JP2000517349A - 分散した触媒活性剤による溶液重合法 - Google Patents

分散した触媒活性剤による溶液重合法

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Abstract

(57)【要約】 連続溶液重合方法に使用するように特に適合された、0.03cm/秒より短い相関沈降速度を有する不溶性の基体物質、並びにその上にデポジットした0.001−10mモル/gのイオン性触媒活性剤からなる分散可能なイオン性触媒活性剤。

Description

【発明の詳細な説明】 分散した触媒活性剤による溶液重合法 技術分野 本発明は、触媒活性剤に関する。さらに詳細には、本発明は、α−オレフィン の重合のための溶液重合法に使用するように特に適合した分散したイオン性触媒 活性剤に関する。この活性剤は、触媒、触媒活性剤及び少なくとも1種の重合可 能なモノマーが、溶液重合条件下操作する反応槽に連続的に添加されそして重合 生成物がそれから連続的に取り出される、連続溶液重合法に使用されるのに特に 有利である。 背景技術 チグラー・ナッタ重合触媒、特に4族金属錯体のカチオン性誘導体を形成する ためにプロトンを移動できるブレンステッド酸塩の使用により非局在化π−結合 リガンド基を含む4族金属錯体を含むこれら触媒を活性化することは、既に当業 者に知られている。好ましいブレンステッド酸塩は、得られる4族金属カチオン を安定化できる非配位性アニオンを含むこれら化合物、特にテトラキス(ペンタ フルオロフェニル)ボレートである。イオン性活性剤の種であるこれらブレンス テッド酸塩活性剤の例は、米国特許第A−5198401、5132380号及 びEP第A−277004号に開示されたプロトン化アンモニウム、スルホニウ ム又はホスホニウムである。 好適な非配位性アニオンは、立体的に遮蔽されたかさ高なアニオン、特にフッ 素化ポリアリール硼素アニオン例えば式 (式中、Sはアルキル、フルオロアルキル、アリール又はフルオロアリール(及 び2個のS基が存在するときさらに水素)であり、 ArFはフルオロアリールであり、そして X1は水素又はハライドの何れかである) に相当するテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート及びジボロンを含む 。 これらのジボロンアニオンは、米国特許第A5447895号に開示されてい る。 追加のイオン性活性剤は、カルベニウム、シリリウム及び非プロトン化スルホ ニウム、オキソニウム又はホスホニウム塩並びに酸化された塩例えばフェロセニ ウム塩又は銀塩を含む。イオン性活性化共触媒のこれらの追加の例は、米国特許 第A−5189192、5350723、5387568号及び1994年9月 12日に出願されたUSSN 08/304314号に開示されている。 これらの活性剤は十分にイオン化されておりそして相当するアニオンが非常に 非配位性であるという事実により、これらの活性剤は、オレフィン重合触媒活性 剤として極めて有効である。しかし、不利なことに、それらがイオン性塩である ため、これらの活性剤は、脂肪族炭化水素に極めて不溶でありさらに芳香族溶媒 には僅かに溶解するに過ぎない。モノマーとのこれらの溶媒の相溶性のためさら に得られるポリマー生成物の芳香族炭化水素含量を低下させるために、脂肪族炭 化水素溶媒中でα−オレフィンの溶液重合を行うのが望ましい。通常、イオン性 塩活性剤は、芳香族溶媒例えばトルエン中の溶液の形でこれらの重合に添加され る必要がある。この目的のためにこの芳香族溶媒の少量の使用すら望ましくない 。 さらに、芳香族溶媒例えばトルエンを使用してシンジオタクチックポリスチレン の製造のような重合では、前記のイオン性共触媒は、しばしば、油状の処理の難 しい物質の形成によって工業上の実旌に使用するのが困難である。 従って、芳香族溶媒とともに、縮合されたα−オレフィンモノマーを含む脂肪 族溶媒を使用する溶液重合で使用できるイオン性触媒活性剤を提供できれば、そ れは望ましいことであろう。さらに、特定の量のこの活性剤のコントロールされ 且つ定量された添加が要求される連続溶液重合に使用されるように特に適合され たイオン性触媒活性剤の新しい形を提供することが望ましいだろう。 発明の開示 本発明によれば、0.03cm/秒より低い相関沈降速度を有する不溶性基体 物質並びにその上にデポジットさせた0.001−10mモル/gのイオン性触 媒活性剤からなる分散可能なイオン性触媒活性剤が提供される。さらに、本発明 によれば、1種以上のα−オレフィンを、任意に不活性脂肪族、脂環状又は芳香 族炭化水素の存在下、上記の分散可能なイオン性触媒活性剤と接触させることか らなるα−オレフィンの溶液重合が提供される。 前記の触媒活性剤の使用により、イオン性触媒活性剤の利点は、芳香族炭化水 素溶媒の使用なしに重合方法で得ることができるか、又は別に、芳香族溶媒を利 用する改良された重合方法が提供される。 用語「相関沈降速度」は、本明細書で使用されるとき、粘性のある沈澱防止媒 体を通って重力の作用の下で落下する球状の粒子の終端速度Vtである。それは 、以下のようにStokesの法則(Stokes、G.G.、Trans.C ambridge Philos.Soc.9(II)、8(1951)に従っ て計算できる。 Vt=((ρs−ρ)gdp 2)/18μs (1) (式中、ρsは固体の見かけの密度(g/cm3)であり、 ρは沈澱防止媒体の真の密度(g/cm3)であり、ρs及びρの両者は25℃で 測定され、 gは重力定数(980.665cm/秒2)であり、 dpは粒子の直径(cm)であり、そして μsは粒子及び沈澱防止媒体の混合物の粘度(g/cm/秒)である)。 粒子及び沈澱防止媒体の混合物の粘度は、沈澱防止媒体それ自体の粘度、及び 式2(Brown、G.G.、Principles of Unit Ope rations、Foust.A.E.編、John Wiley and S ons、New York、1950、18章)によるその体積のフラクション と相関する。 μs/μ=101.82(1-X)/X (2) (式中、μは沈澱防止媒体の粘度(g/cm/秒)であり、そして Xは媒体の体積のフラクション(例えば1容量%の懸濁物では0.99である) である)。 例えば、前記の式を使用して、代表的な混合したアルカン沈澱防止媒体(Ex xon Chemical Companyから入手できるIsopar(商標 )E、1容量%の懸濁物及び2.300g/cm3の密度を有する15μmの粒 子、ρ=0.7200g/cm3、μ=0.0063g/cm/秒)では、(μs =0.0067g/cm/秒)である。相関する沈降速度は、0.029cm/ 秒である。1.510g/cm3の密度を有する5nmの粒子に関する対応する 偵は、1.6×10-9cm/秒であろう。 粒子の相関する沈降速度は、また、時間の経過とともにこれらの粒子の十分に 分散した懸濁物の上相の境界の沈下を測定することにより実験的に誘導できる。 相関する沈降速度は、次に時間の関数としてこの沈下のプロットの線状のスロー ブの最小二乗回帰により計算される。 本発明で使用して好ましいのは、0.01−1×10-10cm/秒、さらに好 ましくは1.0×10-4−1×10-10cm/秒の相関する沈降速度を有する粒 子である。 本発明で使用するための触媒活性剤の固体分散物を製造するための好適な基体 物質は、無機の粒状の固体、特に周知の金属酸化物及びメタロイド酸化物を含む 。使用する不活性希釈剤に容易に分散可能にするために、基体物質は、可能な限 り小さい粒子サイズのものでなければならない。基体物質の好ましい粒子サイズ は、5.0nm−15μm(5×10-9−1.5×10-5m)、より好ましくは 0.1−15μm(1×10-7−1.5×10-5m)、そして最も好ましくは0 .7−5μm(7×10-6−5×10-5m)に及ぶ。粒子サイズは、本発明で使 用されるとき、レーザー粒子サイズ分析又は同様な技術により測定される中位体 積平 均粒子分布をいう。非常に好ましい基体物質は、微細な粒状のシリカ、アルミナ 、アルミノシリケート又は粘土である。さらなる好適な基体は、有機ポリマー及 び無機ポリマー例えばシリコーンを含む粒状のポリマー性物質である。本発明の 分散物を含む後続の重合反応を干渉するであろう反応性の極性基は、望ましくは 、不勤態化技術例えばか焼の使用により除かれるか又は減少され、次に化学的剤 との反応によりこれらの基をキャップするか又は保護する。代表的な熱処理(か 焼)は、10分−50時間の期間、150−900℃、好ましくは300−85 0℃の温度で行われる。代表的な化学処理は、ルイス酸例えばトリヒドロカルビ ルアルミニウム化合物、トリヒドロカルビルクロロシラン化合物、トリヒドロカ ルビルアルコキシシラン化合物又は同様な剤との接触を含む。この工程において 好ましいルイス酸は、トリエチルアルミニウム及びヘキサメチルジシラザンを含 む。残存するヒドロキシル官能基は、Fourier Transform I nfrared Spectroscopy、P.Griffiths & J .de Haseth、83 Chemical Analysis、Wile y Interscience(1986),544ページに開示されているよ うな、フーリエ変換赤外線スペクトル分析(DRIFTS IR)の技術により 検出できる。 好適な基体は、好ましくは、B.E.T.法を使用する窒素孔度測定により測 定して0.01−1000m2/g、そして好ましくは1−600m2/gの表面 積を有する。基体の孔体積は、窒素吸着により測定して、有利には、0.001 −3cm3/g、好ましくは0.01−2cm3/gである。 非常に好ましい基体物質は、か焼されそしてトリエチルアルミニウム又はヘキ サメチルジシラザンとの反応により化学的に処理されてヒドロキシル含量を低下 した(不動態化された)シリカである。好ましいヒドロキシル含量は、0.5m モル/gより小さく、さらに好ましくは0.001−0.1mモル/g、最も好 ましくは0.001−0.01mモル/gである。 基体物質及びイオン性活性剤は、任意の好適な技術の使用によって固体の分散 物に形成できる。好ましくは、基体及び活性剤の溶液は、接触されそして溶媒又 は不活性希釈剤中にある間、例えば撹拌の使用により又は超音波エネルギーへの 暴露により緊密に混合される。次に、溶媒又は不活性希釈剤は、例えば蒸発によ り除夫される。