JP2001106977A - 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品 - Google Patents

電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品

Info

Publication number
JP2001106977A
JP2001106977A JP28590499A JP28590499A JP2001106977A JP 2001106977 A JP2001106977 A JP 2001106977A JP 28590499 A JP28590499 A JP 28590499A JP 28590499 A JP28590499 A JP 28590499A JP 2001106977 A JP2001106977 A JP 2001106977A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aqueous dispersion
electrodeposition
group
high dielectric
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP28590499A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4265048B2 (ja
Inventor
Hirofumi Goto
宏文 後藤
Nobuyuki Ito
信幸 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP28590499A priority Critical patent/JP4265048B2/ja
Priority to US09/678,613 priority patent/US6586513B1/en
Priority to KR1020000058400A priority patent/KR100821044B1/ko
Priority to TW89120804A priority patent/TW540075B/zh
Priority to DE2000637488 priority patent/DE60037488T2/de
Priority to EP20000121771 priority patent/EP1091371B1/en
Publication of JP2001106977A publication Critical patent/JP2001106977A/ja
Priority to US10/401,555 priority patent/US7342063B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4265048B2 publication Critical patent/JP4265048B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49866Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
    • H01L23/49894Materials of the insulating layers or coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/36Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
    • H01Q1/38Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/16Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • H05K1/162Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0209Inorganic, non-metallic particles
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/13Moulding and encapsulation; Deposition techniques; Protective layers
    • H05K2203/1333Deposition techniques, e.g. coating
    • H05K2203/135Electrophoretic deposition of insulating material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31725Of polyamide
    • Y10T428/31765Inorganic-containing or next to inorganic-containing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 貯蔵安定性に優れ、薄膜で高誘電率のフィル
ムを形成する電着用水性分散液、この水性分散液から形
成された高誘電率フィルム、およびこの高誘電率フィル
ムを備えた電子部品を提供する。 【解決手段】 本発明の電着用水性分散液は、水性媒体
中に、平均粒子径1μm以下かつ誘電率30以上の無機
粒子(二酸化チタン粒子等)と、重合性化合物および重
合体の少なくとも一方からなる有機粒子(ポリイミド系
樹脂等)とが分散していることを特徴とし、20℃にお
いて7日間以上の貯蔵安定性を有するものとすることが
できる。この電着用水性分散液を電着して得られた本発
明の高誘電率フィルムは、誘電率6以上、体積抵抗率は
1012Ω・cm以上のものとすることができ、プリント
回路基板、半導体パッケージ、コンデンサ、高周波用ア
ンテナ等の電子部品等に好適に利用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電着用水性分散
液、この水性分散液から形成された高誘電率フィルム、
およびこの高誘電率フィルムを備えた電子部品に関す
る。
【0002】
【従来の技術】多層プリント配線基板等に高誘電率の層
を設け、この層をコンデンサ等に利用する技術が知られ
ている。この高誘電率層は、例えば熱硬化性樹脂の有機
溶剤溶液に高誘電率の無機粉末を添加したものを、熱硬
化性樹脂の脆さを補うためにガラス繊維等の繊維強化材
に含浸させ、溶剤を飛散させて硬化させる等の方法によ
り作成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の方法には、
繊維強化材を用いるため高誘電率層の厚みを薄く(例え
ば50μm以下)することができず、またTiO2等の
無機粉末に比べて繊維強化材の比誘電率は比較的小さい
ことから静電容量の高いコンデンサが得られないという
問題がある。
【0004】この問題を解決するものとして、特開平9
−12742号公報には、フィルム形成能を有する熱硬
化性樹脂を用いることにより上記構成から繊維強化材を
不要とした高誘電率フィルムが開示されている。この公
報によれば、上記熱硬化性樹脂および高誘電率の無機粉
末を含む樹脂ワニスを調整し、これを塗布、乾燥するこ
とによりフィルムを作製している。しかし、高誘電率の
無機粉末は一般に比重が大きく樹脂ワニス中において経
時により沈降する等、この樹脂ワニスは貯蔵安定性に欠
けるため、フィルム作製の直前に樹脂ワニスをその都度
調整しなくてはならなかった。また、溶液の塗布乾燥に
よりフィルムを形成するので、得られるフィルムの膜厚
精度を高くすることが困難であり、また基板上の特定の
位置にのみフィルムを形成する場合等において操作性が
よいとは言い難いものであった。さらに、任意の配線上
に選択的に高誘電率層を形成しようとした場合、従来の
樹脂ワニスではフォトリソグラフィー、印刷法等を組み
合わせて形成位置を規定する必要がある。しかし、フォ
トリソグラフィーを用いた形成方法では高コスト、工程
が煩雑等の問題があり、また印刷法では加工精度が低い
という問題があった。
【0005】本発明の目的は、貯蔵安定性に優れ、電着
により薄膜で高誘電率のフィルムを形成する電着用水性
分散液、この水性分散液から形成された高誘電率フィル
ム、さらにはこの高誘電率フィルムを備えた電子部品を
提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、電着可能
な有機粒子および小粒径の無機粒子が水性媒体中に分散
された電着用水性分散液を用いることにより、上記課題
が解決されることを見出して本発明を完成した。
【0007】すなわち、請求項1記載の電着用水性分散
液は、水性媒体中に、平均粒子径1μm以下かつ誘電率
30以上の無機粒子と、重合性化合物および重合体の少
