JP2001048573A - 無アルカリ・アルミノ硼珪酸ガラス、その用途及びその作製方法 - Google Patents
無アルカリ・アルミノ硼珪酸ガラス、その用途及びその作製方法Info
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Abstract
ために適切な無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスを提供す
る。 【解決手段】本発明は無アルカリアルミノ硼珪酸ガラス
に関し、以下の組成(重量%、酸化物に基づく),すな
わち、SiO2 >60〜65;B2O3 6.5〜9.
5;Al2O3 14〜21;MgO 1〜8;CaO
1〜6;SrO 1〜9;BaO 0.1〜3.5;但
し、MgO+CaO+SrO+BaO8〜16;ZrO
2 0.1〜1.5;SnO2 0.1〜1;TiO2
0.1〜1;CeO2 0.01〜1を有する。
Description
イ技術や他の用途で使用される無アルカリ・アルミノ硼
珪酸ガラス、及びその作製のための方法に関する。
リ−ン画面としてディスプレイ技術で使用されるガラス
に関して行なわれた基本的な要求性能は、W.H. Dumbaug
h、P.L. Bocko及びF.P. Fehlner (「高性能ガラス」に
おける「フラットパネルディスプレイ」M. Cable及びJ.
M. Parker 編集、Blackie and Son 会社、グラスゴ−及
びロンドン、1992年)により詳細に説明されてい
る。TFT(薄膜トランジスタ−)の用途に現在使用可
能なガラスは、J.C. Lapp、P.L. Bocko及びJ.W. Nelso
n、コ−ニングリサ−チ、1994年による文献「フラ
ットパネルディスプレイ用高性能ガラス基板」にも検討
されている。平面ガラス基板に必要で、装置の画像特性
の精度について決定的効果を持つ特性品質が、一方では
ガラスの組成により直接に、他方では製造方法、処理方
法、造形方法や、ガラスに対して特定の特性を設定する
それらの機能、例えば厚さ特性パラメ−タや平面性パラ
メ−タにより要求される、によって記載されている。な
お、これらの方法の適用可能性は、また、ガラスの組成
によりあるいはガラスの特性により制約されるものであ
る。
用途で主な役割を果たしている。特に、この硼珪酸ガラ
スは、周期的で異なった熱負荷にかけられた場合の高安
定性、低熱膨張、良好な耐腐蝕性試薬および媒体が特徴
である。従って、硼珪酸ガラスは、基本的にディスプレ
イ技術で基板ガラスとしての使用に関心が持たれるが、
ディスプレイ製造方法、例えば薄膜アクティブマトリッ
クス液晶ディスプレイ(TFT−AMLCD)及び所定
の用途には下記の非常に特殊なガラスの特性プロフィ−
ルが必要である。 ・3.0×10-6/Kから3.8×10-6/Kまでの多
結晶シリコンに一致する熱膨張係数α20/300であるこ
と。特に、3.0×10-6/K〜3.3×10-6/Kの
α20/300は、700℃までの温度でも良好に膨張が一致
をみる。 ・製造時にガラスの高い熱加工及び寸法安定性、特に冷
却相でのガラスの低緻密化を確保するために1014.5d
Pasの粘度の温度が少なくとも680℃であること。 ・アルカリイオンが半導体層内に拡散することによって
微細構造薄膜トランジスタ−がだめにならないように、
無アルカリガラス組成、最大アルカリ金属酸化物含有
量、ΣR2O=2000ppmが許容されること。 ・710℃〜780℃の変態温度Tgにより記録される
高度な高温プロセス安定性。 ・微細構造化プロセスで使用される試薬、媒体に対し
て、十分な耐薬品性、すなわち耐加水分解、耐酸及び耐
アルカリ特性。 ・大型画面傾向を考慮してディスプレイの全重量の軽量
化のために、非常に低密度、すなわちρ≦2.50g/
cm3であること。
結晶介在物、こぶ、気泡が無い特性は非常に良好でなけ
ればならない。この複雑で広範囲な要求特性は、アルカ
リ土類金属アルミノ硼珪酸ガラス亜類からの硼珪酸ガラ
スにより最も良く満たされる。TFT‐AMLCD用の
