JP2009262445A - 平坦化フィルム及びその製造方法 - Google Patents
平坦化フィルム及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009262445A JP2009262445A JP2008116092A JP2008116092A JP2009262445A JP 2009262445 A JP2009262445 A JP 2009262445A JP 2008116092 A JP2008116092 A JP 2008116092A JP 2008116092 A JP2008116092 A JP 2008116092A JP 2009262445 A JP2009262445 A JP 2009262445A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- additive
- barrier layer
- layer
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基材2と添加剤バリア層3と平坦化層4とを有し、添加剤バリア層3が基材2のガラス転移温度より低い温度で形成されるものである平坦化フィルム1とすることにより上記課題を解決する。また、平坦化フィルム1の製造方法は、基材のガラス転移温度より低い温度で行われる基材洗浄工程と、基材のガラス転移温度より低い温度で添加剤バリア層を形成する添加剤バリア層形成工程と、平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、を有する。
【選択図】図1
Description
図1は、平坦化フィルムの一例を示す模式的な断面図である。平坦化フィルム1は、基材2と、基材2に接して設けられた添加剤バリア層3と、添加剤バリア層3の上に設けられた平坦化層4と、を有する。そして、添加剤バリア層3が基材2のガラス転移温度Tgより低い温度で形成されるものである。これにより、基材2が安定な状態で添加剤バリア層3の形成が行われるために新たな添加剤のブリードアウトが抑制されるとともに、基材2に接して設けられる添加剤バリア層3が上記のブリードアウトを抑制することとなる。その結果、平坦化フィルム1の製造時の添加剤のブリードアウトによる基材2表面の凹凸ひいては平坦化層4等の凹凸(表面粗さ)を低減することにより、高い平坦性を有する平坦化フィルム1を提供することができる。さらに、平坦化フィルム1の製造時の添加剤のブリードアウトによる基材2の透明性の低下の抑制、及び製造後の経時的なブリードアウトによる基材2の透明性の低下を抑制することが可能となる平坦化フィルム1を提供することができる。
基材2は、ガラス転移温度Tgを有するものであれば、特に制限なく用いることができる。基材2としては、主にはシート状やフィルム状のものが用いられるが、具体的な用途や目的等に応じて、非フレキシブル基板やフレキシブル基板を用いることができる。例えば、ガラス基板、硬質樹脂基板、ウエハ、プリント基板、様々なカード、樹脂シート等の非フレキシブル基板を用いてもよい。
添加剤バリア層3は、基材2のガラス転移温度Tgより低い温度で形成されるものである。ガラス転移温度Tgより低い温度で形成可能で、基材2に熱的な影響(添加剤のブリードアウト現象)を与えるようなことがなければよく、添加剤バリア層3に用いられる材料は特に制限されない。こうした材料としては代表的には、無機材料、有機材料を挙げることができる。無機材料で形成する場合には、低温での蒸着法やイオンプレーティング法を用いて、必要な材料で形成された添加剤バリア層3を基材2上に形成すればよい。有機材料を用いる場合には、添加剤バリア層3を、基材2のガラス転移温度Tgよりも低い温度で硬化する硬化性樹脂より形成することが好ましい。これにより、基材に与える熱的な影響が少なくなり、その結果、添加剤バリア層3形成後の基材2からの添加剤のブリードアウトをより効果的に抑制することができる。
平坦化層4は、特に制限はないが、基材2のガラス転移温度Tg以上の温度で形成されるものであることが好ましい。これにより、平坦化層4の形成時に基材2がガラス転移温度Tg以上の温度にさらされて基材2からの添加剤のブリードアウトが促進される状態となるが、添加剤バリア層3がこれを抑制することとなり、その結果、製造時の添加剤のブリードアウトによる基材2表面の凹凸ひいては平坦化層4等の凹凸(表面粗さ)の低減、製造時の添加剤のブリードアウトによる基材2の透明性の低下の抑制をより有効に行うことができる。
以上、平坦化フィルム1について説明したが、本発明の平坦化フィルムは、上記構成に限られるものではない。具体的には、添加剤バリア層と平坦化層との間には、添加剤バリア層と平坦化層との接着性の確保等の観点から、適宜他の層を挿入してもよい。また、基材において添加剤バリア層が形成されていない方の面に他の層を適宜形成してもよい。さらに、平坦化層の上にさらに他の層を設けてもよい。こうした他の層としては、例えば、従来公知の、アンカーコート層、ガスバリア層、透明導電層、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層、防眩層、及びカラーフィルタ等を挙げることができる。これらのうち、反射防止層、帯電防止層、防汚層、防眩層、カラーフィルタは、光学粘着剤を介して平坦化フィルムと貼り合わせることで、所望の機能を得てもよい。
本発明の平坦化フィルムの製造方法は、基材と、基材に接して設けられた添加剤バリア層と、添加剤バリア層の上に設けられた平坦化層と、を有する平坦化フィルムの製造方法であって、基材のガラス転移温度Tgより低い温度で行われる基材洗浄工程と、基材のガラス転移温度Tgより低い温度で添加剤バリア層を形成する添加剤バリア層形成工程と、平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、を有する。これにより、基材表面に新たな添加剤のブリードアウトを起こすことなく添加剤を洗い流すことが可能となり、基材表面が洗浄されてクリーンかつ基材が安定な状態で添加剤バリア層の形成が行われるために新たな添加剤のブリードアウトが抑制されるとともに、基材に接して設けられる添加剤バリア層が上記のブリードアウトを抑制することとなる。その結果、基材の製造以後の添加剤のブリードアウトが引き起こす基材表面の凹凸を除去し、平坦化フィルムの製造時の添加剤のブリードアウトによる基材表面の凹凸ひいては平坦化層等の凹凸(表面粗さ)を低減することにより、高い平坦性を有する平坦化フィルムの製造方法を提供することができる。さらに、平坦化フィルムの製造時の添加剤のブリードアウトによる基材の透明性の低下の抑制、及び製造後の経時的なブリードアウトによる基材の透明性の低下を抑制することが可能となる平坦化フィルムの製造方法を提供することができる。以下、各工程について説明する。
基材洗浄工程は、基材のガラス転移温度Tgより低い温度で行われる。基材について詳細はすでに説明したとおりであるので、ここでの説明は省略するが、例えば、基材が樹脂製であることが好ましい。これにより、基材に含まれる添加剤がよりブリードアウトしやすくなり、その結果、添加剤バリア層を設ける意義が大きくなる。
添加剤バリア層形成工程は、基材のガラス転移温度Tgより低い温度で添加剤バリア層を形成することによって行われる。添加剤バリア層形成工程は、上記説明した無機材料や有機材料を用い、基材のガラス転移温度Tgより低い温度で添加剤バリア層を形成すればよく、特に制限はない。
平坦化層形成工程においては、平坦化層が形成される。平坦化層の形成方法については、上記説明した材料を用いて行えばよく特に制限はないが、基材のガラス転移温度Tg以上の温度で平坦化層が形成されることが好ましい。これにより、平坦化層形成時に基材が高温にさらされて添加剤のブリードアウトが促進される状態となった場合においても、基材に接して設けられる添加剤バリア層が上記のブリードアウトを抑制することとなり、その結果、製造時の添加剤のブリードアウトによる基材表面の凹凸ひいては平坦化層等の凹凸(表面粗さ)の低減、製造時の添加剤のブリードアウトによる基材の透明性の低下の抑制をより有効に行うことができる。
上記説明したように、本発明の平坦化フィルムにおける積層形態は、本発明の要旨の範囲内において適宜選択することができる。したがって、積層形態に応じて適宜上記説明した工程以外の工程を行えばよい。例えば、添加剤バリア層と平坦化層との間にガスバリア層やアンカーコート層等を挿入する場合には、これらの層の成膜工程を適宜行えばよい。
基材として、厚さが188μmのPETフィルム(東洋紡績株式会社製:E−5101、Tg:78℃)を用いた。この基材は、耐光性や耐酸化性等の実使用可能な特性を得るために、酸化防止剤等の所望の添加剤が適量含有されているものであると推測される。
上記の基材をメチルエチルケトンの溶液に浸し、室温で5分間超音波洗浄を行った。その後、50℃/30分間クリーンオーブンにて乾燥を行った。
添加剤バリア層を形成する材料として、大日精化工業株式会社製のアクリル樹脂(主剤:硬化剤:希釈剤=5:1:6)を用いた。このアクリル樹脂は、ウレタンアクリレート系の材料を用いたものである。また、希釈剤としては、低沸点溶剤として酢酸エチル、高沸点溶剤としてトルエンを用い、その混合比を1/1とした。添加剤バリア層は、上記材料を基材の一方の面に2μmの厚さになるようスピンコーターにて塗布し、その後ベイク温度70℃で30分間硬化を行うことにより形成した。
平坦化層を形成する材料として、カルドポリマー(新日鐵化学株式会社製)を用いた。平坦化層は、上記材料を添加剤バリア層の一方の面に1μmの厚さになるようスピンコーターにて塗布し、その後ベイク温度150℃で60分間硬化を行うことにより形成した。
以上のようにして得られた平坦化フィルムの表面の粗さを測定した。具体的には、原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)として、セイコーインスツルメンツ社製のNanopics−1000を用い、JIS B0601−1982に準拠して、20μmの範囲にて最大突起長(Rmax)を測定することにより、表面粗さの評価を行った。その結果、平坦化層の最大突起長(Rmax)は8nmであった。
平坦化フィルムを光学顕微鏡で観察して、基材上に白点がないことを確認した後、平坦化フィルムを80℃/90%RHの環境下で10日間保持した。その後、平坦化フィルムの表面を光学顕微鏡で観察した。その結果、基材からの添加剤のブリードアウトによる白点の発生は観察されなかった。
平坦化層を設けないサンプルを別途製造し、添加剤バリア層の接着性を行った。接着性の評価は、クロスカット試験をJIS−K5400の8.5.1の記載に準拠して行った。具体的には、隙間間隔2mmのカッターガイドを用いて、添加剤バリア層を貫通して基材に達する切り傷を縦横につけて、100個のマス目状とし、セロハン粘着テープ(ニチバン社製405番 24mm幅)をマス状の切り傷面に張り付け、消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がした。そして、剥離後の面を目視により観察し、100個のマス目における層残留率(マス目の一部分でも剥がれたものも剥がれた個数として扱う)を接着性の尺度とし、接着性(%)=(1−(剥がれたマス目/100マス))×100を算出して評価した。
基材として、厚さ100μmのPENフィルム(韓国SKC社製、SKYNEX、Tg:123℃)を用いた。この基材は、耐光性や耐酸化性等の実使用可能な特性を得るために、酸化防止剤等の所望の添加剤が適量含有されているものであると推測される。
乾燥を90℃/15分間クリーンオーブンにて乾燥を行ったこと、以外は実施例1と同様にして基材洗浄工程を行った。
ベイク温度を90℃として、30分間硬化を行うことにより添加剤バリア層を形成したこと、以外は実施例1と同様にして添加剤バリア層を形成した。
ベイク温度を180℃として、60分間硬化を行うことにより平坦化層を形成したこと、以外は実施例1と同様にして平坦化層を形成した。
以上のようにして得られた平坦化フィルムの表面粗さを実施例1と同様にして測定したところ、最大突起長(Rmax)は6nmであった。
添加剤バリア層の添加剤バリア性を実施例1と同様にして評価した。その結果、基材からの添加剤のブリードアウトによる白点の発生は観察されなかった。
平坦化層を設けないサンプルを別途作製し、実施例1と同様にして接着性を評価した。その結果、製造直後の接着性は100%、耐湿熱試験後の接着性は100%であった。
添加剤バリア層形成工程において、下記の材料及び成膜方法で添加剤バリア層を形成したこと、以外は実施例1と同様にして平坦化フィルムを製造した。以下に、実施例1との相違点である、添加剤バリア層形成工程の内容について説明する。
以下の組成を一括混合して、紫外線硬化型樹脂を含有する塗布液を調整した。
・ジペンタエリストールヘキサアクリレート:30重量部
・ジエチレングリコールジアクリレート:5重量部
・Irgacure651(チバガイギー社製):2重量部
・酢酸メチル:10重量部
以上のようにして得られた平坦化フィルムの表面粗さを実施例1と同様にして測定したところ、最大突起長(Rmax)は10nmであった。
添加剤バリア層の添加剤バリア性を実施例1と同様にして評価した。その結果、基材からの添加剤のブリードアウトによる白点の発生は観察されなかった。
平坦化層を設けないサンプルを別途作製し、実施例1と同様にして接着性を評価した。その結果、製造直後の接着性は100%、耐湿熱試験後の接着性は100%であった。
添加剤バリア層を形成しなかったこと、以外は実施例1と同様にして平坦化フィルムを製造した。
平坦化フィルムの表面粗さを実施例1と同様にして測定したところ、最大突起長(Rmax)は215nmであった。
添加剤バリア層の添加剤バリア性の評価以前に、平坦化フィルム製造直後の段階で基材からの添加剤のブリードアウトによる白点の発生が多数観察された。
添加剤バリア層形成工程において、下記に示すように、添加剤バリア層の代わりにハードコート層に用いられている材料を用いて所定の方法でハードコート層を形成したこと、以外は実施例1と同様にして平坦化フィルムを製造した。以下に、実施例1との相違点である、ハードコート層形成工程の内容について説明する。
ハードコート層形成用の塗布液を以下の方法により製造した。まず、日産化学株式会社製のコロイダルシリカであるスノーテックスO−40を300gフラスコに計り取り、冷却撹拌しながらγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを135gとメチルトリメトキシシラン49gを徐々に添加した。そして、添加終了後さらに1時間撹拌した。途中、混合液の昇温がなくなった時点で冷却を止めた。その後、混合液を撹拌しながら、希釈溶媒としてイソプロパノール450gを添加し、次に4−ヒドロキシブチルアクリレートを60g添加した。さらに、日本ユニカー株式会社製のレベリング剤L−7001を0.4g添加し、20分撹拌した。以上の操作を経て、ハードコート層形成用の塗布液を得た。
平坦化フィルムの表面粗さを実施例1と同様にして測定したところ、最大突起長(Rmax)は136nmであった。
添加剤バリア層の添加剤バリア性の評価以前に、基材のガラス転移温度Tg以上の温度でハードコート層を形成した結果、平坦化フィルム製造直後の段階で基材からの添加剤のブリードアウトによる白点の発生が多数観察された。
基材として、製造直後のもの(基材A)、製造後40℃/90%RHの環境下で240時間保持したもの(基材B)の2種類を用いたこと、及び基材洗浄工程を行わなかったこと、以外は実施例1と同様にして平坦化フィルムを製造した。
平坦化フィルムの表面粗さを実施例1と同様にして測定したところ、基材Aを用いて製造した平坦化フィルムの最大突起長(Rmax)は18nmであり、基材Bを用いて製造した平坦化フィルムの最大突起長(Rmax)は97nmであった。
基材Aを用いて製造した平坦化フィルムについては、添加剤バリア層の添加剤バリア性を実施例1と同様にして評価した。その結果、基材からの添加剤のブリードアウトによる白点の発生は観察されなかった。
平坦化層を設けないサンプルを別途作製し、実施例1と同様にして接着性を評価した。その結果、基材Aを用いたサンプル、基材Bを用いたサンプルともに製造直後の接着性は100%、耐湿熱試験後の接着性は100%であった。
2 基材
3 添加剤バリア層
4 平坦化層
Claims (13)
- 基材と、該基材に接して設けられた添加剤バリア層と、該添加剤バリア層の上に設けられた平坦化層と、を有する平坦化フィルムであって、
前記添加剤バリア層が前記基材のガラス転移温度より低い温度で形成されるものである、ことを特徴とする平坦化フィルム。 - 前記平坦化層が前記基材のガラス転移温度以上の温度で形成されるものである、請求項1に記載の平坦化フィルム。
- 前記基材が樹脂製である、請求項1又は2に記載の平坦化フィルム。
- 前記添加剤バリア層が、前記基材のガラス転移温度よりも低い温度で硬化する硬化性樹脂より形成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の平坦化フィルム。
- 前記平坦化層が、前記基材のガラス転移温度以上の温度で硬化する硬化性樹脂より形成される、請求項2〜4のいずれか1項に記載の平坦化フィルム。
- 前記添加剤バリア層の厚さが、0.5μm以上、15μm以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の平坦化フィルム。
- 前記平坦化層の表面の最大突起長(Rmax)が2nm以上、20nm以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の平坦化フィルム。
- 基材と、該基材に接して設けられた添加剤バリア層と、該添加剤バリア層の上に設けられた平坦化層と、を有する平坦化フィルムの製造方法であって、
前記基材のガラス転移温度より低い温度で行われる基材洗浄工程と、
前記基材のガラス転移温度より低い温度で前記添加剤バリア層を形成する添加剤バリア層形成工程と、
前記平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、
を有する、ことを特徴とする平坦化フィルムの製造方法。 - 前記平坦化層形成工程が、前記基材のガラス転移温度以上の温度で前記平坦化層を形成するものである、請求項8に記載の平坦化フィルムの製造方法。
- 前記基材洗浄工程において、有機溶剤を用いて前記基材の洗浄を行う、請求項8又は9に記載の平坦化フィルムの製造方法。
- 前記基材が樹脂製である、請求項8〜10のいずれか1項に記載の平坦化フィルムの製造方法。
- 前記添加剤バリア層形成工程において、前記基材のガラス転移温度よりも低い温度で硬化する硬化性樹脂で前記添加剤バリア層を形成する、請求項8〜11のいずれか1項に記載の平坦化フィルムの製造方法。
- 前記平坦化層形成工程において、前記基材のガラス転移温度以上の温度で硬化する硬化性樹脂で前記平坦化層を形成する、請求項9〜12のいずれか1項に記載の平坦化フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008116092A JP5487557B2 (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | 平坦化フィルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008116092A JP5487557B2 (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | 平坦化フィルム及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009262445A true JP2009262445A (ja) | 2009-11-12 |
JP5487557B2 JP5487557B2 (ja) | 2014-05-07 |
Family
ID=41388916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008116092A Active JP5487557B2 (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | 平坦化フィルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5487557B2 (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0389132U (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-11 | ||
JPH03278946A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-10 | Oike Ind Co Ltd | レトルト食品用包装材料 |
JPH0464435A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-02-28 | Oike Ind Co Ltd | 紫外線遮断用積層体 |
JPH09156024A (ja) * | 1995-12-08 | 1997-06-17 | Toppan Printing Co Ltd | 被覆フィルム |
JP2000141578A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | 透明導電性積層シートの製造方法及び透明導電性積層シート |
JP2002120318A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Tokyo Magnetic Printing Co Ltd | 防汚フィルム |
JP2004299230A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性基板 |
JP2006044231A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイ |
JP2007131004A (ja) * | 2006-12-11 | 2007-05-31 | Hiraoka & Co Ltd | 遮熱性防汚膜材 |
JP2007268996A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 高分子積層体、位相差フィルム、および、高分子積層体の製造方法 |
-
2008
- 2008-04-25 JP JP2008116092A patent/JP5487557B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0389132U (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-11 | ||
JPH03278946A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-10 | Oike Ind Co Ltd | レトルト食品用包装材料 |
JPH0464435A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-02-28 | Oike Ind Co Ltd | 紫外線遮断用積層体 |
JPH09156024A (ja) * | 1995-12-08 | 1997-06-17 | Toppan Printing Co Ltd | 被覆フィルム |
JP2000141578A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | 透明導電性積層シートの製造方法及び透明導電性積層シート |
JP2002120318A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Tokyo Magnetic Printing Co Ltd | 防汚フィルム |
JP2004299230A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性基板 |
JP2006044231A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイ |
JP2007268996A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 高分子積層体、位相差フィルム、および、高分子積層体の製造方法 |
JP2007131004A (ja) * | 2006-12-11 | 2007-05-31 | Hiraoka & Co Ltd | 遮熱性防汚膜材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5487557B2 (ja) | 2014-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5131128B2 (ja) | 可撓性基板、可撓性基板の製造方法、及び製品 | |
TW539730B (en) | Discharged hard coating composition, discharged hard coating layer, process for preparation thereof and laminated discharged hard coating film | |
JP5223540B2 (ja) | ガスバリア性シート、ガスバリア性シートの製造方法 | |
US20120263947A1 (en) | Pressure-sensitive adhesive layer-attached transparent resin film, laminated film, and touch panel | |
JP6453689B2 (ja) | ハードコートフィルム | |
TW200900725A (en) | Coating compositions having a superior high adhesive strength on cycloolefin polymer films and cycloolefin polymer films comprising coating layer manufactured by using the same | |
JP2013010323A (ja) | ハードコートフィルム | |
JP6183097B2 (ja) | 表面平滑化液晶ポリマーフィルムおよびガスバリアフィルム | |
JPWO2017159787A1 (ja) | プライマー層形成用硬化性組成物、ガスバリア性積層フィルムおよびガスバリア性積層体 | |
JP2023073287A (ja) | 光拡散性バリアフィルム | |
JP6164791B2 (ja) | 基材レス両面粘着シート用ポリエステルフィルム | |
JP5487556B2 (ja) | ガスバリア性シート及びその製造方法 | |
JP2012116184A (ja) | 積層ポリエステルフィルム、及びそれを用いた透明導電性フィルム | |
JP5562372B2 (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
JP2012137567A (ja) | 偏光板用離型ポリエステルフィルム | |
JP5487557B2 (ja) | 平坦化フィルム及びその製造方法 | |
JP4106911B2 (ja) | 積層体 | |
CN112601616A (zh) | 层叠体及其制造方法 | |
JP6051341B2 (ja) | ハードコートフィルム及びディスプレイ装置用光学フィルム | |
CN110637504A (zh) | 有机电致发光层叠体 | |
JP5015640B2 (ja) | 導電性フィルム | |
JP2006116829A (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP2005288286A (ja) | ハードコートフィルムの製造方法及びハードコートフィルム | |
TW202104337A (zh) | 用於柔版板安裝膠帶的黏著劑底漆 | |
JP3644198B2 (ja) | 表面保護フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130319 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140128 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5487557 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |