JP2000147755A - 感光性フィルム及びその積層方法 - Google Patents
感光性フィルム及びその積層方法Info
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- JP2000147755A JP2000147755A JP32723298A JP32723298A JP2000147755A JP 2000147755 A JP2000147755 A JP 2000147755A JP 32723298 A JP32723298 A JP 32723298A JP 32723298 A JP32723298 A JP 32723298A JP 2000147755 A JP2000147755 A JP 2000147755A
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- photosensitive composition
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の凹凸を気泡なく十分に被覆する感光性
フィルム及びその積層方法を提供する。 【解決手段】 可撓性支持体、感光性組成物層及び感光
性組成物層に対する接着性が可撓性支持体の感光性組成
物層に対する接着性よりも小さい保護フィルムをこの順
に積層した感光性フィルムの保護フィルムの感光性組成
物層と接触する面の表面粗さがカットオフ値が０．０８
〜８ｍｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲
における算術平均粗さ（Ｒａ）を０．５μｍ以上とす
る。この感光性フィルムの保護フィルムを除去して、感
光性組成物層の表面粗さを有する面が基板に接するよう
に減圧下で積層する感光性フィルムの積層方法。
フィルム及びその積層方法を提供する。 【解決手段】 可撓性支持体、感光性組成物層及び感光
性組成物層に対する接着性が可撓性支持体の感光性組成
物層に対する接着性よりも小さい保護フィルムをこの順
に積層した感光性フィルムの保護フィルムの感光性組成
物層と接触する面の表面粗さがカットオフ値が０．０８
〜８ｍｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲
における算術平均粗さ（Ｒａ）を０．５μｍ以上とす
る。この感光性フィルムの保護フィルムを除去して、感
光性組成物層の表面粗さを有する面が基板に接するよう
に減圧下で積層する感光性フィルムの積層方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性フィルム及
びその積層方法に関し、さらに詳しくは減圧下における
凹凸基板への被覆性に優れた感光性フィルム及びその積
層方法に関する。
びその積層方法に関し、さらに詳しくは減圧下における
凹凸基板への被覆性に優れた感光性フィルム及びその積
層方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント配線板業界では、プリン
ト配線板に部品を実装する際に行う半田付け時に発生し
易い半田ブリッジの防止のため、また導体の腐食や導体
間の絶縁性保持のために、導体などの表面上に保護膜を
形成することが行われている。このような永久保護膜と
して、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の可撓性
支持体上に感光層を有し、さらに一時的に感光層を保護
するために感光層の上にポリエチレンフィルム等の保護
フィルムを設けた感光性フィルムが用いられている。こ
の感光性フィルムを用いて保護膜を形成する場合、プリ
ント配線板上の導体パターン間への気泡の巻き込みを防
止するため、特公昭５３−３１６７０号公報に記載され
るような減圧室の中で加熱、加圧されたロール間に保護
フィルムを除去した感光性フィルムの感光層をプリント
配線板上に重ねて通過させて、導体被覆及び導体埋め込
みを行う装置が用いられる。この装置はプリント配線板
と感光性フィルムの積層を同時に行えることから、一般
に連続式真空ラミネータと呼ばれている。一方、フレキ
シブルプリント配線板でも、半田ブリッジ防止、導体腐
食防止や導体間の絶縁性保持のために、接着剤層が設け
られたポリイミドフィルムを金型などで所定のパターン
を打ち抜き、導体上に熱圧着して保護膜を形成すること
が行われているが、最近の高精細化の要求に対して感光
性カバーレイといわれる感光性フィルムが使用されるよ
うになってきている。この感光性カバーレイをフレキシ
ブルプリント配線板に積層するためには、ラミネート時
のカールが少ない特公昭５５−１３３４１号公報、特開
平８−１３２５３１号公報等に記載されているような一
般にバッチ式といわれる真空ラミネータが用いられてい
る。連続式真空ラミネータは減圧下で基板に感光性フィ
ルムの保護膜が除去されて感光層が積層されるが、バッ
チ式真空ラミネータでは大気下で基板に感光性フィルム
の保護膜が除去された感光層を接触させてから、減圧下
に置かれ積層される。このためバッチ式真空ラミネータ
を使用する場合には、感光性フィルムの感光層と基板、
特に凸部の導体などのタックが強いと減圧下に置かれて
も凹部の大気が除去できず気泡となり、凸部の導体など
の被覆が十分にできず保護膜としての役目を果たせなく
なる。一般に凹凸を有した基板に用いる感光性フィルム
の感光層は良好な埋め込み性を得るために流動性を高く
するので、タックも強くなる傾向にある。またプリント
配線板の回路形成を目的とする感光性フィルムでも平滑
な銅張積層板の表面のキズなどを埋め込むために高流動
にして真空ラミネータを用いることがあり、この場合に
も感光層が高タックとなり、結果としてキズ内部に気泡
が残留することになる。
ト配線板に部品を実装する際に行う半田付け時に発生し
易い半田ブリッジの防止のため、また導体の腐食や導体
間の絶縁性保持のために、導体などの表面上に保護膜を
形成することが行われている。このような永久保護膜と
して、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の可撓性
支持体上に感光層を有し、さらに一時的に感光層を保護
するために感光層の上にポリエチレンフィルム等の保護
フィルムを設けた感光性フィルムが用いられている。こ
の感光性フィルムを用いて保護膜を形成する場合、プリ
ント配線板上の導体パターン間への気泡の巻き込みを防
止するため、特公昭５３−３１６７０号公報に記載され
るような減圧室の中で加熱、加圧されたロール間に保護
フィルムを除去した感光性フィルムの感光層をプリント
配線板上に重ねて通過させて、導体被覆及び導体埋め込
みを行う装置が用いられる。この装置はプリント配線板
と感光性フィルムの積層を同時に行えることから、一般
に連続式真空ラミネータと呼ばれている。一方、フレキ
シブルプリント配線板でも、半田ブリッジ防止、導体腐
食防止や導体間の絶縁性保持のために、接着剤層が設け
られたポリイミドフィルムを金型などで所定のパターン
を打ち抜き、導体上に熱圧着して保護膜を形成すること