既知の市販ガラスは、この種のガラスに属する。以下説
明する特許あるいは特許出願に記載したガラスは、この
グル−プの典型でもある。しかしながら、ディスプレイ
用途の現在既知のガラス全ては、未だに不具合を有して
おり、要求性能の全リストを満足していない。米国特許
5,506,180は、なかでもTFTディスプレイガ
ラス用の熱に安定で耐薬品性のガラスを記載している。
10%以上の高いB2O3含有量や、比較的低いSiO2
レベル(46〜56%)のために、この種のガラスは耐
塩酸性が不十分である。さらに、弗化水素酸を含有する
溶液に対するそのガラスの抵抗性は中程度に過ぎない。
多結晶シリコンへの熱膨張の一致化も不十分である。加
工温度VAが1150℃未満であると、あまりに低温で
あるため、マイクロシートダウンドロー(down−d
raw)法や、フロートプロセスに代わるものとしての
オーバーフロ−溶融法のような延伸法を使用できない。
さらに、開示された規定歪み点が642℃以下であるた
め、緻密化できなくなることを保証できない。
トプロセスで製造可能で、とりわけ、種々のディスプレ
イと写真マスク用の基板として使用される無アルカリガ
ラスを記載している。そのガラスはBaO及びMgOを
含有しておらず、非常に低レベルのB2O3を含有してい
る。しかしながら、これらのガラスの不具合は、それら
のアルカリ土類金属濃度が高く、CaO量が少なくとも
10重量%で、SrO量が少なくとも11重量%である
ことにある。その熱膨張、4.5〜6.0×10-6/K
は、多結晶シリコンに合致する高品質TFTディスプレ
イの要求性能に合致するには不十分である。EP527
320B1は、少なくとも21モル%のSrOを含有す
るストロンチウムアルミノ珪酸ガラス基板を有するフラ
ットパネルディスプレイ装置を記載している。高度な失
透安定性を備えたガラス用の本件のガラス組成は、オ−
バ−フロ−溶融延伸法で製造されるのに適するように特
に設計されていると思われる。このガラスの密度とそれ
らの熱膨張係数は非常に高い。日本のJP8‐2953
30Aは、塩酸に対する安定性が高B2O3 含有量(1
5重量%まで)のために低い無アルカリガラス基板を記
載している。
無アルカリガラス基板を記載している。このガラスには
SiO2が比較的少量含まれ、またMgOが少量含まれ
ているか含まれていない。そのガラスはZnOとTiO
2を各々5重量%まで含有してもよい。ZnOは、フロ
ート浴でガラス表面から蒸発し、続いて凝縮する傾向の
ためにガラス欠陥を発生させることがある。TiO2含
有量が高ければ、従来の原料を使用した場合に、通常の
原料に常時存在するFe3+ がTi4+ と褐色の錯体を形
成するため、ガラス内に褐色の色合いが生じる。同様の
ことがWO97/11920に記載されたガラス基板に
も当てはまる。欧州特許出願EP714862A1は、
TFTフラットパネルディスプレイで使用される無アル
カリ・無ZrO2,TiO2ガラスを記載している。比較
的高SiO2含有量のこの種のアルミノ珪酸ガラスは、
高粘性であり、効率的な精製が極めて問題になる。従っ
て、これらのガラスは目視特性において必要な高度な要
求に合致しない。
08,237は、フラットパネルディスプレイ用のアル
ミノ珪酸ガラスを記載している。これらは種々の熱膨張
係数を有する種々の組成範囲を示している。これらのガ
ラスは、オ−バ−フロ−溶融延伸法のみならず、他の平
面ガラス製造法でも加工できるとされている。しかしな
がら、特に多結晶シリコンに対応する熱膨張係数を有す
るガラスは、非常に高い加工温度VA を有し、そのため
そのガラスがフロートプロセスに不適切となる。上記ガ
ラスの場合のように、有効な精製方法、特にフロートプ
ロセスと両立できる方法が示されていないために、目視
特性はここでは高度ではない。実施例で示された精製剤
Sb2O3及びAs2O3 は容易に還元され、フロートプ
ロセスには不適切である。同じことが任意のガラス組成
物Ta2O5やNb2O5 にも当てはまる。
‐AMLCD用の無アルカリガラス基板において、Si