なくとも一方からなる有機粒子とが分散していることを
特徴とする。この水性分散液は、電着により誘電率6以
上のフィルムを与えるものであることが好ましい。上記
無機粒子はチタン系金属酸化物からなることが好まし
く、上記有機粒子は粒子表面に電荷を有し、ポリイミド
系樹脂からなることが好ましい。上記無機粒子と上記有
機粒子との体積比は5/95〜80/20の範囲である
ことが好ましい。
【0008】また、請求項6記載の高誘電率フィルム
は、請求項1から5のいずれか一項記載の電着用水性分
散液を用いた電着により形成されたことを特徴とする。
そして、請求項7記載の電子部品は、請求項1から5の
いずれか一項記載の電着用水性分散液を用いた電着によ
り形成された高誘電率フィルムを備えることを特徴とす
る。以下、本発明につきさらに詳しく説明する。
【0009】(1)無機粒子について 本発明において使用する無機粒子の誘電率は30以上で
あり、好ましくは50以上、さらに好ましくは70以上
である。このような無機粒子としては、金属酸化物から
なるものが好ましく用いられ、特にチタン系金属酸化物
が好ましい。ここで、「チタン系金属酸化物」とはチタ
ン元素と酸素元素とを必須元素として含む化合物をい
い、具体的には二酸化チタン系、チタン酸バリウム系、
チタン酸鉛系、チタン酸ストロンチウム系、チタン酸ビ
スマス系、チタン酸マグネシウム系、チタン酸ネオジウ
ム系、チタン酸カルシウム系等の金属酸化物が挙げられ
る。なお、上記「二酸化チタン系」の金属酸化物とは、
二酸化チタンのみを含む系、または二酸化チタンに他の
少量の添加物を含む系で、主成分である二酸化チタンの
結晶構造が保持されているものであり、他の系の金属酸
化物についても同様である。本発明においては、二酸化
チタン系(ルチル構造のもの)またはチタン酸バリウム
系の金属酸化物からなる無機粒子が特に好ましく用いら
れる。また、水性媒体への分散性を向上させるために、
上記材料からなる粒子の表面をシリカ、アルミナ等で変
性した粒子も好適に用いられる。
【0010】この無機粒子の平均粒子径は1μm以下で
ある必要があり、0.5μm以下であることが好まし
く、0.2μm以下であることがさらに好ましい。平均
粒子径が1μmを超えると、水性媒体に対する無機粒子
の分散性が不足して十分な貯蔵安定性が得られないため
である。平均粒子径の下限は特に限定されないが、通常
は0.02μm以上である。
【0011】(2)有機粒子について (2−1)有機粒子の組成 本発明において使用する有機粒子は、「重合性化合物お
よび重合体の少なくとも一方」からなる。ここで、「重
合性化合物」とは重合性基を有する化合物を指し、完全
硬化前の前駆的重合体、重合性オリゴマー、単量体など
を含む意味である。一方、「重合体」とは実質的に重合
反応が完了した化合物を指す。ただし、加熱、湿気など
によりこの重合体を電着後に架橋させることも可能であ
る。有機粒子の表面は電着を可能とするために電荷を有
することが好ましく、この表面電荷はアニオン型でもカ
チオン型でもよいが、電着時の電極酸化を防止するため
にはカチオン型であることが好ましい。
【0012】上記有機粒子は、ポリイミド系樹脂、エポ
キシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、フ
ッ素系樹脂およびシリコン系樹脂から選択される一種ま
たは二種以上からなることが好ましい。また、これらの
樹脂に加えてさらに他の成分を含んでもよい。また、こ
れらの樹脂は互いに、あるいは他の成分と化学的に結合
されていてもよい。
【0013】本発明においては、電着により機械的特
性、化学的特性および電気的特性に優れた高誘電率フィ
ルムを形成できることから、ポリイミド系樹脂を主成分
とする有機粒子を用いることが特に好ましい。ここで、
「ポリイミド系樹脂」とは、電着後の加熱などにより硬
化可能な前駆的重合体(たとえばポリアミック酸な
ど。)、ポリイミド系樹脂の形成に用いられる単量体、
オリゴマーなどをも含む意味であり、他の樹脂について
も同様である。さらに、この「ポリイミド系樹脂」と
は、ポリイミド樹脂またはその前駆的重合体、ポリイミ
ド樹脂の形成に用いられる単量体と他の単量体との共重
合体樹脂またはその前駆的重合体、ポリイミド樹脂また
はその前駆的重合体と他の化合物との反応物などをも含
む意味であり、他の樹脂についても同様である。
【0014】(2−2)有機粒子の水性エマルジョン 本発明の水性分散液は通常、上記有機粒子が水性媒体に
分散した水性エマルジョンを用いて調整される。ここで
「水性媒体」とは水を主成分とする媒体を意味し、この
水性媒体中における水の含有率は通常40重量%以上、
好ましくは50重量%以上である。場合により水と共に
使用される他の媒体としては、例えば上記ポリアミック
酸あるいはポリイミドの製造に使用される非プロトン性
極性溶媒、エステル類、ケトン類、フェノール類、アル
コール類等を挙げることができる。
【0015】以下、主としてポリイミド系樹脂からから
なる有機粒子の水性エマルジョン(以下、「ポリイミド
系樹脂エマルジョン」という。)、主としてエポキシ系
樹脂からなる粒子の水性エマルジョン(以下、「エポキ
シ系樹脂エマルジョン」という。)、主としてアクリル
系樹脂からなる粒子の水性エマルジョン(以下、「アク
リル系樹脂エマルジョン」という。)、主としてポリエ
ステル系樹脂からなる粒子の水性エマルジョン(以下、
「ポリエステル系樹脂エマルジョン」という。)、主と
してフッ素系樹脂からなる粒子の水性エマルジョン(以
下、「フッ素系樹脂エマルジョン」という。)および主
としてシリコン系樹脂からなる粒子の水性エマルジョン
(以下、「シリコン系樹脂エマルジョン」という。)の
製造方法について説明する。
【0016】(i)ポリイミド系樹脂エマルジョンの製
造方法 本発明における有機粒子がポリイミド系樹脂からなる場
合には、機械的特性、化学的特性および電気的特性に優
れたポリイミド系の高誘電率フィルムを形成できるため
特に好ましい。このようなポリイミド系フィルムを電着
により作製する好ましい方法としては下記の二種類が挙
げられる。 (A)有機溶媒可溶性のポリイミドと(B)親水性ポ
リマーとの複合粒子からなるポリイミド系樹脂エマルジ
ョンを電着液として、この複合粒子を電着する方法。 (C)ポリアミック酸と(D)疎水性化合物との複合
粒子を含む粒子からなるポリイミド系樹脂エマルジョン
を電着液としてこの粒子を電着し、電着されたポリアミ
ック酸を加熱により脱水閉環する方法。これらの方法に
おいて使用するポリイミド系樹脂エマルジョンを製造す
る方法としては、上記の方法については特開平11−
49951公報に記載の方法が、また上記の方法につ
いて特開平11−60947号公報に記載の方法が例示
される。
【0017】上記の方法において使用するポリイミド
系樹脂エマルジョンの製造方法についてさらに詳しく説
明する。「(A)有機溶媒可溶性のポリイミド」の合成
法は特に限定されるものではないが、例えば、有機極性
溶媒中、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物と
を混合して重縮合させて、ポリアミック酸を得たのち、
該ポリアミック酸を加熱イミド化法または化学イミド化
法により脱水閉環反応させることにより、ポリイミドを
合成することができる。また、テトラカルボン酸二無水
物とジアミン化合物との重縮合を多段階で行うことによ
り、ブロック構造を有するポリイミドを合成することも
可能である。この有機溶媒可溶性のポリイミドは、例え
ば、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、スルホン酸
基、アミド基、エポキシ基、イソシアネート基等の反応
性基(a)を1種以上有することが好ましい。反応性基
(a)を有するポリイミドの合成方法としては、例え
ば、ポリアミック酸の合成に使用されるカルボン酸二無
水物、ジアミン化合物、カルボン酸一無水物、モノアミ
ン化合物等の反応原料として、反応性基(a)を有する
化合物を使用し、脱水閉環反応後に反応性基(a)を残
存させる方法等を挙げることができる。
【0018】「(B)親水性ポリマー」は、親水性基と
して、例えば、アミノ基、カルボキシル基、水酸基、ス
ルホン酸基、アミド基等を1種以上有し、水に対する2
0℃の溶解度が、通常、0.01g/100g以上、好
ましくは0.05g/100g以上である親水性ポリマ
ーからなる。前記親水性基に加えて、前記(A)成分中
の反応性基(a)と反応しうる反応性基(b)を1種以
上有することが好ましい。このような反応性基(b)と
しては、例えば、エポキシ基、イソシアネート基、カル
ボキシル基のほか、前記親水性基と同様の基等を挙げる
ことができる。このような親水性ポリマーは、親水性基
および/または反応性基(b)を有するモノビニル単量