が行われているが、最近の高精細化の要求に対して感光
性カバーレイといわれる感光性フィルムが使用されるよ
うになってきている。この感光性カバーレイをフレキシ
ブルプリント配線板に積層するためには、ラミネート時
のカールが少ない特公昭５５−１３３４１号公報、特開
平８−１３２５３１号公報等に記載されているような一
般にバッチ式といわれる真空ラミネータが用いられてい
る。連続式真空ラミネータは減圧下で基板に感光性フィ
ルムの保護膜が除去されて感光層が積層されるが、バッ
チ式真空ラミネータでは大気下で基板に感光性フィルム
の保護膜が除去された感光層を接触させてから、減圧下
に置かれ積層される。このためバッチ式真空ラミネータ
を使用する場合には、感光性フィルムの感光層と基板、
特に凸部の導体などのタックが強いと減圧下に置かれて
も凹部の大気が除去できず気泡となり、凸部の導体など
の被覆が十分にできず保護膜としての役目を果たせなく
なる。一般に凹凸を有した基板に用いる感光性フィルム
の感光層は良好な埋め込み性を得るために流動性を高く
するので、タックも強くなる傾向にある。またプリント
配線板の回路形成を目的とする感光性フィルムでも平滑
な銅張積層板の表面のキズなどを埋め込むために高流動
にして真空ラミネータを用いることがあり、この場合に
も感光層が高タックとなり、結果としてキズ内部に気泡
が残留することになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は前記従
来技術の問題点を除去し、基板の凹凸を気泡なく十分に
被覆する感光性フィルム及びその積層方法を提供するこ
とにある。
来技術の問題点を除去し、基板の凹凸を気泡なく十分に
被覆する感光性フィルム及びその積層方法を提供するこ
とにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、可撓性支持
体、感光性組成物層及び感光性組成物層に対する接着性
が可撓性支持体の感光性組成物層に対する接着性よりも
小さい保護フィルムをこの順に積層した感光性フィルム
において、該保護フィルムの感光性組成物層と接触する
面の表面粗さがカットオフ値が０．０８〜８ｍｍ、評価
長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲において算術平
均粗さ（Ｒａ）で０．５μｍ以上であることを特徴とす
る感光性フィルムに関する。
体、感光性組成物層及び感光性組成物層に対する接着性
が可撓性支持体の感光性組成物層に対する接着性よりも
小さい保護フィルムをこの順に積層した感光性フィルム
において、該保護フィルムの感光性組成物層と接触する
面の表面粗さがカットオフ値が０．０８〜８ｍｍ、評価
長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲において算術平
均粗さ（Ｒａ）で０．５μｍ以上であることを特徴とす
る感光性フィルムに関する。
【０００５】本発明はまた、上記感光性フィルムの保護
フィルムを除去して、感光性組成物層の保護フィルムを
除去して、感光性組成物層の表面粗さを有する面が基板
に接するように減圧下で積層することを特徴とする感光
性フィルムの積層方法に関する。
フィルムを除去して、感光性組成物層の保護フィルムを
除去して、感光性組成物層の表面粗さを有する面が基板
に接するように減圧下で積層することを特徴とする感光
性フィルムの積層方法に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】一般に感光性フィルムは、可撓性
支持体、感光性組成物層、保護フィルムの順に積層した
構成となっており、基板等に積層する場合は保護フィル
ムを除き感光性組成物層を基板表面に接触させ、加熱、
加圧処理して積層する。そして、気泡を巻き込まずに凹
凸を被覆するため減圧下で積層することが一般に行われ
ている。特にバッチ式真空ラミネータを用いる場合は、
凹凸を埋め込むために感光性組成物層の流動性を高める
と、凸部との接着力が強くなり、減圧下でも凹部の脱気
が困難となり十分な被覆が不可能となる。
支持体、感光性組成物層、保護フィルムの順に積層した
構成となっており、基板等に積層する場合は保護フィル
ムを除き感光性組成物層を基板表面に接触させ、加熱、
加圧処理して積層する。そして、気泡を巻き込まずに凹
凸を被覆するため減圧下で積層することが一般に行われ
ている。特にバッチ式真空ラミネータを用いる場合は、
凹凸を埋め込むために感光性組成物層の流動性を高める
と、凸部との接着力が強くなり、減圧下でも凹部の脱気
が困難となり十分な被覆が不可能となる。
【０００７】本発明においては、積層すべき基板表面と
接する側の感光性組成物層の表面に一定の範囲の表面粗
さを与えて減圧下で積層することにより基板の凹凸を気
泡なく十分に被覆することができる。この感光性組成物
層に与える表面粗さは基板の凹凸を十分に被覆するため
に、積層時の加圧により消失しなければならないが、積
層前にはその表面粗さを保持していなければならない。
そのため、感光性組成物層はある流動性を有する必要が
ある。そこで、感光性組成物層に向いた側に表面粗さを
有する保護フィルムを用いることにより、流動性を有す
る感光性組成物層に一次的な表面粗さを与え、これによ
り、流動性を有する感光性組成物層は保護フィルムの表
面粗さに追従して積層時に必要な表面粗さが得られると
共に、積層時の加圧により表面粗さは消失して基板の凹
凸を気泡なく十分に被覆できる。ただし、この表面粗さ
を有する保護フィルムは感光性組成物層に対する接着性
は可撓性支持体よりも小さくなければならない。
接する側の感光性組成物層の表面に一定の範囲の表面粗
さを与えて減圧下で積層することにより基板の凹凸を気
泡なく十分に被覆することができる。この感光性組成物
層に与える表面粗さは基板の凹凸を十分に被覆するため
に、積層時の加圧により消失しなければならないが、積
層前にはその表面粗さを保持していなければならない。
そのため、感光性組成物層はある流動性を有する必要が
ある。そこで、感光性組成物層に向いた側に表面粗さを
有する保護フィルムを用いることにより、流動性を有す
る感光性組成物層に一次的な表面粗さを与え、これによ
り、流動性を有する感光性組成物層は保護フィルムの表
面粗さに追従して積層時に必要な表面粗さが得られると
共に、積層時の加圧により表面粗さは消失して基板の凹
凸を気泡なく十分に被覆できる。ただし、この表面粗さ
を有する保護フィルムは感光性組成物層に対する接着性
は可撓性支持体よりも小さくなければならない。
【０００８】この保護フィルムの表面粗さは日本工業規
格ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に定義された算術平均
粗さ（Ｒａ）で表され、カットオフ値が０．０８〜８ｍ
ｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲におい
て算術平均粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以上あることが必
