JP2004288693A - 透明基板フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明性を有するガスバリア層と、透明支持基材および前記透明支持基材上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、前記難燃性基材と前記電極部との間に、前記耐衝撃層および前記ガスバリア層が少なくとも1層ずつ積層されたことを特徴とする透明基板フィルムを提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、アモルファスシリコン太陽電池、CIGS系に代表される化合物系太陽電池、有機薄膜太陽電池等の薄膜太陽電池や、有機EL、無機EL、FED、低温形成LCD等のディスプレイ、またフレキシブルな電子回路基板に用いることが可能な、透明であり、かつ透明電極層を有する透明基板フィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、種々の機能性素子の表面を保護するカバーとして、透明性、防湿性、耐侯性、剛性等の面から、ガラス板が用いられており、そのガラス板に導電性を有する透明電極層を形成したものが、例えばアモルファスシリコンを用いた太陽電池等に用いられている。
【0003】
しかしながら、ガラス板は、上記性能面では優れるが、トリミングその他の加工性やハンドリング性に劣るという問題があった。また、現在シリコンのアモルファスシリコンを用いた太陽電池の、軽量化や薄膜化が進められている。
【0004】
そこで、ガラス板に替わる材料として、プラスチック等の高分子材料が挙げられる。しかしながら、高分子材料はガラス等の無機材料と比較して、ガスの透過率、例えば酸素や水等の透過性が高いことや、建材等として用いた際の難燃性等が劣るという欠点があるという問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このことから、高分子材料を用いた、難燃性、透明性、耐衝撃性、ガスバリア性等を有するガラスに替わる高分子材料からなるフィルムに、透明電極層が形成された透明基板フィルムの提供が望まれている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、請求項1に記載するように、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明性を有するガスバリア層と、透明支持基材および上記透明支持基材上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記耐衝撃層および上記ガスバリア層が少なくとも1層ずつ積層されたことを特徴とする透明基板フィルムを提供する。
【0007】
本発明の透明基板フィルムは、上記難燃性基材を表面に有することから、透明基板フィルムを難燃性を有するものとすることができ、例えば太陽電池モジュール等の建材にも用いることが可能となる。また、上記耐衝撃層を上記難燃性基材と、上記電極部との間に有することから、透明基板フィルムの下に形成される部材や上記電極部等を、外部からの衝撃から保護することができる。さらに、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記ガスバリア層を有することから、透明基板フィルムの下に形成される部材や上記電極部等を、酸素や水蒸気等から保護することができるのである。本発明においては、上記のような難燃性、耐衝撃性、ガスバリア性を有する層の下に透明電極層を有する電極部が形成されていることから、本発明の透明基板フィルムを、例えばアモルファスシリコン太陽電池、CIGS系に代表される化合物系太陽電池、有機薄膜太陽電池等の薄膜太陽電池や、有機EL、無機EL、FED、低温形成LCD等のディスプレイ、またフレキシブルな電子回路基板等に用いることが可能である。
【0008】
また、本発明は請求項2に記載するように、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明支持基材、上記透明支持基材上に形成されたガスバリア膜、および上記ガスバリア膜上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材および上記電極部との間に、上記耐衝撃層を有することを特徴とする透明基板フィルムを提供する。
【0009】
本発明の透明基板フィルムは、上記難燃性基材を表面に有することから、透明基板フィルムを難燃性を有するものとすることができ、例えば太陽電池等の建材にも用いることが可能となる。また、上記耐衝撃層を上記難燃性基材と、上記電極部との間に有することから、透明基板フィルムの下に形成される部材や上記電極部等を、外部からの衝撃から保護することができる。本発明においては、上記難燃性、耐衝撃性を有する層の下に、上記電極部が形成されており、その電極部に、ガスバリア膜が形成されていることから、透明基板フィルムの下に形成される部材や透明電極層を、酸素や水蒸気等から保護することができる。これにより、本発明の透明基板フィルムは、例えば太陽電池や有機ELディスプレイ等に用いることが可能となる。
【0010】
上記請求項2に記載の発明においては、請求項3に記載するように、上記難燃性基材と、上記電極部との間にガスバリア層を有することが好ましい。これにより、透明基板フィルムを、よりガスバリア性の高いものとすることができるからである。
【0011】
上記請求項1または請求項3に記載の発明においては、請求項4に記載するように、上記耐衝撃層が、上記難燃性基材と上記ガスバリア層との間に形成されたものであることが好ましい。これにより、ガスバリア層をも外部からの衝撃から保護することが可能となり、長年の使用においても、高いガスバリア性を保持させることができるからである。
【0012】
上記請求項1、請求項3、または請求項4のいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項5に記載するように、上記ガスバリア層が、上記難燃性基材と上記電極部との間に2層以上形成されたこと好ましい。これにより、上記ガスバリア層が劣化等により1層機能しなくなった場合でも、ガスバリア性を保つことが可能となるからである。
【0013】
上記請求項1、請求項3、請求項4、または請求項5のいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項6に記載するように、上記難燃性基材と上記電極部との間に上記耐衝撃層が、2層形成されており、かつ上記ガスバリア層が、上記耐衝撃層と上記耐衝撃層との間に形成されたことが好ましい。これにより、透明基板フィルムの耐衝撃性を高めることが可能となり、また、ガスバリア層を外部からの衝撃から、より保護することが可能となるからである。
【0014】
請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項7に記載するように、上記ガスバリア層または上記ガスバリア膜が、酸化珪素系の蒸着膜を有することが好ましい。これにより、本発明の透明基板フィルムのガスバリア性を高いものとすることができるからである。
【0015】
また、本発明は請求項8に記載するように、請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載の透明基板フィルムを用いたことを特徴とする太陽電池を提供する。本発明によれば、上記透明基板フィルムは、透明導電層を有していることから、例えばアモルファスシリコンを用いた太陽電池に用いることができる。さらに上記透明基板フィルムの、難燃性やガスバリア性、耐衝撃性等により、太陽電池素子を保護されていることから高品質であり、かつ透明カバーガラスを用いた場合より、軽量かつフレキシブル性に優れ、さらに基板をフィルム化することにより、製造時にロールトゥロールの大面積・大量生産工程を適用できることから、大幅なコストダウンを図ることも可能な太陽電池とすることができる。
【0016】
また、本発明は請求項9に記載するように、請求項8に記載の太陽電池を複数個有し、前記太陽電池が支持部材により支持されていることを特徴とする太陽電池モジュールを提供する。本発明によれば、上記太陽電池を有する太陽電池モジュールとすることにより、難燃性やガスバリア性、耐衝撃性に優れており、かつ透明カバーガラスを用いた場合より、軽量で取扱い性に優れるとともに、低コスト化が可能な太陽電池モジュールとすることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明は、高分子材料を用いた、難燃性、透明性、耐衝撃性、ガスバリア性等を有し、かつ透明電極層を有する透明基板フィルム、およびその透明基板フィルムを用いた太陽電池に関するものである。以下、それぞれについて詳しく説明する。
【0018】
A.透明基板フィルム
まず、本発明の透明基板フィルムについて説明する。本発明の透明基板フィルムは、難燃性、透明性、耐衝撃性、ガスバリア性等を有するものであり、かつ透明電極層を有するものである。
【0019】
本発明の透明基板フィルムは、そのガスバリア性を付与する層の位置により、2つの実施態様がある。その一つは、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明性を有するガスバリア層と、透明支持基材および上記透明支持基材上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記耐衝撃層および上記ガスバリア層が少なくとも1層ずつ積層されたことを特徴とするものである場合(以下、第一実施態様とする)であり、他の一つは、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明支持基材、上記透明支持基材上に形成されたガスバリア膜、および上記ガスバリア膜上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材および上記電極部との間に、上記耐衝撃層を有することを特徴とする場合(以下、第二実施態様とする)である。以下、それぞれの実施態様について分けて説明する。
【0020】
1.第一実施態様
まず、本発明の透明基板フィルムの第一実施態様について説明する。本発明の第一実施態様における透明基板フィルムは、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明性を有するガスバリア層と、透明支持基材および上記透明支持基材上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記耐衝撃層および上記ガスバリア層が少なくとも1層ずつ積層されたことを特徴とするものである。
【0021】
本実施態様の透明基板フィルムは、例えば図1に示すように、表面に難燃性基材1と、その反対側の表面に、透明支持基材2および透明電極層3とを有する電極部4とを有し、難燃性基材1と電極部4との間に耐衝撃層5およびガスバリ層6をそれぞれ1層ずつ有するものであれば、特にその層構成等は限定されるものではなく、例えばガスバリア層や耐衝撃層が複数層積層されていてもよく、また必要に応じて他の層が積層されていてもよい。この際、上記のそれぞれの層は、耐衝撃層により接着されていることが好ましいが、一般的に接着剤として用いられる材料により接着されるものであってもよい。以下、本実施態様の透明基板フィルムの各構成について説明する。
【0022】
a.難燃性基材
まず、本実施態様に用いられる難燃性基材について説明する。本実施態様に用いられる難燃性基材とは、透明性を有し、かつ難燃性を有する基材であり、本実施態様の透明基板フィルムの最表面に用いられるものである。本実施態様においては、この難燃性基材が難燃性を有することにより、透明基板フィルムに難燃性を持たせることが可能となるのである。
【0023】
本実施態様において、この難燃性基材の難燃性は、建築基準法の法第2条第九号「不燃材料」、令第1条第五号「準不燃材料」または令第六号「難燃材料」に規定されるものであり、中でも「不燃材料」または「準不燃材料」の範囲内であることが好ましい。
【0024】
これは、難燃性基材の難燃性はその用途により要求されるレベルに幅があり、例えば、屋根一体型の太陽電池モジュールを考えた場合、本基材は屋根表面材として扱われ、その求められる難燃性は建築基準法第63条に準じ、少なくとも「火の粉により、屋内に達する防火上有害な溶融、亀裂その他の損傷を生じないもの」である必要があり、これは「不燃材料」に相当する。
【0025】
また、例えば、上記以外の太陽電池モジュール(壁面、ルーバー、ベランダ)や屋外置きのディスプレイのように、屋外用途で耐候性は厳しい要求があるが、難燃性はそこまで要求されない用途が多く、この場合は「難燃材料」または「準不燃材料」の範囲内であることが好ましい。
【0026】
上記の規定は、建築基準法第63条に準ずる「飛び火試験」によるものであり、評価では、試供体上へ指定の状態で火種を載せた際、燃え抜けや貫通孔の発生、また火炎の拡がりのないことを測定するものである。
【0027】
このような難燃性基材に用いられる材料としては、難燃性が上記範囲内であり、かつ透明性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、難燃性基材が、難燃性を有する難燃性フィルムからなるものであってもよく、また難燃性基材が、透明支持基材と、その透明支持基材上に形成されたハードコート層とからなるものであってもよい。以下、それぞれの場合について説明する。
【0028】
(難燃性基材が難燃性フィルムからなる場合)
まず、本実施態様に用いられる難燃性基材が、難燃性フィルムからなる場合について説明する。本実施態様においては、上記難燃性基材が難燃性フィルムからなることにより、難燃性基材全体を難燃性とすることができることから、高い難燃性を有するものとすることができる。ここで、本実施態様に用いられる難燃性フィルムとは、難燃性の材料からなるフィルムや、難燃性の材料を練りこんだフィルム等が挙げられる。具体的には、難燃性の材料からなるフィルムとしての樹脂材料や難燃性の材料を練りこむための樹脂材料または構造材料として、フッ素系樹脂(PTFE、ETFE、PCTFE、FEP)、シリコン系樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、PA(ポリアミド)樹脂、アクリル樹脂、m−PPE(ポリフェニレンエーテル)樹脂、環状ポリオレフィン系、SPS(シンジオタクチックポリスチレン)系、PS(ポリスチレン)系、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)系、POM(ポリオキシメチレン)系、PPS(ポリフェニレンスルフィド)系、LCP(液晶ポリマー)系、PEN(ポリエチレンナフタレート)系、PSF(ポリスルホン)系、PES(ポリエーテルスルホン)系、PAR(ポリアリレート)系、PAI(ポリアミドイミド)系、PEI(ポリエーテルイミド)系、PI(ポリイミド)系、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PP(ポリプロピレン)、ABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体)、OPS(延伸ポリスチレン)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PE(ポリエチレン)、PAN(ポリアクリロニトリル)樹脂、ガラスクロス、カーボンクロス等が挙げられる。
【0029】
また、難燃性付与剤として、リン系、リン+ハロゲン系、塩素系、ブロム系、水酸化アンモニウム、水酸化マグネシウム、アンチモン系、グアニジン系、ジルコニウム系、ホウ酸亜鉛、シリコーン系、窒素系、低融点ガラス系、ナノコンポジット系等があり、これらの1種あるいは2種以上を任意に用いることができる。これらの難燃性付与剤は、例えばフィルム製膜時の樹脂へマスターバッチとして添加・混練することにより添加することができる。
【0030】
本実施態様の透明基板フィルムが、例えば屋外等で用いられる場合には、上記難燃性フィルムが耐湿熱性を有することが好ましく、上記の中でもフッ素系樹脂、シリコン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、PP系樹脂、SPS(シンジオタクチックポリスチレン)樹脂を用いた難燃性フィルムであることが好ましい。
【0031】
また、本実施態様に用いられる難燃性フィルムは膜厚が、25μm〜800μm、中でも50μm〜500μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲よりも薄い場合には、高い難燃性および強度を得ることが困難となるからであり、また上記範囲より厚い場合には、透明基板フィルムとした際に、透明基板フィルムが厚くなり、汎用性や生産性が低くなるからである。
【0032】
(難燃性基材が、透明支持基材とハードコート層とからなる場合)
次に、上記難燃性基材が、透明支持基材と、その透明支持基材上に形成されたハードコート層とからなる場合について説明する。
【0033】
本実施態様に用いられるハードコート層は、透明基板フィルムを外部から保護するために設けられる層であり、また透明支持基材は、そのハードコート層を支持するために設けられるものである。
【0034】
本実施態様に用いられる難燃性基材を、上記透明支持基材と、上記ハードコート層とからなるものとすることにより、一般的に用いられる材料を用いることが可能であり、低コストな難燃性基材とすることが可能となる。この場合、透明支持基材が難燃性を有していてもよく、またハードコート層が難燃性を有していてもよく、さらに透明支持基材およびハードコート層の両方が難燃性を有するものであってもよい。
【0035】
本実施態様に用いられる透明支持基材としては、透明性を有し、かつ表面にハードコート層が形成可能なものであれば、その材料は特に限定されるものではなく、具体的には、シリコーン系、アクリル系、環状ポリオレフィン系、SPS(シンジオタクチックポリスチレン)系、PA(ポリアミド)系、POM(ポリオキシメチレン)系、mPPE(ポリフェニレンエーテル)系、PPS(ポリフェニレンスルフィド)系、フッ素系(PTFE、ETFE、PCTFE、FEP)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)系、LCP(液晶ポリマー)系、PEN(ポリエチレンナフタレート)系、PSF(ポリスルホン)系、PES(ポリエーテルスルホン)系、PAR(ポリアリレート)系、PAI(ポリアミドイミド)系、PEI(ポリエーテルイミド)系、PI(ポリイミド)系、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PP(ポリプロピレン)、ABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体)、OPS(延伸ポリスチレン)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PE(ポリエチレン)、PAN(ポリアクリロニトリル)樹脂またはこれらの耐候グレード等が挙げられる。
【0036】
また、本実施態様の透明基板フィルムが、例えば屋外等で用いられる場合には、上記透明支持基材が耐湿熱性を有することが好ましく、上記の材料の中でもシンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。
【0037】
また、本実施態様の透明基板フィルムが、ディスプレイ用途等で用いられる場合には、上記透明支持基材が耐熱性、耐湿熱性および光線透明性と有することが好ましく、耐熱温度100℃以上、耐湿熱性が40℃以上、40%Rh以上で20時間以上、かつ全光線透過率が70%以上であることが好ましく、中でも耐熱温度が150℃以上、耐湿熱性が60℃以上、60%Rh以上で100時間以上、かつ全光線透過率が85%以上であることが好ましい。これはディスプレイ用途ではその製造工程および長期信頼性において、充分な耐熱性、耐湿熱性、光線透過性が要求されるためである。
【0038】
また、本実施態様に用いられる上記透明支持基材は、膜厚が10μm〜800μm、特に10μm〜400μmの範囲内であることが望ましい。膜厚が上記範囲以下である場合には、充分な強度を持たせることが難しく、また上記範囲以上である場合には汎用性や生産性が低くなるからである。特に生産性に関しては、巻き取りでの大量製造加工が困難になるという意味で著しく低下することとなるからである。
【0039】
また、本実施態様においては、上記ハードコート層との密着性を向上させるために、ハードコート層を形成する前にコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理、易接着層コート処理などの表面処理を行ってもよく、透明支持基材上にアンカー層を形成するようにしてもよい。
【0040】
次に、ハードコート層としては、上記透明支持基材上に形成される透明性を有する層であり、透明基板フィルムの表面を保護することが可能な層であれば、特に限定されるものではなく、具体的には、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、またはこれらの組み合わせが挙げられる。
【0041】
本実施態様の透明基板フィルムが、例えば屋外等で用いられる場合には、上記樹脂へ耐光性添加剤を添加した処方が望ましい。このような添加剤としては紫外線吸収剤または光安定化剤が挙げられる。ここに、紫外線吸収剤としてはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サルチレート系、アクリロニトリル系、金属錯塩系、または超微粒子酸化チタン(粒子径0.005〜0.06μm)若しくは超微粒子酸化亜鉛(0.005〜0.05μm)からなる無機系の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上からなるものが挙げられ、また、光安定化剤としては、ヒンダードアミン系化合物の1種ないしそれ以上からなるものが挙げられる。また本実施態様のハードコート層は無機または無機酸化物系のコート層でもよい。この場合、その材料としては、具体的には、Ti、Al、Mg、Zr、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化窒化珪素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化イットリウム、B2O3、CaOが挙げられる。
【0042】
また、ハードコート層は難燃性を有していることが好ましく、難燃性付与剤として、リン系、リン+ハロゲン系、塩素系、ブロム系、水酸化アンモニウム、水酸化マグネシウム、アンチモン系、グアニジン系、ジルコニウム系、ホウ酸亜鉛、シリコーン系、窒素系、低融点ガラス系、ナノコンポジット系等があり、これらの1種あるいは2種以上を任意に用いることができる。
【0043】
このようなハードコート層は、上記透明支持基材上に、上述した成分を必要に応じて難燃剤等の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を上記透明支持基材上に塗布することにより形成することができる。
【0044】
塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことができる。また、紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことによりハードコート層を形成することができる。上記の中でも、ロールコートにより作製することが好ましい。これにより、量産性に優れ、充分なUVカット性能、耐候性を有するフィルム保護層が得られるためである。
【0045】
また、本実施態様において、形成された上記ハードコート層の膜厚は、0.5μm〜50μm、なかでも1μm〜20μmの範囲内であることが望ましい。上記範囲以下である場合には、充分な透明基板フィルム表面を保護することが難しく、また上記範囲以上である場合にはコーティング加工が困難になるためである。
【0046】
b.耐衝撃層
次に、本実施態様に用いられる耐衝撃層について説明する。本実施態様に用いられる耐衝撃層は、カバーフィルムにより保護される部材を、外部からの衝撃等から保護するために設けられる層であり、透明かつ耐衝撃性を有する層である。
【0047】
本実施態様に用いられる耐衝撃層の耐衝撃性は、例えば太陽電池モジュールの場合、JIS C−8938およびC−3917で規定される降ひょう試験もしくは、耐風圧試験において、内容物の太陽電池セルを破壊されることなく、その性能を維持できる衝撃緩和・吸収機能を有することにより測定される。本実施態様においては、上記試験前後での太陽電池セルの性能維持率は90%以上、中でも95%以上であることが好ましい。本実施態様に用いられる耐衝撃層の耐衝撃性が上記範囲内であることにより、外部からの衝撃を吸収することが可能となり、本実施態様の透明基板フィルムを例えば建材等、様々な用途に用いることが可能となるからである。
【0048】
本実施態様においては、上記耐衝撃層の膜厚は、耐衝撃層の種類等により決定されるものであるが、通常50μm〜1200μm、中でも100μm〜600μmの範囲内であることが好ましい。これにより、上述した耐衝撃性を付与することが可能となるからである。
【0049】
本実施態様に用いられる耐衝撃層として、具体的には、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エラストマー、アイオノマー、エチレンビニルアルコール共重合体、ナイロンおよび上記材料へシラン架橋性を付与したもの等が挙げられ、中でもガスバリア層等に用いられる無機層との接着性等の面から、シラン架橋系の材料であることが好ましい。
【0050】
また、上記耐衝撃層は、他の層との接着性を有する層であることが好ましく、これにより、難燃性基材やガスバリア層等を積層する際に、上記耐衝撃性だけでなく、接着性も利用することが可能となるからである。
【0051】
この場合、上記耐衝撃層は押出しコート法等により形成することが可能であり、例えばガスバリア層と難燃性基材とを接着する場合、ガスバリア層と難燃性基材との間に耐衝撃層を構成する上記樹脂を溶融させて押し出すことにより、形成することができる。
【0052】
また、上記耐衝撃層は、所定の膜厚の層を、カレンダー法、Tダイ法、インフレーション製膜法等により、あらかじめ成膜し、例えば一般的に接着剤として用いられる材料等により他の層と積層されるものであってもよい。
【0053】
c.ガスバリア層
次に、本実施態様に用いられるガスバリア層について説明する。本実施態様に用いられるガスバリア層は、透明な層であり、かつ外部からの酸素や水蒸気から、カバーフィルムにより保護される部材を、保護する層である。本実施態様においては、このガスバリア層を有することにより、本実施態様の透明基板フィルムを例えば太陽電池のカバーフィルムや、有機ELディスプレイ等のカバーフィルム等の酸素や水蒸気に弱い素子等にも用いることが可能となるのである。
【0054】
本実施態様に用いられるガスバリア層は、酸素透過濃度が、5cc/m2day以下であり、中でも10−1cc/m2day以下であることが好ましい。また水蒸気透過濃度は、1g/m2day以下であり、中でも10−1g/m2day以下であることが好ましい。
【0055】
ここで、本実施態様における酸素透過率は、酸素ガス透過率測定装置(MOCON社製、OX−TRAN 2/20)を用い、23℃、90%Rhの条件で測定したものである。また、水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置(MOCON社製、PERMATRAN−W 3/31)を用い、37.8℃、100%Rhの条件で測定したものである。
【0056】
ここで、本実施態様に用いられるガスバリア層とは、上述したガスバリア性を有する層であれば、特に限定されるものではないが、本実施態様におけるガスバリア層は、そのガスバリア性の高さ等から、蒸着法により形成された蒸着層を有することが好ましい。
【0057】
本実施態様に用いられる蒸着層としては、蒸着法により形成される層であれば、その蒸着法の種類等は特に限定されるものではなく、CVD法であってもよく、またPVD法であってもよい。本実施態様に用いられる蒸着層が例えばプラズマCVD法等のCVD法により形成される場合には、緻密でガスバリア性の高い層を形成することが可能となるが、本実施態様においては、製造効率やコスト等の面からPVD法であることが好ましい。本実施態様に用いられるPVD法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられるが、本実施態様においては、そのガスバリア性等の面から、真空蒸着法であることが好ましい。本実施態様に用いられる真空蒸着法として、具体的には、例えばエレクトロンビーム(EB)加熱方式による真空蒸着法、または高周波誘電加熱方式による真空蒸着法等が挙げられる。
【0058】
また、本実施態様に用いられる蒸着層の材料としては、金属または無機酸化物が好ましく、Ti、Al、Mg、Zr、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化窒化珪素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化イットリウム、B2O3、CaO等を挙げることができ、なかでも酸化珪素であることが好ましい。酸化珪素からなる層は、高いガスバリア性と透明性を有するからである。
【0059】
また、本実施態様における蒸着層の厚さは、用いられる材料の種類、構成により最適条件が異なり、適宜選択されるが、5nm〜1000nm、なかでも10nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。蒸着層の厚さが、上記の範囲より薄い場合には、均一な層とすることが困難な場合があり、上記ガスバリア性を得ることができない場合があるからである。また、蒸着層の厚さが上記の範囲より厚い場合には、成膜後に、引っ張り等の外的要因により、蒸着層に亀裂が生じること等により、ガスバリア性が著しく損なわれる可能性があるためであり、また形成に時間を要し、生産性も低下するからである。
【0060】
また、本実施態様のガスバリア層は、上記蒸着層が、上述した難燃性基材の欄で説明した透明支持基材上に形成されているものであってもよく、蒸着層が形成される透明支持基材は上述した中でも、PETやPC等が好ましい。また、本実施態様の透明基板フィルムが、例えば屋外等で用いられる場合には、透明支持基材が耐湿熱性を有することが好ましく、上記の中でも、SPS、PBT等であることが好ましい。
【0061】
また、上記透明支持基材は、蒸着層との密着性を向上させるために、蒸着層を形成する前にコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理などの表面処理を行ってもよく、透明支持基材上にアンカー層を形成するようにしてもよい。このようなアンカー層としては、例えば、シラン系、チタン系のカップリング剤等を挙げることができる。
【0062】
d.電極部
次に、本実施態様に用いられる電極部について説明する。本実施態様に用いられる電極部は、透明支持基材および上記透明支持基材上に形成された透明電極層を有するものである。本実施態様においては、上記透明電極層が形成されることにより、アモルファスシリコンを用いた太陽電池や、有機ELディスプレイ等に用いられる導電層を有する透明基板フィルムとすることが可能となる。
【0063】
ここで、本実施態様の電極部に用いられる透明支持基材とは、透明電極層を支持するためのものであり、後述する透明電極層が形成可能なものであれば、その材料等は特に限定されるものではなく、上述した難燃性基材の欄で説明した透明支持基材と同様のものを用いることが可能であるので、ここでの説明は省略するが、上述した透明支持基材の中でも、後述する透明電極層を形成する観点から、耐熱性を有するものであることが好ましい。
【0064】
また、本実施態様に用いられる透明電極層とは、上記透明支持基板上に形成され、透明な導電性を有する層であり、例えばアモルファスシリコンを用いた太陽電池や有機ELディスプレイにおいて、透明電極層として用いられる層である。
【0065】
本実施態様においては、この透明電極層の導電率がシート抵抗で200Ω/□以下、中でも40Ω/□以下であって、この透明電極層の全光線透過率が65%以上、中でも85%以上であることが好ましい。これにより、本実施態様の透明基板フィルムを、アモルファスシリコンを用いた太陽電池や有機ELディスプレイ等に用いることが可能となるからである。
【0066】
本実施態様に用いられる透明電極層の形状等は特に限定されるものではなく、透明電極層は全面に形成されていてもよく、またパターン状に形成されているものであってもよい。
【0067】
本実施態様に用いられる透明電極層の材料として、具体的には、ITO、ZnO、IXO、SnO2、Ag、Pt、NiCr、Cr等が挙げられ、中でも、ITO、IZO、ZnOであることが好ましい。
【0068】
上記透明電極層は、上記透明支持基板上に形成可能であれば、その製造方法は特に限定されるものではなく、例えばCVD法であってもよく、またスパッタリング法や真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法であってもよい。
【0069】
本実施態様においては、上記の方法の中でも、製造効率やコスト等の面から、イオンプレーティング法またはスパッタリング法であることが好ましい。
【0070】
本実施態様に用いられる透明電極層の厚さは、用いられる材料の種類、構成により最適条件が異なり、適宜選択されるが、5nm〜2000nm、中でも10nm〜1000nmが好ましい。透明電極層の膜厚が上記の範囲以下である場合には、充分な電気伝導性を得るのが困難となり、一方、上記範囲以上である場合には、充分な光線透過率を得るのが困難となるからである。
【0071】
e.透明基板フィルム
次に、本実施態様の透明基板フィルムについて説明する。
本実施態様の透明基板フィルムは、上記難燃性基材と、上記耐衝撃層と、上記ガスバリア層と、上記電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記耐衝撃層および上記ガスバリア層が少なくとも1層ずつ積層されたことを特徴とするものであれば、その層構成は特に限定されるものではなく、例えば表1に示すような態様が挙げられる。
【0072】
【表1】
【0073】
本実施態様の透明基板フィルムは、上述したような構成とすることにより、例えば太陽電池や有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、FEDディスプレイ等の様々な用途に用いることが可能となる。
【0074】
ここで、本実施態様においては、上記耐衝撃層は、例えば図1に示すように、難燃性基材1とガスバリア層6との間に形成されていることが好ましい。これにより、透明電極層等だけでなく、ガスバリア層も外部からの衝撃から保護されることとなり、高いガスバリア性を保持することが可能となるからである。
【0075】
また、本実施態様の透明基板フィルムは、ガスバリア層が2層以上形成されていることが好ましい。これにより、ガスバリア層が例えば劣化等によって1層機能しなくなった際にも、透明基板フィルムをガスバリア性を有するものとすることが可能となるからである。
【0076】
また、本実施態様においては、上記耐衝撃層も2層以上形成されていることが好ましく、この際、例えば図2に示すように、難燃性基材1と、透明支持基材2および透明電極層3を有する電極部4との間に形成された、耐衝撃層5と耐衝撃層5´との間に、耐衝撃層5´´により貼り合わせられたガスバリア層6とガスバリア層6´とが形成されていることが好ましい。これにより、耐衝撃層の高い耐衝撃性によりガスバリア層が外部からの衝撃等から保護されることから、高いガスバリア性を保持することが可能となる。
【0077】
また、本実施態様の透明基板フィルムは、耐湿熱性を有することが好ましい。これは本実施態様の透明基板フィルムが、例えば太陽電池等のカバーフィルムとして用いられる場合、屋外で使用されることから、雨や熱等から太陽電池素子を保護する必要があるからである。本実施態様においては、透明基板フィルムの耐湿熱性が、JIS C−8938およびC−3917に記載の85℃85%の促進条件で1000h以上、中でも2000h以上であることが好ましい。また、その耐湿熱性試験の前後において、その光学透明性が、全光線透過率85%以上、中でも90%以上であることが好ましく、さらに引張強度維持率が、50%以上、中でも80%以上であることが好ましい。ここで、本実施態様の光学透明性とは、JIS K7105 により評価した値であり、引張強度とは、JIS K7127 により評価した値である。また、その際のシート抵抗が、200Ω/□以下、中でも20Ω/□以下であることが好ましい。
【0078】
また、本実施態様の透明基板フィルムが、ディスプレイ用途等で用いられる場合には、耐熱温度100℃以上,耐湿熱性が40℃以上、40%Rh以上で20時間以上、かつ全光線透過率が70%以上であることが好ましく、中でも耐熱温度150℃以上、耐湿熱性が60℃以上、60%RH以上で100時間以上、かつ全光線透過率が85%以上であることが好ましい。
【0079】
2.第二実施態様
次に、本発明の透明基板フィルムの第二実施態様について説明する。本発明の透明基板フィルムの第二実施態様は、透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明支持基材、上記透明支持基材上に形成されたガスバリア膜、および上記ガスバリア膜上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、上記難燃性基材および上記電極部との間に、上記耐衝撃層を有することを特徴とするものである。
【0080】
本実施態様の透明基板フィルムは、例えば図3に示すように、難燃性基材1および、透明支持基材2と、その透明支持基材上に形成されたガスバリア膜8と、そのガスバリア膜8上に形成された透明電極層3とを有する電極部4の間に耐衝撃層を有するものであれば、その間に耐衝撃層5を有するものであれば、その層構成等は特に限定されるものではなく、例えば上記難燃性基材と電極部との間にガスバリア層を有していてもよく、またガスバリア層や耐衝撃層が複数層積層されていてもよく、さらに必要に応じてその他の層が積層されていてもよい。この際、上記のそれぞれの層は、耐衝撃層により接着されることが好ましいが、一般的に接着剤として用いられる材料により接着されるものであってもよい。
【0081】
ここで、本実施態様に用いられる難燃性基材、耐衝撃層、ガスバリア層については上述した第一実施態様と同様であるので、ここでの説明は省略し、以下本実施態様に用いられる電極部および本実施態様の透明基板フィルムについて説明する。
【0082】
a.電極部
まず、本実施態様に用いられる電極部について説明する。本実施態様に用いられる電極部は、透明支持基材と、その透明支持基材上に形成されたガスバリア膜と、そのガスバリア膜上に形成された透明電極層を有するものである。本実施態様においては、透明電極層がガスバリア膜上に形成されていることによって、透明電極を酸素や水蒸気等から保護することが可能となり、アモルファスシリコンを用いた太陽電池や、有機ELディスプレイ等、酸素や水蒸気に弱い素子にも、本実施態様の透明基板フィルムを用いることが可能となる。
【0083】
本実施態様に用いられる透明支持基材および透明電極層は、上述した第一実施態様の電極部の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【0084】
また、本実施態様に用いられるガスバリア膜は、上記透明支持基材上に形成される透明性を有するガスバリア性を有する膜であれば、特に限定されるものではなく、上述した第一実施態様におけるガスバリア層と同様の材料や形成方法とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【0085】
b.透明基板フィルム
次に、本実施態様の透明基板フィルムについて説明する。本実施態様の透明基板フィルムは、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記耐衝撃層を有するものであれば、その層構成は特に限定されるものではなく、例えば表2に示すような態様が挙げられる。
【0086】
【表2】
【0087】
本実施態様の透明基板フィルムは、上述したような構成とすることにより、例えば太陽電池や有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、FEDディスプレイ等の様々な用途に用いることが可能となる。
【0088】
ここで本実施態様においては、上記難燃性基材と上記電極部との間に、ガスバリア層を有することが好ましい。これにより、透明基板フィルムをガスバリア性の高いものとすることが可能となるからである。
【0089】
また、本実施態様における透明基板フィルムは、ガスバリア層が2層以上形成されていることが好ましい。これにより、ガスバリア層が例えば劣化等によって1層機能しなくなった際にも、透明基板フィルムをガスバリア性を有するものとすることが可能となるからである。
【0090】
また、本実施態様においては第一実施態様と同様に、上記耐衝撃層も2層以上形成されていることが好ましく、この際、難燃性基材上に形成された耐衝撃層と耐衝撃層との間に、耐衝撃層により貼り合わせられたガスバリア層とガスバリア層とが形成されていることが好ましい。これにより、耐衝撃層の高い耐衝撃性によりガスバリア層が外部からの衝撃等から保護されることから、高いガスバリア性を保持することが可能となる。
【0091】
また、本実施態様の透明基板フィルムは、第一実施態様と同様の耐湿熱性を有することが好ましい。
【0092】
B.太陽電池
次に、本発明の太陽電池について説明する。本発明の太陽電池は、上述した透明基板フィルムを用いたことを特徴とするものである。本発明によれば、上記透明基板フィルムは、透明導電層を有していることから、例えばアモルファスシリコンを用いた太陽電池に用いることができる。さらに上記透明基板フィルムの、難燃性やガスバリア性、耐衝撃性等により、太陽電池素子を保護されていることから高品質であり、かつ透明カバーガラスを用いた場合より、取扱い性が容易な太陽電池とすることができる。
【0093】
本発明の太陽電池は、上述した透明基板フィルムを用いたものであれば、その構造等は特に限定されるものではなく、上記透明基板フィルムの透明導電膜上にアモルファスシリコンを蒸着した素子と、その素子上に裏面電極を形成し、さらに裏面電極上に充填剤層を形成し、その充填剤層上にバックカバーフィルムを形成したもの等が挙げられる。
【0094】
C.太陽電池モジュール
次に、本発明の太陽電池モジュールについて説明する。本発明の太陽電池モジュールは、上述した太陽電池を複数個有するものであり、その太陽電池が支持部材により支持されていることを特徴とするものである。このような太陽電池モジュールは、通常上述した太陽電池を1個〜200個の範囲内、好ましくは1個〜60個の範囲内有するものである。また上記の中でも、太陽電池モジュールに、結晶シリコン太陽電池を用いる場合には、太陽電池を通常20〜60個の範囲内有するものであることが好ましく、アモルファスシリコンを用いる場合には、太陽電池を通常1〜50個の範囲内有することが好ましい。
【0095】
本発明によれば、上記太陽電池を有する太陽電池モジュールとすることにより、難燃性やガスバリア性、耐衝撃性に優れており、かつ透明カバーガラスを用いた場合より、軽量で取扱い性に優れるとともに、低コストな太陽電池モジュールとすることができるのである。
【0096】
本発明の太陽電池モジュールに用いられる太陽電池については、「B.太陽電池」の項で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【0097】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0098】
【実施例】
以下、本発明について、実施例および比較例を通じてさらに詳述する。
【0099】
<実施例>
実施例1から実施例15として、後述する各層を、下記の表3に示すように組み合わせて透明基板フィルムとした。
【0100】
【表3】
【0101】
[透明基板フィルムを構成する各層]
1.難燃性基材
1−1.難燃性基材▲1▼(ハードコート層+透明支持基材)
熱硬化型アクリル樹脂に、難燃剤として、リン系難燃剤(20重量%)、ハロゲン系難燃剤(15重量%)とを添加し、更に耐光剤として、ヒンダードアミン系光安定化剤(1重量%)、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(1重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリアクリル系樹脂組成物を調整した。
【0102】
次いで、透明支持基材として、予め易接着処理を施したSPS(シンジオタクチックポリスチレン)フィルム100μmを準備し、グラビアロールコート法により、上記で調製したポリアクリル系樹脂組成物を、ロールコート後、乾燥・硬化することにより、膜厚10μm(Dry)の耐候性樹脂膜を形成して、本発明にかかる難燃性基材を製造した。
【0103】
1−2.難燃性基材▲2▼(難燃性フィルム)
ポリカーボネート樹脂に、難燃剤として、リン系難燃剤(20重量%)、ハロゲン系難燃剤(15重量%)とを添加し、更に耐光剤として、紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系紫外線吸収剤(1重量%)と光安定化剤としてヒンダートアミン系光安定化剤(1重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリカーボネート樹脂組成物を調製し、次いで、該ポリカーボネート樹脂組成物をTダイ押出機を使用し、溶融押出成形して、厚さ100μmの難燃性基材を製造し、さらに、該難燃性ポリカーボネート樹脂基材の両面に、常法に従って、コロナ放電処理を施してコロナ処理面を形成した。
【0104】
2.蒸着層
2−1.透明支持基材+蒸着層▲1▼(形成方式:CVD方式)
透明支持基材として、予め易接着処理を施したSPS(シンジオタクチックポリスチレン)フィルム100μmを準備し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該SPSフィルムの一方のコロナ処理面に、下記の条件で厚さ800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0105】
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘクサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
真空チャンバー内の真空度:5.0×10−6mbar
蒸着チャンバー内の真空度:6.0×10−2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:80m/分
2−2.透明支持基材+蒸着層▲2▼(形成方式:PVD−EB加熱方式)
透明支持基材として、予め易接着処理を施したSPS(シンジオタクチックポリスチレン)フィルム100μmを準備し、まず、そのSPSフィルムを巻き取り式の真空蒸着機の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、そのSPSフィルムの一方のコロナ面に、一酸化珪素(SiO)を蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム(EB)加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0106】
(蒸着条件)
蒸着チャンバー内真空度:1.33×10−2Pa(1×10−4torr)
巻き取りチャンバー内真空度:1.33×10−2Pa
電子ビーム電力:25kW
フィルム搬送速度:400m/分
蒸着面:コロナ処理面
2−3.透明支持基材+蒸着層▲3▼(形成方式:PVD−誘電加熱方式)
透明支持基材として、予め易接着処理を施したSPS(シンジオタクチックポリスチレン)フィルム100μmを準備し、まず、そのSPSフィルムを巻き取り式の真空蒸着機の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、そのSPSフィルムのアンカーコート面側に、一酸化珪素(SiOx)を蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、誘電加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0107】
(蒸着条件)
蒸着チャンバー内真空度:1.33×10−2Pa(1×10−4torr)
巻き取りチャンバー内真空度:1.33×10−2Pa
フィルム搬送速度:100m/分
蒸着面:アンカーコート処理面
2−4.蒸着層▲1▼(形成方式:CVD方式)
上記難燃性基材▲1▼を、プラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該難燃性基材のハードコート層を設けていない側のコロナ処理面に、下記の条件で厚さ800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0108】
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘクサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
真空チャンバー内の真空度:5.0×10−6mbar
蒸着チャンバー内の真空度:6.0×10−2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:80m/分
2−5.蒸着層▲2▼(形成方式:PVD−EB方式)
上記難燃性基材▲1▼を、巻き取り式の真空蒸着機の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該難燃性基材のハードコート層を設けていない側のコロナ処理面に、一酸化珪素(SiO)を蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム(EB)加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0109】
(蒸着条件)
蒸着チャンバー内真空度:1.33×10−2Pa(1×10−4torr)
巻き取りチャンバー内真空度:1.33×10−2Pa
電子ビーム電力:25kW
フィルム搬送速度:400m/分
蒸着面:コロナ処理面
2−6.蒸着層▲3▼(形成方式:PVD−誘電加熱方式)
上記難燃性基材▲1▼を、巻き取り式の真空蒸着機の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該難燃性基材のハードコート層を設けていない側のコロナ処理面に、一酸化珪素(SiOx)を蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、誘電加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0110】
(蒸着条件)
蒸着チャンバー内真空度:1.33×10−2Pa(1×10−4torr)
巻き取りチャンバー内真空度:1.33×10−2Pa
フィルム搬送速度:100m/分
蒸着面:アンカーコート処理面
2−7.蒸着層▲4▼(形成方式:CVD方式)
上記難燃性基材▲2▼を、プラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該難燃性基材のコロナ処理面に、下記の条件で厚さ800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0111】
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘクサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
真空チャンバー内の真空度:5.0×10−6mbar
蒸着チャンバー内の真空度:6.0×10−2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:80m/分
2−8.蒸着層▲2▼(形成方式:PVD−EB方式)
上記難燃性基材▲2▼を、巻き取り式の真空蒸着機の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該難燃性基材のコロナ処理面に、一酸化珪素(SiO)を蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム(EB)加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0112】
(蒸着条件)
蒸着チャンバー内真空度:1.33×10−2Pa(1×10−4torr)
巻き取りチャンバー内真空度:1.33×10−2Pa
電子ビーム電力:25kW
フィルム搬送速度:400m/分
蒸着面:コロナ処理面
2−9.蒸着層▲3▼(形成方式:PVD−誘電加熱方式)
上記難燃性基材▲2▼を、巻き取り式の真空蒸着機の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該難燃性基材のコロナ処理面に、一酸化珪素(SiOx)を蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、誘電加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚800Å(80nm)の酸化珪素の蒸着膜を形成した。
【0113】
(蒸着条件)
蒸着チャンバー内真空度:1.33×10−2Pa(1×10−4torr)
巻き取りチャンバー内真空度:1.33×10−2Pa
フィルム搬送速度:100m/分
蒸着面:アンカーコート処理面
3.透明電極層
3−1.透明電極層▲1▼(透明支持基材+透明導電層)
透明支持基材として、予め易接着処理を施したSPS(シンジオタクチックポリスチレン)フィルム100μmを準備し、これをスパッタリング装置の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該SPSフィルムの一方のコロナ処理面に、ITOターゲットを用いて、酸素ガスを供給しながら、下記の条件で厚さ500Å(50nm)のスパッタ膜を形成した。
【0114】
(スパッタ条件)
ITOターゲット:In2O3 とSnO2の酸化物元素を主成分とし、In、Snを添加した焼結体を使用
蒸着チャンバー内の真空度:6.0×10−2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:2m/分
3−2.透明電極層▲2▼(蒸着層+透明支持基材+透明導電層)
透明支持基材+蒸着層▲1▼、透明支持基材+蒸着層▲2▼または透明支持基材+蒸着層▲3▼を準備し、これをスパッタリング装置の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該蒸着層を設けた透明支持基材の蒸着層を設けていない側のコロナ処理面に、ITOターゲットを用いて、酸素ガスを供給しながら、下記の条件で厚さ500Å(50nm)のスパッタ膜を形成した。
【0115】
(スパッタ条件)
ITOターゲット:In2O3 とSnO2の酸化物元素を主成分とし、In、Snを添加した焼結体を使用
蒸着チャンバー内の真空度:6.0×10−2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
基材の搬送速度:2m/分
3−3.透明電極層▲3▼(透明支持基材+蒸着層+透明導電層)
透明支持基材+蒸着層▲1▼、透明支持基材+蒸着層▲2▼または透明支持基材+蒸着層▲3▼を準備し、これにグラビアロールコート法により、ポリアクリル系樹脂組成物を、ロールコート後、乾燥・硬化することにより、膜厚2μm(Dry)のハードコート塗膜を形成して、これをスパッタリング装置の送り出しロールに装着し、次に、これを繰り出し、該ハードコート塗膜上に、ITOターゲットを用いて、酸素ガスを供給しながら、下記の条件で厚さ500Å(50nm)のスパッタ膜を形成した。
【0116】
(スパッタ条件)
ITOターゲット:In2O3 とSnO2の酸化物元素を主成分とし、In、Snを添加した焼結体を使用
蒸着チャンバー内の真空度:6.0×10−2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:2m/分
4.耐衝撃層の形成およびラミネート
4−1.耐衝撃層▲1▼(シラン架橋PE)
まず、アルコキシシラン2.0重量%をグラフト重合することにより、シラン変性したポリエチレン樹脂に、耐光剤として、ヒンダードアミン系光安定化剤(1重量%)、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(1重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混連してシラン架橋性ポリエチレン樹脂組成物を調整した。
次に、接着層面に、上記で形成したシラン架橋性ポリエチレン樹脂組成物を使用し、これを押出機を用いて溶融押し出しして、厚さ50μmのシラン架橋性ポリエチレン樹脂フィルムを押し出しラミネート積層して、本発明にかかる透明基板フィルムを製造した。
【0117】
4−2.耐衝撃層▲2▼(シラン架橋PP)
まず、アルコキシシラン2.0重量%をグラフト重合することにより、シラン変性したポロプロピレン樹脂に、耐光剤として、ヒンダードアミン系光安定化剤(1重量%)、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(1重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混連してシラン架橋性ポリプロピレン樹脂組成物を調整した。
【0118】
次に、接着層面に、上記で形成したシラン架橋性ポリプロピレン樹脂組成物を使用し、これを押出機を用いて溶融押し出しして、厚さ50μmのシラン架橋性ポリプロピレン樹脂フィルムを押し出しラミネート積層して、本発明にかかる透明基板フィルムを製造した。
【0119】
<比較例1>
厚さ3mmの青板ガラス板を準備し、CVD法によりSnO2層を形成し、該ガラス基板とした。
【0120】
<比較例2>
厚さ3mmの白板ガラス板を準備し、比較例1と同様にSnO2層を形成し、該ガラス基板とした。
【0121】
<評価>
上記の実施例1から実施例15までの透明基板フィルムと比較例1および比較例2のガラス基板について、(1)軽量性(2)可撓性(3)水蒸気透過率(4)全光線透過率(6)引張強度 (7)耐衝撃性 (8)難燃性 を測定した結果を表4に示す。
【0122】
【表4】
【0123】
上記の表4において、水蒸気透過度(維持)の単位は、[g/m2/day・40℃100%RH](85℃85%1000h)であり、全光線透過率(維持)の単位は、[%・40℃100%RH](85℃85%1000h)であり、引張強度(維持)の単位は、[N/15mm巾] (85℃85%1000h)である。
【0124】
上記表4に示す結果より明らかなように、実施例1から実施例15にかかる透明基板フィルムは、水蒸気透過率および全光線透過率,シート抵抗において、比較例1および比較例2の一般に使用されている透明基板ガラスと同等レベルの性能を発現していた。
【0125】
更に、実施例1から実施例15にかかる透明基板フィルムは、比較例1および比較例2の一般に使用されている透明基板ガラスよりも、軽量性・可撓性に優れているものであった。
【0126】
この点から考慮し、本発明にかかる透明基板フィルムは、比較例1および比較例2にかかる一般の透明基板ガラスに代わって充分に使用することができるものであることが判明した。
【0127】
上記各試験の測定方法および測定条件については以下のとおりである。
【0128】
(1)軽量性
軽量性は、単位面積当たりの太陽電池モジュールとしての重量を相対比較したものであり、
○は太陽電池モジュール設置時の建物構造部への重量負荷の軽微で、モジュール全体に占める基板の重量比率が15%を超えないもの
×は上記重量負荷が過大で、モジュール全体に占める基板の重量比率が30%を超え、場合によっては建物構造部の補強が必要になるものを指す。
【0129】
(2)可撓性
可撓性について、
○は局面設置時の曲率負荷(20cm直径の軸への巻きつけ)による基板フィルムへのダメージの軽微なもの
×は局面設置時の曲率負荷(20cm直径の軸への巻きつけ)による基板フィルムへのダメージが過大なものを指す。
【0130】
(3)水蒸気透過率
実施例1から実施例15までの透明基板フィルムと比較例1および比較例2のガラス基板について、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン(PERMATRAN)〕を使用して測定した。
【0131】
(4)全光線透過率
JIS K7105 に基づき、光学特性評価機(スガ試験機製 機種名 HGM−2K)を用いて評価した値である。
【0132】
(5)引張り強度維持率の測定
温度85℃、湿度85%、1000hrの環境試験を実施し、試験前後での引張り強度の比較評価を行い、試験前の引張り強度を100%としたときの試験後の引張り強度維持率を測定したものである。
【0133】
なお、初期の引張り強度は、全て50N/15mm巾以上であった。
【0134】
測定は、上記の実施例1から実施例15で製造した本発明にかかる太陽電池モジュール用裏面保護シートと比較例1および比較例2にかかる太陽電池モジュール用裏面保護シートを15mm巾に裁断し、引張り試験機〔エ−・アンド・デ−(A&D)株式会社製 機種名 テンシロン〕を用いて測定して評価した。
【0135】
(6)耐衝撃性
JIS C−8938で規定される降ひょう試験において、内容物を破壊されることなく、その性能を維持できることを評価するものである。
【0136】
○は、太陽電池の発電効率維持率が95%以上97%未満であるもの
◎は、太陽電池の発電効率維持率が97%以上であるものを指す。
【0137】
(7)難燃性
建築基準法第63条に準ずる「飛び火試験」によるものであり、評価では、試供体上へ指定の状態で火種を載せた際、燃え抜けや貫通孔の発生,また火炎の拡がりのないことを測定するものである。
【0138】
○は、燃え抜けや貫通孔の発生がなく、火炎の拡がりのないものを
◎は、通常の2倍量の火種を載せても、火炎の拡がりのないものを指す。
【0139】
【発明の効果】
本発明の透明基板フィルムは、上記難燃性基材を表面に有することから、難燃性を有する透明基板フィルムとすることができる。また、上記耐衝撃層を上記難燃性基材と、上記電極部との間に有することから、透明基板フィルムの下に形成される部材や上記電極部等を、外部からの衝撃から保護することができる。さらに、上記難燃性基材と上記電極部との間に、上記ガスバリア層を有することから、透明基板フィルムの下に形成される部材や上記電極部等を、酸素や水蒸気等から保護することができるのである。これにより、本発明の透明基板フィルムを、例えば太陽電池や有機ELディスプレイ等の酸素や水蒸気に弱い素子等にも用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の透明基板フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図2】本発明の透明基板フィルムの他の例を示す概略断面図である。
【図3】本発明の透明基板フィルムの他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1 … 難燃性基材
2 … 透明支持基材
3 … 透明電極層
4 … 電極部
5 … 耐衝撃層
6 … ガスバリア層
8 … ガスバリア膜
Claims (9)
- 透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明性を有するガスバリア層と、透明支持基材および前記透明支持基材上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、前記難燃性基材と前記電極部との間に、前記耐衝撃層および前記ガスバリア層が少なくとも1層ずつ積層されたことを特徴とする透明基板フィルム。
- 透明性を有する難燃性基材と、外部からの衝撃を吸収し、かつ透明性を有する耐衝撃層と、透明支持基材、前記透明支持基材上に形成されたガスバリア膜、および前記ガスバリア膜上に形成された透明電極層を有する電極部とを有する透明基板フィルムであって、前記難燃性基材および前記電極部との間に、前記耐衝撃層を有することを特徴とする透明基板フィルム。
- 前記難燃性基材と、前記電極部との間にガスバリア層を有することを特徴とする請求項2に記載の透明基板フィルム。
- 前記耐衝撃層が、前記難燃性基材と前記ガスバリア層との間に形成されたことを特徴とする請求項1または請求項3に記載の透明基板フィルム。
- 前記ガスバリア層が、前記難燃性基材と前記電極部との間に2層以上形成されたことを特徴とする請求項1、請求項3または請求項4のいずれかの請求項に記載の透明基板フィルム。
- 前記難燃性基材と前記電極部との間に前記耐衝撃層が、2層形成されており、かつ前記ガスバリア層が、前記耐衝撃層と前記耐衝撃層との間に形成されたことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項4、または請求項5のいずれかの請求項に記載の透明基板フィルム。
- 前記ガスバリア層または前記ガスバリア膜が、酸化珪素系の蒸着膜を有することを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載の透明基板フィルム。
- 請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載の透明基板フィルムを用いたことを特徴とする太陽電池。
- 請求項8に記載の太陽電池を複数個有し、前記太陽電池が支持部材により支持されていることを特徴とする太陽電池モジュール。
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