎｉ系合金のシャドウマスク素材において、エッ
チング加工により形成する電子線の透過孔を真円度を損
なわずに穿孔することができ、焼鈍間の加工度を大きく
することができるのでシャドウマスク素材の薄肉化に対
して、焼鈍回数を増やすことなく高精度シャドウマスク
用の高品質な素材の提供が可能となるなど、産業上非常
に有用な効果がもたらされる。
Ｆｅ−Ｎｉ系合金のシャドウマスク素材において、エッ
チング加工により形成する電子線の透過孔を真円度を損
なわずに穿孔することができ、焼鈍間の加工度を大きく
することができるのでシャドウマスク素材の薄肉化に対
して、焼鈍回数を増やすことなく高精度シャドウマスク
用の高品質な素材の提供が可能となるなど、産業上非常
に有用な効果がもたらされる。
【図１】エッチングファクターの説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C22C 38/00 - 38/60 H01J 29/07 C21D 9/46 - 9/48
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｎｉを３０〜４５ｗｔ％含有し、残部Ｆ
ｅ及び不可避的不純物もしくは随伴元素−但しＣ：０．
１０ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．３０ｗｔ％以下、Ａｌ：
０．３０ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｐ：
０．００５ｗｔ％以下−の組成のＦｅ−Ｎｉ系合金から
なり、最終焼鈍前の加工度を８０％以上として圧延する
ことにより製造されたシャドウマスク素材において、Ｍ
ｎを０．１０ｗｔ％以下として｛１００｝集積度を低く
しかつエッチング面の結晶粒度が粒度番号で９．０以上
であり、エッチング穿孔性に優れることを特徴とするシ
ャドウマスク素材。 - 【請求項２】 Ｎｉを３０〜４５ｗｔ％含有し、残部Ｆ
ｅ及び不可避的不純物もしくは随伴元素−但しＣ：０．
１０ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．３０ｗｔ％以下、Ａｌ：
０．３０ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｐ：
０．００５ｗｔ％以下−の組成のＦｅ−Ｎｉ系合金から
なり、最終焼鈍前の加工度を８０％以上として圧延する
ことにより製造されたシャドウマスク素材をエッチング
穿孔した電子線透過孔を備えるシャドウマスク素材にお
いて、Ｍｎを０．１０ｗｔ％以下として｛１００｝集積
度を低くしかつエッチング面の結晶粒度が粒度番号で
９．０以上としてエッチング穿孔された、良好な真円度
を有する電子線透過孔を備えることを特徴とする電子線
透過孔を備えるシャドウマスク素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14849996A JP3222062B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14849996A JP3222062B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09310158A JPH09310158A (ja) | 1997-12-02 |
| JP3222062B2 true JP3222062B2 (ja) | 2001-10-22 |
Family
ID=15454131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14849996A Expired - Fee Related JP3222062B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3222062B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001152292A (ja) | 1999-11-25 | 2001-06-05 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 磁気特性に優れたセミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管 |
| JP3881493B2 (ja) * | 2000-04-19 | 2007-02-14 | 日鉱金属株式会社 | エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用素材およびその製造方法 |
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-
1996
- 1996-05-21 JP JP14849996A patent/JP3222062B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09310158A (ja) | 1997-12-02 |
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