O2、B2O3、MgO、及びBaOだけはガラス内にな
ければならないために、目視特性は同様に高度ではな
い。ドイツ特許、DE3808573C2は、SnO2
を含有し、溶融し易く、低コストで精製可能な無アルカ
リ・無SrO及びB2O3アルミノ珪酸ガラスを記載して
いる。このガラスは高化学安定性を示す。これらガラス
は写真マスクとして使用される。4.0×10-6/Kで
は、そのガラスの熱膨張による挙動は、多結晶シリコン
のそれに最適には対応しない。このガラスはB2O3 を
含有していないため、平面ガラス製造方法には好ましく
ない温度/粘度特性を有する。本出願人の会社名義のド
イツ特許、DE19617344C1は、SnO2 を含
有する無アルカリガラスを記載している。このガラスは
SiO2 量が比較的低く、TiO2を含有していない。
熱膨張係数が約3.7×10-6/Kで、化学安定性が非
常に良好であるため、これらのガラスはディスプレイ技
術で使用するのに適切である。しかしながら、フロート
法と延伸法でそのガラスを経済的に製造する点では、す
なわち、「汎用的に」製造可能である点で、また熱膨張
と密度を希望通りに下げる点では、まだ改良の必要性が
ある。これは、本出願人の会社の名義のドイツ特許DE
19603698C1に記載されたTiO2とSrOを
含有しないガラスに関しても当てはまる。
ディスプレイ用基板ガラスとして非常に適切な無アルカ
リ・アルミノ硼珪酸ガラスは、本出願人の会社名義の別
のドイツ特許、DE19739912にすでに記載され
ている。改良の必要性は、画面型式サイズが増大するた
めに、今後増大する低密度の要求性能の点と、多結晶シ
リコンに対して膨張が非常に正確に合致する点にだけあ
る。WO97/30001は太陽電池とTFT用の基板
を記載している。この基板は、アルミノ珪酸ガラスを基
材とし、少なくとも700℃の熱安定度を有するガラス
あるいはガラスセラミックスから成っている。これらの
構成成分と組成範囲は、広い範囲内で変化可能であり、
それに対応してその特性を変えることができる。このガ
ラスはCs2Oを含有してもよい。このガラスはB2O3
を含有しないため、密度が比較的高く、結晶化安定度が
不十分であろう。WO98/27019はフラットパネ
ルディスプレイと光起電力装置用基板を記載している。
この基板は、熱膨張係数α0/300が3.0×10-6/K
〜4.0×10-6/Kで、1014.5dPasの温度が6
00℃を超え、SiO2、Al2O 3、B2O3、及びアル
カリ土類金属酸化物(ROが10〜25重量%)から成
るガラスで構成されている。上記ROの中で、CaOだ
けは存在していなければならず、SrO+BaOは0〜
3重量%である。しかしながら、そのようなアルカリ土
類金属のアンバランスな少量陽イオン対多量陽イオン比
率により、失透安定度が悪化する。
は、SnOを含有し、むしろ高B2O3含有量で広い規制
値内で変えられるアルカリ土類金属量とを有する無アル
カリガラスを記載している。JP9‐263421Aと
JP10‐45422Aは、フラットパネルディスプレ
イ装置の基板として使用するためのフロート法で加工で
きる無アルカリガラスを記載している。記載されたガラ
スは、102 dPasの粘度の温度がむしろ高く、この
ことが低溶融性を意味し、低コスト製造を不可能にす
る。というのは、この必須温度範囲は又、耐触性に関し
て、タンクおよびディストリビュータ材が高度な要求を
なされるということを意味するからである。JP10‐
45422Aのガラスは、TiO2、ZrO2、CeO2
を含有しない。BaO含有ガラスの密度は、ρ>2.6
g/cm3 と比較的高い。JP9‐263421Aのガ
ラスは好ましくはBaOを含有せず、TiO2、Zr
O2、CeO2、SnO2を含有しない。ディスプレイの
基板ガラスとして使用される無アルカリガラスは、JP
10‐130034A、JP10‐114538、及び
JP10‐59741Aに同様に記載されている。しか
しながら、これらの成分と組成範囲は、広い規制値内で
変えることができ、それに相応してその特性を変えるこ