別に、活性剤は、基体物質上にその溶液又は液体−分散物を噴霧 することにより置くことができる。溶媒又は液体希釈剤の蒸発は、もし所望なら ば、減圧下達成できる。固体分散物は、重合反応に直ぐに使用できるか、又は有 害な効果なしに後の使用のために無期限に不活性条件下貯蔵できる。 基体上のイオン性活性剤の好ましい濃度は、0.01−5mモル/基体のg、 好ましくは0.1−1.0mモル/基体のgである。より多い量では、活性剤は 重合で能率的に利用されず、そして若干の量の固体分散物は、重合中使いつくさ れない。活性剤のより少ない量では、不十分な活性剤は重合に供給され、そして 触媒の非能率が生ずる。また、得られるポリマー中の追加の量の基体物質は、ポ リマーの性質例えば透明度に悪影響を与える。 固体の活性剤分散物は、それを非溶媒液体に分散させそして得られる液体/固 体分散物をポンプで運ぶか又は計器で測定することにより、コントロールされた やり方で望ましい重合反応に添加される。望ましい非溶媒液体は、重合反応に使 用される脂肪族又は脂環状の炭化水素である。好ましい非溶媒液体は、それらの 混合物を含むC4-10脂肪族又は脂環状の炭化水素を含む。活性剤及び基体の固体 分散物は、任意の好適な技術により、特に撹拌又は超音波エネルギーの使用によ り、液体非溶媒中に容易に分散される。代表的には、ポンプ又は他の伝達手段が 液体/固体分散物を取り出しそしてそれを所望の伝達速度で反応槽に放出する間 、容器は所望の固体分散物及び非溶媒を含む撹拌状態で維持される。 分散された固体イオン性活性剤は、重合反応槽に直接添加され、そして次に触 媒特にメタロセン触媒と接触されるか又はそれは先ず触媒と接触されそして得ら れる混合物は次に重合反応槽に添加される。触媒及び分散された共触媒の得られ る組合せは、触媒系と本明細書でひとまとめにして呼ばれる。 或る群に属する元素又は金属について本明細書におけるすべての引用は、CR C Press、Inc.1989年により発行されしかも著作権を有するth e Periodic Table of the Elements(元素周 期律表)による。また、一つ以上の群に関する任意の引用は、群を数えるための IUPACシステムを使用してこのthe Periodic Table o f the Elementsに表示されているような一つ以上の群である。 本発明で使用されるのに好適な触媒は、本発明のイオン性活性剤によりオレフ ィン挿入及び重合に活性化できる元素周期律表の3−10族の金属の任意の化合 物又は錯体を含む。その例は、式 *はNi(II)又はPd(II)であり; Kはヒドロカルビルであり; Ar*はアリール基、特に2、6−ジイソプロピルフェニル、2、6−ジメチル フェニル、2、6−ジ−t−ブチルフェニル又は2、6−ジフェニルフェニルで あり;そして Tはそれぞれの場合独立して水素、C1-4アルキル又はフェニルからなる群から 選ばれるか、又は2個のT基は2個の炭素基と一緒になって縮合環系、特に1、 8−ナフタレンジル基を形成する) に相当する10族のジイミン誘導体を含む。 前記の触媒の或るものは、単独又は極性コモノマー例えばアルキルアクリレー ト及びアルキルメタクリレートと組合わさるかの何れかで特にα−オレフィンの 重合のための活性重合触媒であるとして、J.Am.Chem.Soc.118 267−268(1996)及びJ.Am.Chem.Soc.117、641 4−6415(1995)においてM.Brookhartらにより開示されて いる。本発明の態様において、前記の触媒も塩化ビニルモノマーの重合に使用し て有効であることが見いだされた。 追加の触媒は、+2、+3又は+4形式酸化状態にある3、4、5、6、7、 8又は9族、又はランタニド金属の誘導体を含む。好ましい化合物は、環状又は 非環状の非局在化π−結合したアニオン性リガンド基である、1−3個のπ結合 されたアニオン性又は中性のリガンド基を含む金属錯体を含む。これらのπ結合 されたアニオン性リガンド基の例は、共役又は非共役、環状又は非環状のジエニ ル基、アリル基、ボレータベンゼン(boratabenzene)基、及びア レン基である。用語「π結合された」により、リガンド基がリガンドの非局在化 π結合に参加する電子によって遷移金属に結合されていることを意味する。 非局在化π結合された基におけるそれぞれの原子は、独立して、水素、ハロゲ ン、ヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、並びにメタロイドが元素周期律表の 14族から選ばれるヒドロカルビル置換メタロイド基からなる群から選ばれる基 により置換でき、そしてこれらのヒドロカルビル−又はヒドロカルビル−置換メ タロイド基は、さらに15又は16族のヘテロ原子含有基により置換できる。用 語「ヒドロカルビル」内に、C1-20直鎖、枝分かれ鎖及び環状のアルキル基、C6-20 芳香族基、C7-20アルキル置換芳香族基、並びにC7-20アリール置換アルキ ル基が含まれる。さらに、2個以上の基は、一緒になって完全に又は部分的に飽 和した縮合環系、不飽和縮合環系、又は金属とのメタロサイクルを形成できる。 好適なヒドロカルビル置換有機メタロイド基は、ヒドロカルビル基のそれぞれは 1−20個の炭素原子を含む、14族元素のモノ−、ジ−及びトリ−量換有機メ タロイド基を含む。好適なヒドロカルビル置換有機メタロイド基の例は、トリメ チルシリル、トリエチルシリル、エチルジメチルシリル、メチルジエチルシリル 、トリフェニルゲルミル、及びトリメチルゲルミル基を含む。15又は16族ヘ テロ原子を含む基の例は、アミン、ホスフィン、エーテル又はチオエーテル基又 はそれの二価の誘導基、例えば遷移金属又はランタニド金属に結合した、さらに ヒドロカルビル基或いはヒドロカルビル置換メタロイド含有基に結合したアミド 、ホスファイド、エーテル又はチオエーテル基を含む。 好適なアニオン性、非局在化π結合した基の例は、シクロペンタジエニル、イ ンデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフルオレニル 、オクタヒドロフルオレニル、ペンタジエニル、シクロヘキサジエニル、ジヒド ロアンスラセニル、ヘキサヒドロアンスラセニル、デカヒドロアンスラセニル基 及びボレータベンゼン基、並びにこれらのC1-10ヒドロカルビル置換又はC1-10 ヒドロカルビル置換シリル置換誘導基を含む。好ましいアニオン性非局在化π結 合した基は、シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、テト ラメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシリルシクロペンタジエニル、イ ンデニル、2、3−ジメチルインデニル、フルオレニル、2−メチルインデニル 、2−メチル−4−フェニルインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒ ドロフルオレニル及びテトラヒドロインデニルである。 ボレータベンゼンは、6員環系を含む硼素である。それらは、当業者に既に周 知であり、G.HerberichらによりOrganometallics、 14、1、471−480(1995)に記載されている。それらは、錫ヘキサ ジエン化合物とポロントリハライドとを反応させ、次にヒドロカルビル、シリル 又はゲルミル基により量換させることにより製造できる。これらの基は、式 (式中、R’’は、ヒドロカルビル、シリル又はゲルミルからなる群から選ばれ 、該R’’は、50個以内、好ましくは20個以内の非水素原子を有する) に相当する。これらの基の二価の誘導基を含む錯体では、R’’は、共有結合、 又は前記の基の一つの二価の誘導基であり、それはまた錯体の他の原子と結合し それにより橋かけ系を形成する。 触媒の好適な群は、式 LlMXmX'nX"p又はこれらのダイマー (式中、LはMに結合したアニオン性非局在化π結合した50個以内の非水素原 子を含む基であり、任意に、2個のL基は、一緒に結合して橋かけした構造を形 成することができ、そしてさらに任意に、1個のLはXに結合できるか、又はさ らに任意に、1個のLはX’に結合でき; Mは+2、+3又は+4形式酸化状態にある元素周期律表の4族の金属であり; Xは、Lと一緒になってMとメタルサイクルを形成する50個以内の非水素原子 の任意の二価の置換基であり; X’20個以内の非水素原子を有する任意の中性のリガンドであり: X’’は、それぞれの場合、40個以内の非水素原子を有する一価のアニオン性 基であり、任意に、2個のX’’基は一緒に共有結合してMに結合した両方の原 子価を有する二価のシアニオン性基を形成するか、又は任意に、2個のX’’基 は一緒に共有結合してMにπ結合した中性、共投又は非共投シエンを形成するか (それによりMは+2酸化状態にある)、又はさらに任意に、1個以上のX’’ 基及び1以上のX’は一緒に結合しそれによりMに両者が共有結合的に結合しさ らにルイス塩基官能性によりそれに配位されており; lは0、1又は2であり; mは0又は1であり; nは0−3の数であり; pは0−3の整数であり;そして 合計l+m+pはMの形式酸化状態に等しいが、ただし2個のX’’基は一緒に なってMにπ結合した中性、共投又は非共役ジエンを形成し、その場合合計l+ mはMの形式酸化状態に等しい) に相当する遷移金属錯体である。 好ましい錯体は、1個又は2個の何れかのL基を含むものを含む。後者の錯体 は、2個のL基を結合している橋かけ基を含むものを含む。好ましい橋かけ基は 、式(ER* 2x(式中、Eは珪素、ゲルマニウム、錫又は炭素であり、R*はそ れぞれの場合独立して水素であるか又はシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカルビ ルオキシ及びこれらの組合せから選ばれる基であり、該R*は30個以内の炭素 又は珪素原子を有し、そしてxは1−8である)に相当するものである。好まし くは、R*はそれぞれの場合独立してメチル、エチル、プロピル、ベンシル、t ert−ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシ又はフェノキシである。好まし くは、xは1又は2である。 