要である。この算術平均粗さ（Ｒａ）は感光性組成物層
の層厚の０．１〜５０％の範囲にあることが好ましく、
さらに好ましくは１〜２０％である。また、日本工業規
格ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に定義された十点平均
粗さ（Ｒｚ）が、基準長さが０．０８〜８ｍｍ、評価長
さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲において、０．５
μｍ以上あるいは感光性組成物層の層厚の０．１％以上
５０％以下の範囲にあることが好ましく、さらに好まし
くは１％以上２０％以下である。さらに、日本工業規格
ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に定義された最大高さ
（Ｒｙ）が、基準長さが０．０８〜８ｍｍ、評価長さが
０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲において、感光性組成
物層の層厚の２倍以下であることが好ましい。
格ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に定義された算術平均
粗さ（Ｒａ）で表され、カットオフ値が０．０８〜８ｍ
ｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲におい
て算術平均粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以上あることが必
要である。この算術平均粗さ（Ｒａ）は感光性組成物層
の層厚の０．１〜５０％の範囲にあることが好ましく、
さらに好ましくは１〜２０％である。また、日本工業規
格ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に定義された十点平均
粗さ（Ｒｚ）が、基準長さが０．０８〜８ｍｍ、評価長
さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲において、０．５
μｍ以上あるいは感光性組成物層の層厚の０．１％以上
５０％以下の範囲にあることが好ましく、さらに好まし
くは１％以上２０％以下である。さらに、日本工業規格
ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に定義された最大高さ
（Ｒｙ）が、基準長さが０．０８〜８ｍｍ、評価長さが
０．４ｍｍ〜４０ｍｍの測定範囲において、感光性組成
物層の層厚の２倍以下であることが好ましい。
【０００９】ここでカットオフ値とは日本工業規格ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１−１９９４に定義される粗さ曲線のカッ
トオフ値のことであり、位相補償形高域フィルタの利得
が５０％になる周波数に対応する波長を示すものであ
る。
Ｓ Ｂ０６０１−１９９４に定義される粗さ曲線のカッ
トオフ値のことであり、位相補償形高域フィルタの利得
が５０％になる周波数に対応する波長を示すものであ
る。
【００１０】表面粗さの測定は一般に日本工業規格ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１−１９９４に準拠した触針式の表面粗さ
計を用いることができ、測定に用いる触針の先端半径は
２μｍが好ましい。
Ｓ Ｂ０６０１−１９９４に準拠した触針式の表面粗さ
計を用いることができ、測定に用いる触針の先端半径は
２μｍが好ましい。
【００１１】感光性組成物層の表面粗さがカットオフ値
が０．０８〜８ｍｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍ
の測定範囲において算術平均粗さ（Ｒａ）で０．５μｍ
未満では基板への積層時に気泡を巻き込み易くなる。ま
た、感光性組成物層の層厚の０．１％未満では基板への
積層時に気泡を巻き込み易くなる傾向があり、層厚の５
０％を超えると基板の凹凸の十分な被覆が困難となる傾
向がある。
が０．０８〜８ｍｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍ
の測定範囲において算術平均粗さ（Ｒａ）で０．５μｍ
未満では基板への積層時に気泡を巻き込み易くなる。ま
た、感光性組成物層の層厚の０．１％未満では基板への
積層時に気泡を巻き込み易くなる傾向があり、層厚の５
０％を超えると基板の凹凸の十分な被覆が困難となる傾
向がある。
【００１２】使用される感光性フィルムの感光性組成物
層は積層する基板の凹凸への追従性、埋め込み性を高
め、また表面粗さを一次的に保持して、基板の凹凸を十
分に被覆、埋め込むため、流動性を有することが必要で
ある。この流動性は温度３０℃において層厚を２ｍｍと
した感光性組成物層に０．２５ｋｇ／ｍｍ2の静荷重を
加えたとき、荷重を加えてから１０秒後から６００秒後
までの時間経過での膜厚変化量が５０〜８００μｍの範
囲にあることが好ましい。さらに好ましくは膜厚変化量
が１００〜５００μｍの範囲である。
層は積層する基板の凹凸への追従性、埋め込み性を高
め、また表面粗さを一次的に保持して、基板の凹凸を十
分に被覆、埋め込むため、流動性を有することが必要で
ある。この流動性は温度３０℃において層厚を２ｍｍと
した感光性組成物層に０．２５ｋｇ／ｍｍ2の静荷重を
加えたとき、荷重を加えてから１０秒後から６００秒後
までの時間経過での膜厚変化量が５０〜８００μｍの範
囲にあることが好ましい。さらに好ましくは膜厚変化量
が１００〜５００μｍの範囲である。
【００１３】膜厚変化量が５０μｍ未満では保護フィル
ムの表面粗さに感光性組成物層の追従が困難となるばか
りでなく、基板の凹凸を十分に被覆したり埋め込むこと
が困難になる傾向がある。また、膜厚変化量が８００μ
ｍを超えると、保護フィルムを除去した後の感光性組成
物層の表面粗さを一時的に保持することが困難になり、
基板と接する面の感光性組成物層の表面粗さが消失して
しまい、表面粗さの効果が得られず基板の凹凸を十分に
被覆したり埋め込むことが困難になる傾向がある。
ムの表面粗さに感光性組成物層の追従が困難となるばか
りでなく、基板の凹凸を十分に被覆したり埋め込むこと
が困難になる傾向がある。また、膜厚変化量が８００μ
ｍを超えると、保護フィルムを除去した後の感光性組成
物層の表面粗さを一時的に保持することが困難になり、
基板と接する面の感光性組成物層の表面粗さが消失して
しまい、表面粗さの効果が得られず基板の凹凸を十分に
被覆したり埋め込むことが困難になる傾向がある。
【００１４】表面粗さを有する保護フィルムを感光性組
成物層表面に積層する際に、感光性組成物の特性が変化
しない範囲で加熱、加圧してもよい。
成物層表面に積層する際に、感光性組成物の特性が変化
しない範囲で加熱、加圧してもよい。
【００１５】本発明に使用される感光性フィルムの可撓
性支持体、感光性組成物層及び保護フィルムは公知のも
のを用いることができる。可撓性支持体の膜厚は好まし
くは１２〜２５μｍであり、感光性組成物層の膜厚は好
ましくは５〜３０μｍであり、保護フィルムの膜厚は好
ましくは１５〜５０μｍである。
性支持体、感光性組成物層及び保護フィルムは公知のも
のを用いることができる。可撓性支持体の膜厚は好まし
くは１２〜２５μｍであり、感光性組成物層の膜厚は好
ましくは５〜３０μｍであり、保護フィルムの膜厚は好
ましくは１５〜５０μｍである。
【００１６】本発明に用いられる感光性フィルムの可撓
性支持体及び保護フィルムとしては、例えば、ポリエチ
レン、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミ
ドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィ
ルム、ポリスチレンフィルム等の重合体フィルムが用い
られ、可撓性支持体としてはポリエチレンテレフタレー
トフィルムが、保護フィルムとしてはポリエチレンフィ
ルムが好ましく用いられる。
性支持体及び保護フィルムとしては、例えば、ポリエチ
レン、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミ
ドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィ
ルム、ポリスチレンフィルム等の重合体フィルムが用い
られ、可撓性支持体としてはポリエチレンテレフタレー
トフィルムが、保護フィルムとしてはポリエチレンフィ
ルムが好ましく用いられる。
【００１７】表面粗さを有する保護フィルムは、例えば
延伸ポリエチレンフィルムを表面に梨地といわれる文様
等を加工した金属ロールとゴムロール間に通すことで得
られる。このようにして得られたフィルムは梨地加工フ
ィルム又はエンボス加工フィルムなどといわれる。
延伸ポリエチレンフィルムを表面に梨地といわれる文様
等を加工した金属ロールとゴムロール間に通すことで得
られる。このようにして得られたフィルムは梨地加工フ
ィルム又はエンボス加工フィルムなどといわれる。
【００１８】また、別の方法ではフィルム中に微粒子を
均一分散させて表面粗さを有する保護フィルム用フィル
ムを得ることもできるが、表面粗さを有する保護フィル
ムを得る方法はこれらの方法に限られない。
均一分散させて表面粗さを有する保護フィルム用フィル
ムを得ることもできるが、表面粗さを有する保護フィル
ムを得る方法はこれらの方法に限られない。
【００１９】本発明に使用される感光性フィルムの感光
性組成物層は、例えば（ａ）熱可塑性重合体、（ｂ）不
飽和基含有単量体、（ｃ）光重合開始剤等から構成され
る。
性組成物層は、例えば（ａ）熱可塑性重合体、（ｂ）不
飽和基含有単量体、（ｃ）光重合開始剤等から構成され
る。
【００２０】（ａ）熱可塑性重合体としては、例えばビ
ニル共重合体が挙げられ、用いられる共重合体単量体と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、スチレン、α−メ
チルスチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリド
ン、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチ
ルアミノエチルアクリレート等が挙げられる。また、ス
チレン／マレイン酸共重合体のハーフエステル等も挙げ
られる。
ニル共重合体が挙げられ、用いられる共重合体単量体と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、スチレン、α−メ
チルスチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリド
ン、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチ
ルアミノエチルアクリレート等が挙げられる。また、ス
チレン／マレイン酸共重合体のハーフエステル等も挙げ
られる。
【００２１】また、熱可塑性重合体の重量平均分子量
（ＧＰＣを用いて、標準ポリスチレン換算で測定したも
の）は、好ましくは２０，０００〜３００，０００、よ
り好ましくは５０，０００〜１５０，０００である。
（ＧＰＣを用いて、標準ポリスチレン換算で測定したも
の）は、好ましくは２０，０００〜３００，０００、よ
り好ましくは５０，０００〜１５０，０００である。
【００２２】（ｂ）成分の不飽和基含有単量体として
は、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン
酸を反応させて得られる化合物（ポリエチレングリコー
ルジアクリレート（エチレン基の数が２〜１４のも
の）、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、テトラメチロール
メタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレ
ート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスル
トールヘキサアクリレート等）、ビスフェノールΑポリ
オキシエチレンジアクリレート（ビスフェノールΑジオ
キシエチレンジアクリレート、ビスフェノールΑトリオ
キシエチレンジアクリレート、ビスフェノールΑデカオ
キシエチレンジアクリレート等）、グリシジル基含有化
合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化
合物（トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリアクリレート、ビスフェノールΑジグリシジルエー
テルアクリレート等）、２，２−ビス（４−メタクリロ
キシポリエトキシフェニル）プロパン、多価カルボン酸
（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を
有する化合物（β−ヒドロキシエチルアクリレート等）
とのエステル化物、アクリル酸のアルキルエステル（ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル等）、トリメチルヘ
キサメチレンジイソシアナートと２価アルコールと２価
のアクリル酸モノエステルとを反応させて得られるウレ
タンジアクリレート化合物、これらに対応するメタクリ
レートが挙げられる。
は、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン
酸を反応させて得られる化合物（ポリエチレングリコー
ルジアクリレート（エチレン基の数が２〜１４のも
の）、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、テトラメチロール
メタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレ
ート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスル
トールヘキサアクリレート等）、ビスフェノールΑポリ
