JP2000095785A - 高収率ヒドロシリル化方法 - Google Patents
高収率ヒドロシリル化方法Info
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- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 25
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 6
- -1 platinum vinylsiloxane Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- KLFRPGNCEJNEKU-FDGPNNRMSA-L (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;platinum(2+) Chemical compound [Pt+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O KLFRPGNCEJNEKU-FDGPNNRMSA-L 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 5
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical group CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000510 noble metal Chemical class 0.000 claims description 3
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical group CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 claims 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWUVJRULCWHUSA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentene Chemical compound CCCC(C)=C WWUVJRULCWHUSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000422980 Marietta Species 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical class CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-ene Chemical compound CCC(C)=C MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFJUOMJGSXRJJY-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-ene Chemical compound CC(C)=C.CC(C)=C GFJUOMJGSXRJJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNOAPAKAIIYKJW-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-ene 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical compound CC(C)=C.CC(C)=C.CC(=C)CC(C)(C)C NNOAPAKAIIYKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKXHXOTZMFCXSH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-ene Chemical group CC(C)(C)C=C PKXHXOTZMFCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYKZRKKEYSRDNF-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepentane Chemical compound CCC(=C)CC RYKZRKKEYSRDNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- BODAWKLCLUZBEZ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(phenyl)silicon Chemical compound CCO[Si](OCC)C1=CC=CC=C1 BODAWKLCLUZBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical class CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000006462 rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
えてアルキルアルコキシシラン類を製造するためのヒド
ロシリル化方法を提供する。 【解決手段】不飽和炭化水素とヒドロアルコキシシラン
とを、有効量のヒドロシリル化触媒および有効量の酸性
ヒドロシリル化促進剤を存在させて反応させることを含
むアルキルアルコキシシラン類を製造方法であって、過
半部分の不飽和炭化水素を、反応容器中の化学量論的に
過剰のヒドロアルコキシシランに加えるアルキルアルコ
キシシラン類の新規な製造方法。
Description
シリコン化合物のケイ素フラグメントおよび水素フラグ
メントの、不飽和部位、通常、炭素−炭素二重結合にお
ける付加は、大規模装置の工業的操業を含んで有機ケイ
素化学において周知である。多くの場合、ヒドロシリル
化は多くの副反応を伴い、汚染や廃液となる副生物をも
たらす。これらには、関係不飽和部位の副反応、例え
ば、還元反応、異性化反応、および重合反応、ならびに
不飽和反応物におけるその他の官能基の副反応、例え
ば、脱離反応、転移反応、異性化反応もしくは重合反
応、さらにヒドロシラン反応物の副反応、主に転移反応
および不均化反応等の副反応の双方を含む。
て、固定資本設備からの生産量の増加、廃物量および廃
物廃棄のコストの軽減、利益を増加させるか顧客価格の
減少のいずれかによるより良好な競争へのヒドロシリル
化製品の単位価格の減少または副生物除去工程を排除し
て処理工程を単純化することに関して、選択性、速度お
よび効率を改良することに対して経常的な経済的および
環境的必要性がある。
0年以上の間工業的に実施されてきたが、高い選択率、
迅速および効率の良い方法は最近になってやっと発見さ
れた(米国特許第5,559,264号明細書)。
り単純な種類の生成物、例えば、オレフィン性炭化水素
(一般に1−アルケン類)とヒドロアルコキシシラン類
(すなわち1個のケイ素結合水素原子、および少なくと
も1個のケイ素結合アルコキシ基を含有するシラン類)
との間のヒドロシリル化反応から誘導されるようなアル
キルアルコキシシラン類にも当てはまる。これは、アル
キルアルコキシシラン類がアルコール類とアルキルクロ
ロシラン類との反応により製造でき、アルキルクロロシ
ラン類はアルケン類のヒドロクロロシラン類を用いるヒ
ドロシリル化により製造されるので、特にそうである。
本来の輸送有害問題および中間体としてのより有害なヒ
ドロクロロシラン類と関連することなく、アルコール類
とケイ素金属から直接的に一定のヒドロアルコキシシラ
ン類を生成するための技術の入手性が原因となって可能
な程度までヒドロクロロシラン類から離れる産業界の広
い動きがある。
ン類とヒドロアルコキシシラン類との間のヒドロシリル
化反応により製造できることが知られているが、しかし
より初期の各方法は、一般に、低反応速度、選択性、ま
たは効率に関して1以上の欠点を有する。例えば、米国
特許第3,271,362号明細書に開示されている方法は、大
過剰の1−オクテンおよび周囲温度より低い温度で約1
5時間の反応時間を含む反応構成を使用してオクチルト
リエトキシシランを82%の収率で得ることを挙げてい
る。
るアルキルアルコキシシラン類の新規な製造方法を提供
する:
る一価の炭化水素基であり、当該炭化水素基は場合によ
り6〜10個の炭素原子からなる1個以上のアリール基
を含有し、R1は水素、1〜3個の炭素原子からなる一価
の炭化水素基、または6〜10個の炭素原子からなるア
リール基であり、R2は1〜3個の炭素原子からなる一価
の炭化水素基、または6〜10個の炭素原子からなるア
リール基であり、ここで、R、R1およびR2は反応物の分
子または各分子の混合物内で変動でき、xは1〜3の整
数である)。
不飽和炭化水素RR1C=CH2および少なくとも1個のヒドロ
アルコキシシランHSi(OR2)xR2 3-xの間の反応のために有
効な量のヒドロシリル化触媒および当該反応のために有
効な量の酸性ヒドロシリル化促進剤の存在下での反応を
含み、ここで、過半部分(majority:すなわち、少なく
とも50モル%)の不飽和炭化水素反応物が、温度、撹
拌、不活性雰囲気、および圧力について有効な反応条件
下で、反応器中に存在する過剰量のヒドロアルコキシシ
ラン反応物に加えられ、次いで、ストリッピング、蒸
留、中和、濾過、遠心分離、脱色またはそれらの組合せ
によるような生成物の精製をする。
ち、オレフィン性反応物のヒドロアルコキシシラン反応
物への添加が、その他の方法による反応物の組合せより
も、特に酸性ヒドロシリル化促進剤の必須な存在におい
て、最も高い選択性および速度、ならびに最も高い触媒
効率を与えることが見出された。
端オレフィン類すなわち1−アルケン類、例えば、プロ
ピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1
−ヘプテン、1−オクテン、1−オクタデセン等、なら
びに末端枝分かれしたオレフィン、例えば、イソブチレ
ン(2-メチルプロペン)、2-メチル-1-ブテン、2-メチル-
1-ペンテン、2-エチル-1-ブテン、t-ブチルエチレン(3,
3-ジメチル-1-ブテン)、ジイソブチレン(2,4,4-トリメ
チル-1-ペンテン)、スチレン、α-メチルスチレン等に
より例示できる。6〜12個の炭素原子からなる線状ま
たは枝分かれした末端オレフィンが好適であり、異性体
のオクテン類を含み、1−オクテンが最も好適である。
1−オクテンのような商業的に入手できる1−アルケン
類は不純物としてより少ない量のオクテン異性体および
6個や10個の炭素1−アルケンでさえ含んでいること
があり、生成物の混合物が得られることがあることが認
められている。概して、ヒドロアルコキシシランに対し
て等モルまたは僅かに過剰の炭化水素オレフィンを本発
明では使用し、主に、ヒドロアルコキシシランの消費を
確実にする。過剰は本発明の発明性に要求されない。し
かし、0.8〜1.5のオレフィン対ヒドロシランの比
を使用できる。
R2 3-x]は1個のケイ素結合水素原子および少なくとも1
個のケイ素結合アルコキシ基を含有する(xは1〜3の
整数である)。かかるヒドロアルコキシシラン類にはト
リメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチル
メトキシシラン、相当するエトキシシラン類、フェニル
ジエトキシシラン等がある。三個のアルコキシ基を含有
するヒドロアルコキシシラン類、例えば、トリメトキシ
シランやトリエトキシシランが好適であり、トリエトキ
シシランが最も好適である。ヒドロアルコキシシラン類
は、公知の方法を使用して有機ケイ素化合物の種々の製
造者により工業的に製造され、使用されている。それら
は、毒性および反応性を含む危険特性が原因で商業品と
して限られた用途しか有さず、主にそれらの製造場所に
おいて中間体として使用される。
のものであることができ、錯体、共有結合化合物、およ
び遷移金属または貴金属の塩類、ならびにそれらの溶液
を含む。貴金属触媒は、低濃度でより高い活性を有する
ために好適である。特に、例えば、クロロ白金酸(chlor
oplatinic acid)、アセチルアセトン酸白金(platinumac
etylacetonate)および白金−ビニルシロキサン錯体等の
ような白金を含有する触媒である。白金と1,3-ジビニル
-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンとの錯体を含む白
金触媒(種々の供給者から市販されているような)が最
も好適である。触媒濃度は、特定の触媒に依存して、合
わせた反応物の百万重量部当たり0.01〜1,000
部の範囲内であることができる。合わせた反応物の百万
部当たり0.5〜50部の範囲が白金触媒について好適
であり、合わせた反応物の百万部当たり1〜6部の範囲
が1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンと
白金との錯体について最も好適である。
ン酸であるRCO2H(Rは上で定義したとおりである)により
表される。カルボン酸タイプの酸性促進剤の選択はその
促進剤とヒドロシリル化生成物との相対揮発性により影
響され得る。より高い沸点の生成物について、より揮発
性の促進剤が好適であり、一方、より揮発性の生成物に
ついて、より高い沸点の促進剤が望ましい。本発明の好
適な生成物について、酢酸が最も好適な促進剤である。
有用な量は0.01〜2.0重量%(合わせた反応物の
重量を基準に)の範囲内であることができ、0.05〜
1.0重量%が好適であり、そして0.05〜0.5重
量%が最も好ましい。
は一緒に、いずれかのまたは双方の反応物と共に導入で
きる。最適な条件下では、触媒または促進剤の追加の添
加(再触媒または再促進)は必要でないが、最適な条件
が維持できない場合には任意である。反応が完了する
と、促進剤、例えば、酢酸をアルコール(メトキシシラ
ン類についてメタノール、エトキシシラン類についてエ
タノール等)を用いる生成物の希釈、および、例えば、
ストリッピングによるこのアルコールと酢酸の除去によ
り除くことができる。酢酸の最終痕跡量は、少量の重炭
酸ナトリウムまたは類似の塩基試薬を用いるような中
和、次いで濾過または遠心分離により、場合により濾過
助剤もしくは脱色用炭素を使用して除去できる。
して、大気圧未満から大気圧を超えるまでの範囲の圧力
下で行うことができ、大気圧または大気圧を僅かに超え
る圧力が好ましい。温度は、周囲温度から150℃まで
におよぶことができ、周囲温度から120℃までの範囲
が好適である。不飽和炭化水素の一部を、触媒を含むヒ
ドロアルコキシシランに、より低い温度で加えることが
でき、発熱反応が認められるまで熱をかけ、次いでオレ
フィンの残りを所望の反応温度に維持する添加速度を使
用して加える。
在使用中の広範囲の工業生産装置で実施できる。かかる
装置は、反応器に反応物を導入したり、撹拌、加熱およ
び冷却、不活性雰囲気(例えば、窒素またはアルゴン)
を維持したりするための手段、圧力またはコンデンサー
による反応器中に反応物を維持する手段、ならびにスト
リップ、蒸留、中和、濾過、遠心分離、脱色等によるよ
うな生成物の精製手段を備える必要がある。本方法は溶
媒の使用を必要としない。反応生成物はそれが形成する
と同時に溶媒として作用する。
その範囲を制限することを意図していない。実施例中で
は、略号g、ml、min、およびhrは、それぞれ、
グラム、ミリリットル、分、および時間を表す。温度は
摂氏で記載する。 (実施例1)クロロ白金酸触媒および酢酸促進剤を使用
する1−オクテンに付加されるトリエトキシシラン 熱電対、マグネチックスターラー、添加ロート、コンデ
ンサー、および窒素流バルブを備えた100mlの四つ
口標準テーパー付きジョイント丸底フラスコに25.9
gの1−オクテンおよび0.05重量%の酢酸(総反応
物装填基準)を入れた。添加ロートに43.0gのトリ
エトキシシランを入れた。クロロ白金酸6水和物溶液
(エタノール中10重量%、0.033ml)をフラス
コ中の1−オクテンに加え、118°に加熱し、ここで
トリエトキシシランの添加を始めた。22min後、反
応温度を110°に下げると、約40%のトリエトキシ
シランを添加した後の触媒が不活性になったことが示さ
れた。
た以外は上記の反応を繰り返し、86.4〜92.5°
の範囲内で45min内に反応を完了した。反応速度は
上記の実施に関して改良された。 (実施例2)白金アセチルアセトネート溶液の形態で等
モルの白金を使用した以外は実施例1を繰り返した。ト
リエトキシシランの添加を116.4〜122.5°の
範囲内で114min以内で完了した。反応速度は遅
く、加熱を必要とした。 (実施例3)クロロ白金酸溶液として等モルの白金をフ
ラスコ中の1−オクテンと添加ロート中のトリエトキシ
シランとの双方に加え酢酸を使用しなかった以外は実施
例1の第2反応を繰り返した。三回再触媒化された(総
白金量は実施例1の5倍)後113min内に添加を完
了した。反応速度は明らかに遅かった。 (実施例4)添加ロート中に1−オクテン/酢酸を入
れ、90〜97.5°で48minにわたってフラスコ
中のトリエトキシシラン/クロロ白金酸に加えた以外は
実施例1を繰り返した。反応は1−オクテンを加えてい
る間中発熱し、実施例1〜3よりも速い速度で進行し
た。 (実施例5)反応物の組合せ方式が実施例4、すなわ
ち、トリエトキシシラン・白金アセチルアセトネートに
加えられた1−オクテン/酢酸であった以外は実施例2
を繰り返した。添加は89.1〜97.4°で51mi
nを採用した。反応性は実施例4ほど高くなかった。1
18〜121°で繰り返すと、添加を40min内に完
了した。 (実施例6)白金濃度を2倍にして実施例4を繰り返し
た。添加に4時間以上かけ、酢酸で2回(0.05およ
び0.01重量%を添加)再促進をしなければならなか
った。 (実施例7)酢酸を1−オクテンおよびトリエトキシシ
ラン(総計0.23重量%)の双方に加えた以外は実施
例5を繰り返した。45min以内92.6〜100.
4°で添加を完了したが、一回再触媒処理(実施例5の
2倍量の白金)が必要だった。 (実施例8)白金の1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチ
ルジシロキサン錯体を等モル量の白金で使用した以外は
実施例7を繰り返した。37min以内91〜109°
で添加を完了し、再触媒処理は必要なかった。反応速度
は、上述の各実施例よりも速く、添加中発熱した。 (実施例9)白金触媒を含有する1−オクテン部分にト
リエトキシシランを加えた以外は実施例8を繰り返し
た。添加に94.7〜105.3°で111minが必
要であり、反応速度は実施例8よりも明らかに遅かっ
た。 (実施例10)1/3の白金触媒濃度で実施例8を繰り
返した。95〜109.5°で41min以内に添加を
完了した。 (実施例11)2/3の白金触媒濃度で実施例10を繰
り返した。93〜107.2°で30min以内に添加
を完了した。 (実施例12)2/3の白金触媒濃度(実施例8の約1
/7)で実施例11を繰り返した。93〜106.5°
で34min以内に添加を完了し、反応速度は実施例8
よりも顕著に遅くはなかった。 (実施例13)白金触媒の添加と加熱の前に少量部の1
−オクテン/酢酸を加えた以外は実施例10を繰り返し
た。最初の添加から明らかな発熱反応が認められた後に
99.6〜108.7°で37min以内に残りの添加
を完了した。 (実施例14)トリエトキシシランにも酢酸を添加した
以外は実施例4を繰り返した。90〜103.4°で2
9min以内に添加を完了し、次いで、1hr100°
に保持した。反応は実施例4よりも約5%ほど一層完全
だった。
最適反応条件についての定性的およびクロマト的比較を
目的とした小規模実験室スクリーニングだった。それら
は生成物を精製することなくガスクロマトグラフィーに
より分析した。 (実施例15)実施例12を繰り返したが、約8倍の大
きさの規模であり、反応器中に0.6gの酢酸を含有す
る218.8gのトリエトキシシラン、添加ロート中に
0.6gの酢酸を含有する182.1gの1−オクテン
(21%モル過剰)、実施例8の白金触媒0.06gを
使用し、添加ロートから約12mlの1−オクテンを反
応器に加えてから加熱した。加熱をし、残りの1−オク
テンを99.8〜100.9°で6hrにわたって加え
ると発熱を観察した。100°に50min維持した
後、粗成生物は9.0%1−オクテンおよび異性体、
1.8%のテトラエトキシシラン、84.7%のオクチ
ルトリエトキシシラン、ならびに3.9%のより高い沸
点化合物を含有した(トリエトキシシランは含有しなか
った)。粗生成物をエタノールで希釈し、真空ストリッ
ピング、重炭酸ナトリウムおよび濾過助剤を用いる処
理、さらに濾過に付し、0.5%のその他のオクチルト
リエトキシシラン異性体、96.2%のn−オクチルト
リエトキシシラン(これは少量の移動のための損失を校
正していないトリエトキシシランを基準にした)ならび
に3.2%のより高い沸点の化合物を得た。 (実施例16)1/2倍の白金触媒濃度を用いて実施例
15を二回繰り返した(約1部/百万重量部の合わせた
反応物)。添加時間は平均して6hrと20min(3
80min)で、1または2hr99〜112°に維持
し、粗生成物について本質的に同じ結果を得、平均して
9.2%1−オクテン/異性体、0.04%トリエトキ
シシラン、1.4%テトラエトキシシラン、85.7%
オクチルトリエトキシシラン類、および3.0%高沸点
化合物を含有した。 (実施例17)白金アセチルアセトネート溶液として供
給された30ppmの白金を使用した以外は実施例16
を繰り返した。発熱が認められ、添加時間は99〜10
0°で345minであり、100°で1hr保持し
た。分析の結果は本質的に実施例16と同一であった。
Claims (9)
- 【請求項1】 不飽和炭化水素とヒドロアルコキシシラ
ンとを、有効量のヒドロシリル化触媒および有効量の酸
性ヒドロシリル化促進剤を存在させて反応させることを
含むアルキルアルコキシシラン類の製造方法であって、
過半部分の不飽和炭化水素を、反応容器中の化学量論的
に過剰のヒドロアルコキシシランに加える当該アルキル
アルコキシシラン類の製造方法。 - 【請求項2】 アルキルアルコキシシランがRR1CHCH2Si
(OR2)xR2 3-xであり、不飽和炭化水素が線状または枝分
かれした末端オレフィンRR1C=CH2であり、そしてヒドロ
アルコキシシランがHSi(OR2)xR2 3-xであり、ここで、前
式中、Rが1〜16個の炭素原子を有する一価の炭化水
素基であり、当該炭化水素基は場合により6〜10個の
炭素原子を有する1個以上のアリール基を含有し、R1は
水素、1〜3個の炭素原子を有する一価の炭化水素基ま
たは6〜10個の炭素原子を有するアリール基であり、
R2は1〜3個の炭素原子を有する一価の炭化水素基また
は6〜10個の炭素原子を有するアリール基であり、
R、R1、およびR2は反応物分子内で変動でき、xは1〜3
の整数である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 不飽和炭化水素対ヒドロアルコキシシラ
ンのモル比が0.8〜1.5であり、ヒドロアルコキシ
シランに対する過半部分の不飽和炭化水素の添加が周囲
温度〜150℃の範囲内で大気圧またはその付近で行わ
れる、請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 ヒドロアルコキシシランをトリメトキシ
シラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシ
ラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、
およびジメチルエトキシシランからなる群から選択され
る請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 ヒドロシリル化触媒を遷移金属化合物お
よび貴金属化合物ならびにそれらの溶液からなる群から
選択し、反応物全体の百万重量部当たり0.01〜1,
000部の金属量で使用する請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】 酸性反応促進剤が式 RCOO2H(式中、Rは
1〜16個の炭素原子をからなる一価炭化水素基であ
り、当該炭化水素基は場合により6〜10個の炭素原子
からなる1個以上のアリール基を含有する)のカルボン
酸であり、合わせた反応物を基準に0.01〜2.0重
量%の量で使用する請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 ヒドロシリル化触媒がクロロ白金酸、ア
セチルアセトン酸白金、白金のビニルシロキサン錯体、
およびそれらの溶液からなる群から選択され、合わせた
反応物の百万重量部当たり白金0.5〜50重量部の量
で使用する請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 不飽和炭化水素が1−オクテンであり、
ヒドロアルコキシシランがトリエトキシシランであり、
アルキルアルコキシシランがn−オクチルトリエトキシ
シランであり、白金触媒が合わせた反応物の百万重量部
当たり白金1〜6重量部の量で使用する白金の1,3-ジビ
ニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体であり、
酸性促進剤が合わせた反応物の重量を基準に0.05〜
0.5重量%の量で使用する酢酸であり、反応を周囲温
度〜120℃で大気圧またはその付近で行う請求項1に
記載の方法。 - 【請求項9】 アルコールで希釈する、ストリッピング
する、蒸留する、中和する、脱色する、濾過する、また
は遠心分離することからなる群から選択される1以上の
工程によりアルキルアルコキシシラン生成物を精製する
ことをさらに含む請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/151,642 US6015920A (en) | 1998-09-11 | 1998-09-11 | Hydrosilation reaction process with recycle |
US09/151642 | 1998-09-11 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000095785A true JP2000095785A (ja) | 2000-04-04 |
JP2000095785A5 JP2000095785A5 (ja) | 2006-10-12 |
JP4897131B2 JP4897131B2 (ja) | 2012-03-14 |
Family
ID=22539636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25645699A Expired - Lifetime JP4897131B2 (ja) | 1998-09-11 | 1999-09-10 | 高収率ヒドロシリル化方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6015920A (ja) |
EP (1) | EP0985675B1 (ja) |
JP (1) | JP4897131B2 (ja) |
KR (1) | KR100651094B1 (ja) |
CN (1) | CN1109038C (ja) |
AT (1) | ATE311395T1 (ja) |
BR (1) | BR9904134A (ja) |
CY (1) | CY1106951T1 (ja) |
DE (1) | DE69928617T2 (ja) |
DK (1) | DK0985675T3 (ja) |
ES (1) | ES2251810T3 (ja) |
HK (1) | HK1027816A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000198791A (ja) * | 1998-12-11 | 2000-07-18 | Degussa Huels Ag | プロピルシランの製造法 |
JP2016191040A (ja) * | 2016-03-10 | 2016-11-10 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム用配合剤およびゴム組成物 |
JP2017008301A (ja) * | 2016-05-23 | 2017-01-12 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム用配合剤およびゴム組成物 |
JP2018145190A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | トリス[3−(アルコキシシリル)プロピル]イソシアヌレートの製造方法 |
JP2020007307A (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-16 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | アルキルアルコキシシランを製造する方法 |
JP2020063203A (ja) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素化合物の製造方法及びケイ素化合物 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001002681A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-09 | Dow Corning Asia Ltd | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した置換基を有するケイ素化合物の製造方法 |
US6166238A (en) * | 2000-01-12 | 2000-12-26 | Crompton Corporation | High purity organofunctional alkyldialkoxysilanes |
JP4488582B2 (ja) * | 2000-04-13 | 2010-06-23 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 連続的ヒドロシリル化反応方法、変性された液状有機珪素化合物の連続的製造方法および連続的ヒドロシリル化反応装置 |
US6809213B2 (en) * | 2000-05-05 | 2004-10-26 | General Electric Company | Preparation of secondary aminoisobutylalkoxysilanes |
US6946174B1 (en) * | 2000-10-12 | 2005-09-20 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Moisture curable balloon materials |
US6593436B2 (en) | 2000-11-29 | 2003-07-15 | Crompton Corporation | Continuous manufacture of silicone copolymers via static mixing plug flow reactors |
EP1368359B1 (en) | 2001-03-02 | 2004-09-22 | General Electric Company | Continuous transesterification process for alkoxyorganosilicon compounds |
US6897280B2 (en) * | 2002-09-23 | 2005-05-24 | General Electric Company | Continuous manufacture of silicone copolymers via multi-stage blade-mixed plug flow tubular reactor |
ATE258179T1 (de) * | 2002-09-26 | 2004-02-15 | Goldschmidt Ag Th | Neue siloxanverbindungen und deren verwendung als homogenisierungsmittel in trennmitteln mit mattierungseffekt zur herstellung von formkörpern aus kunststoffen mit mattierten oberflächen |
US6872845B2 (en) * | 2003-03-03 | 2005-03-29 | General Electric Company | Process for making haloorganoalkoxysilanes |
KR101133865B1 (ko) | 2004-05-20 | 2012-04-06 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 할로유기알콕시실란의 제조 방법 |
DE102005029169A1 (de) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Wacker Chemie Ag | Kontinuierliche polymeranaloge Umsetzung von reaktiven Silanmonomeren mit funktionalisierten Polymeren |
US7259220B1 (en) * | 2006-07-13 | 2007-08-21 | General Electric Company | Selective hydrosilylation method |
US20080033136A1 (en) * | 2006-07-13 | 2008-02-07 | Rinard Chauncey J | Selective hydrosilylation conditions |
DE102007007185A1 (de) | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Glycidyloxyalkyltrialkoxysilanen |
DE102008002552A1 (de) * | 2008-06-20 | 2009-12-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Hydrosilylierung |
US8715388B2 (en) | 2011-04-29 | 2014-05-06 | Momentive Performance Materials | Process of precious metal recovery and color removal from an organosilicon product-containing liquid reaction medium |
US9556208B2 (en) | 2012-10-12 | 2017-01-31 | Momentive Performance Materials Inc. | Hydrosilylation synthesis of haloalkylorganosilanes using peroxide promoters |
EP3441397B1 (de) * | 2017-08-09 | 2019-10-09 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur herstellung von 3-glycidyloxypropyltrialkoxysilanen |
DK3473631T3 (da) | 2017-10-19 | 2020-03-30 | Evonik Operations Gmbh | Nye epoxy-funktionelle alkoxysilaner, fremgangsmåde til deres fremstilling og deres anvendelse |
CN113444121B (zh) * | 2021-06-08 | 2023-02-07 | 天津大学 | 一种脱除二甲基二氯硅烷中乙基二氯硅烷杂质的方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3271362A (en) * | 1966-02-07 | 1966-09-06 | Gen Electric | Process for reaction of silanic hydrogen with unsaturated organic compounds |
JPS6081189A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-05-09 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | アミノアルキルアルコキシシランの製造法 |
JPH07285972A (ja) * | 1994-02-24 | 1995-10-31 | Osi Specialties Inc | クロロオルガノシリコン化合物の製造方法 |
JPH08113579A (ja) * | 1994-09-24 | 1996-05-07 | Huels Ag | 3−アクリルオキシプロピルアルコキシシランの製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU415268A1 (ru) * | 1972-06-07 | 1974-02-15 | Способ получения аминоалкилалкоксисиланов | |
US5041595A (en) * | 1990-09-26 | 1991-08-20 | Union Carbide Chemicals And Plastics Technology Corporation | Method for manufacturing vinylalkoxysilanes |
CA2161181A1 (en) * | 1994-10-25 | 1996-04-26 | Frank Kropfgans | Process for the preparation of 3-halo- and -pseudohaloalkylsilane esters |
US5986124A (en) * | 1995-12-24 | 1999-11-16 | Dow Corning Asia, Ltd. | Method for making compounds containing hydrocarbonoxysilyi groups by hydrosilylation using hydrido (hydrocarbonoxy) silane compounds |
US5756795A (en) * | 1996-12-30 | 1998-05-26 | Dow Corning Corporation | Unsaturated accelerators for hydrosilation |
JP4540141B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2010-09-08 | ダウ コーニング コーポレーション | ヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物を用いたヒドロシリル化による{ハイドロカーボンオキシ}シリル基含有化合物の製造方法 |
JP4266400B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2009-05-20 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | ヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物を用いる選択的ヒドロシリル化方法 |
JP4392869B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2010-01-06 | ダウ コ−ニング コ−ポレ−ション | ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 |
EP2221310B1 (en) * | 1999-03-11 | 2014-09-03 | Momentive Performance Materials Inc. | Promoted hydrosilation reactions |
-
1998
- 1998-09-11 US US09/151,642 patent/US6015920A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-09-07 ES ES99117415T patent/ES2251810T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-07 DK DK99117415T patent/DK0985675T3/da active
- 1999-09-07 EP EP99117415A patent/EP0985675B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-07 DE DE69928617T patent/DE69928617T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-07 AT AT99117415T patent/ATE311395T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-09-10 JP JP25645699A patent/JP4897131B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-10 BR BR9904134-0A patent/BR9904134A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-09-10 KR KR1019990038498A patent/KR100651094B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-09-11 CN CN99122127A patent/CN1109038C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-11-10 HK HK00107195A patent/HK1027816A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-12-22 CY CY20051101582T patent/CY1106951T1/el unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3271362A (en) * | 1966-02-07 | 1966-09-06 | Gen Electric | Process for reaction of silanic hydrogen with unsaturated organic compounds |
JPS6081189A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-05-09 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | アミノアルキルアルコキシシランの製造法 |
JPH07285972A (ja) * | 1994-02-24 | 1995-10-31 | Osi Specialties Inc | クロロオルガノシリコン化合物の製造方法 |
JPH08113579A (ja) * | 1994-09-24 | 1996-05-07 | Huels Ag | 3−アクリルオキシプロピルアルコキシシランの製造方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000198791A (ja) * | 1998-12-11 | 2000-07-18 | Degussa Huels Ag | プロピルシランの製造法 |
JP4638568B2 (ja) * | 1998-12-11 | 2011-02-23 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | プロピルシランの製造法 |
JP2016191040A (ja) * | 2016-03-10 | 2016-11-10 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム用配合剤およびゴム組成物 |
WO2017154238A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム用配合剤およびゴム組成物 |
US11098182B2 (en) | 2016-03-10 | 2021-08-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organic silicon compound, and rubber compounding agent and rubber composition in which same is used |
JP2017008301A (ja) * | 2016-05-23 | 2017-01-12 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム用配合剤およびゴム組成物 |
WO2017203728A1 (ja) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム用配合剤およびゴム組成物 |
US10988493B2 (en) | 2016-05-23 | 2021-04-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organic silicon compound, and additive for rubber and rubber composition using same |
JP2018145190A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | トリス[3−(アルコキシシリル)プロピル]イソシアヌレートの製造方法 |
JP2020007307A (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-16 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | アルキルアルコキシシランを製造する方法 |
JP7280128B2 (ja) | 2018-07-03 | 2023-05-23 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | アルキルアルコキシシランを製造する方法 |
JP2020063203A (ja) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素化合物の製造方法及びケイ素化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6015920A (en) | 2000-01-18 |
KR100651094B1 (ko) | 2006-11-29 |
DE69928617T2 (de) | 2006-06-29 |
ATE311395T1 (de) | 2005-12-15 |
CY1106951T1 (el) | 2012-09-26 |
ES2251810T3 (es) | 2006-05-01 |
EP0985675B1 (en) | 2005-11-30 |
EP0985675A2 (en) | 2000-03-15 |
KR20000023040A (ko) | 2000-04-25 |
DE69928617D1 (de) | 2006-01-05 |
EP0985675A3 (en) | 2001-04-04 |
JP4897131B2 (ja) | 2012-03-14 |
DK0985675T3 (da) | 2006-04-03 |
CN1252405A (zh) | 2000-05-10 |
CN1109038C (zh) | 2003-05-21 |
BR9904134A (pt) | 2000-10-03 |
HK1027816A1 (en) | 2001-01-23 |
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