体を単独重合または共重合させるか、あるいはこれらの
モノビニル単量体と他の単量体とを共重合させることに
より得ることができる。
【0019】この(A)有機溶媒可溶性のポリイミドと
(B)親水性ポリマーとを、反応性基(a)と親水性ポ
リマー中の反応性基(b)とが適切な反応性を有する組
み合わせとなるように選択し、該ポリイミドと該親水性
ポリマーとを、例えば有機溶媒中にて溶液状態で混合し
て、必要に応じて加熱しつつ、反応させたのち、この反
応溶液と水性媒体とを混合し、場合により有機溶媒の少
なくとも一部を除去することにより、該ポリイミドと該
親水性ポリマーとを相互に結合して同一粒子内に含む複
合粒子からなるポリイミド系樹脂エマルジョンを得るこ
とができる。
【0020】次に、上記の方法において使用するポリ
イミド系樹脂エマルジョンの製造方法についてさらに詳
しく説明する。ポリイミドの前駆体である「(C)ポリ
アミック酸」の合成法は、特に限定されるものではない
が、例えば、有機極性溶媒中、テトラカルボン酸二無水
物とジアミン化合物との重縮合反応によりポリアミック
酸を得ることができる。また、テトラカルボン酸二無水
物とジアミン化合物との重縮合反応を多段階で行うこと
により、ブロック構造を有するポリアミック酸を合成す
ることも可能である。なお、ポリアミック酸を脱水閉環
させることにより部分的にイミド化したポリアミック酸
も使用可能である。
【0021】一方、「(D)疎水性化合物」は、前記ポ
リアミック酸中の少なくともアミド酸基と反応しうる基
(以下、「反応性基」という。)を有する化合物であ
る。この反応性基としては、例えば、エポキシ基、イソ
シアナト基、カルボジイミド基、水酸基、メルカプト
基、ハロゲン基、アルキルスルホニル基、アリールスル
ホニル基、ジアゾ基、カルボニル基等を挙げることがで
きる。これらの反応性基は、疎水性化合物中に1種以上
存在することができる。なお、「疎水性」とは、水に対
する20℃の溶解度が、通常、0.05g/100g未
満、好ましくは0.01/100g未満、さらに好まし
くは0.005g/100g未満であることを意味す
る。
【0022】このような疎水性化合物としては、例え
ば、エポキシ化ポリブタジエン、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ナフタレン系エポキシ樹脂、フルオレン系
エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジル
エステル型エポキシ樹脂、アリルグリシジルエーテル、
グリシジル(メタ)アクリレート、1,3,5,6−テ
トラグリシジル−2,4−ヘキサンジオール、N,N,
N’,N’,−テトラグリシジル−m−キシレンジアミ
ン、トリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルカル
ボジイミド、ポリカルボジイミド、コレステロール、ベ
ンジルアルコールp−トルエンスルホン酸エステル、ク
ロロ酢酸エチル、トリアジントリチオール、ジアゾメタ
ン、ジアセトン(メタ)アクリルアミド等から選択され
る1種または2種以上を使用することができる。
【0023】この(C)ポリアミック酸と(D)疎水性
化合物とを、例えば、有機溶媒中にて溶液状態で混合し
て反応させたのち、この反応溶液を水性媒体と混合し、
場合により有機溶媒の少なくとも一部を除去することに
より、ポリアミック酸と疎水性化合物とを同一粒子内に
含む複合粒子からなるポリイミド系樹脂エマルジョンを
得ることができる。
【0024】なお、上記およびの方法において用い
られるテトラカルボン酸二無水物は特に限定されるもの
ではなく、その例としては、ブタンテトラカルボン酸二
無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン
酸二無水物、3,3’,4,4’−ジシクロヘキシルテ
トラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,
9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジ
オキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラ
ン−1,3−ジオン等の脂肪族テトラカルボン酸二無水
物あるいは脂環式テトラカルボン酸二無水物;ピロメリ
ット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフ
ェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等の芳香族テ
トラカルボン酸二無水物;等を挙げることができる。こ
れらのテトラカルボン酸二無水物は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
【0025】また、上記およびの方法において用い
られるジアミン化合物は特に限定されるものではなく、
その例としては、p−フェニレンジアミン、4,4’−
ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス[4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル]プロパン等の芳香族ジア
ミン類; 1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジ
アミン、テトラメチレンジアミン、4,4’−メチレン
ビス(シクロヘキシルアミン)等の脂肪族ジアミンある
いは脂環式ジアミン類; 2,3−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノ−6−ジ
メチルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジア
ミノ−5−フェニルチアゾール、ビス(4−アミノフェ
ニル)フェニルアミン等の、分子内に2つの第一級アミ
ノ基および該第一級アミノ基以外の窒素原子を有するジ
アミン類;モノ置換フェニレンジアミン類;ジアミノオ
ルガノシロキサン;等を挙げることができる。これらの
ジアミン化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。
【0026】(ii)エポキシ系樹脂エマルジョンの製造
方法 エポキシ系樹脂エマルジョンの製造方法は特に限定され
るものではなく、従来公知の方法、例えば特開平9−2
35495号公報、同9−208865号公報に記載の
方法などによればよい。
【0027】(iii)アクリル系樹脂エマルジョンの製造
方法 アクリル系樹脂エマルジョンの製造方法は特に限定され
るものではないが、例えば通常の乳化重合法により製造
できる。単量体としては一般的なアクリル系および/ま
たはメタクリル系単量体から選択される一種または二種
以上を用いればよい。このとき、粒子を電着可能とする
ために、アミノ基、アミド基、フォスフォノ基などのカ
チオン性基を有する単量体、またはカルボキシル基、ス
ルホン酸基等などのアニオン性基を有する単量体を共重
合させることが好ましく、その共重合量は使用する単量
体全体に対して5〜80重量%(より好ましくは10〜
50重量%)とすることが好ましい。上記アミノ基を有
する単量体の具体例としては、ジメチルアミノエチルア
クリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドな
どが好ましく使用される。
【0028】(iv)ポリエステル系樹脂エマルジョンの
製造方法 ポリエステル系樹脂エマルジョンの製造方法は特に限定
されるものではなく、従来公知の方法、例えば特開昭5
7−10663号公報、同57−70153号公報、同
58−174421号公報に記載の方法などによればよ
い。
【0029】(v)フッ素系樹脂エマルジョンの製造方
法 フッ素系樹脂エマルジョンの製造方法は特に限定される
ものではなく、従来公知の方法、例えば特開平7−26
8163号公報に記載の方法などによればよい。
【0030】(vi)シリコン系樹脂エマルジョンの製造
方法 シリコン系樹脂エマルジョンの製造方法は特に限定され
るものではなく、従来公知の方法、例えば特開平10−
60280号公報に記載の方法などによればよい。
【0031】(3)水性分散液について 本発明の水性分散液は、水性媒体中に上記有機粒子およ
び上記無機粒子が分散したものである。なお、水性媒体
の意味は上述と同様である。水性分散液に含まれる無機
粒子と有機粒子との体積比は、5/95〜80/20の
範囲であることが好ましく、10/90〜60/40で
あることがより好ましい。無機粒子の割合が5体積%未
満では、高誘電率のフィルムを得ることが困難である。
一方、無機粒子の割合が80体積%を超える場合には、
フィルムの成膜性が不足するため好ましくない。水性分
散液の好ましいpHは2〜10(より好ましくは3〜
9)、好ましい固形分濃度は1〜50重量%(より好ま
しくは5〜20重量%)、20℃における好ましい粘度
は1〜100mPa・sである。pH、固形分濃度また
は粘度が上記範囲を外れると、粒子の分散性等が低下し
て貯蔵安定性が不足したり、取り扱い時や使用時の作業
性が低下する場合がある。
【0032】この水性分散液は、無機粒子の水分散液
と有機粒子の水分散液とを混合する、有機粒子の水分
散液中に無機粒子を添加混合するなどの方法により調製
することができる。このうちの方法を用いることが好
ましい。また、有機粒子の水分散液と混合する前におけ
る無機粒子の水分散液のpHは、混合時の安定性を向上
させるために、硝酸、硫酸、水酸化カリウム等を用いて
pH2〜10に調製されていることが好ましい。本発明
の水性分散液は、二層分離や粘度の著しい変化等を起こ
すことなく貯蔵可能な期間が20℃において5日間以上
(より好ましくは7日間以上、さらに好ましくは10日
間以上、特に好ましくは14日以上)となる貯蔵安定性
を有するものとすることができる。
【0033】なお、本発明の水性分散液は、上記有機粒
子および無機粒子に加えて、下記式(1)で示されるオ
ルガノシラン、このオルガノシランの有する加水分解性
基の一部または全部が加水分解された加水分解物および
この加水分解物が部分的に脱水縮合した部分縮合物から
選択される少なくとも一種(以下、「オルガノシラン縮
合物等」という。)を含有してもよい。このような電着
用水性分散液から形成されたフィルムは、特に電着後に
加熱硬化させた場合には、フィルム中でオルガノシラン
縮合物等が架橋することにより、機械的特性、化学的特
性硬度および電気的特性に優れたものとなる。
【0034】
【化1】 (R1nSi(OR24-n (1) (式中、R1は水素原子または炭素数1〜8の一価の有
機基を示し、R2は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
1〜6のアシル基またはフェニル基を示し、nは1また
は2の整数である。R1およびR2は同一であってもよい
し、異なっていてもよい。)
【0035】上記式(1)において、R1の炭素数1〜
8の有機基としては、直鎖または分岐を有するアルキル
基、ハロゲン置換されたアルキル基、ビニル基、フェニ
ル基及び3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基等を
挙げることができる。なお、R1はカルボニル基を有し
ていてもよい。なお、R1は炭素数1〜4のアルキル基
またはフェニル基であることが好ましい。R2の炭素数
1〜5のアルキル基または炭素数1〜6のアシル基とし
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基等が挙げられる。な
お、R2は炭素数1〜4のアルキル基であることが好ま
しい。
【0036】好ましく使用されるオルガノシランの例と
しては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシラン、イソブチルトリメトキシシラン及びフェニル
トリエトキシシランが挙げられる。これらのオルガノシ
ランは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用
してもよい。
【0037】上記「オルガノシラン縮合物等」は、本発
明の電着用水性分散液中において、上記有機粒子と複合
体粒子を形成していることが好ましい。この「複合体粒
子」とは、上記有機粒子を構成する化合物とオルガノシ
ラン縮合物等とが化学的に結合したもの、上記有機粒子
の表面または内部にオルガノシラン縮合物等が吸着した
ものなどを指す。このオルガノシラン縮合物等の使用量
は、上記有機粒子を100重量部として0.1〜500
重量部とすることが好ましく、0.5〜250重量部と
することがより好ましい。オルガノシラン縮合物等の使
用量が0.1重量部未満では所望の効果が得られない場
合があり、一方500重量部を超える場合にはフィルム
の密着性などが低下する傾向にある。
【0038】このような複合体粒子は、下記〔1〕また
は〔2〕の方法等によって製造することができる。な
お、これらの方法を組み合わせてもよい。 〔1〕上記有機粒子のエマルジョンに上記オルガノシラ
ンを添加し、オルガノシランの少なくとも一部を上記有
機粒子に吸収させた後、このオルガノシランの加水分解
反応および縮合反応を進行させる。 〔2〕水系媒体に分散された上記オルガノシラン縮合物
等の存在下で上記有機粒子を生成させる反応を行う。
【0039】上記〔1〕の方法においてオルガノシラン
を有機粒子に吸収させるには、エマルジョン中にオルガ
ノシランを添加して十分に攪拌するなどの方法によれば
よい。このとき、添加したオルガノシランの10重量%
以上(より好ましくは30重量%以上)を粒子に吸収さ
せることが好ましい。吸収が不十分な段階でオルガノシ
ランの加水分解・縮合反応が進んでしまうのを避けるた
めに、反応系のpHを通常4〜10、好ましくは5〜1
0、さらに好ましくは6〜8に調製することができる。
オルガノシランを有機粒子に吸収させるための処理温度
は70℃以下とすることが好ましく、より好ましくは5
0℃以下、さらに好ましくは0〜30℃である。処理時
間は通常5〜180分であり、20〜60分程度とする
ことが好ましい。吸収されたオルガノシランを加水分解
・縮合させる際の温度は、通常30℃以上、好ましくは
50〜100℃、より好ましくは70〜90℃であり、
好ましい重合時間は0.3〜15時間、より好ましくは
1〜8時間である。
【0040】また、上記〔2〕の方法においては、上記
オルガノシランを、ホモミキサーまたは超音波混合機等
を用いて、アルキルベンゼンスルホン酸等の強酸性乳化
剤の水溶液中で混合し、加水分解・縮合させることによ
って、水系媒体に分散されたオルガノシラン縮合物等が
得られる。このオルガノシラン縮合物等の存在下で、好
ましくは乳化重合により上記有機粒子を生成させればよ
い。
【0041】(4)高誘電率フィルムについて 本発明の水性分散液は、そのまま、あるいはこれを希釈
または濃縮して、また必要に応じて従来公知の添加剤を
適宜配合して、高誘電率フィルム形成用の電着液に用い
られる。この電着液を用いた通常の電着方法により、水
性分散液中の無機粒子および有機粒子を電極表面等に電
着して高誘電率フィルムを製造することができる。本発
明の高誘電率フィルムを製造するにあたっては、電着さ
れた粒子の樹脂成分をさらに加熱硬化させることが好ま
しい。加熱硬化の条件は特に限定されるものではない
が、好ましい加熱温度は100℃〜400℃であり、よ
り好ましくは150〜300℃である。また、好ましい
加熱時間は5分以上であり、より好ましくは10分以上
である。
【0042】本発明の水性分散液によると、誘電率6以
上(より好ましくは7以上)の高誘電率フィルムを得る
ことができる。また、体積抵抗率は1012Ω・cm以上
(より好ましくは1013Ω・cm以上)のものとするこ
とができる。また、この高誘電率フィルムの厚さは50
μm以下(より好ましくは30μm以下)であることが
好ましい。フィルム厚さの下限は特に限定されないが、
通常は1μm以上である。
【0043】(5)電子部品について 本発明の高誘電率フィルムによると、薄膜で静電容量の
大きなコンデンサ等を形成することができる。また、こ
の高誘電率フィルムを備えたプリント回路基板、半導体
パッケージ、コンデンサ、高周波用アンテナ等の電子部
品は、小型でかつ高密度のものとすることができる。
【0044】
【発明の実施の形態】以下、実施例および比較例により
本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下におい
て、特記しない限り、「部」および「%」は重量基準で
ある。
【0045】(1)無機粒子分散液の調製 (合成例1:酸化チタン水分散液a)主としてルチル構
造の二酸化チタンからなる酸化チタン粒子(堺化学株式
会社製、商品名「STR−60C」、平均粒子径0.1
μm、誘電率105)200gおよびイオン交換水80
gをホモミキサーで混合した後、硝酸でpH4に調整
し、さらに10分間の超音波分散を行って、凝集物のな
い酸化チタン水分散液(固形分濃度20%)を得た。
【0046】(合成例2:酸化チタン水分散液b)主と
してルチル構造の二酸化チタンからなる酸化チタン粒子
(石原産業株式会社製、商品名「TTO−55」、平均
粒子径0.2μm、誘電率110)200gおよびイオ
ン交換水80gをホモミキサーで混合した後、硝酸でp
H3に調整し、さらに10分間の超音波分散を行って、
凝集物のない酸化チタン水分散液(固形分濃度20%)
を得た。
【0047】(合成例3:チタン酸バリウム水分散液)