オキシエチレンジアクリレート（ビスフェノールΑジオ
キシエチレンジアクリレート、ビスフェノールΑトリオ
キシエチレンジアクリレート、ビスフェノールΑデカオ
キシエチレンジアクリレート等）、グリシジル基含有化
合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化
合物（トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリアクリレート、ビスフェノールΑジグリシジルエー
テルアクリレート等）、２，２−ビス（４−メタクリロ
キシポリエトキシフェニル）プロパン、多価カルボン酸
（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を
有する化合物（β−ヒドロキシエチルアクリレート等）
とのエステル化物、アクリル酸のアルキルエステル（ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル等）、トリメチルヘ
キサメチレンジイソシアナートと２価アルコールと２価
のアクリル酸モノエステルとを反応させて得られるウレ
タンジアクリレート化合物、これらに対応するメタクリ
レートが挙げられる。
【００２３】本発明における（ａ）成分の配合量は、４
０〜８０重量部（（ａ）成分、（ｂ）成分と（ｃ）成分
との総量が１００重量部となるようにする）とすること
が好ましく、５０〜７０重量部とすることがより好まし
く、５５〜６５重量部とすることが特に好ましい。
０〜８０重量部（（ａ）成分、（ｂ）成分と（ｃ）成分
との総量が１００重量部となるようにする）とすること
が好ましく、５０〜７０重量部とすることがより好まし
く、５５〜６５重量部とすることが特に好ましい。
【００２４】本発明に（ｃ）成分として用いられる光重
合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン（ベンゾフェ
ノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエ
チル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキ
シ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチル
アントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベンゾイ
ン（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、べンゾインフェニルエーテル等のべンゾインエー
テル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等）、ベン
ジル誘導体（ベンジルジメチルケタール等）、２，４，
５−トリアリールイミダゾール２量体（２−（ｏ−クロ
ロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メ
トキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フル
オロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，４−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール
２量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メチルメ
ルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
２量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等）、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジエチルチオキ
サントン等が挙げられる。これらは、単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。
合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン（ベンゾフェ
ノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエ
チル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキ
シ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチル
アントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベンゾイ
ン（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、べンゾインフェニルエーテル等のべンゾインエー
テル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等）、ベン
ジル誘導体（ベンジルジメチルケタール等）、２，４，
５−トリアリールイミダゾール２量体（２−（ｏ−クロ
ロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メ
トキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フル
オロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，４−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール
２量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メチルメ
ルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
２量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等）、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジエチルチオキ
サントン等が挙げられる。これらは、単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。
【００２５】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対して
０．１０〜２０重量部とすることが好ましく、０．１５
〜１５重量部とすることがより好ましく、０．２０〜１
０重量部とすることが特に好ましい。
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対して
０．１０〜２０重量部とすることが好ましく、０．１５
〜１５重量部とすることがより好ましく、０．２０〜１
０重量部とすることが特に好ましい。
【００２６】本発明に使用される感光性フィルムの感光
性組成物層には、ヘキサメトキシメチルメラミン等の熱
硬化成分、染料、顔料、可塑剤、安定剤、２−アミノ−
５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール等の密着
性向上剤、充填剤等が必要に応じて添加される。
性組成物層には、ヘキサメトキシメチルメラミン等の熱
硬化成分、染料、顔料、可塑剤、安定剤、２−アミノ−
５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール等の密着
性向上剤、充填剤等が必要に応じて添加される。
【００２７】本発明に使用される感光性フィルムは、例
えば前記の（ａ）熱可塑性重合体、（ｂ）不飽和基含有
単量体、（ｃ）光重合開始剤等から構成される感光性組
成物を溶剤等に均一に溶解させたものを、可撓性支持体
上に均一に塗布した後、加熱及び／又は熱風吹き付けに
より溶剤を除去し、乾燥皮膜とする。このようにして得
られる可撓性支持体と感光性組成物層との２層からなる
感光性フィルムは、そのまま又は感光性組成物層上に保
護フィルムを積層してロール状に巻き取って貯蔵され
る。
えば前記の（ａ）熱可塑性重合体、（ｂ）不飽和基含有
単量体、（ｃ）光重合開始剤等から構成される感光性組
成物を溶剤等に均一に溶解させたものを、可撓性支持体
上に均一に塗布した後、加熱及び／又は熱風吹き付けに
より溶剤を除去し、乾燥皮膜とする。このようにして得
られる可撓性支持体と感光性組成物層との２層からなる
感光性フィルムは、そのまま又は感光性組成物層上に保
護フィルムを積層してロール状に巻き取って貯蔵され
る。
【００２８】本発明に使用される可撓性支持体、感光性
組成物層、表面粗さを有する保護フィルムからなる感光
性フィルムは、保護フィルムを除去後、表面あらさを転
写された感光性組成物層を基板に積層し、加熱、加圧に
より密着させるが、基板の凹凸を十分に埋め込み、被覆
するため減圧下で行うことが有効である。このときの圧
力、温度及び時間は感光性組成物層の特性が保持できる
膜厚が得られる範囲であればよい。
組成物層、表面粗さを有する保護フィルムからなる感光
性フィルムは、保護フィルムを除去後、表面あらさを転
写された感光性組成物層を基板に積層し、加熱、加圧に
より密着させるが、基板の凹凸を十分に埋め込み、被覆
するため減圧下で行うことが有効である。このときの圧
力、温度及び時間は感光性組成物層の特性が保持できる
膜厚が得られる範囲であればよい。
【００２９】このようにして積層が完了した感光性フィ
ルムは、次いでネガフィルム又はポジフィルムを用いて
活性光で画像的に露光される。この際感光性組成物層上
にある可撓性支持体を除いて露光してもよい。露光後、
感光性組成物層上に可撓性支持体があれば、それを除い
て、有機溶剤やアルカリ水溶液などを用いて、例えばス
プレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の
公知の方法で未露光部又は露光部を除去して現像する。
この後、特性を高めるために、更に光照射した加熱して
硬化させることも行われる。
ルムは、次いでネガフィルム又はポジフィルムを用いて
活性光で画像的に露光される。この際感光性組成物層上
にある可撓性支持体を除いて露光してもよい。露光後、
感光性組成物層上に可撓性支持体があれば、それを除い
て、有機溶剤やアルカリ水溶液などを用いて、例えばス
プレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の
公知の方法で未露光部又は露光部を除去して現像する。
この後、特性を高めるために、更に光照射した加熱して
硬化させることも行われる。
【００３０】
【実施例】次に本発明を実施例により詳しく説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３１】実施例１
【００３２】
【表１】 表１に示す材料を配合した組成の溶液６を、図１に示す
装置を用いて２５μｍの厚さのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム１２上に均一に塗布して、１００℃の熱風
循環式乾燥機７で約５分間乾燥して溶剤を除去して、感
光性組成物層の膜厚が２５μｍになるように調整した。
図１において、１はポリエチレンテレフタレートフィル
ム繰り出しロール、２はフィードロール、３はバッキン
グロール、４はドクターロール、９及び１０はロール、
５はナイフ、６は感光性組成物の溶液、７は乾燥機、８
はポリエチレンフィルムの繰り出しロール、１１は感光
性フィルム巻き取りロールである。
装置を用いて２５μｍの厚さのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム１２上に均一に塗布して、１００℃の熱風
循環式乾燥機７で約５分間乾燥して溶剤を除去して、感
光性組成物層の膜厚が２５μｍになるように調整した。
図１において、１はポリエチレンテレフタレートフィル
ム繰り出しロール、２はフィードロール、３はバッキン
グロール、４はドクターロール、９及び１０はロール、
５はナイフ、６は感光性組成物の溶液、７は乾燥機、８
はポリエチレンフィルムの繰り出しロール、１１は感光
性フィルム巻き取りロールである。
【００３３】この感光性組成物層を重ね合わせ層厚を２
ｍｍとした試料に０．２５ｋｇ／ｍｍ2の静荷重を加え
たところ、荷重を加えてから１０秒後から６００秒後ま
での時間経過での膜厚変化量が２８８μｍであった。次
いで、図１に示す装置を用いて、感光性組成物層上にさ
らにポリエチレンフィルム１３（保護フィルム）を貼り
合わせて感光性フィルムを得た。この際使用した保護フ
ィルムは表面粗さ測定器サーフコーダＳＥ−３０Ｄ
（（株）小坂研究所製）を用いて、触針先端半径２μ
ｍ、走査速さ０．１ｍｍ／秒で表面粗さを測定した結
果、カットオフ値が０．０８ｍｍ、評価長さが２．５ｍ
ｍの測定範囲において算術平均粗さ（Ｒａ）が１．２μ
ｍ（感光性組成物層の４．８％）であった。また、最大
高さ（Ｒｙ）は１０．５μｍ（感光性組成物層の２１
％）であった。
ｍｍとした試料に０．２５ｋｇ／ｍｍ2の静荷重を加え
たところ、荷重を加えてから１０秒後から６００秒後ま
での時間経過での膜厚変化量が２８８μｍであった。次
いで、図１に示す装置を用いて、感光性組成物層上にさ
らにポリエチレンフィルム１３（保護フィルム）を貼り
合わせて感光性フィルムを得た。この際使用した保護フ
ィルムは表面粗さ測定器サーフコーダＳＥ−３０Ｄ
（（株）小坂研究所製）を用いて、触針先端半径２μ
ｍ、走査速さ０．１ｍｍ／秒で表面粗さを測定した結
果、カットオフ値が０．０８ｍｍ、評価長さが２．５ｍ
ｍの測定範囲において算術平均粗さ（Ｒａ）が１．２μ
ｍ（感光性組成物層の４．８％）であった。また、最大
高さ（Ｒｙ）は１０．５μｍ（感光性組成物層の２１
％）であった。
【００３４】次に、図２に示す装置を用いて前記感光性
フィルムの保護フィルムを除いた感光性組成物層上に、
両面に１８μｍ厚の銅回路を形成したプリント配線板を
乗せて、加圧・加熱・真空チャンバに送り、プリント配
線板の上面にも前記感光性フィルムの保護フィルムを除
いた感光性組成物層を接触させた後、チャンバ内を１Ｔ
ｏｒｒまで真空引きしながら１００℃に加熱、さらに
３．５ｋｇ／ｃｍ2加圧した状態を３分間保って積層し
た。この後、チャンバを解放して感光性フィルムを積層
したプリント配線板を取り出し、回路上や回路間の気泡
の有無を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。図２にお
いて、１４は基板、１５及び１６は加圧・加熱・真空チ
ャンバ、１７は固定膜、１８は加圧膜、１９は真空引き
部、２０は空気加圧部、２１及び２２は感光性フィルム
送りロール、２３及び２４は保護フィルム巻き取りロー
ル、２５及び２６は感光性フィルムである。
フィルムの保護フィルムを除いた感光性組成物層上に、
両面に１８μｍ厚の銅回路を形成したプリント配線板を
乗せて、加圧・加熱・真空チャンバに送り、プリント配
線板の上面にも前記感光性フィルムの保護フィルムを除
いた感光性組成物層を接触させた後、チャンバ内を１Ｔ
ｏｒｒまで真空引きしながら１００℃に加熱、さらに
３．５ｋｇ／ｃｍ2加圧した状態を３分間保って積層し
た。この後、チャンバを解放して感光性フィルムを積層
したプリント配線板を取り出し、回路上や回路間の気泡
の有無を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。図２にお
いて、１４は基板、１５及び１６は加圧・加熱・真空チ
ャンバ、１７は固定膜、１８は加圧膜、１９は真空引き
部、２０は空気加圧部、２１及び２２は感光性フィルム
送りロール、２３及び２４は保護フィルム巻き取りロー
ル、２５及び２６は感光性フィルムである。
【００３５】次いで、感光性フィルムの積層されたプリ
ント配線板に超高圧水銀灯を用いてネガマスクを介して
８０ｍＪ／ｃｍ2露光し、さらに１重量％の炭酸ナトリ
ウム水溶液を用いて、スプレー圧１．０ｋｇ／ｃｍ2、
液温３０℃の条件で現像した。その後高圧水銀灯で１Ｊ
／ｃｍ2の紫外線を照射し、さらに１５０℃／６０分で
加熱して硬化膜を形成した。この硬化膜を形成したプリ
ント配線板を２６０℃のはんだ槽に１０秒間浸漬して、
外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。これらの結
果を表２に示す。
ント配線板に超高圧水銀灯を用いてネガマスクを介して
８０ｍＪ／ｃｍ2露光し、さらに１重量％の炭酸ナトリ
ウム水溶液を用いて、スプレー圧１．０ｋｇ／ｃｍ2、
液温３０℃の条件で現像した。その後高圧水銀灯で１Ｊ
／ｃｍ2の紫外線を照射し、さらに１５０℃／６０分で
加熱して硬化膜を形成した。この硬化膜を形成したプリ
ント配線板を２６０℃のはんだ槽に１０秒間浸漬して、
外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。これらの結
果を表２に示す。
【００３６】実施例２ 表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で３．４μｍ（感光性
組成物層厚の１３．６％）、最大高さ（Ｒｙ）で２２．
８μｍ（感光性組成物層の４５．６％）の保護フィルム
を使用した以外は実施例１と同様に行い、気泡の有無、
はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察し
た。その結果を表２に示す。
組成物層厚の１３．６％）、最大高さ（Ｒｙ）で２２．
８μｍ（感光性組成物層の４５．６％）の保護フィルム
を使用した以外は実施例１と同様に行い、気泡の有無、
はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察し
た。その結果を表２に示す。
【００３７】実施例３ 表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で４．５μｍ（感光性
組成物層厚の１８．０％））、最大高さ（Ｒｙ）で２
７．５μｍ（感光性組成物層の５５％）の保護フィルム
を使用した以外は実施例１と同様に行い、気泡の有無、
はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察し
た。その結果を表２に示す。
組成物層厚の１８．０％））、最大高さ（Ｒｙ）で２
７．５μｍ（感光性組成物層の５５％）の保護フィルム
を使用した以外は実施例１と同様に行い、気泡の有無、
はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察し
た。その結果を表２に示す。
【００３８】実施例４ 感光性組成物層の層厚を５０μｍとして、銅回路の厚さ
が３５μｍのプリント配線板を使用した以外は実施例１
と同様に行い、感光性組成物層の流動性が３１２μｍの
感光性フィルムを得た。この感光性フィルムを実施例１
と同様にプリント配線板に積層して、気泡の有無、はん
だ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。
その結果を表２に示す。
が３５μｍのプリント配線板を使用した以外は実施例１
と同様に行い、感光性組成物層の流動性が３１２μｍの
感光性フィルムを得た。この感光性フィルムを実施例１
と同様にプリント配線板に積層して、気泡の有無、はん
だ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。
その結果を表２に示す。
【００３９】実施例５ 表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で９．８μｍ（感光性
組成物層厚の１９．６％））、最大高さ（Ｒｙ）で７
０．１μｍ（感光性組成物層の１４０．２％）の保護フ
ィルムを使用した以外は実施例４と同様に行い、気泡の
有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で
観察した。その結果を表２に示す。
組成物層厚の１９．６％））、最大高さ（Ｒｙ）で７
０．１μｍ（感光性組成物層の１４０．２％）の保護フ
ィルムを使用した以外は実施例４と同様に行い、気泡の
有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で
観察した。その結果を表２に示す。
【００４０】比較例１ 表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で０．１μｍ（感光性
組成物層厚の０．４％））、最大高さ（Ｒｙ）で１．３
μｍ（感光性組成物層の２．６％）の保護フィルムを使
用した以外は実施例１と同様に行い、気泡の有無、はん
だ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。
その結果を表２に示す。
組成物層厚の０．４％））、最大高さ（Ｒｙ）で１．３
μｍ（感光性組成物層の２．６％）の保護フィルムを使
用した以外は実施例１と同様に行い、気泡の有無、はん
だ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で観察した。
その結果を表２に示す。
【００４１】実施例６ 感光性フィルムの塗工後の乾燥時間を変えて、流動性を
２０５μｍにした以外は実施例４と同様に行い、気泡の
有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で
観察した。その結果を表２に示す。
２０５μｍにした以外は実施例４と同様に行い、気泡の
有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で
観察した。その結果を表２に示す。
【００４２】実施例７ 表１の２，２−ビス［４−（メタクリロキシ・ポリエト
キシ）フェニル］プロパンの配合量を２５重量部にした
以外は実施例１と同様にして感光性フィルムを作製し
た。この際、図２の保護フィルム貼り合わせロールを７
０℃に加熱して保護フィルムを貼り合わせた。この際の
流動性は１１４μｍであった。この後、実施例４と同様
に行い、気泡の有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５
０倍の顕微鏡で観察した。その結果を表２に示す。
キシ）フェニル］プロパンの配合量を２５重量部にした
以外は実施例１と同様にして感光性フィルムを作製し
た。この際、図２の保護フィルム貼り合わせロールを７
０℃に加熱して保護フィルムを貼り合わせた。この際の
流動性は１１４μｍであった。この後、実施例４と同様
に行い、気泡の有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５
０倍の顕微鏡で観察した。その結果を表２に示す。
【００４３】実施例８ 感光性フィルムの塗工後の乾燥時間を変えて、流動性を
５２０μｍにした以外は実施例４と同様に行い、気泡の
有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で
観察した。その結果を表２に示す。
５２０μｍにした以外は実施例４と同様に行い、気泡の
有無、はんだ浸漬後の外観を目視及び５０倍の顕微鏡で
観察した。その結果を表２に示す。
【００４４】
【表２】 表２から明らかなように、本発明の感光性フィルム及び
積層方法を用いた場合には、凹凸基板を気泡なく十分な
被覆を行うことができる。
積層方法を用いた場合には、凹凸基板を気泡なく十分な
被覆を行うことができる。
【００４５】なお、上記で用いた特定の表面粗さを有す
る保護フィルムは市販されており、表面をサンドブラス
トで処理した金属ロールとゴムロールの間にフィルムを
通過させることにより製造される。この際、サンドブラ
スト処理のサンドの粒径と吹き付け時間を調整してロー
ル表面の凹凸を変えることにより、異なる表面粗さを有
する保護フィルムが得られる。
る保護フィルムは市販されており、表面をサンドブラス
トで処理した金属ロールとゴムロールの間にフィルムを
通過させることにより製造される。この際、サンドブラ
スト処理のサンドの粒径と吹き付け時間を調整してロー
ル表面の凹凸を変えることにより、異なる表面粗さを有
する保護フィルムが得られる。
【００４６】
【発明の効果】本発明の感光性フィルム及び積層方法を
用いると、特に減圧下で凹凸を有する基板表面を気泡な
く、十分に被覆した感光性樹脂層を得ることができる。
用いると、特に減圧下で凹凸を有する基板表面を気泡な
く、十分に被覆した感光性樹脂層を得ることができる。
【図１】実施例で用いた感光性フィルムの製造装置の略
図。
図。
【図２】実施例で用いた積層装置の略図。
１ ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出しロー
ル ２ フィードロール ３ バッキングロール ４ ドクタロール ５ ナイフ ６ 感光性組成物の溶液 ７ 乾燥機 ８ ポリエチレンフィルム繰り出しロール ９、１０ ロール １１ 感光性フィルム巻き取りロール １２ ポリエチレンテレフタレートフィルム １３ ポリエチレンフィルム １４ 基板 １５、１６ 加圧・加熱・真空チャンバ １７ 固定膜 １８ 加圧膜 １９ 真空引き部 ２０ 空気加圧部 ２１、２２ 感光性フィルム送りロール ２３、２４ 保護フィルム巻き取りロール ２５、２６ 感光性フィルム
ル ２ フィードロール ３ バッキングロール ４ ドクタロール ５ ナイフ ６ 感光性組成物の溶液 ７ 乾燥機 ８ ポリエチレンフィルム繰り出しロール ９、１０ ロール １１ 感光性フィルム巻き取りロール １２ ポリエチレンテレフタレートフィルム １３ ポリエチレンフィルム １４ 基板 １５、１６ 加圧・加熱・真空チャンバ １７ 固定膜 １８ 加圧膜 １９ 真空引き部 ２０ 空気加圧部 ２１、２２ 感光性フィルム送りロール ２３、２４ 保護フィルム巻き取りロール ２５、２６ 感光性フィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｆ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB11 AB15 AC01 AD01 BC42 BJ00 CA01 CA28 CB13 CB14 CB15 CB16 DA02 DA18 EA08 FA03 FA17 FA29 FA30 4F100 AB17D AK01B AK04C AK25 AK41A AL01B AR00B AR00C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C BA31 DD07B DD07C EC042 EJ24 EJ91 EJ96 GB43 JA06B JK14B JK17A JL14C JN17B 5E314 AA27 CC15 FF01 GG15
Claims (4)
- 【請求項１】 可撓性支持体、感光性組成物層及び感光
性組成物層に対する接着性が可撓性支持体の感光性組成
物層に対する接着性よりも小さい保護フィルムをこの順
に積層した感光性フィルムにおいて、該保護フィルムの
感光性組成物層と接触する面の表面粗さがカットオフ値
が０．０８〜８ｍｍ、評価長さが０．４ｍｍ〜４０ｍｍ
の測定範囲における算術平均粗さ（Ｒａ）で０．５μｍ
以上であることを特徴とする感光性フィルム。 - 【請求項２】 保護フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）が
感光性組成物層の層厚の０．１〜５０％である請求項１
記載の感光性フィルム。 - 【請求項３】 感光性組成物層が、温度３０℃において
層厚を２ｍｍとした感光性組成物層に０．２５ｋｇ／ｍ
ｍ2の静荷重を加えたとき、荷重を加えてから１０秒後
から６００秒後までの時間経過での膜厚変化量が５０〜
８００μｍの範囲の流動性を有するものである請求項１
又は２記載の感光性フィルム。 - 【請求項４】 請求項１、２又は３記載の感光性フィル
ムの保護フィルムを除去して、感光性組成物層の表面粗
さを有する面が基板に接するように減圧下で積層するこ
とを特徴とする感光性フィルムの積層方法。
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