2個のL基を含む錯体の例は、式(式中、Mは+2又は+4形式酸化状態にあるチタン、ジルコニウム又はハフニ ウム、好ましくはジルコニウム又はハフニウムであり; R3は、それぞれの場合独立して水素、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ 、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロ及びこれらの組合せからなる群から選ばれ( 特にヒドロカルビルオキシシリル、ハロカルビル及びハロヒドロカルビル)、該 R3は20個以内の非水素原子を有するか、又は隣接するR3基は一緒になって二 価の誘導基(即ち、ヒドロカルバジル、シラジル又はゲルマジル基)を形成しそ れにより縮合環系を形成し、そして X’’は、それぞれの場合独立して40個以内の非水素原子のアニオン性リガン ド基であるか、又は2個のX’’基は一緒になって40個以内の非水素原子の二 価のアニオン性リガンド基を形成するか、又は一緒になってMとのπ錯体を形成 する4−30個の非水素原子を有する共役ジエンであり、その場合Mは+2形式 酸化状態にあり、さらに R*、E及びxは前記同様である) に相当する化合物である。 前記の金属錯体は、立体規則性分子構造を有するポリマーの製造に特に好適で ある。この場合、錯体がCs対称を有するか又はキラル立体剛性構造を有するこ とが好ましい。第一のタイプの例は、異なる非局在化π結合した系を有する化合 物であり、例えば一つのシクロペンタジエニル基及び一つのフルオレニル基であ る。Ti(IV)又はZr(IV)に基づく同様な系は、Ewenら、J.Am .Chem.Soc.110、6255−6256(1980)においてシンジ オタクチックオレフィンポリマーの製造について開示された。キラル構造の例は 、racビス−インデニル錯体を含む。Ti(IV)又はZr(IV)に基づく 同様な系は、Wildら、J.Organomet.Chem.232、233 −47(1982)においてアイソタクチックオレフィポリマーの製造について 開示された。 2個のπ結合した基を含む橋かけリガンドの例は、以下の通りである。(ジメ チルシリルビス(シクロペンタジエニル)、(ジメチルシリル−ビス(メチルシ クロペンタジエニル))、(ジメチルシリル−ビス(エチルシクロペンタジエニ ル))、(ジメチルシリル−ビス(t−ブチルシクロペンタジエニル))、(ジ メチルシリル−ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル))、(ジメチルシリ ル−ビス(インデニル))、(ジメチルシリル−ビス(テトラヒドロインデニル))、 (ジメチルシリル−ビス(フルオレニル))、(ジメチルシリル−ビス(テトラ ヒドロフルオレニル))、(ジメチルシリル−ビス(2−メチル−4−フェニル インデニル))、(ジメチルシリル−ビス(2−メチルインデニル))、(ジメ チルシリル−シクロペンタジエニル−フルオレニル)、(ジメチルシリル−シク ロペンタジエニル−オクタヒドロフルオレニル)、(ジメチルシリル−シクロペ ンタジエニル−テトラヒドロフルオレニル)、(1、1、2、2−テトラメチル −1、2−ジシリル−ビス−シクロペンタジエニル)、(1、2−ビス(シクロ ペンタジエニル)エタン、及び(イソプロピリデン−シクロペンタジエニル−フ ルオレニル)。 好ましいX’’基は、ヒドリド、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロヒ ドロカルビル、ハロシリル、シリルヒドロカルビル及びアミノヒドロカルビル基 から選ばれるか、又は2個のX’’基は一緒になって共役ジエンの二価の誘導基 を形成するか、又はそれ以外に一緒になってそれらは中性、π結合した共役ジエ ンを形成する。最も好ましいX’’基は、C1-20ヒドロカルビル基である。 本発明で利用される金属錯体の他の群は、前記の式LlMXmX'nX"p又はそのダイ マー(式中、XはLと一緒になってMとのメタロサイクルを形成する50個以内 の非水素原子の二価の置換基であるか、又は1個のX’はL及びMの両者に結合 する)に相当する。 好ましい二価のX置換基は、非局在化π結合した基に直接結合した酸素、硫黄 、硼素又は元素周期律表の14族の1員である少なくとも1個の原子、並びにM に共有結合で結合した窒素、燐、酸素又は硫黄からなる群から選ばれる異なる原 子を含む30個以内の非水素原子を含む基を含む。 本発明により使用されるこの4族の金属配位錯体の好ましい群は、式 (式中、Mは+2又は+4形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり; R3は、それぞれの場合独立して水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シ アノ、ハロ及びこれらの組合せからなる群から選ばれ、該R3は20個以内の非 水素原子を有するか、又は隣接するR3基は、一緒になって二価の誘導基(即ち 、ヒドロカルバジル、シラジル又はゲルマジル基)を形成しそれにより縮合環系 を形成し; それぞれのX’’は、ヒドリド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、又は シリル基であり、該基は20個以内の非水素原子を有するか、又は2個のX’’ 基は一緒になって中性のC5-30共役ジエン又はその二価の誘導基を形成し; Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり:そして ZはSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2 SiR* 2、又はGeR* 2(ただし、R*は前記同様である)である)に相当す る。 本発明により使用される4族金属配位錯体の他の好ましい群(ただし、1個の X’(Z−Y’より示される)はL及びMの両者に結合している)は、式 (式中、Mは+3形式酸化状態のチタンであり; R3は、それぞれの場合独立して水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シ アノ、ハロ及びこれらの組合せからなる群から選ばれ、該R3は20個以内の非 水素原子を有するか、又は隣接するR3基は一緒になって二価の誘導基(即ち、 ヒドロカルバジル、シラジル又はゲルマジル基)を形成しそれにより縮合環系を 形成し; それぞれのX’’は、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、又はシリル基で あり、該基は20個以内の非水素原子を有し; Y1は−OR*、−SR*、−NR* 2、−PR* 2であり; ZはSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2 SiR* 2、又はGeR* 2(ただし、R*は前記同様である)であり;そして nは0−3の数である) に相当する。 本発明の実施に使用できる4族錯体の例は、以下のものを含む。 シクロペンタジエニルチタン トリメチル、 シクロペンタジエニルチタン トリエチル、 シクロペンタジエニルチタン トリイソプロピル、 シクロペンタジエニルチタン トリフェニル、 シクロペンタジエニルチタン トリベンジル、 シクロペンタジエニルチタン 2、4−ジメチルペンタジエニル、 シクロペンタジエニルチタン 2、4−ジメチルペンタジエニル・トリエチルホ スフィン、 シクロペンタジエニルチタン 2、4−ジメチルペンタジエニル・トリメチルホ スフィン、 シクロペンタジエニルチタン ジメチル メトキシド、 シクロペンタジエニルチタン ジメチル クロリド、 ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン トリメチル、 インデニルチタン トリメチル、 インデニルチタン トリエチル、 インデニルチタン トリプロプル、 インデニルチタン トリフェニル、 テトラヒドロインデニルチタン トリベンジル、 ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン トリイソプロピル、 ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン トリベンジル、 ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン ジメチル メトキシド、 ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン ジメチル クロリド、 ビス(η5−2、4−ジメチルペンタジエニル)チタン、 ビス(η5−2、4−ジメチルペンタジエニル)チタン・トリメチルホスフィン 、 ビス(η5−2、4−ジメチルペンタジエニル)チタン・トリエチルホスフィン 、 オクタヒドロフルオレニルチタン トリメチル、 テトラヒドロインデニルチタン トリメチル、 テトラヒドロフルオレニルチタン トリメチル、 (tert−ブチルアミド)(1、1−ジメチル−2、3、4、9、10−η− 1、4、5、6、7、8−ヘキサヒドロナフタレニル)ジメチルシランチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(1、1、2、3−テトラメチル−2、3、4、9 、10−η−1、4、5、6、7、8−ヘキサヒドロナフタレニル)ジメチルシ ランチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン ジベンジル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)− 1、2−エタンジルチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−インデニル)ジメチルシラ ンチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(III)2−(ジメチルアミノ)ベンジル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(III)アリル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(III)2、4−ジメチルペンタジエニル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(II)1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(II)1、3−ペンタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I