JP2000141578A - 透明導電性積層シートの製造方法及び透明導電性積層シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低い初期表面抵抗値を有すると共に、加熱処
理後の表面抵抗値の上昇が小さく耐熱性に優れ、液晶デ
ィスプレイ基板、透明タッチパネル基板、及び、プラズ
マディスプレイ用電磁波遮蔽フィルター等に用いるに好
適な透明導電性積層シートの製造方法、及び透明導電性
積層シートを提供する。 【解決手段】 総量０．００１重量％以上の添加剤を含
有する樹脂組成物から成形された透明樹脂シートの層
と、透明導電層を少なくとも含む積層シートを製造する
において、前記透明樹脂シートの表面を、その樹脂組成
物を構成する樹脂の２５℃での溶解度が０．０１重量％
以下の溶剤で洗浄した後、積層シートとする透明導電性
積層シートの製造方法、並びに、総量０．００１重量％
以上の添加剤を含有する樹脂組成物から成形された透明
樹脂シートの層と、透明導電層を少なくとも含む積層シ
ートであって、該透明樹脂シートの層の樹脂組成物を構
成する樹脂のガラス転移温度より１０℃低い温度で、２
時間の加熱処理後の表面抵抗値が５０Ω／□以下である
透明導電性積層シート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、低い初期表面抵抗
値を有すると共に、加熱処理後の表面抵抗値の上昇が小
さく耐熱性に優れた透明導電性積層シートの製造方法、
及び透明導電性積層シートに関し、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）基板、透明タッチパネル基板、及び、プラズ
マディスプレイ（ＰＤＰ）用電磁波遮蔽フィルター等に
用いるに好適な透明導電性積層シートの製造方法、及び
透明導電性積層シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、著しい普及を遂げている携帯
電話、ポケットベル、電子手帳、携帯情報端末、ノート
パソコン等のＬＣＤ搭載携帯型機器等のＬＣＤ基板や、
現金自動引出機、列車・航空機等の座席予約機、電子手
帳、ワードプロセッサー等の透明タッチパネル基板、或
いは、ＰＤＰ用電磁波遮蔽フィルターとしては、透明基
材上に透明導電層を有する積層シートを基本構造とし、
その透明基材としてガラスが用いられているが、近年、
その透明基材として、小型化や軽量化の要求に対応でき
る重さ上の問題や耐衝撃性等の機械的強度上の問題のあ
る従来のガラスに代えて、透明性の優れるポリカーボネ
ート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエチレンテレ
フタレート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、環状
ポリオレフィン系樹脂等の樹脂の利用が検討され、一部
において実用化され始めている。

【０００３】しかしながら、溶液流延法や押出成形法等
により成形されたこれら樹脂基材上に、耐溶剤性付与等
のためのハードコート層、酸素ガスや水蒸気に対するガ
スバリア層、インジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）等に
よる透明導電層、ポリイミド等による配向層等が形成さ
れてなるＬＣＤ基板は、ガラス基材のＬＣＤ基板に比し
て、初期表面抵抗値が高く、更に、ポリイミド配向層の
形成や電極取付け等の種々の加熱工程を経ることにより
表面抵抗値が上昇してしまうという問題があった。又、
これらの加熱工程を経ることによりガスバリア性も同時
に低下してしまい、時間の経過と共に液晶パネル内に気
泡や黒点等が発生し易くなるという問題を内在してい
た。

【０００４】又、前記ＬＣＤ基板におけると同様に基材
を樹脂化した透明タッチパネル基板においても、やは
り、電極取付け等の加熱工程を経ることによる表面抵抗
値の上昇が、入力による位置決め精度を低下させるとい
う問題に繋がっている。

【０００５】又、前記ＬＣＤ基板におけると同様に基材
を樹脂化したＰＤＰ用電磁波遮蔽フィルターにおいて
も、初期表面抵抗値が高いことは、透明導電層の厚さを
厚くして抵抗値の低減化に対処せざるを得ないこととな
って、フィルターとしての光線透過率が低下するという
問題に繋がっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＬＣＤ基
板、透明タッチパネル基板、及び、ＰＤＰ用電磁波遮蔽
フィルター等における透明導電性積層シートについての
前述の現状に鑑みてなされたもので、従って、本発明
は、低い初期表面抵抗値を有すると共に、加熱処理後の
表面抵抗値の上昇が小さく耐熱性に優れた透明導電性積
層シートの製造方法、及び透明導電性積層シートを提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
について鋭意検討した結果、透明基材として用いる樹脂
シートの樹脂組成物中に含有される各種の添加剤のシー
ト表面へのブリードアウト等が、課題とする表面抵抗値
に影響を与えていることをつきとめ本発明に到達したも
ので、即ち、本発明は、総量０．００１重量％以上の添
加剤を含有する樹脂組成物から成形された透明樹脂シー
トの層と、透明導電層を少なくとも含む積層シートを製
造するにおいて、前記透明樹脂シートの表面を、その樹
脂組成物を構成する樹脂の２５℃での溶解度が０．０１
重量％以下の溶剤で洗浄した後、積層シートとする透明
導電性積層シートの製造方法、並びに、総量０．００１
重量％以上の添加剤を含有する樹脂組成物から成形され
た透明樹脂シートの層と、透明導電層を少なくとも含む
積層シートであって、該透明樹脂シートの層の樹脂組成
物を構成する樹脂のガラス転移温度より１０℃低い温度
で、２時間の加熱処理後の表面抵抗値が５０Ω／□以下
である透明導電性積層シート、を要旨とする。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明において透明樹脂シートの
層の樹脂組成物を構成する樹脂としては、特に限定され
るものではないが、具体的には、例えば、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエチレンテレ
フタレート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、環状
ポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂、並びに、熱硬
化樹脂、光硬化樹脂等が挙げられ、中で、前記熱可塑性
樹脂が好ましい。