とができる。このガラスは全て、ZnOを10重量%ま
で含有できるが、これによりフロートプロセスによる製
造が不利となる。
ラスは,少なくとも0.05重量%のAs2O3と少なく
とも0.05重量%のSnO2を含有する。これらAs2
O3含有量のために、そのガラスはフロートプロセスで
は製造できない。典型的な幾つかのガラスのSiO2含
有量(約55重量%だけ)が非常に低いために、耐HC
l性は、平面ガラスと光起電力装置基板の要求性能に合
致しない。JP10‐114538Aは、JP10‐1
30034AのAs2O3精製をSb2O3 精製に代え、
その結果としてSb2O3 含有量が0.05〜3重量%
となり、これが同様にフロートプロセスによる製造を不
可能にする。JP10‐59741Aは、唯一の精製剤
として0.05〜2.0重量%のSnO2 を使用してい
る。この文献は、精製温度に達するまでに四価の二酸化
錫を安定化し、酸素の早期発生を防止するいずれの添加
物及び/又は成分も示唆していない。その結果として、
このガラスはディスプレイ用途に必要な高度な目視特性
(気泡が無いこと)を示していない。
Tディスプレイ用、MEMS(微細工学及び機械的装
置)用、ウェハ−接着可能な絶縁物(SOI,絶縁物上
にシリコン)用、及び薄膜太陽電池用の基板用ガラスの
前記物理的及び化学的要求性能に合うガラス、すなわ
ち、フロート法あるいは延伸法などの種々の平面ガラス
製造方法が上記基板型式の特定の要求性能プロフィ−ル
により、ガラスを製造するために使用できるように有利
な加工温度範囲と高度な失透安定性を有するガラスを提
供することである。従って、製造できる厚さも30μm
〜数mmの範囲で変化する。この種のガラスは容易に溶
融可能で精製可能であることが必要である。内部のガラ
ス特性を悪化することがある硼酸亜鉛、硼酸鉛、アルミ
ノ硼酸バリウムなどの高揮発性硼酸塩化合物の生成は避
ける必要があり、少なくとも最少にする必要がある。
aw)法(MDD法)を使用して厚さ範囲が30〜50
μmの微細シ−トを製造するために、ガラスは同時に非
常に高度な失透安定性と特定の加工温度VAを有する必
要がある。適切な加工温度は、好ましくは1260ない
し1320℃の粘度104dPasの温度である。失透
安定性あるいは結晶化安定性のための特徴の一つが最大
結晶成長速度VMAX[μm/h]である。この特徴は形
成される結晶の最大実測成長長さを示している。すなわ
ち、温度Tに対する結晶成長速度vのプロット上でV
MAXが最大結晶成長温度で、すなわちKGMAXでその成長
速度に対応する。VMA Xが小さければ小さい程、結晶の
体積が小さく形成される。このVMAXは、この場合10
μm/h以下であるべきである。微細浮動(microfloa
t)法を使用してディスプレイ用途のガラスパネルを特に
大型に製造するために、104dPasの粘度での温度
を好ましくは1250〜1350℃にする必要がある。
As2O3、Sb2O3、P2O5、Bi2O3、Nb2O5、T
a2O5、PbO、CdO、及びZnOなどの容易に還元
されるガラス成分はガラス組成物に含有すべきではな
い。なぜなら、それら組成物はフロート浴で還元条件下
で元素状態まで還元可能で、灰色金属面反射あるいは他
の微細面欠陥を生成する可能性があるからである。結晶
化安定度の要求性能は、前述のMDD法の場合のように
ここでは高くない。従って、30μm/h以下のVMAX
はなお十分である。
の範囲の請求項1に係るガラスと、特許請求の範囲の請
求項7に係る方法によって達成される。本発明によれ
ば、3種類のガラス形成成分、SiO2、B2O3、Al2
O3は、狭く規定された含有量で、従って、また互いに
狭い比率内で存在している。すなわち、B2O3含有量は
どちらかと言えば少なく、少なくとも6.5重量%、多
くとも9.5重量%である。9重量%未満の限定が好ま
しい。7〜8.5重量%のB2O3含有量が特に好まし
い。Al2O3含有量は14〜21重量%で変えられる。
少なくとも15重量%、多くとも20重量%のAl2O3
含有量が特に好ましい。SiO2含有量は、驚くべきこ
とに溶融範囲での粘度に関して何ら不具合を発生するこ
となく比較的高く、すなわち、>60〜65重量%とす
ることができる。その結果、耐薬品性(例えば5%濃度
HClに対し)がかなり改善され、同時に低密度を確保
できる。SiO2含有量が多量でも溶融範囲の粘度が過
剰に増大する。少なくとも60.5重量%の量が好まし
く、多くとも62.5重量%の量が特に好ましい。この
ように、同時に多くとも2.50g/cm3の低密度
で、3.0×10-6/K〜3.8×10-6/Kの範囲の
好ましい低熱膨張係数α20/3 00を達成することが可能で
ある。特に好ましい範囲、α20/300=3.0〜3.3×
10-6/Kは、SiO2含有量が少なくとも60.5重
量%で、少なくとも18.0重量%の高いAl2O3含有
量で達成される。ガラス構造物でB2O3とAl 2O3が相
互に影響するために、所定の良好な化学安定性及び結晶
化安定性は、B 2O3含有量が前述の狭い範囲でだけ達成
することができる。B2O3含有量が少なければ、ガラス
が失透をより受け易くなり、また配位数5と6のアルミ
ニウム原子数が増加すると共にAl配位に直接影響する
ことにより熱膨張が増大する。B 2O3とAl2O3 の含
有量があまりに高ければ、耐塩酸は低下する。
類金属酸化物を含有している。これにより低密度、高歪
み点及び低熱膨張になる。そのアルカリ土類金属酸化物
は全体で少なくとも8重量%でガラス内に存在する。少
量でも、溶融と造形に必要な粘度の温度が非常に高くな
るだろう。アルカリ土類金属酸化物の少量陽イオンと多
量陽イオン間の比率が均合がとれると、加工温度と失透
安定性に積極的に影響を与える。従ってこのガラスは、
1〜8重量%のMgOと1〜6重量%のCaOと、0.
1〜3.5重量%のBaOと、1〜9重量%のSrOを
含有する。この場合、耐薬品性が減少しないよう、Mg
O、CaO、SrO、BaOの全体量を最大16重量%
に限定すべきである。
と比較してSrOを使用することが好ましい。重酸化物
BaOとSrOが完全に除去されれば、あるいはそれら
の量があまりにも少なければ、当該ガラスは失透をより
受け易くなり、転移温度及び1014.5dPasの粘度の
温度が低下するだろう。BaOとSrOの量が多すぎる
と、加工温度が高くなりまずいだろう。BaOが少ない
ガラスは、フロート法により好ましく加工され、一方高
レベルのBaOを含有するガラスは、その良好な結晶化
安定性のために延伸法で加工される。9〜<15重量%
のアルカリ土類金属酸化物含有量(ΣRO=MgO+C
aO+SrO+BaO)が好ましい。この含有量では個
々の酸化物は以下のレベル、すなわち、MgOが1〜7
重量%、CaOが1〜5重量%、SrOが2〜8重量
%、BaOが0.5〜3重量%で存在する必要がある。
特に、MgOが3〜5重量%、CaOが2〜5重量%、
SrOが3〜7重量%、BaOが0.6〜<3重量%、
特に好ましくは1.5重量%が、ROは10〜14重量
%が好ましい。不可避的不純物は別として、このガラス
はZnOとアルカリ金属酸化物を含有していない。比較
的高いAl2O3含有量の硼珪酸ベースのガラス内におい
て陽イオン(Ba2+、Sr2+)が比較的多い特殊な含有
量であるため、本発明のガラスは、低熱膨張と非常に有
利な粘度/温度特性、すなわち、転移範囲で急峻な粘度
特性及び加工範囲での均一な粘度増加を示す。
%のZrO2を含有する。ZrO2は耐薬品性を改良す
る。最少含有量は0.2重量%が好ましい。最大ZrO
2含有量は、その低溶融度で制限され、好ましくは1重
量%、特に好ましくは0.6重量%である。当該ガラス
はまた、0.1〜1重量%のTiO2を含有する。これ
により、これまで多く観察されたアルミノ硼珪酸ガラス
のソラリゼーション、すなわちUV‐VIS放射による
可視波長の透過率の低下が最小になる。TiO2含有量
は好ましくは多くとも0.5重量%、特に好ましくは少
なくとも0.2重量%、多くとも0.4重量%である。
さらに、このガラスは酸化錫を含有し、この酸化錫は、
酸化還元平衡SnO2/SnOでガラスに存在し、0.
1〜1.0重量%の量で計算され、SnO2 として使用
される精製剤として作用する。少なくとも0.2重量
%、多くとも0.8重量%、特に好ましくは多くとも
0.6重量%の含有量が好ましい。
1.0重量%のCeO2の存在が本発明には不可欠であ
る。すなわち、CeO2とSnO2 を組み合わせること
によってSnO2/SnO酸化還元平衡が安定化し、ア
ルミノ硼珪酸ガラスに対して非常に良好な精製効果が達
成されて本発明に係るガラスが必須の高度目視特性を示
す。さらに、ZrO2と組み合わせたSnO2 とCeO2
は当ガラスの耐薬品性を安定化させる。しかしCeO2
含有量が多いと、UV吸収が増加し、吸収カットオフは
VIS範囲にずれ、その結果、ガラスにはっきりした黄
変が発生する。同時にこのガラスは著しい蛍光性を示
す。従って多くとも0.5重量%の含有量が好ましい。
この比較的低いCeO2含有量は、SnO2/SnO酸化
還元平衡を十分に安定化させる硝酸塩の添加によって可
能になる。本発明によれば、NH4NO3が0.2〜3重
量%の量でバッチに添加される。NH4NO3の強力な酸
化効果により、溶融領域にある四価の形態の精製剤組み
合わせSnO2/CeO2が安定化されて、早期酸素の放
出が防止される。その結果として、かなり高い比率の四
価のSnO2及びCeO2が、精製温度に達した時点で酸
素の放出(精製)を伴うSnOとCe2O3への分解に利
用でき、それにより非常に良好なガラスの目視特性が観
察された。
少なくとも1.0重量%のNH4NO3の添加が好まし
い。このNH4NO3の添加により、ガラス溶融物中の他
の多価イオンを同時に酸化できる。例えば、とりわけ非
常に良好な透過率のガラスは、Fe2+のFe3+への酸化
の結果であり、これによりガラス内でその二価の形態よ
り着色が生じない。NH4NO3は、どのような残留物に
よってもガラス特性が悪化しないように、高温で完全に
分解する。
化アンチモンの使用を省くことが可能であり、ガラスに
はこれら双方の成分や、その他、容易に還元される成
分、酸化鉛、酸化カドミウム、酸化亜鉛、酸化ビスマ
ス、酸化ニオブ、酸化タンタル、及び酸化燐が、不可避
的不純物は別として含有されていないるため、これらの
ガラスは種々の延伸法の使用のみならず、フロート法に
よっても加工することができる。フロート法が使用され
なければ、例えば引落し(down-draw)プロセスでは、非
還元条件下で、このガラスは他の精製剤として1.5重
量%以下のAs2O3及び/又はSb2O3を含有してもよ
い。Cl-(例えばBaCl2又はNH4Clの形態
で)、F-(例えばCaF2の形態で)あるいはSO4 2-
(例えばBaSO 4 の形態で)の各々1.5重量%を添
加することも可能である。しかしながら、As2O3 、
Sb2O3、Cl-、F-、及びSO4 2- の全体で1.5重
量%を超すべきではない。NH4Cl添加により、比較
的水リッチな原料(Al(OH)3あるいはMg(O
H)2などでこれらは溶融挙動を改善する)を使用した
場合でも溶融物の水含有量を低下することが可能であ
り、これにより精製されたガラスの硬化及び状態調節時
に再沸騰問題を防止し、所定の高度な目視ガラス特性
(気泡、介在物など)を達成することが容易になる。
℃で石英ガラスるつぼで溶融し、この溶融物をこの温度
で1時間半精製し、その後、誘導加熱白金るつぼ内に注
入し、1550℃で30分間攪拌して溶融物を均質化し
た。以下の表は、ガラスの組成とそのガラスの最も重要
な特性を有する実施例1ないし11(表1)の本発明に
係るガラスと、本発明によらない比較例AないしM(表
2)のガラスを示している。種々の耐薬品性は以下のよ
うに付与される。すなわち、70mm×50mm×2m
mの大きさがあり、全面が磨かれたガラス板をそれぞれ
の溶液で指定時間、指定温度で処理し、損失重量(材料
除去値)を決定してmg/cm2で示した。 H2O 24時間、95℃で、水で処理。 HCl 24時間、95℃で、5%濃度の塩酸で処
理。 NaOH 6時間、95℃で、5%濃度の水酸化ナト
リウム溶液で処理 「BHF」 20分間、20℃で、10%濃度の弗化水
素酸で処理。
安定性に対して示された特徴は、液相線温度LT[℃]
及び最大結晶成長速度VMAX[μm/h]である。粘度
101 4.5dPas、1013dPas、107.6dPa
s、及び104dPasの温度をT14.5;T13;
T7.6;及びT4で表に示す。さらに、表示されるガ
ラスの特性は、転移温度Tg[℃]、熱膨張係数α20/3
00[10-6/K]及び密度ρ[g/cm3]である。
本発明に係るガラスの不可欠な特性。
本発明によらないガラスの不可欠な特性。
ち、ガラスの目視特性を冷却ガラス内に存在する気泡を
数えることによって評価した。表3の記号は以下の意味
を持っている。 xx 気泡の数; ガラス1kgにつき >500 x 気泡の数; ガラス1kgにつき >100〜500 +/− 気泡の数; ガラス1kgにつき 50〜100 + 気泡の数; ガラス1kgにつき <50 表3は、本発明に係る製造方法におけるバッチへのNH
4NO3の添加がガラスの目視特性に有利な影響を与える
ことを示している。なおその製造方法はその他バッチ調
整、溶融、精製、均質化、熱間造形の従来の工程、すな
わち、例えば延伸法あるいはフロ−ト法による処理を有
する。
加と、幾つかの場合ではNH4Clの添加がなされた実
施例1〜12と比較例A〜M)(各組成について表1及
び表2を参照のこと)
な別個の特性を有しているが、本発明に係るガラスと違
い、どの比較ガラスもTFT用途のディスプレイ基板ガ
ラスの全体的な要求特性には合致しない。すなわち,あ
まりに所領のB2O3は、失透安定性を下げ、熱膨張を
増大させる(例、A、C〜H)。B2O3含有量が高す
ぎると、耐塩酸が低下する。(例、B)。比較例Iは少
量のアルカリ土類金属イオン対多量のそのイオンがバラ
ンスされた比率である必要性を示している。すなわち、
非常に多くのBaO以外の「適正」総量のアルカリ土類
金属酸化物で、下降温度が非常に高い。SiO2含有量
があまりに低く(A〜J、Lのように)、またRO含有
しない比較例J、K、Lは、非常に悪い失透安定性を示
すか、それらの熱膨張の転で多結晶シリコンに十分一致
していない。B2O3は含有量があまりに高い(A、C
〜H、Lの場合のように)比較例Mは、非常に高密度で
あり、他の例に関する場合と同様である。さらに、Tg
とT14.5は、ガラスの高い要求性能に合致するには
それ程高くはない。
に係るガラスは、これまで説明してきた特性全てを兼ね
備えている。すなわち、 ・ これらのガラスの熱膨張係数(3.0〜3.8×1
0-6/Kのα20/300)は、多結晶シリコンに非常によく
一致する。 ・ ガラスの密度は非常に低い(ρ≦2.50g/cm
3)。 ・ ガラスの耐薬品性が優れている(例えば、5%濃度
の塩酸での95℃24時間の処理後、損失重量が多くと
も1.0mg/cm2)。 ・ ガラスは十分なソラリゼーション安定性を有する。 ・ ガラスは好適な加工温度である(104dPasの
粘度の温度が1280℃〜1350℃)。 ・ 1014.5dPasの粘度の温度が少なくとも680
℃である。転移温度Tgは710℃〜780℃である。 ・ ガラスはアルカリを含有していない(無アルカ
リ)。 ・ ガラスは非常に良好な結晶化安定性を有する。 ・ ガラスの温度/粘度特性及び結晶化しにくさのため
に、容易に還元される成分が含有されていない限り種々
の延伸法を使用したり、フロート法を使用したりしてガ
ラスの加工がなされる。しかしながら、その非常に特殊
な特性プロフィ−ルのために、本発明の組成範囲を有す
るある特殊なガラスは、1種類の方法が他の方法のより
適切であることが理解されるはずである。ここでの指摘
に基づいて、当業者は、関連する用途や特殊な要求に対
して最適なガラスを容易に選択することができる。 ・ 成分、特にNH4NO3及び/又はNH4Clを添加
することによりその効果が増大できる精製剤の組み合わ
せがバランスしているため、ガラスは非常に良好な目視
特性を有している。 ・ 上記強力な酸化剤NH4NO3の添加によりガラス内
の三価形態の鉄イオンが安定化され、透過率が増加す
る。 ・ このガラスから製造された板ガラスは、反り、たる
み、ざらつき、平面性、及び板内の厚さばらつきに関し
て高度な品質を示す。 この特性プロフィ−ルのために、本発明に係るガラス
は、ディスプレイ技術、特に、TFTディスプレイ技
術、及び薄膜光起電力装置の基板ガラスとしての使用
に、またMEMSやSOIに非常に適している。
Claims (10)
- 【請求項1】 下記組成(重量%で、酸化物に基づ
く): SiO2 >60〜65 B2O3 6.5〜9.5 Al2O3 14〜21 MgO 1〜8 CaO 1〜6 SrO 1〜9 BaO 0.1〜3.5 但し、MgO+CaO+SrO+BaO 8〜16 ZrO2 0.1〜1.5 SnO2 0.1〜1 TiO2 0.1〜1 CeO2 0.01〜1 を有する無アルカリ・アルミノ硼珪酸ガラス。 - 【請求項2】 下記組成(重量%で、酸化物に基づ
く): SiO2 60.5〜65.0 B2O3 6.5〜9.0 Al2O3 15〜20 MgO 1〜7 CaO 1〜5 SrO 2〜8 BaO 0.5〜3 但し、MgO+CaO+SrO+BaO 9〜15 ZrO2 0.2〜1 SnO2 0.2〜0.8 TiO2 0.1〜0.5 CeO2 0.01〜0.5 を特徴とする請求項1に記載のアルミノ硼珪酸ガラス。 - 【請求項3】 下記組成(重量%で、酸化物に基づ
く): SiO2 60.5〜62.5 B2O3 7.0〜8.5 Al2O3 15.5〜19.5 MgO 3〜5 CaO 2〜5 SrO 3〜7 BaO 0.6〜1.5 但し、MgO+CaO+SrO+BaO 10〜14 ZrO2 0.2〜0.6 SnO2 0.2〜0.6 TiO2 0.2〜0.4 CeO2 0.01〜0.5 を特徴とする請求項1又は2に記載のアルミノ硼珪酸ガ
ラス。 - 【請求項4】 下記組成: As2O3 0〜1.5 Sb2O3 0〜1.5 Cl- 0〜1.5 F- 0〜1.5 SO4 2- 0〜1.5 但し、As2O3+ Sb2O3 + Cl- + F- + SO4 2- ≦1.5 をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし3の
いずれか1項に記載のアルミノ硼珪酸ガラス。 - 【請求項5】 前記ガラスは、不可避不純物を除いて酸
化砒素、酸化アンチモン、酸化鉛、酸化カドミウム、酸
化亜鉛、酸化ビスマス、酸化ニオブ、酸化タンタル、及
び酸化燐を含有しないことを特徴とするフロート設備で
製造できる請求項1ないし3のいずれか1項に記載のア
ルミノ硼珪酸ガラス。 - 【請求項6】 熱傍聴係数α20/300が3.0×10-6/
k〜3.8×10-6/k、1014.5dPasの粘度の温
度が少なくとも680℃、104dPasの粘度の温度
が1270℃〜1350℃、転移温度Tgが710℃〜
780℃、密度ρが多くとも2.50g/cm3 、及び
95℃、24時間、5%濃度塩酸での処理後、損失重量
が多くとも1.0mg/cm2である請求項1ないし3
のいずれか1項に記載のアルミノ硼珪酸ガラス。 - 【請求項7】 バッチ作製、溶融、精製、均質化、熱間
造形の工程を有する請求項1ないし6のいずれか1項に
記載のガラスを製造する方法において、0.2〜3重量
%のNH4NO3を前記バッチに添加することを特徴とす
る方法。 - 【請求項8】 ディスプレイ技術における基板ガラスと
しての請求項1ないし6のいずれか1項に記載のアルミ
ノ硼珪酸ガラスの用途。 - 【請求項9】 TFTディスプレイ技術における基板ガ
ラスとしての請求項1ないし6のいずれか1項に記載の
アルミノ硼珪酸ガラスの用途。 - 【請求項10】 薄膜光起電力装置における基板ガラス
としての請求項1ないし6のいずれか1項に記載のアル
ミノ硼珪酸ガラスの用途。
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