I)1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I I)2、4−ヘキサジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I V)2、3−ジメチル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I V)イソプレン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I V)1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(IV)2、3−ジメチル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(IV)イソプレン、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(IV)ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(IV)ジベンジル、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(IV)1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(11)1、3−ペンタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2、3−ジメチルインデニル)ジメチルシランチ タン(II)1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I I)1、3−ペンタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I V)ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(2−メチルインデニル)ジメチルシランチタン(I V)ジベンジル、 (tert−ブチルアミド)(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジメチル シランチタン(II)1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジメチル シランチタン(II)1、4−ジフェニル−1、3−ペンタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジメチル シランチタン(II)2、4−ヘキサジエン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(IV)1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(IV)2、3−ジメチル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(IV)イソブレン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(II)1、4−ジベンジル−1、3−ブタジエン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(II)2、4−ヘキサジエン、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタン(II)3−メチル−1、3−ペンタジエン、 (tert−ブチルアミド)(2、4−ジメチルペンタジエン−3−イル)ジメ チルシランチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(6、6−ジメチルシクロヘキサジエニル)ジメチ ルシランチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(1、1−ジメチル−2、3、4、9、10−η− 1、4、5、6、7、8−ヘキサヒドロナフタレン−4−イル)ジメチルシラン チタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(1、1、2、3−テトラメチル−2、3、4、9 、10−η−1、4、5、6、7、8−ヘキサヒドロナフタレン−4−イル)ジ メチルシランチタン ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロベンタジエニル)メ チルフェニルシランチタン(IV)ジメチル、 (tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)メ チルフェニルシランチタン(II)1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン、 1−(tert−ブチルアミド)−2−(テトラメチル−η5−シクロベンタジ エニル)エタンジルチタン(IV)ジメチル、 1−(tert−ブチルアミド)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジ エニル)エタンジルチタン(II)1、4−ジフェニル−l、3−ブタジエン、 1−(ジメチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル) エタンジルチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル) エタンジルチタン(III)ジアリル、 1−(ジメチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル) エタンジルチタン(III)ジベンジル、 1−(ジイソブチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニ ル)エタンジルチタン(III)ジメチル、 1−(ジイソプロピルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロベンタジエ ニル)エタンジルチタン(III)ジメチル、 1−(メチルフェニルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエ ニル)エタンジルチタン(III)ジメチル、 (ジメチルアミン)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ リルチタン(III)ジメチル、 (ジメチルアミン)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ リルチタン(III)ジアリル、 (ジメチルアミン)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ リルチタン(III)ジベンジル、 (ジイソブチルアミン)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチ ルシリルチタン(III)ジメチル、 (ジイソプロピルアミン)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメ チルシリルチタン(III)ジメチル、 (メチルフェニルアミン)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメ チルシリルチタン(III)ジメチル、 (1−メチルエトキシ)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチ ルシランチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル) −1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル) −1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジアリル、 1−(ジメチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル) −1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジベンジル、 1−(ジイソブチルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニ ル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチル、 1−(ジイソプロピルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエ ニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチル、 1−(メチルフェニルアミン)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエ ニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(2、3−ジメチル−η5−インデニル)エタン ジルチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(2−メチル−η5−インデニル)エタンジルチ タン(III)ジアリル、 1−(ジメチルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデ ニル)エタンジルチタン(III)ジベンジル、 1−(ジイソブチルアミン)−2−(η5−インデニル)エタンジルチタン(I II)ジメチル、 1−(ジイソプロピルアミン)−2−(η5−シクロペンタジエニル)エタンジ ルチタン(III)ジメチル、 1−(メチルフェニルアミン)−2−(η5−テトラヒドロインデニル)エタン ジルチタン(III)ジメチル、 (ジメチルアミン)(η5−テトラヒドロフルオレニル)ジメチルシリルチタン (III)ジメチル、 (ジメチルアミン)(η5−オクタヒドロフルオレニル)ジメチルシリルチタン (III)ジアリル、 (ジメチルアミン)(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデニル)ジメ チルシリルチタン(III)ジベンジル、 (ジイソブチルアミン)(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデニル) ジメチルシリルチタン(III)ジメチル、 (ジイソプロピルアミン)(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデニル )ジメチルシリルチタン(III)ジメチル、 (メチルフェニルアミン)(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデニル )ジメチルシリルチタン(III)ジメチル、 (1−メチルエトキシ)(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデニル) ジメチルシランチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデ ニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチル、 1−(ジメチルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデ ニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジアリル、 1−(ジメチルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5−インデ ニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジベンジル、 1−(ジイソブチルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5−イ ンデニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチル 、 1−(ジイソプロピルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5− インデニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチ ル、及び 1−(メチルフェニルアミン)−2−(2、3、4、6−テトラメチル−η5− インデニル)−1、1、2、2−テトラメチルジシリルチタン(III)ジメチ ル。 本発明で使用して好適な橋かけ錯体を含む2個のL基を有する錯体は以下のも のを含む。 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム ジメチル、 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム ジベンジル、 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル ベンジル、 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル フェニル、 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム ジフェニル、 ビス(シクロペンタジエニル)チタン アリル、 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル メトキシド、 ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル クロリド、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジメチル、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタン ジメチル、 ビス(インデニル)ジルコニウム ジメチル、 インデニルフルオレニルジルコニウム ジメチル、 ビス(インデニル)ジルコニウム メチル(2−(ジメチルアミノ)ベンジル) 、 ビス(インデニル)ジルコニウム メチル トリメチルシリル、 ビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウム メチル トリメチルシリル、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル ベンジル、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジベンジル、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル メトキシド 、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム メチル クロリド、 ビス(メチルエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジメチル、 ビス(ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジベンジル、 ビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジメチル、 ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジメチル、 ビス(メチルプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジベンジル、 ビス(トリメチルシリルシクロベンタジエニル)ジルコニウム ジベンジル、 ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム ジメチル、 ジメチルシリル−ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタン(III) アリル、 ジメチルシリル−ビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジク ロリド、 ジメチルシリル−ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジク ロリド、 (メチレン−ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタン(III)2− (ジメチルアミノ)ベンジル、 (メチレン−ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)チタン(III)2−( ジメチルアミノ)ベンジル、 ジメチルシリル−ビス(インデニル)ジルコニウム ベンジル クロリド、 ジメチルシリル−ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム ジメチル、 ジメチルシリル−ビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム ジ メチル、 ジメチルシリル−ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム(II)1、4− ジフェニル−1、3−ブタジエン、 ジメチルシリル−ビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム(I I)1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン、 ジメチルシリル−ビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウム(II)1、4 −ジフェニル−1、3−ブタジエン、 ジメチルシリル−ビス(フルオレニル)ジルコニウム メチル クロリド、 ジメチルシリル−ビス(テトラヒドロフルオレニル)ジルコニウム ビス(トリ メチルシリル)、 (イソプロポリデン)(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム ジベ ンジル、及び ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ ニウム ジメチル。 他の触媒、特に他の4族金属を含む触媒は、もちろん、当業者に明らかであろ う。 本発明で使用して好適なイオン性共触媒は、プロトンを供与できるブレンステ ッド酸であるカチオン、及び不活性且つ相溶性の非配位性アニオンからなる共触 媒を含む。好ましいアニオンは、電荷含有金属又はメタロイド芯からなる単一の 配位錯体を有するものであり、そのアニオンは、2種の成分が混合されるとき形 成される活性触媒種(金属カチオン)の電荷をバランスできる。また、該アニオ ンは、オレフィン性、ジオレフィン性及びアセチレン性不飽和化合物又は他の中 性ルイス塩基例えばエーテル又はニトリルにより置換されるように十分な反応活 性を有しなければならない。好適な金属は、アルミニウム、金及び白金を含むが これらに限定されない。好適なメタロイドは、硼素、燐及び珪素を含むが、これ らに限定されない。単一の金属又はメタロイド原子を含む配位錯体からなるアニ オンを含む化合物は、もちろん、周知であり、そして多くのもの、特にアニオン 部分に単一の硼素原子を含む化合物は、市販されている。それ故、前記の単一の 硼素原子化合物が好ましい。 好ましくは、これらの共触媒は、以下の一般式 (L*−H)d +(Ad-) (式中、L*は中性のルイス塩基であり; (L*−H)+はブレンステッド酸であり; Ad-は電荷d−を有する非配位性且つ相溶性のアニオンであり:そして dは1−3の整数である) により表すことができる。さらに好ましくは、 Ad-は式 [M’K+n'd- (式中、kは1−3の整数であり; n’は2−6の整数であり; n’−k=dであり; M’は元素周期律表の13族から選ばれる元素であり;そして Qはそれぞれの場合独立してヒドリド、ジアルキルアミド、ハライド、アルコキ シド、アリールオキシド、ヒドロカルビル、及びハロ置換ヒドロカルビル基から 選ばれ、該Qは20個以内の炭素を有し、但し一つ以下の場合にはQハライドで ある) に相当する。 さらに好ましい態様では、dは1であり、即ち対イオンは単一の負の電荷を有 しそして式A-に相当する。本発明で特に有用な硼素を含む活性化共触媒は、以 下の一般式 [L*−H]+[BQ’4- (式中、 L*は窒素、硫黄又は燐含有ルイス塩基であり; Bは3の酸化状態にある硼素であり;そして Q’はフッ素化C1-20ヒドロカルビル基である) により表すことができる。 さらに好ましくは、Q’は、それぞれの場合、フッ素化アリール基、特にペン タフルオロフェニル基である。 本発明でイオン性活性化共触媒として使用できる硼素化合物の限定されない例 は、以下のものである。 トリ置換アンモニウム塩、例えばトリメチルアンモニウム テトラフェニルボレ ート、トリエチルアンモニウム テトラフェニルボレート、トリプロピルアンモ ニウム テトラフェニルボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウム テトラフ ェニルボレード、トリ(t−ブチル)アンモニウム テトラフェニルボレート、 N、N−ジメチルアニリニウム テトラフェニルボレート、N、N−ジエチルア ニリニウム テトラフェニルボレート、N、N−ジメチル−(2、4、6−トリ メチルアニリニウム) テトラフェニルボレート、トリメチルアンモニウム テ トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレード トリエチルアンモニウム テト ラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウム テトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウム テト ラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(sec−ブチル)アンモニ ウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N、N−ジメチルアニ リニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N、N−ジエチル アニリニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N、N−ジ メチル−(2、4、6−トリメチルアニリニウム)テトラキス(2、3、4、6 −テトラフルオロフェニル)ボレート、トリエチルアンモニウム テトラキス( 2、3、4、6−テトラフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウ ム テトラキス(2、3、4、6−テトラフルオロフェニル)ボレート、トリ( n−ブチル)アンモニウム テトラキス(2、3、4、6−テトラフルオロフェ ニル)ボレート、ジメチル(t−ブチル)アンモニウム テトラキス(2、3、 4、6−テトラフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウム テトラキス(2、3、4、6−テトラフルオロフェニル)ボレート、N、N−ジ エチルアニリニウム テトラキス(2、3、4、6−テトラフルオロフェニル) ボレート、及びN、N−ジメチル−(2、4、6−トリメチルアニリニウム)テ トラキス(2、3、4、6−テトラフルオロフェニル)ボレート; ジアルキルアンモニウム塩、例えばジ−(i−プロピル)アンモニウム テトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及びジシクロヘキシルアンモニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート; ジ−ヒドロカルビル置換スルホニウム塩、例えぱジ−(i−プロピル)スルホニ ウム テトラキス(ペンタフルオロフエニル)ボレート、及びジフェニルスルホ ニウム テトラキス(ペンタフルオロフエニル)ボレート;並びに トリ−ヒドロカルビル置換ホスホニウム塩、例えばトリフェニルホスホニウムテ トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(o−トリル)ホスホニウ ム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート及びトリ(2、6−ジメチ ルフェニル)ホスホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート。 好ましい[L*−H]+カチオンは、N、N−ジメチルアニリニウム及びトリブ チルアンモニウムである。 他の好適なカチオン性のイオン形成性活性化共触媒は、式 (Oxe+d(Ad-e (式中、Oxe+はe+の電荷を有するカチオン性酸化剤であり; eは1−3の整数であり;そして Ad-及びdは前記同様である) により表示されるカチオン性酸化剤及び非配位性且つ相溶性のアニオンの塩から なる。 カチオン性酸化剤の例は、以下のものを含む。フェロセニウム、ヒドロカルビ ル置換フェロセニウム、Ag+又はPb+2。Ad-の好ましい態様は、ブレンステ ッド酸含有活性化共触媒に関して既に定義されたアニオン、特にテトラキス(ペ ンタフルオロフェニル)ボレートである。 他の好適なイオン形成性の活性化共触媒は、式 (c)+- (式中、(c)+は20個以内の炭素又は珪素原子を含むルイス酸カチオンであり; そして A-は前記同様である) により表される非配位性且つ相溶性のアニオンのルイス酸塩(しかしブレンステ ッド酸塩ではない)である化合物からなる。 前記のルイス酸塩の例は、カルベニウム又はシリウム塩、並びに非プロトン化 オキソニウム、スルホニウム又はホスホニウム塩を含む。好ましいルイス酸塩は 、トリフェニルカルベニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート 又はトリフェニルシリリウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート である。 本発明の分散可能な共触媒は、また、所望ならば、各ヒドロカルビル基中に1 −10個の炭素を有するトリ(ヒドロカルビル)アルミニウム化合物、オリゴマ ー性又はポリマー性のアルモキサン化合物、各ヒドロカルビル又はヒドロカルビ ルオキシ基中に1−20個の炭素を有するジ(ヒドロカルビル)(ヒドロカルビ ルオキシ)アルミニウム化合物、又は前記の化合物の混合物との組合せで使用で きる。これらのアルミニウム化合物は、重合混合物から不純物例えば酸素、水及 びアルデヒドをスキャベンジするそれらの有益な能力について有用に使用される 。 好ましいジ(ヒドロカルビル)(ヒドロカルビルオキシ)アルミニウム化合物 は、式 T1 2AlOT2 (式中、T1はC3-6第二級又は第三級アルキルであり、最も好ましくはイソプロ ピル、イソブチル又はtert−ブチルであり;そしてT2はC12-30アルカリー ル基又はアルアルキル基であり最も好ましくは2、6−ジ(t−ブチル)−4− メチルフェニル、2、6−ジ(t−ブチル)−4−メチルトリル、2、6−ジ( t−ブチル)−4−メチルフェニル、又は4−(3’、5’−ジ第三級ブチルト リル)−2、6−ジ第三級ブチルフェニルである) に相当する。 好ましいアルミニウム化合物は、C2-6トリアルキル化合物、特にアルキル基 がエチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、ペンチル、ネオ ペンチル又はインペンチルであるもの、アルキル基中に1−6個の炭素そしてア リール基中に6−18個の炭素を含むジアルキル(アリールオキシ)アルミニウ ム化合物(特に(3、5−ジ(t−ブチル)−4−メチルフェノキシ)ジイソブ チルアルミニウム)、メチルアルモキサン、変性メチルアルモキサン及びジイソ ブチルアルモキサンを含む。アルミニウム化合物対金属錯体のモル比は、好まし くは、1:10000−1000:1、さらに好ましくは1:5000−100 :1、最も好ましくは1:100−100:1である。 使用される触媒/共触媒のモル比は、好ましくは、1:10−10:1、さら に好ましくは1:5−1:1最も好ましくは1:1.2−1:1に及ぶ。イオン 性活性化共触媒の混合物は、また所望ならば使用できる。 好適な付加重合可能なモノマーは、エチレン性不飽和モノマー、アセチレン性 化合物、共役又は非共役ジエン、及びポリエンを含む。好ましいモノマーは、オ レフィン、例えば2−20000個、好ましくは2−20個、さらに好ましくは 2−8個の炭素原子を有するアルファ−オレフィン、及び2種以上のこれらアル ファ−オレフィンの組合せを含む。特に好適なアルファ−オレフィンは、例えば エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチルペンテン−1、 1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウ ンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセ ン、又はこれらの組合せ、並びに重合中形成される長鎮ビニル末端オリゴマー性 又はポリマー性反応生成物、並びに得られるポリマーに比較的長鎖の枝分かれを 生成させるために反応混合物に特に加えられるC10-30α−オレフィンを含む。 好ましくは、アルファ−オレフィンは、エチレン、プロベン、1−ブテン、4− メチル−ペンテン−1,1−ヘキセン、1−オクテン、並びにエチレン及び/又 はプロペンと1種以上のこれらの他のアルファ−オレフィンとの組合せである。 他の好ましいモノマーは、スチレン、ハロ−又はアルキル置換スチレン、テトラ フルオロエチレン、ビニルシクロブテン、1、4−ヘキサジエン、ジシクロペン タジエン、エチリデンノルボルネン、l、7−オクタジエン及びl、9−デカジ エンを含む。上記のモノマーの混合物も使用できる。 一般に、重合は、チグラー・ナッタ又はカミンスキー・シンタイプ重合反応に ついて従来の技術において周知の条件で達成できる。懸濁、溶液、スラリー、気 相又は高圧は、所望ならば、バッチ或いは連続の形で用いられても又は他の工程 の条件で用いられても、使用できる。これらの周知の重合工程の例は、WO88 /02009、米国特許A第5084534、5405922、4588790 、5032652、4543399、4564647、4522987号そして 他の所で記述されている。好ましい重合温度は0−250℃である。好ましい重 合圧は、大気圧−3000気圧である。 しかしながら、本発明の利点は、本発明の触媒系が脂肪族又は脂環状の液体希 釈剤の存在下連続溶液重合で使用されるとき、特に認められる。これら脂肪族又 は脂環状液体希釈剤の例は、直鎖及び枝分かれ鎖の炭化水素、例えばイソブタン 、ブタン、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン及びこれらの混合物;脂環 状炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、 メチルシクロヘプタン、及びこれらの混合物;並びにペルフッ素化炭化水素、例 えばペルフッ素化C4-10アルカンなどを含む。好適な希釈剤は、またトルエン、 エチルベンセン又はキシレンを含む芳香族炭化水素(特に芳香族α−オレフィン 例えばスチレン又は環アルキル置換スチレンとともに使用)、並びにエチレン、 プロビレン、ブタジエン、シクロペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ペ ンテン、4−メチル−1−ペンテン、1、4−ヘキサジエン、1−オクテン、1 −デセン、スチレン、ジビニルベンゼン、アリルベンゼン、ビニルトルエン(全 異性体単独又はそれの混合物)などを含む液体のオレフィン(モノマー又はコモ ノマーとして働くことができる)も含む。前記のものの混合物も好適である。 ほとんどの重合反応では、用いられる触媒:重合可能な化合物のモル比は、1 0-12:1−10-1:1、さらに好ましくは10-12:1−10-5:1である。 本発明の触媒系は、また望ましい性質を有するポリマーブレンドを製造するた めに、直列又は並列で接統している別々の反応槽において少なくとも1種の追加 の均質又は不均質な重合触媒と組み合わせて利用できる。この工程の例は、米国 特許出願第07/904770号に相当するWO94/00500号に開示され ている。さらに特定の工程は、1993年1月29日に出願される同時出願の米 国特許出願第08/10958号に開示されている。 分子量コントロール剤は、本発明の分散された共触媒と組み合わせて使用でき る。これらの分子量コントロール剤の例は、水素、トリアルキルアルミニウム化 合物又は他の周知の連鎖移動剤を含む。本発明の分散した共触媒の使用の特別な 利点は、狭い分子量分布のα−オレフィンホモポリマー及びコポリマーを製造す る能力(反応条件に依存する)である。好ましいポリマーは、2.5より小さい 、さらに好ましくは2、3より小さいMw/Mnを有する。これらの狭い分子量 分布のポリマー生成物は、改良された引張強さの性質並びに低下されたレベルの 抽出物によって非常に望ましい。 EPDMポリマーの製造方法における本発明の触媒活性剤の使用が特に価植が ある。 本発明が特に開示されていない任意の成分なしに操作可能なことは理解される 。以下の実施例は、本発明をさらに説明するために提供され、本発明を制限する ものと考えてはならない。逆のことを述べていない限り、すべての部及び%は、 重量基準で表示される。 実施例 実施例 1−12 分散したイオン性共触媒の製造 分散物 1 9.9gのDavison Sylopol(商標)2212シリカのサンプ ルを、4時間流動床で窒素下か焼した。シリカを次に75mLのヘキサン中にス ラリー化し、それにヘキサン中1.0Mのトリエチルアルミニウム溶液14.8 mL(14.8mモル)を加えた。スラリーを次に12時間撹拌し、固体を濾去 し、一晩室温で真空下乾燥する前に3×50mLのヘキサンにより洗浄した。 0.5gの得られた固体に、トルエン中ジメチルアニリニウム テトラキス( ペンタフルオロフェニル)ボレート0.002M溶液62.5mLを加え、1時 間撹拌後、トルエンを室温で真空下除いて一定の重量にして0.21mモル/g の硼素含量を有する固体の分散物を得た。 分散物 2 分散物1を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中ジメチルアニリニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0 .002M溶液125mLを使用して、0.36mモル/gの硼素含量を有する 固体の分散物を得た。 分散物 3 分散物1を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液16mLを使用して、0.20mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物を 得た。 分散物 4 分散物1を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフエニル)ボレート0.008M溶 液31mLを使用して、0.34mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物を 得た。 分散物 5 分散物1を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液66.2mLを使用して、0.52mモル/gの硼素含量を有する固体の分散 物を得た。 分散物 6 分散物1を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液124mLを使用して、0.70mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物 を得た。 分散物 7 8.8gのDavison Sylopol(商標)2212シリカのサンプ ルを、4時間流動床で窒素下か焼した。シリカを次に75mLのIsopar( 商標)E中にスラリー化し、それに精製していないヘキサメチルジシラザン11 .2mL(53mモル)を加え、スラリーを12時間還流した。固体を濾去し、 一晩室温で真空下乾燥する前に3×50mLのヘキサンにより洗浄した。 0.5gの得られた固体に、トルエン中ジメチルアニリニウム テトラキス( ペンタフルオロフェニル)ボレート0.002M溶液62.5mLを加え、1時 間撹拌後、トルエンを室温で真空下除いて一定の重量にして0.21mモル/g の硼素含量を有する固体の分散物を得た。 分散物 8 分散物7を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中ジメチルアニリニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0 .008M溶液125mLを使用して、0.36mモル/gの硼素含量を有する 固体の分散物を得た。 分散物 9 分散物7を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液16mLを使用して、0.20mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物を 得た。 分散物 10 分散物7を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液31mLを使用して、0.34mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物を 得た。 分散物 11 分散物7を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液62mLを使用して、0.52mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物を 得た。 分散物 12 分散物7を製造するのに使用される技術を実質的に繰り返したが、但しトルエ ン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.008M溶 液124mLを使用して、0.70mモル/gの硼素含量を有する固体の分散物 を得た。 分散物 13 3μMの中位体積平均粒子サイズ(Malvern Particleサイズ 分析器を使用してレーザ粒子サイズ分析により測定)を有するシリカ2gを75 0℃でか焼し、ヘキサン25mL中でスラリー化した。ヘキサン中TEA1.0 M3mL(3mモル)を加え、そして混合物を12時間撹拌し、2×50mLの ヘキサンにより洗浄し、そして一晩真空下乾燥した。0.5gの得られた固体に 、次にトルエン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0 .008M溶液31mLを加え、1時間撹拌後、トルエンを室温で真空下除き一 定の重量にして0.34mモル/gの硼素含量を有する固体分散物を得た。 分散物 14 50mLの混合アルカン中でスラリー化した分散物13で使用された同じ3ミ クロンのか焼したシリカ2gに、2.5mL(12mモル)のヘキサメチルジシ ラザンを加え、そして混合物を12時間撹拌且つ還流し、濾過し、2×50mL のヘキサンにより洗浄し、そして一晩真空下乾燥した。得られた0.5gの得ら れた固体に、次にトルエン中トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル) ボレート0.008M溶液31mLを加え、1時間撹拌後、トルエンを室温で真 空下除き一定の重量にして0.34mモル/gの硼素含量を有する固体分散物を 得た。 1cm3の体積の分散物14をメスシリンダーに入れ、これに99cm3の混合 アルカン(Exxon Chemical Inc.から入手したIsopar (商標)E)に加えた。シリンダーに蓋をかぶせ、3回回転させ、そして懸濁物 を沈降させた。時間に対する上の境界の沈降のプロットを作図し、グラフの線状 のスロープの最小二乗回帰から、沈降速度は0.00042cm/秒であると測 定された。これを0.00058cm/秒の計算された値と比較し、3ミクロン の粒子の直径及び1.510g/cm3の絶対粒子密度と考えられる。 触媒の製造 (tert−ブチルアミド)ジメチル(η5−2、3−ジメチルインデニル)− シランチタンジメチル(触媒1)の製造 (tert−ブチルアミド)ジメチル(η5−2、3−ジメチルインデニル) −シランチタン ジクロリド(1.00g、2.56mモル)を、100mL容 丸底シュレンクフラスコ中で50mLのEt2Oでスラリー化した。2当量のM eMgCl(THF中の1.71mL.3.0M)を注射針により添加した。4 5分間撹拌後、溶媒を減圧下除いた。残存物をヘキサンにより抽出し、そして中 程度のガラスフリット上の珪藻土フィルターを通って濾過した。塩及び濾過助剤 をヘキサンにより洗浄した(75mLの合計体積の抽出物)。溶媒を減圧下除い て0.79gのオレンジ色の粉末を得た。収率;88%。 (tert−ブチルアミド)ジメチル(η5−2、3−ジメチルインデニル)− シランチタン(II)(1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン)(触媒2) の製造 (tert−ブチルアミド)ジメチル(η5−2、3−ジメチルインデニル) −シランチタン ジクロリド(2、5g、7.18mモル)を、250mL容丸 底シュレンクフラスコ中で100mLのへキサンでスラリー化した。1、4−ジ フェニル−1、3−ブタジエン(1.48g、7.18mモル)を固体として加 えた。2当量のn−BuLi(ヘキサン中5.74mL、2.5M)を次に注射 針により添加した。フラスコに凝縮器をつけ、2時間還流した。冷却後、反応物 を中程度のガラスフリット上の珪藻土フィルターを通って濾過した。塩及び濾過 助剤をペンタンにより洗浄した(200mLの合計体積の抽出物)。溶媒を減圧 下除いて1.19gの褐色の粉末を得た。濾過助剤及び塩を、150mLのトル エンを使用して再び抽出し、抽出物を再濾過した。トルエンを減圧下除いて0. 89gの褐色の粉末を得た。1H NMRは、両方の抽出物が所望の生成物であ ることを示した。合計の収率;60%。 (tert−ブチルアミド)ジメチル(η5−テトラメチルシクロペンタジエニ ル)−シランチタン(II)(1、4−ジフェニル−1、3−ブタジエン)(触 媒3)の製造 上記の製造を実質的に繰り返したが、但し原料金属錯体は、(tert−ブチ ルアミド)ジメチル(η5−テトラメチルシクロペンタジエニル)−シランチタ ン ジクロリドであった。 重合 実施例 1−12 撹拌する1ガロン(3.79L)容のオートクレーブ反応槽に、2Lの混合ア ルカン溶媒(Isopar(商標)E)、並びに反応槽中のモル濃度を0.99 Mにするのに必要な量の1−オクテンを入れた。反応槽を130℃に加熱し、2 psig(914kPa)の水素を添加し、さらに全圧を450psig(31 00kPa)にするのに十分なエチレンを添加した。23.1mLの混合アルカ ン(Isopar(商標)E)中の分散したボレート0.015Mスラリー0. 3mLに、ヘプタン中トリイソブチルアルミニウム変性メチルアルモキサン(M MAO)0.05M溶液0.3mL並びに触媒(混合アルカン中0.005M) を加えて、10:3:1のMMAO:硼素:チタンのモル比とした。活性化され た触媒を反応槽に注入した。反応槽の温度及び圧力を、重合中エチレンを連続的 に供給しそして必要に応じ反応槽を冷却することにより、一定に維持した。10 分後、エチレンを止め、熱い溶液を窒素でパージした樹脂釜に移した。サンプル を乾燥後、次に秤量して、触媒の能率を測定し、次に標準のASTMの手続きに よりメルトフロー及び密度の測定を行った。使用した成分の内容及び結果を表1 に示す。 * DMAB=ジメチルアニリニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル) ボレート TRIT=トリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート 実施例 13−30 実施例1−12の重合条件が、異なる量のメチルアルモキサン(異なるAl/ Ti比により表さられる)及び異なる量の金属錯体(異なるB/Ti比により表 さられる)により、分散物4及び10を使用して実質的に繰り返された。結果を 表2に含む。 実施例 31−34 実施例1−30の重合条件が、異なるアルミニウムスカベンジング化合物(メ チルアルモキサン(MAO)、トリイソブチルアルミニウム(TIBAL)又は トリエチルアルミニウム(TEA)及び異なる量の1−オクテンコモノマーによ り、分散物10を使用して実質的に繰り返された。すべての重合は、10のAl /Ti原子比及び3のB:Ti原子比で行われた。結果は表3に含まれる。重合実施例 35−37 実施例1−30の重合条件が、異なる触媒及び異なる量の1−オクテンコモノ マーにより、分散物13及び14を使用して実質的に繰り返された。すべての重 合は、10のAl/Ti原子比及び3のB:Ti原子比で行われた。結果は表4 に含まれる。 * 実験は、重合の早い速度のために6.5分後に停止した。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成10年3月18日(1998.3.18) 【補正内容】 補正された請求の範囲 1.4族金属錯体及びイオン性触媒活性化剤の存在下に反応機中でオレフィンを 重合させるための溶液重合方法であって、該イオン性触媒活性化剤が、5.0 nm−15μmの粒子サイズをもつ固体の不溶性基体物質とそ上に沈着させた 0.001−10ミリモル/gの該イオン性活性化共触媒を脂肪族又は脂環族 炭化水素液体に分散させた分散液をまずつくり次いでこの分散液を反応機に移 送することによって反応機に加えることを特徴とするオレフィンの溶液重合方 法。 2.イオン性活性化共触媒が、触媒にプロトンを供与可能なブレンステッド酸で あるカチオン、触媒からリガンド基を引き抜きうる非プロトン化ルイス酸であ るカチオン、又は触媒を酸化可能な酸化剤であるカチオン、並ひに不活性且つ相 溶性の非配位性アニオンからなる請求項1の方法。 3.イオン性活性化共触媒が、以下の一般式 [L*−H]+[BQ’4- (式中、L*は窒素、硫黄又は燐含有ルイス塩基であり; Bは3の酸化状態の硼素であり;そして Q’はフッ素化C1-20ヒドロカルビル基である) により表される請求項1の方法。 4.非配位性アニオンがテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである 請求項2の方法。 5.イオン性活性化共触媒が、ジメチルアニリニウム テトラキス(ペンタフル オロフェニル)ボレート及びトリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニ ル)ボレートからなる群から選ばれる請求項1の方法。 6.不溶性基体物質が0.03cm/秒以下の相関沈降速度をもつ請求項1の方 法。 7.不溶性基体物質がシリカである請求項1の方法。 8.不溶性基体物質が0.7−5μmの粒子サイズをもつ請求項1の方法。 9.連続溶液重合方法である請求項1の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU ,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH, CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,G E,HU,IL,IS,JP,KE,KG,KR,KZ ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD, MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,P T,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ ,TM,TR,TT,UA,UG,UZ,VN,YU (72)発明者 スティブンス,ジェムス シー アメリカ合衆国テキサス州 77469 リッ チモンド ペカン トレイル ドライブ 2026

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.0.03cm/秒より短い相関沈降速度を有する不溶性の基体物質、並びに その上にデポジットさせた0.001−10mモル/gのイオン性触媒活性剤か らなる分散可能なイオン性触媒活性剤。 2.活性剤が、触媒にプロトンを供与可能なブレンステッド酸であるカチオン、 触媒からリガンド基を引き抜きうる非プロトン化ルイス酸であるカチオン、又は 触媒を酸化可能な酸化剤であるカチオン、並びに不活性且つ相溶性の非配位性ア ニオンからなる請求項1の分散可能なイオン性触媒活性剤。 3,活性剤が、以下の一般式 [L*−H]+[BQ’4- (式中、L*は窒素、硫黄又は燐含有ルイス塩基であり; Bは3の酸化状態の硼素であり;そして Q’はフッ素化C1-20ヒドロカルビル基である) により表される請求項1の分散可能なイオン性触媒活性剤。 4.非配位性アニオンがテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである 請求項2の分散可能なイオン性触媒活性削。 5.活性剤が、ジメチルアニリニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル) ボレート及びトリチル テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートからな る群から選ばれる請求項1の分散可能なイオン性触媒活性剤。 6.元素周期律表4族の金属錯体及び請求項1の分散可能なイオン性触媒活性剤 からなるα−オレフィンの重合のための触媒系。 7.1種以上のα−オレフィンを重合条件下請求項6の触媒系と接触させること によりポリマーを製造する重合方法。 8.溶液重合である請求項7の重合方法。 9.連続溶液重合である請求項8の重合方法。 10.不溶性基体物質が5.0nm−15μm(5×10-9−1.5×10-5m )の粒子サイズを有する請求項1の重合方法。 11.塩化ビニルモノマーを、重合条件下そして任意にα−オレフィンコモノマ ーの存在下式 *はNi(II)又はPd(II)であり、 Kはヒドロカルビルであり; Ar*はアリール基、特に2、6−ジインプロピルフェニル、2、6−ジメチル フェニル、2、6−ジ−t−ブチルフェニル又は2、6−ジフェニルフェニルで あり;そして Tはそれぞれの場合独立して水素、C1-4アルキル或いはフェニルであるか、又 は2個のT基は2個の炭素基と一緒になって縮合環系を形成する) に相当する元素周期律表10族ジイミン誘導体;並びに活性化共触媒からなる触 媒組成物と接触させることからなる塩化ビニルモノマーを重合する方法。
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