【０００９】ここで、ポリカーボネート系樹脂として
は、芳香族ジオールとホスゲンとの界面重合による方法
（ホスゲン法、又は界面重合法）、或いは、芳香族ジオ
ールとジフェニルカーボネート等の炭酸エステルとのエ
ステル交換による方法（エステル交換法、又は溶融重合
法）のいずれによって得られたものでもよく、又、一種
の芳香族ジオールからなるホモポリマーであっても、二
種以上の芳香族ジオールからなるコポリマーであっても
よい。

【００１０】尚、その芳香族ジオールとしては、具体的
には、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン
〔ビスフェノールＦ〕、ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）メタン、１，１−ビス（４’−ヒドロキ
シフェニル）エタン、１，１−ビス（３’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノー
ルＡ〕、２，２−ビス（３’−メチル−４’−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、２，２−ビス（４’−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（４’−ヒドロキシ
フェニル）オクタン等のビス（ヒドロキシフェニル）ア
ルカン類、１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）
シクロペンタン、１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン〔ビスフェノールＺ〕、１，１−
ビス（４’−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン等のビス（ヒドロキシフェニル）
シクロアルカン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フ
ェニルメタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）フェニルメタン、ビス（２，６−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（２，３，
６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメ
タン、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）フェニルメタン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）フェニルメタン、ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（３−
ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−４−フルオロフェニル
メタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−フルオロフェニルメタン、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−４−クロロフェニルメタン、ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−４−ブロモフェニルメタン、
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
４−フルオロフェニルメタン、１，１−ビス（４’−ヒ
ドロキシフェニル）−１−フェニルエタン〔ビスフェノ
ールＰ〕、１，１−ビス（３’−メチル−４’−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス
（３’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−１
−フェニルエタン、１，１−ビス（３’−フェニル−
４’−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）−１−
（４’−ニトロフェニル）エタン、１，１−ビス（３’
−ブロモ−４’−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル
エタン、１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ジベンジルメタン等のビス（ヒドロキシフェニル）
フェニルアルカン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）エーテル等のビス（ヒドロキシフェニル）エーテル
類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ケトン等のビス
（ヒドロキシフェニル）ケトン類、ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルフィド等のビス（ヒドロキシフェ
ニル）スルフィド類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
スルホキシド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホキシド等のビス（ヒドロキシフェニル）ス
ルホキシド類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン〔ビスフェノールＳ〕、ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン等のビス（ヒドロキシフェニ
ル）スルホン類、９，９−ビス（４’−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（３’−メチル−４’
−ヒドロキシフェニル）フルオレン等のビス（ヒドロキ
シフェニル）フルオレン類等が挙げられ、中で、ビス
（ヒドロキシフェニル）アルカン類、ビス（ヒドロキシ
フェニル）シクロアルカン類、ビス（ヒドロキシフェニ
ル）スルホン類、ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン類が好ましく、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｚ、ビスフェノールＰ、ビスフェノールＳ等が特に好ま
しい。

【００１１】又、ポリアリレート系樹脂としては、芳香
族ジオールと芳香族ジカルボン酸又はそのクロライドと
を溶融重合法、溶液重合法、又は界面重合法で反応させ
て得られたいずれのものでもよく、その芳香族ジオール
としては、ポリカーボネート系樹脂において挙げたと同
様のものが挙げられ、又、芳香族ジカルボン酸又はその
クロライドとしては、具体的には、例えば、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、４，４’−ジフェニルジ
カルボン酸、４，４’−ジフェノキシエタンジカルボン
酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，
４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、１，５−ナフ
タレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、及びそれらのクロライド等が挙げられる。

【００１２】又、ポリエーテルスルホン系樹脂は、ビス
（４−クロロフェニル）スルホンと、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）スルホンのアルカリ金属塩との重縮合反
応によって得られたものである。

【００１３】又、ポリエチレンテレフタレート系樹脂と
しては、テレフタル酸又はそのアルキル（炭素数１〜４
程度）エステルを主成分とするジカルボン酸単位とエチ
レングリコールを主成分とするグリコール単位との重縮
合体であって、このエチレンテレフタレート単位が構成
繰り返し単位の９０モル％以上を占めるものが好まし
い。

【００１４】尚、テレフタル酸及びそのアルキルエステ
ル以外のジカルボン酸単位としては、具体的には、例え
ば、フタル酸、イソフタル酸、４，４’−ジフェニルジ
カルボン酸、４，４’−ジフェノキシエタンジカルボン
酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，
４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、２，６−ナフ
タレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、ヘキサヒ
ドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸等の脂環
式ジカルボン酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸の一種
又は二種以上が、又、エチレングリコール以外のグリコ
ール単位として、例えば、プロピレングリコール、トリ
メチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペン
タメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デ
カメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエ
チレングリコール等の脂肪族グリコール、１，１−シク
ロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメ
タノール等の脂環式グリコール、４，４’−ジヒドロキ
シビフェニル、２，２−ビス（４’−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４’−β−ヒドロキシエ
トキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホン、ビス（４−β−ヒドロキシエトキシフ
ェニル）スルホン酸等の芳香族グリコールの一種又は二
種以上が、更に、例えば、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ
−β−ヒドロキシエトキシ安息香酸等のヒドロキシカル
ボン酸やアルコキシカルボン酸等の一種又は二種以上
が、共重合成分として用いられていてもよく、中で、ジ
カルボン酸単位としてはイソフタル酸等が、又、グリコ
ール単位としてはジエチレングリコール、１，４−シク
ロヘキサンジメタノール等が好適であり、これらは、各
々、１５モル％以内の範囲で用いられているものが好ま
しい。

【００１５】又、環状ポリオレフィン系樹脂としては、
シクロブテン類、シクロペンテン類、シクロヘキセン類
等の単環式環状オレフィン、ノルボルネン類、トリシク
ロ−３−デセン類等の多環式環状オレフィン等の環状オ
レフィンのビニレン重合による単独重合体、複数種の環
状オレフィンのビニレン重合による共重合体、或いは、
これら環状オレフィンとエチレンとの共重合体等のいず
れでもよい。

【００１６】尚、その環状オレフィンとしては、具体的
には、例えば、シクロブテン類、シクロペンテン、４−
メチルシクロペンテン等のシクロペンテン類、シクロヘ
キセン、３−メチルシクロヘキセン、３−ビニルシクロ
ヘキセン等のシクロヘキセン類等の単環式環状オレフィ
ン、ノルボルネン、１−メチルノルボルネン、５−エチ
リデン−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボル
ネン、５−メチレン−２−ノルボルネン等のノルボルネ
ン類、トリシクロ〔４．３．０．１^2,5 〕−３−デセ
ン、２−メチルトリシクロ〔４．３．０．１^2,5 〕−３
−デセン等のトリシクロ−３−デセン類、ジシクロペン
タジエン（トリシクロ〔４．３．０．１^{2, 5} 〕−３，７
−デカジエン）、ジシクロペンタジエン（トリシクロ
〔４．３．０．１^2,5 〕−３，８−デカジエン）、７−
メチルジシクロペンタジエン等のジシクロペンタジエン
類、テトラシクロ〔４．４．０．１^2,5 ．１^7,10〕−３
−ドデセン、８−メチルテトラシクロ〔４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10〕−３−ドデセン、５，１０−ジメチルテ
トラシクロ〔４．４．０．１^2,5 ．１^7,10〕−３−ドデ
セン等のテトラシクロ−３−ドデセン類、ペンタシクロ
〔６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13〕−４−ペンタ
デセン、１０−メチルペンタシクロ〔６．５．１．１
^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13〕−４−ペンタデセン、ペンタシ
クロ〔４．７．０．１^2,5 ．０^8,13．１^9,12〕−３−ペ
ンタデセン等のペンタシクロペンタデセン類、ペンタシ
クロ〔６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13〕−４，１
０−ペンタデカジエン、ペンタシクロ〔６．５．１．１
^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13〕−４，１１−ペンタデカジエン
等のペンタシクロペンタデカジエン類、ヘキサシクロ
〔６．６．１．１^3,6 ．１^10,13 ．０^2,7 ．０^9,14〕−
４−ヘプタデセン等のヘキサシクロヘプタデセン類等の
多環式環状オレフィンを挙げることができる。

【００１７】又、熱硬化樹脂としては、例えば、不飽和
二重結合、アミノ基、多価カルボン酸又はその無水物
基、エポキシ基等の、熱による架橋反応可能な官能基を
分子鎖中に二つ以上有する線状高分子の架橋反応による
硬化物、及び、分子鎖中に前記官能基を有さない線状高
分子を有機過酸化物等の存在下に加熱して架橋反応させ
た硬化物、のいずれでもよく、具体的には、例えば、オ
キシジアニリンとピロメリット酸からなる全芳香族ポリ
イミドの熱硬化物、ジビニルベンゼン重合体の熱硬化
物、架橋化ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。

【００１８】又、光硬化樹脂としては、例えば、ラジカ
ル反応性不飽和基を分子鎖中に一つ以上有する（メタ）
アクリレート等の紫外線、電子線等の高エネルギー線照
射による硬化物であって、具体的には、例えば、エポキ
シ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレー
ト、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル
（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート
等、アクリロイル基の末端に官能基を有した光重合性モ
ノマーに光重合開始剤等の存在下に高エネルギー線を照
射して高分子量化させると共に架橋反応させた硬化物が
挙げられる。

【００１９】本発明においては、前記した樹脂の中で、
透明樹脂シートとしての耐熱性の面から、ガラス転移温
度が１００℃以上、更には１２０℃以上、特には１４０
℃以上であるものが好ましい。

【００２０】本発明において透明樹脂シートの層を構成
する樹脂組成物に含有される添加剤としては、通常、樹
脂の添加剤として用いられるものが対象となり、特に限
定されるものではないが、具体的には、例えば、酸化防
止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、離
型剤、可塑剤、着色剤、難燃剤、防黴剤等が挙げられ、
これらは、通常、樹脂との合計量に対して、各々０．０
０１〜５．０重量％程度添加される。

【００２１】ここで、酸化防止剤としては、具体的に
は、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフ
ェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノ
ール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、ブチ
ル化ヒドロキシアニソール、シクロヘキシルフェノー
ル、スチレン化フェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルハ
イドロキノン、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−
ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス
フェノール、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ
−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，６
−ビス（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−
メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２，２’−
チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−チオビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２’−メチ
ル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス〔β
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチ
ル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタ
ン等のフェノール系、アルドール−α−ナフチルアミ
ン、フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナ
フチルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−β−ナフチル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェ
ニル−ｐ−フェニレンジアミン、１，２−ジヒドロ−
２，２，４−トリメチルキノリン、１，２−ジヒドロ−
２，２，４−トリメチル−６−エトキシキノリン等のア
ミン系、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチ
ルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオ
ネート等の硫黄系、トリフェニルホスファイト、ジフェ
ニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホ
スファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
トリス（モノ及びジ−ノニルフェニル）ホスファイト、
４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェニル）−ジトリデシルホスファイト、ジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスファイト、トリラウリル
トリチオホスファイト等の燐系のもの等が挙げられる。

【００２２】又、熱安定剤としては、具体的には、例え
ば、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファ
フェナントレン−１０−オキシド、１０−デシロキシ−
９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェ
ナントレン、１０−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オ
キサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド
等のホスファフェナントレン系、及び、燐系酸化防止剤
として挙げたものの外、トリオクタデシルホスファイ
ト、ｏ−シクロヘキシルフェニルホスファイト、ジイソ
デシルペンタエリスリトールジホスファイト、ジノニル
フェニルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ
フェニルジプロピレングリコールジホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、
４，４’−イソプロピリデンジフェニルテトラアルキル
ホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−ジトリデシルホス
ファイト、１，１，３−トリス（２’−メチル−４’−
ジトリデシルホスファイト−５’−ｔ−ブチルフェニ
ル）ブタン、テトラフェニルテトラトリデシルペリタエ
リスリトールテトラホスファイト、ポリ（ジプロピレン
グリコール）フェニルホスファイト等の燐系のもの等が
挙げられる。

【００２３】又、紫外線吸収剤としては、具体的には、
例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン系、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−５’−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，
５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’，
５’−ビス（α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール、メチル−３−〔３−ｔ−ブチル
−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
ヒドロキシフェニル〕プロピオネートとポリエチレング
リコールとの縮合物等のベンゾトリアゾール系、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ベンゾ
イルオキシピペリジン、２，２，６，６−テトラメチル
−４−ヒドロキシピペリジンと１，２，３，４−ブタン
−テトラカルボン酸との縮合物、Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロ
キシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ−（２−ヒド
ロキシプロピル）−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、１−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルメ
チル）−１，１−ペンタン−ジ−カルボン酸−ジ−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイ
ル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペラジル）イミノ｝〕等のヒンダード
アミン系、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート
等のサリシレート系のもの等が挙げられる。

【００２４】又、帯電防止剤としては、具体的には、例
えば、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシ
エチレンアルキルアミド、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エス
テル等の非イオン系界面活性剤、アルキルスルホネー
ト、アルキルベンゼンスルホネート、アルキルサルフェ
ート、アルキルホスフェート等のアニオン系界面活性
剤、第４級アンモニウムクロライド、第４級アンモニウ
ムサルフェート、第４級アンモニウムナイトレート等の
カチオン系界面活性剤、アルキルベタイン型、アルキル
イミダゾリン型、アルキルアラニン型等の両性界面活性
剤等が挙げられる。

【００２５】又、滑剤としては、具体的には、例えば、
流動パラフィン、天然パラフィン、合成パラフィン、マ
イクロパラフィンワックス、低分子量ポリエチレン、ポ
リエチレンワックス、塩素化炭化水素、フルオロカーボ
ン等の脂肪族炭化水素系、高級脂肪酸、高級オキシ脂肪
酸等の脂肪酸系、高級脂肪族アミド、アルキレンビス高
級脂肪酸アミド等の脂肪酸アミド系、一価アルコールの
高級脂肪酸エステル、多価アルコールの高級脂肪酸エス
テル、ポリグリコールの高級脂肪酸エステル等の脂肪酸
エステル系、高級脂肪族アルコール、多価アルコール、
ポリグリコール、ポリグリセロール等の脂肪族アルコー
ル系、金属石鹸系、シリコン系、蜜蝋系のもの等が挙げ
られる。

【００２６】又、離型剤としては、具体的には、例え
ば、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エス
テル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、高級アル
コール脂肪酸エステル等の脂肪酸エステル系、シリコン
系のもの等が挙げられる。

【００２７】又、可塑剤としては、具体的には、例え
ば、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−２−エチル
ヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジノニル、フ
タル酸ジデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシ
クロヘキシル等のフタル酸エステル系、オレイン酸ブチ
ル、アセチルリシノール酸メチル、塩素化脂肪酸メチ
ル、メトキシ塩素化脂肪酸メチル等の脂肪族１塩基酸エ
ステル系、コハク酸ジデシル、アジピン酸ジオクチル、
アジピン酸ジデシル、アゼライン酸ジオクチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ジオクチル、テトラヒドロフ
タル酸ジオクチル等の脂肪族２塩基酸エステル系、ジエ
チレングリコールジベンゾエート、ペンタエリスリトー
ルアルキルエステル、ジペンタエリスリトールヘキサア
ルキルエステル等のグリコールエステル系、トリクロロ
エチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、オク
チルジフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェー
ト、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホ
スフェート等の燐酸エステル系、エポキシ化大豆油、エ
ポキシ化アマニ油、エポキシ化ステアリン酸ブチル、エ
ポキシ化ステアリン酸オクチル、エポキシ化ステアリン
酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル
等のエポキシ系、及び、トリメリット酸トリオクチル、
エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブ
チルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチル、塩化
パラフィン、ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレ
ンセバケート、トリアセチレン、トリブチン、トルエン
スルホンアミド、アルキルベンゼン、ビフェニル、水添
ターフェニル、ショウノウ等が挙げられる。

【００２８】又、着色剤としては、具体的には、例え
ば、ピグメントグリーンＢ等のニトロソ系顔料、ナフト
ールエローＳレーキ等のニトロ系顔料、ハンザエロー、
ベンジジンエロー、パーマネントレッド４Ｒ、ブリリア
ントファストスカーレット、パーマネントカーミンＦ
Ｂ、ピラゾロンレッド、トルイジンボルドー、リソール
レッド、レーキレッドＣ、レーキレッドＤ、ブリリアン
トカーミン６Ｂ、パーマネントレッド３Ｂ、ボルドー１
０Ｂ、ボルマルーン等のアゾ系顔料、フタロシアニンブ
ルー、フタロシアニングリーン、ファストスカイブルー
等のフタロシアニン系顔料、キナクリドンレッド、キナ
クリドンバイオレット等のキナクリドン系顔料、カーバ
ゾールジオキサジンバイオレット等のジオキサジン系顔
料、マダーレーキ、ロッグウッドレーキ、コチニールレ
ーキ等の天然染料、エオキシンレーキ、キノリンエロー
レーキ、ピーコックブルーレーキ等の酸性染料、ローダ
ミンレーキ、マラカントグリーンレーキ、メチルバイオ
レットレーキ等の塩基性染料、アリザリンマダーレーキ
等の媒染染料、チオインジゴマルーン、インダンスレン
ブルー等の建染染料等の有機染顔料、及び、有機蛍光顔
料、アニリンブラック等が挙げられる。

【００２９】又、難燃剤としては、ハロゲン系難燃剤と
非ハロゲン系難燃剤とがあるが、非ハロゲン系が好まし
く、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホス
フェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホス
フェート、トリブトキシエチルホスフェート、オクチル
ジフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
クレジルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート等の有機燐系のものが特に好ましい。

【００３０】又、防黴剤としては、具体的には、例え
ば、ペンタクロロフェノール、ペンタクロロフェノール
Ｎａ塩、ｐ−クロロ−ｍ−キシレノール、２−フェニル
−４−クロロフェノール、Ｎ−（トリクロロメチルチ
オ）フタルイミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’−フェニル
−Ｎ’−（フルオロジクロロメチルチオ）サルファミ
ド、ビス（トリ−ｎ−ブチルチン）オキサイド、トリブ
チルチンラウレート、トリブチルチンクロライド、２−
（４−チアゾール）ベンゾイミダゾール等が挙げられ
る。

【００３１】本発明において、前記樹脂と前記添加剤か
らなる樹脂組成物中の前記添加剤の含有量は、その種類
を問わず、総量として０．００１重量％以上であり、
０．０１〜５．０重量％であるのが好ましい。添加剤の
総量が前記範囲未満では、本発明におけるような課題自
体が存在しない。

【００３２】本発明における透明樹脂シートは、前記樹
脂組成物を、例えば、押出成形、射出成形、圧縮成形、
射出圧縮成形等の公知の溶融成形法、或いは、溶液流延
法等でシート状に成形したものであり、その厚みは、通
常、０．０５〜２ｍｍ程度のものである。又、その透明
樹脂シートは、５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％
以上であるのが好ましく、８５％以上であるのが更に好
ましい。

【００３３】本発明の製造方法における透明導電性積層
シートは、前記透明樹脂シートの層と、透明導電層を少
なくとも含み、通常、更にガスバリア層等を含むもので
ある。

【００３４】その透明導電層は、前記透明樹脂シート上
に、直接に又は他の層を介して形成されたものであり、
可視光線を透過し得る金属又は金属酸化物の薄膜からな
り、その金属又は金属酸化物としては、例えば、金、
銀、銅、ニッケル、酸化インジウム、酸化錫等が挙げら
れ、これらは単独で又は混合物として用いられる。その
中で酸化インジウム９０〜９９％と酸化錫１〜１０％と
の混合物であるインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）が
導電性と透明性のバランスの面から好ましい。

【００３５】前記透明樹脂シート上への前記透明導電層
の形成は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の従来
公知のドライプレーティング法でなされ、その厚みは、
通常、５０〜３０００Å程度であり、２００〜２０００
Å程度であるのが好ましい。

【００３６】又、そのガスバリア層は、液晶パネル内へ
の水分子や酸素分子の侵入による気泡の発生やパネル内
材料の劣化を防止する目的で設けられるものであり、可
視光線を透過し得る金属、非金属、亜金属の酸化物、窒
化物の薄膜からなり、それらの酸化物、窒化物として
は、具体的には、例えば、酸化マグネシウム、酸化カル
シウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化モリブデン、酸
化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸
化パラジウム、酸化白金、酸化銅、酸化銀、酸化金、酸
化亜鉛、酸化カドミウム、酸化インジウム、酸化アルミ
ニウム、酸化珪素、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ビス
マス、窒化珪素等が挙げられ、中で、酸化珪素（一酸化
珪素、二酸化珪素）、酸化アルミニウム、窒化珪素が好
ましい。

【００３７】前記透明樹脂シート上への前記ガスバリア
層の形成は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の従
来公知のドライプレーティング法でなされ、その厚み
は、通常、５０〜１０００Å程度である。

【００３８】又、本発明の製造方法における透明導電性
積層シートは、通常、更にハードコート層を含むもので
ある。そのハードコート層は、ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリ
レートと光重合開始剤を、必要に応じて有機溶剤に溶解
させた塗布溶液を、ディッピング法、フローコート法、
スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロール
コート法、ブレードコート法、エアーナイフ法等の従来
公知の塗布法で、本発明における前記透明樹脂シートの
層、前記透明導電層、又は前記ガスバリア層のいずれか
の層上に塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形
成させたものであり、その厚みは、通常、０．５〜２０
μｍ程度である。

【００３９】本発明の透明導電性積層シートの製造方法
においては、前記透明樹脂シートへの前記透明導電層、
前記ガスバリア層、或いはハードコート層等の形成に先
立ち、前記透明樹脂シートの表面を、その樹脂組成物を
構成する樹脂の２５℃での溶解度が０．０１重量％以下
の溶剤で洗浄することが必須である。

【００４０】透明樹脂シート表面の洗浄を行わない場合
には本発明の目的を達成できず、又、洗浄に用いる溶剤
の、樹脂組成物を構成する樹脂の溶解度が前記範囲超過
では、樹脂シート表面において、溶解、膨潤、白化、亀
裂、或いは変形等が生じて、透明導電性積層シートとし
て実用に耐えないものとなる。

【００４１】更に、洗浄に用いる溶剤は、樹脂組成物に
含有される添加剤の２５℃での溶解度が１重量％以上で
あるものが好ましく、３重量％以上であるものが更に好
ましい。

【００４２】ここで、その溶剤としては、例えば、ブタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等、及び
それらの異性体等の炭素数２〜１２のアルカン、シクロ
ペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオ
クタン等の炭素数５〜８のシクロアルカン、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ｉ−ブタノール、アミルアルコール、ヘキサノー
ル、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、ウンデ
カノール等の炭素数２〜１２のアルキルアルコール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエ
ーテル等のアルキレングリコールの炭素数１〜４のアル
キルエーテル等の有機溶剤、並びに、蟻酸水溶液、酢酸
水溶液、乳酸水溶液、蓚酸水溶液、マレイン酸水溶液、
安息香酸水溶液、ピクリン酸水溶液等の有機溶剤／水混
合溶剤、或いは有機化合物水溶液、及び、水酸化ナトリ
ウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水
溶液、塩化カリウム水溶液、塩化カルシウム水溶液、硝
酸カリウム水溶液等や希塩酸、希硝酸、正燐酸水溶液、
重クロム酸水溶液等の無機化合物水溶液等が挙げられ、
これらの中で、樹脂組成物を構成する樹脂及び添加剤の
溶解度が前記範囲となるものが、適宜、選択され用いら
れるが、本発明においては有機溶剤が好ましい。

【００４３】尚、例えば、クロロホルム、塩化メチレ
ン、１，１，２，２−テトラクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
レゾール等の芳香族系溶剤、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート等の含エステル系溶剤、或い
は、アセトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ピリジン、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の
溶剤は、それぞれ単独では、本発明における透明樹脂シ
ートの洗浄溶剤としては不適であるが、その樹脂組成物
を構成する樹脂及び添加剤の前記溶解度の範囲を満足で
きれば、前記アルカン、シクロアルカン、アルキルアル
コール、及びアルキレングリコールアルキルエーテル等
との混合溶剤として用いることができる。

【００４４】本発明における前記洗浄は、通常、室温か
ら、樹脂組成物を構成する樹脂のガラス転移温度までの
範囲の温度で、０．５〜３０分程度の時間で、洗浄に通
常用いられる方法、例えば、樹脂シートを溶剤に浸漬す
る方法、浸漬した状態で超音波処理する方法、溶剤を樹
脂シートにスプレーする方法、樹脂シートを溶剤中に連
続的に通過させる方法、樹脂シートをスピンコーターに
装着し溶剤を滴下しスピンさせる方法等、によりなすこ
とができる。

【００４５】本発明の透明導電性積層シートの製造方法
は、前記の如くして表面を溶剤洗浄した透明樹脂シート
の層と前記透明導電層を必須の構成層とし、更に、前記
ガスバリア層、前記ハードコート層等を有してもよい
が、これらの各層の積層順序は特に限定されるものでは
なく、又、積層方法も特に限定されるものではない。必
要に応じて、コロナ放電処理、プラズマ処理、化学薬品
処理等の表面処理を施し、或いは、イソシアネート系、
ポリエステル系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエ
ン系、アルキルチタネート系等の公知のアンカーコート
剤を用いること等により、積層シートとすることもでき
る。

【００４６】本発明における透明導電性積層シートの層
構成としては、特に限定されるものではないが、具体的
には、例えば、透明樹脂シートの層を（Ｂ）、透明導電
層を（Ｃ）、ガスバリア層を（Ｇ）、ハードコート層を
（Ｈ）とすると、Ｃ／Ｂ、Ｃ／Ｇ／Ｂ、Ｃ／Ｈ／Ｂ、Ｃ
／Ｈ／Ｂ／Ｇ、Ｃ／Ｈ／Ｂ／Ｈ／Ｇ、Ｃ／Ｈ／Ｂ／Ｇ／
Ｈ、Ｃ／Ｇ／Ｈ／Ｂ／Ｈ、Ｃ／Ｈ／Ｇ／Ｈ／Ｂ／Ｈ、Ｃ
／Ｇ／Ｈ／Ｂ／Ｈ／Ｇ／Ｈ、等が挙げられる。

【００４７】以上、本発明の製造方法により製造される
本発明の透明導電性積層シートは、初期表面抵抗値が５
０Ω／□以下であって、且つ、透明樹脂シートの層の樹
脂組成物を構成する樹脂のガラス転移温度より１０℃低
い温度で、２時間の加熱処理後の表面抵抗値も５０Ω／
□以下を示すものであり、又、波長５５０ｎｍにおける
光線透過率は８０％以上を有するものであって、ＬＣＤ
基板、透明タッチパネル基板、及び、ＰＤＰ用電磁波遮
蔽フィルター等に好適に用いられる。

【００４８】

【実施例】以下、実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
限定されるものではない。尚、実施例及び比較例におい
て透明樹脂シート層の樹脂組成物に用いた樹脂及び添加
剤を以下に示す。

【００４９】樹脂 ビスフェノールＡとホスゲンの界面重合法により製造
し、粘度平均分子量２２０００、ガラス転移温度１４６
℃のポリカーボネート樹脂（表１中、「ＰＣＲ」と表
示。）。 粘度平均分子量１４４００、ガラス転移温度１４５℃
の市販のポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリング
プラスチック社製「ノバレックス７０２０ＡＤ」）（表
１中、「ＰＣＲ」と表示。）。 ガラス転移温度１８９℃の市販のポリアリレート樹脂
（ユニチカ社製「Ｕ−１００」）（表１中、「ＰＡＲ」
と表示。）。 ガラス転移温度２２５℃の市販のポリエーテルスルホ
ン樹脂（アイシーアイジャパン社製「ビクトレックス５
２００Ｇ」）（表１中、「ＰＥＳ」と表示。）。 極限粘度０．７５ｇ／ｄｌ、ガラス転移温度７８℃の
市販のポリエチレンテレフタレート樹脂（三菱化学社製
「ノバペックスＧＣ５００」）（表１中、「ＰＥＴ」と
表示。）。

【００５０】光重合性モノマーとして、ｐ−ビス（β
−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシレン９９重量
部と、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロ
ピオネート）１重量部、光重合開始剤として、２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキ
シド０．０６重量部と、ベンゾフェノン０．０４重量
部、を均一に攪拌、混合した後、ガラス製型に注入し、
出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプを用いて、上
下面から４００ｍｍ離間させて３０分間紫外線照射して
硬化させた光硬化樹脂（表１中、「ＵＶ硬化」と表
示。）。

【００５１】添加剤 酸化防止剤として、トリス（モノ及びジ−ノニルフェ
ニル）ホスファイト（旭電化工業社「アデカスタブ３２
９Ｋ」）（表１中、「酸防」と表示。）。 酸化防止剤として、テトラキス〔メチレン−３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート〕メタン（日本チバガイギー社製
「イルガノックス１０１０」）（表１中、「酸防」と
表示。）。 熱安定剤として、１，１，３−トリス（２’−メチル
−４’−ジトリデシルホスファイト−５’−ｔ−ブチル
フェニル）ブタン（旭電化工業社「アデカスタブ５２２
Ａ」）（表１中、「熱安定」と表示。）。 離型剤として、グリセリン脂肪酸エステル（理研ビタ
ミン社製「リケマールＳ１００Ａ」）（表１中、「離
型」と表示。）。

【００５２】実施例１〜１４、比較例１〜１３、参考例
１ 表１に示す樹脂ペレットと添加剤とを、表１に示す添加
剤含有量となるようにドライブレンドした後、ベント付
き二軸押出機を用いて、バレル温度３００℃、スクリュ
ー回転数１５０ｒｐｍにて溶融混練してストランド状に
押出し、カッテイングしたペレットを、Ｔダイを装備し
た単軸押出機に供給してシート状に溶融押出し、表面温
度を１３０〜１４０℃に調整した冷却ドラム上で冷却す
ることにより、厚み約５００μｍのシートに成形した。
得られた樹脂シートにつき、以下に示す方法で、光線透
過率を測定し、結果を表１に示した。光線透過率 分光光度計（島津製作所製「ＭＰＳ−２０００型」）を
用い、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、波長５５０ｎｍ
における光線透過率を測定した。

【００５３】引き続いて、得られた樹脂シートから切り
出した１００ｍｍ×１００ｍｍ角シートを、表１に示す
洗浄溶剤、洗浄法、及び洗浄時間で洗浄した後、１００
℃で３０分間、熱風乾燥した。尚、樹脂シートに用いら
れた樹脂及び添加剤の洗浄溶剤にに対する２５℃での各
溶解度を表１に示す。浸漬、乾燥後のシートについて、
前記と同様の方法で光線透過率を測定すると共に、以下
に示す方法で表面状態を観察し、以下の基準で評価した
結果を表１に示した。溶剤洗浄後のシートの表面状態 光学顕微鏡を用いて、倍率１０００倍で、表面の白化等
の溶解痕や亀裂の発生状態等を観察し、それらの発生の
認められないものを「○」、それらの発生が認められる
ものを「×」と判定した。

【００５４】次いで、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート（共栄社化学社製「ライトアクリレートＰＥ−３
Ａ」）４０重量部、エポキシアクリレート（日本化薬社
製「カヤラッドＲ−１３０」）５０重量部、シランカッ
プリング剤（東レ・コーニング社製「ＳＺ６０３０」）
１０重量部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケ
ミカル社製「ダロキュア１１７３」）５重量部からなる
塗布液を、スピンコーターを用いて、３０００ｒｐｍ、
１０秒の条件で、溶剤浸漬、乾燥後の樹脂シート表面に
塗布し、高圧水銀ランプを用いて、５．０Ｊ／ｍ² で紫
外線照射して硬化させることにより、厚み３．２μのハ
ードコート層を、シート両面に形成した。

【００５５】引き続いて、形成した一方のハードコート
層上に、８０℃にてインジウムチンオキサイドをスパッ
タリングすることにより厚み１３００Åの透明導電層を
形成し、更に、他方のハードコート層上に、室温にて二
酸化珪素をスパッタリングすることにより厚み２５０Å
のガスバリア層を形成し、透明導電層／ハードコート層
／透明樹脂シート層／ハードコート層／ガスバリア層の
５層からなる透明導電性積層シートを製造した。

【００５６】得られた透明導電性積層シートについて、
以下に示す方法で、初期、及び加熱処理後の表面抵抗
値、並びに、初期、及び加熱処理後の酸素ガス透過量を
測定し、結果を表１に示した。表面抵抗値 ４端子法抵抗測定器（三菱化学社製「ローレスタＭ
Ｐ」）を用いて、加熱処理前の初期、及び、各使用樹脂
のガラス転移温度より１０℃低い温度に設定した熱風循
環式オーブン中で２時間の加熱処理を施した後の表面抵
抗値を測定した。酸素ガス透過量 二酸化珪素ガスバリア層の正味のガスバリア性を評価す
るため、塩酸によりインジウムチンオキサイド透明導電
層をエッチングし除去した積層シートについて、ＪＩＳ
Ｋ７１２６に準拠し、差圧法により、加熱処理前の初
期、及び、各使用樹脂のガラス転移温度より１０℃低い
温度に設定した熱風循環式オーブン中で２時間の加熱処
理を施した後の酸素ガス透過量（単位；ｃｃ／ｍ² ・ａ
ｔｍ・２４ｈｒ）を測定した。

【００５７】実施例１５ 実施例１と同じ樹脂組成物２５重量部を塩化メチレン７
５重量部に溶解させた後、アプリケーターにてガラス上
に流延し、乾燥させて厚み約１００μｍに成形した透明
樹脂シートを用いた外は、実施例１と同様とした。

【００５８】

【表１】

【００５９】

【表２】

【００６０】

【表３】

【００６１】

【発明の効果】本発明は、低い初期表面抵抗値を有する
と共に、加熱処理後の表面抵抗値の上昇が小さく耐熱性
に優れ、ＬＣＤ基板、透明タッチパネル基板、及び、Ｐ
ＤＰ用電磁波遮蔽フィルター等に用いるに好適な透明導
電性積層シートの製造方法、及び透明導電性積層シート
を提供することができる。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA20C AA33B AK25 AK42A AK43A AK45A AK53 AK54A AK55A AR00B AT00A BA03 BA07 BA10A BA10B CA06A CA06H CB04 CC02 EH66 EJ85 EJ85A GB41 JD02C JG01 JG01B JG04 JJ03 JN01 JN01A JN01B 4K029 AA11 AA25 BA45 BA46 BB02 BC00 BC09 5G435 AA12 AA16 BB06 BB12 GG33 HH02 HH12 KK07

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 総量０．００１重量％以上の添加剤を含
   有する樹脂組成物から成形された透明樹脂シートの層
   と、透明導電層を少なくとも含む積層シートを製造する
   において、前記透明樹脂シートの表面を、その樹脂組成
   物を構成する樹脂の２５℃での溶解度が０．０１重量％
   以下の溶剤で洗浄した後、積層シートとすることを特徴
   とする透明導電性積層シートの製造方法。
2. 【請求項２】 透明樹脂シートの層の樹脂組成物を構成
   する樹脂が、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート
   系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、及びポリ
   エーテルスルホン系樹脂からなる熱可塑性樹脂の群から
   選ばれたいずれかの樹脂である請求項１に記載の透明導
   電性積層シートの製造方法。
3. 【請求項３】 透明樹脂シートの層の樹脂組成物に含有
   される添加剤が酸化防止剤である請求項１又は２に記載
   の透明導電性積層シートの製造方法。
4. 【請求項４】 洗浄に用いる溶剤が、透明樹脂シートの
   層の樹脂組成物に含有される添加剤の２５℃での溶解度
   が１重量％以上のものである請求項１乃至３のいずれか
   に記載の透明導電性積層シートの製造方法。
5. 【請求項５】 洗浄に用いる溶剤が、炭素数２〜１２の
   アルカン、炭素数５〜８のシクロアルカン、炭素数２〜
   １２のアルキルアルコール、及びエチレングリコールの
   炭素数１〜４のアルキルエーテルからなる群から選ばれ
   たいずれかの有機溶剤である請求項１乃至４のいずれか
   に記載の透明導電性積層シートの製造方法。
6. 【請求項６】 透明導電層がインジウムチンオキサイド
   からなる請求項１乃至５のいずれかに記載の透明導電性
   積層シートの製造方法。
7. 【請求項７】 積層シートが更にガスバリア層を含む請
   求項１乃至６のいずれかに記載の透明導電性積層シート
   の製造方法。
8. 【請求項８】 ガスバリア層が酸化珪素からなる請求項
   ７に記載の透明導電性積層シートの製造方法。
9. 【請求項９】 総量０．００１重量％以上の添加剤を含
   有する樹脂組成物から成形された透明樹脂シートの層
   と、透明導電層を少なくとも含む積層シートであって、
   該透明樹脂シートの層の樹脂組成物を構成する樹脂のガ
   ラス転移温度より１０℃低い温度で、２時間の加熱処理
   後の表面抵抗値が５０Ω／□以下であることを特徴とす
   る透明導電性積層シート。