チタン酸バリウム粒子(堺化学株式会社製、商品名「B
T−02」、平均粒子径0.2μm、誘電率2000)
200gおよびイオン交換水80gをホモミキサーで混
合した後、硝酸でpH3に調整し、さらに10分間の超
音波分散を行って、凝集物のないチタン酸バリウム水分
散液(固形分濃度20%)を得た。
【0048】(2)有機粒子エマルジョンの調製 (合成例4:ポリイミド系樹脂エマルジョン)テトラカ
ルボン酸二無水物として3,3’,4,4’−ジフェニ
ルスルホンテトラカルボン酸二無水物32.29g(9
0ミリモル)および1,3,3a,4,5,9b−ヘキ
サヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−
フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−
ジオン3.00g(10ミリモル)、ジアミン化合物と
して2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]プロパン36.95g(90ミリモル)およびオ
ルガノシロキサンLP7100(信越化学製の商品名)
2.49g(10ミリモル)を、N−メチル−2−ピロ
リドン450gに溶解して、室温で12時間反応させ
た。その後、この反応溶液に、ピリジン32gおよび無
水酢酸71gを添加し、100℃で3時間脱水閉環反応
を行った。次いで、反応溶液を減圧留去して精製し、固
形分10%のポリイミド溶液を得た。ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル100部を入れた反応容器を、
窒素ガス雰囲気下で85℃に保持し、この反応容器に、
n−ブチルアクリレート65部、ジメチルアミノエチル
アクリレート30部、グリシジルメタアクリレート5部
およびアゾビスイソブチロニトリル1部からなる混合液
を5時間かけて連続的に添加しつつ、撹拌下で溶液重合
を行なった。滴下終了後、85℃でさらに2時間撹拌を
続けて、溶液重合を完結させ、固形分50%のアクリル
ポリマー溶液を得た。ポリイミド溶液50部(固形分)
とアクリルポリマー溶液30部(固形分)とエピコート
828(油化シェルエポキシ社製の商品名)20部を混
合し、70℃×3時間反応させた後、酢酸3部を徐々に
添加して混合し、pH調整を行った。次いで、蒸留水1
000部を徐々に添加しつつ強く撹拌して、ポリイミド
系樹脂を主成分とする有機粒子のカチオン性エマルジョ
ンを得た。
【0049】(合成例5;エポキシ系樹脂エマルジョ
ン)トリレンジイソシアネートと2−エチルヘキサノー
ルからなるブロックイソシアネート46.3部と、エピ
コート828(油化シェルエポキシ社製の商品名)とジ
エチルアミンとを反応させて得られたエポキシアミン付
加物89.3部とを混合し、pH調節剤として酢酸3.
8部を加えた。これを、イオン交換水1200部中に攪
拌しながら投入することによって、エポキシ系樹脂前駆
体を主成分とする有機粒子のカチオン性エマルジョンを
得た。
【0050】(合成例6:ポリエステル系樹脂エマルジ
ョン)ジメチルテレフタレート466部、ジメチルイソ
フタレート388部、5−ナトリウムスルホイソフタル
酸ジメチル178部、エチレングリコール443部、ネ
オペンチルグリコール400部、酢酸亜鉛0.44部、
酢酸ナトリウム0.04部、三酸化アンチモン0.43
部を反応器に仕込み、140〜220℃で4時間かけて
エステル交換反応を行った。次に260℃20mmHg
の真空下重縮合反応を1時間行ってポリエステル系樹脂
を得た。このポリエステル系樹脂30部をイソプロパノ
ール14部と水56部の混合液中に入れ、70〜75℃
で3時間かけて分散させることによって、ポリエステル
系樹脂重合体を主成分とするカチオン性有機粒子のエマ
ルジョンを得た。
【0051】(3)水性分散液の調製 (実施例1)合成例1で得られた酸化チタン水分散液a
200部(固形分換算で40部)と、合成例4で得られ
たポリイミド系樹脂エマルジョン1200部(固形分換
算で60部)とを混合して水性分散液を調製した。
【0052】(実施例2)合成例2で得られた酸化チタ
ン水分散液b250部(固形分換算で50部)と、合成
例4で得られたポリイミド系樹脂エマルジョン1000
部(固形分換算で50部)とを混合して水性分散液を調
製した。
【0053】(実施例3)合成例3で得られたチタン酸
バリウム水分散液150部(固形分換算で30部)と、
合成例4で得られたポリイミド系樹脂エマルジョン14
00部(固形分換算で70部)とを混合して水性分散液
を調製した。
【0054】(実施例4)ポリイミド系樹脂エマルジョ
ンに代えて、合成例5で得られたエポキシ系樹脂エマル
ジョンを用いた点以外は、実施例2と同様にして水性分
散液を調製した。
【0055】(実施例5)ポリイミド系樹脂エマルジョ
ンに代えて、合成例6で得られたポリエステル系樹脂エ
マルジョンを用いた点以外は、実施例2と同様にして水
性分散液を調製した。
【0056】(比較例1)合成例1で得られた酸化チタ
ン水分散液をそのまま水性分散液とした。
【0057】(比較例2)ポリイミド系樹脂ワニス(宇
部興産株式会社製、商品名「ユピファインST」)60
0部(固形分換算で60部)中に、合成例1で用いた酸
化チタン粒子40部を添加混合してフィルム形成用のワ
ニスを得た。
【0058】(4)フィルムの形成および性能評価 上記実施例1〜5および比較例1の水性分散液中に、そ
れぞれ陰極としての銅板および対向電極としてのSUS
板を配置し、10Vの定電圧法により陰極側の銅板上に
粒子を電着させた。その後、100℃で10分加熱し、
さらに250℃で30分間加熱して厚さ20μmのフィ
ルムを得た。なお、比較例1では成膜性不良によりフィ
ルムを得ることができなかった。また、比較例2のワニ
スを銅板上に塗布して100℃で10分加熱し、さらに
250℃で30分間加熱して厚さ20μmのフィルムを
得た。
【0059】実施例1〜5および比較例1、2の水性分
散液またはワニスにつき、その貯蔵安定性を下記方法に
より評価した。また、電着により得られたフィルムの性
能を下記方法により評価した。その結果を表1および表
2に示す。
【0060】〔貯蔵安定性〕プラスチック瓶に水性分散
液またはワニスを入れ、20℃で10日間保存したとき
の分散状態および粘度を目視にて観察した。評価結果は
下記基準で示す。 ○:粘度、分散状態ともに変化なし ×:二層に分離する 〔誘電率、誘電正接および体積抵抗率〕JIS K64
81に準拠して測定した。 〔耐湿熱性(HAST試験)〕硬化フィルムについて、
121℃、湿度100%、2気圧の条件下で、72時間
耐湿熱性試験を行って、試験の前後で赤外線分光測定を
実施し、その変化の程度により、耐湿熱性を下記基準で
評価した。 ○・・・変化がなく耐性が認められる ×・・・変化が大きく耐性が認められない
【0061】
【表1】
【0062】
【表2】
【0063】表1および表2から判るように、実施例1
〜5の水性分散体はいずれも貯蔵安定性に優れ、またこ
の水性分散体から電着によって形成されたフィルムはい
ずれも電気的特性が良好であった。有機粒子としてポリ
イミドを用いた実施例1〜3では、特に体積抵抗率の高
いフィルムが得られた。一方、有機粒子を含まない水性
分散体である比較例1は成膜性をもたず、また樹脂ワニ
スに無機粒子を添加した比較例2は貯蔵安定性に欠ける
ものであった。
【0064】
【発明の効果】本発明の電着用水性分散液は、上述のよ
うに貯蔵安定性に優れることから、高誘電率フィルム作
製の都度この液を調製する必要がない。これにより、本
発明の水性分散液によると高誘電率フィルムの生産性が
向上する。また、ワニスとは異なり水性媒体を用いてい
るので作業環境の点からも好ましい。また、本発明の高
誘電率フィルムは、上記水性分散液を用いた電着により
作製されるので、電着条件の調製等により膜厚制御が容
易であり、また塗布により作製された場合等に比べてフ
ィルムの形成性に優れ、基体への追随性にも優れる。さ
らに、導電性基体(配線等)上に選択的に高誘電率フィ
ルムを形成させることができ、フォトリソグラフィーや
印刷法等に比べて安価で高精度に高誘電率フィルムを作
成できる。本発明の高誘電率フィルムは、薄膜で高誘電
率であるので、プリント回路基板、半導体パッケージ、
コンデンサ、高周波用アンテナ等の電子部品等において
好適に利用される。本発明の電子部品は、上記高誘電率
フィルムを備えることから、小型化、薄膜化することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J038 DJ021 FA062 FA152 FA282 GA03 GA06 GA07 GA08 GA11 HA216 JB09 KA20 MA08 MA10 NA21 NA26 PA19 PB09 PC08

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水性媒体中に、平均粒子径1μm以下か
    つ誘電率30以上の無機粒子と、重合性化合物および重
    合体の少なくとも一方からなる有機粒子とが分散してい
    ることを特徴とする電着用水性分散液。
  2. 【請求項2】 電着により得られたフィルムの誘電率が
    6以上である請求項1記載の電着用水性分散液。
  3. 【請求項3】 上記無機粒子はチタン系金属酸化物から
    なる請求項1または2記載の電着用水性分散液。
  4. 【請求項4】 上記有機粒子は粒子表面に電荷を有し、
    ポリイミド系樹脂からなる請求項1から3のいずれか一
    項記載の電着用水性分散液。
  5. 【請求項5】 上記無機粒子と上記有機粒子との体積比
    が5/95〜80/20である請求項1から4のいずれ
    か一項記載の電着用水性分散液。
  6. 【請求項6】 請求項1から5のいずれか一項記載の電
    着用水性分散液を用いた電着により形成されたことを特
    徴とする高誘電率フィルム。
  7. 【請求項7】 請求項1から5のいずれか一項記載の電
    着用水性分散液を用いた電着により形成された高誘電率
    フィルムを備えることを特徴とする電子部品。
JP28590499A 1999-10-06 1999-10-06 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品 Expired - Fee Related JP4265048B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28590499A JP4265048B2 (ja) 1999-10-06 1999-10-06 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品
US09/678,613 US6586513B1 (en) 1999-10-06 2000-10-04 Aqueous dispersion for electrodeposition, high dielectric constant film and electronic parts
TW89120804A TW540075B (en) 1999-10-06 2000-10-05 Aqueous dispersion for electro-deposition, high dielectric constant film and electronic parts
DE2000637488 DE60037488T2 (de) 1999-10-06 2000-10-05 Wässrige Dispersion für Elektroabscheidung, Film mit hoher Dielektrizitätskonstante und elektronische Bauteile
KR1020000058400A KR100821044B1 (ko) 1999-10-06 2000-10-05 전착용 수성 분산액, 고유전률 필름 및 전자 부품
EP20000121771 EP1091371B1 (en) 1999-10-06 2000-10-05 Aqueous dispersion for electrodeposition, high dielectric constant film and electronic parts
US10/401,555 US7342063B2 (en) 1999-10-06 2003-03-31 Aqueous dispersion for electrodeposition, high dielectric constant film and electronic parts

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28590499A JP4265048B2 (ja) 1999-10-06 1999-10-06 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001106977A true JP2001106977A (ja) 2001-04-17
JP4265048B2 JP4265048B2 (ja) 2009-05-20

Family

ID=17697533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28590499A Expired - Fee Related JP4265048B2 (ja) 1999-10-06 1999-10-06 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品

Country Status (6)

Country Link
US (2) US6586513B1 (ja)
EP (1) EP1091371B1 (ja)
JP (1) JP4265048B2 (ja)
KR (1) KR100821044B1 (ja)
DE (1) DE60037488T2 (ja)
TW (1) TW540075B (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002138253A (ja) * 2000-08-25 2002-05-14 Sakura Color Prod Corp 電着塗装用水性金属酸化物分散体組成物
JP2003011270A (ja) * 2001-07-02 2003-01-15 Jsr Corp 導電性箔付き誘電体層およびこれを用いたコンデンサ、ならびにその形成方法
JP2003026932A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Jsr Corp 超微粒子複合樹脂粒子、誘電体形成用組成物および電子部品
JP2004162033A (ja) * 2002-10-21 2004-06-10 Jsr Corp 電着用水性分散液、電磁波ノイズ吸収フィルムおよびインダクタ電子部品
JP2006328548A (ja) * 2006-08-22 2006-12-07 Jsr Corp 表面処理液及び表面処理部材
CN100357496C (zh) * 2002-06-28 2007-12-26 三井金属鉱业株式会社 金属材料表面形成聚酰亚胺覆盖膜的方法和电容器层形成用包铜层压板的制法及用该法制得的铜压板

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1387367B1 (en) * 2001-01-29 2007-01-10 JSR Corporation Composite particle for dielectrics, ultramicroparticulate composite resin particle, composition for forming dielectrics and use thereof
JP2002293610A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Jsr Corp 誘電体用複合粒子、誘電体形成用組成物および電子部品
EP1438767A4 (en) * 2001-10-26 2005-02-23 Unitech Llc APPLIED COATING ANTENNA AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
EP1408067B1 (en) * 2002-10-10 2005-12-21 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Colorless and transparent polyimidesilicone resin having thermosetting functional groups
US7270765B2 (en) * 2004-06-14 2007-09-18 Asahi Glass Company, Limited Composition for forming dielectric layer, MIM capacitor and process for its production
JP4913469B2 (ja) * 2005-06-29 2012-04-11 アイシン高丘株式会社 燃料電池スタック及びターミナルプレートの製造方法
US20080075863A1 (en) * 2006-08-16 2008-03-27 Lexmark International, Inc. Tunable dielectric compositions and methods
US8623941B2 (en) 2010-11-10 2014-01-07 Ut-Battelle, Llc Method of forming nanodielectrics
KR102672003B1 (ko) 2016-10-21 2024-06-03 한국전기연구원 전착코팅용 이미드계 고분자 콜로이드 분산액 및 그 제조방법

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2386634A (en) * 1940-03-20 1945-10-09 Sprague Electric Co Flexible electrical insulating layer
US2619443A (en) * 1948-04-08 1952-11-25 Sprague Electric Co Method of making electrical condensers
US3579769A (en) * 1968-02-19 1971-05-25 Akira Matsushita Capacitors and production thereof
GB1316500A (en) * 1969-05-30 1973-05-09 Matsushita A Electrophoretic deposition
US3855169A (en) * 1972-06-23 1974-12-17 Gen Electric Electrocoating compositions and method for making same
JPS5710663A (en) 1980-06-20 1982-01-20 Toyobo Co Ltd Aqueous printing ink
JPS5770153A (en) 1980-10-17 1982-04-30 Toyobo Co Ltd Aqueous polyester resin
JPS58174421A (ja) 1982-04-07 1983-10-13 Toyobo Co Ltd 水溶性ポリエステルの製造法
JPH0689276B2 (ja) * 1985-03-13 1994-11-09 セイコー電子工業株式会社 カラーフィルター用高誘電性高分子電着組成物
US5382928A (en) * 1993-01-22 1995-01-17 The Whitaker Corporation RF filter having composite dielectric layer and method of manufacture
JP3175477B2 (ja) 1994-03-30 2001-06-11 ジェイエスアール株式会社 水性フッ素樹脂組成物
JPH0912742A (ja) 1995-06-30 1997-01-14 Hitachi Chem Co Ltd 高誘電率フィルム
JP3089195B2 (ja) * 1995-10-12 2000-09-18 大日本塗料株式会社 電着用ポリイミド組成物
JPH09208865A (ja) 1996-02-02 1997-08-12 Daicel Chem Ind Ltd カチオン電着塗料組成物
KR100221035B1 (ko) * 1996-03-01 1999-09-15 후지이 히로시 음극 전착도료
JPH09235495A (ja) 1996-03-01 1997-09-09 Nippon Paint Co Ltd 低鉛含有カチオン電着塗料
JPH1060280A (ja) 1996-08-14 1998-03-03 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 水系分散体
JP3644206B2 (ja) 1997-08-05 2005-04-27 Jsr株式会社 ポリイミド系水性分散体およびその製造方法
JP3635883B2 (ja) 1997-08-08 2005-04-06 Jsr株式会社 水性分散体およびその製造方法
KR100572646B1 (ko) * 1998-07-17 2006-04-24 제이에스알 가부시끼가이샤 폴리이미드계 복합체 및 이 복합체를 사용한 전자 부품, 및 폴리이미드계 수성 분산액
US7015256B2 (en) * 2002-01-28 2006-03-21 Jsr Corporation Composition for forming photosensitive dielectric material, and transfer film, dielectric material and electronic parts using the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002138253A (ja) * 2000-08-25 2002-05-14 Sakura Color Prod Corp 電着塗装用水性金属酸化物分散体組成物
JP2003011270A (ja) * 2001-07-02 2003-01-15 Jsr Corp 導電性箔付き誘電体層およびこれを用いたコンデンサ、ならびにその形成方法
JP2003026932A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Jsr Corp 超微粒子複合樹脂粒子、誘電体形成用組成物および電子部品
CN100357496C (zh) * 2002-06-28 2007-12-26 三井金属鉱业株式会社 金属材料表面形成聚酰亚胺覆盖膜的方法和电容器层形成用包铜层压板的制法及用该法制得的铜压板
JP2004162033A (ja) * 2002-10-21 2004-06-10 Jsr Corp 電着用水性分散液、電磁波ノイズ吸収フィルムおよびインダクタ電子部品
JP2006328548A (ja) * 2006-08-22 2006-12-07 Jsr Corp 表面処理液及び表面処理部材

Also Published As

Publication number Publication date
EP1091371A2 (en) 2001-04-11
TW540075B (en) 2003-07-01
US20030207135A1 (en) 2003-11-06
US7342063B2 (en) 2008-03-11
KR20010039999A (ko) 2001-05-15
EP1091371A3 (en) 2004-11-24
DE60037488T2 (de) 2008-12-04
KR100821044B1 (ko) 2008-04-08
EP1091371B1 (en) 2007-12-19
JP4265048B2 (ja) 2009-05-20
US6586513B1 (en) 2003-07-01
DE60037488D1 (de) 2008-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4265048B2 (ja) 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品
JP5015591B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
KR100605517B1 (ko) 폴리이미드-금속 적층체 및 폴리아미드이미드-금속 적층체
JP2003011270A (ja) 導電性箔付き誘電体層およびこれを用いたコンデンサ、ならびにその形成方法
KR20140025450A (ko) 도전성 도막의 제조 방법 및 도전성 도막
JP3539633B2 (ja) アルコキシ基含有シラン変性ポリアミック酸樹脂組成物およびポリイミド−シリカハイブリッド硬化物
KR20160000858A (ko) 수지 조성물
WO2006098409A1 (ja) 樹脂組成物及びそれを含む被膜形成材料
JP2001294815A (ja) 低誘電率絶縁膜形成用水性分散液、低誘電率絶縁膜および電子部品
JP2002161244A (ja) 熱伝導性膜、その形成用液、熱伝導性膜付基材、その製造方法、放熱板および放熱構造
JP5250923B2 (ja) 超微粒子複合樹脂粒子、誘電体形成用組成物および電子部品
JP2003136632A (ja) 金属付きポリイミドフィルムの製造方法および当該製造方法により得られる金属付きポリイミドフィルム
JP2002231052A (ja) 誘電体用複合粒子、誘電体形成用組成物および電子部品
JP2012201726A (ja) ペースト組成物およびそれを用いた磁性体組成物
JP2021105148A (ja) 樹脂組成物、樹脂フィルム及び金属張積層板
JP2004162033A (ja) 電着用水性分散液、電磁波ノイズ吸収フィルムおよびインダクタ電子部品
JP2002356653A (ja) 電着用水性分散液、高誘電率フィルム及び電子部品
CN113174231B (zh) 聚酰亚胺树脂组合物、粘接剂组合物及它们的相关制品
JP2004335764A (ja) 誘電体膜およびその製造方法
JP2004025778A (ja) 金属箔積層体および両面金属箔積層体
JP2006019621A (ja) キャパシタ用ポリマーセラミックコンポジット材料、多層配線板及びモジュール基板
EP2787024B1 (en) Thermosetting composition, hardened film and electronic component
JP2002293610A (ja) 誘電体用複合粒子、誘電体形成用組成物および電子部品
KR102230885B1 (ko) 전도성 접착제 조성물 및 이를 이용한 전도성 접착 필름.
JPH0211616B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050622

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081030

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081118

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090127

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140227

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees