JP2000021014A - 収差補正方法及び収差補正装置 - Google Patents

収差補正方法及び収差補正装置

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JP2000021014A JP10200984A JP20098498A JP2000021014A JP 2000021014 A JP2000021014 A JP 2000021014A JP 10200984 A JP10200984 A JP 10200984A JP 20098498 A JP20098498 A JP 20098498A JP 2000021014 A JP2000021014 A JP 2000021014A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 収差要因の個別の収差を検出し、収差を補正
する。 【解決手段】 レーザ光は、対物レンズ６により集束さ
れて光磁気ディスク１に照射され、反射する。反射光は
位相ビームスプリッタ９でＰ波とＳ波とに分光され、Ｐ
波はプッシュプルトラッキング制御部９０に与えられ、
Ｓ波は収差補正部１０に与えられる。収差補正部１０は
光検出器１１，トラッキング制御部１２，厚み／フォー
カス制御部１３及びチルト制御部１４を備えている。光
検出器１１はＳ波を受光し、各制御部に与える制御信号
を演算して出力し、トラッキング制御部１２，厚み／フ
ォーカス制御部１３及びチルト制御部１４からは、各制
御信号が零となるように対物レンズ６を移動せしめる信
号が出力される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、集束したビーム光
を照射し、その反射光を利用して情報を記録，再生する
際に生じる収差を補正する方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】インターネットの発展，ディジタルカメ
ラ及びディジタルビデオの普及に伴い、コンピュータで
の映像情報処理が活発に行なわれ、これに従って大容量
の記憶装置が要望されている。光ディスクは大容量，可
換性，ランダムアクセスが可能であること等の特徴から
この用途に最適であり、ＤＶＤ（digital video disk）
をはじめとする大容量化への研究が進展している。
【０００３】一般に、光ディスクの大容量化のためには
集光スポットを小さくする必要がある。スポット径は
（λ／ＮＡ，λ：波長，ＮＡ：開口数）に比例するの
で、ＮＡを高めることによりスポット径は微細化され
る。しかしながら、ＮＡが高いほどチルトに起因する収
差、又は基板の厚さ誤差に起因する収差が大きくなると
いう問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】例えばＮＡが0.6 程度
の高ＮＡの対物レンズを使用したＤＶＤでは、基板のチ
ルトによる収差を小さくするために、0.6 ｍｍの厚みの
貼り合わせ基板を用いている。また磁界変調方式を用い
た次世代の光磁気ディスクにも同様に0.6 ｍｍの厚みの
単板を用いている。さらにＮＡを高くするためには基板
の厚みをさらに薄くすることが望ましいが、単板の場合
には基板の反りのためにチルトが大きくなる虞がある。
厚みが0.1mm 以下の基板を用いた光ディスクでは、基板
の磁性膜と反対の側に補強基板を貼り合わせる必要があ
る。この場合はチルトは低減されるが、補強基板の厚み
分だけ光ヘッドと磁性膜との間の距離が遠くなるので、
磁界変調記録が困難であるという問題があった。また、
厚みが0.1mm 以下の基板では、基板の厚みが異なること
により、従来の記録／再生装置との互換性がとり難いと
いう問題があった。
【０００５】このようにＮＡが高い場合には、チルト，
光ディスク毎の基板の厚み変動及びトラックに沿った方
向の基板の厚み変動により記録／再生時に受ける影響、
特に収差が大きくなり、集光が不完全になるという問題
があった。
【０００６】また、光ディスクの記録，再生時のチルト
を検出し、検出結果に応じて例えば対物レンズの傾きを
制御することにより、光ディスクのチルト補正が行なわ
れている。この補正方法は、情報の記録，再生とは無関
係な光ディスクの位置に照射された光の反射光を用いて
チルトを検出し、検出結果に応じて記録／再生用のレー
ザ光と光ディスクとの間の相対的チルトを補正するよう
になっている。これによりチルトが補正され、情報が正
確に記録／再生される。しかしながら、光ディスク上の
チルト検出の位置と記録／再生位置とにずれがあるため
に、情報の記録／再生位置のチルトが正確に検出されて
おらず、また、補正精度がチルト検出の光学系及び情報
の記録再生の光学系の組立て誤差に大きく影響されると
いう問題があった。
【０００７】さらに、光記録媒体のトラック幅方向のチ
ルト（以下、ラジアルチルトという）は比較的検出し易
いが、トラック幅方向に交わる方向のチルト、例えば光
ディスクのトラック接線方向のチルト（以下、タンジェ
ンシャルチルトという）は、ディスク一回転を周期とす
る交流成分がほとんどであるために、上述したチルト検
出方法では、検出位置と補正位置とが異なるので正確に
補正できないこと、応答速度が遅いために高速制御でき
ないことなどの問題があった。また、タンジェンシャル
チルトはラジアルチルトに比較して小さいので補正の必
要性は問われなかったが、光記録媒体の記録密度の向上
に伴い、タンジェンシャルチルトの補正が重要視されて
きた。
【０００８】タンジェンシャルチルトの補正を行なう装
置が、特開平６−162541号公報にて提案されている。こ
の装置は光ディスクの記録再生装置であり、光ディスク
の平坦な領域での反射光を光検出器により受光し、光検
出器が有する各分割領域の光強度によりチルトを検出す
る。光ディスクにレーザ光を集束する対物レンズには４
方にアクチュエータが取付けられており、フォーカス制
御、トラッキング制御及びチルト制御を行なう。４つの
アクチュエータはチルトの検出結果に応じて独立駆動
し、ラジアルチルト及びタンジェンシャルチルトを補正
するようになっている。この装置によりタンジェンシャ
ルチルトを高速制御により正確に補正可能であるが、光
ディスクの平坦な領域でチルトを検出するために、情報
の記録／再生と同時にチルト補正を行なうことができな
いという問題があった。
【０００９】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、基板の厚み変動，チルト，フォーカスエラー
及びトラッキングエラーの夫々に起因する収差を検出
し、検出結果に基づいて各別の補正を行ない、高精度に
情報の記録，再生を行なう収差補正方法及び収差補正装
置を提供することを目的とする。また、チルトに起因す
る収差の検出により、複雑な検出機構を用いることなく
チルトを補正でき、高ＮＡの対物レンズを用い、且つ、
基板を薄くしてもチルトを低減できる収差補正方法及び
収差補正装置を提供することを目的とする。
【００１０】さらに、収差の検出により光記録媒体の基
板の厚み変動に対する補正を行なうことができる収差補
正方法及び収差補正装置を提供することを目的とする。
さらにまた、収差の検出によりフォーカス制御及びトラ
ッキング制御を光検出器を兼用して行い、光学系の構成
部品の簡易化が図れる収差補正装置を提供することを目
的とする。
【００１１】さらにまた、収差の検出により光記録媒体
上の光ヘッドのシークの方向を検出して、正確なシーク
動作を行なう収差補正装置を提供することを目的とす
る。さらにまた、受光面を同一面内で略９０°回転させ
た光検出器を用いて、トラック幅方向に交わる方向のチ
ルトを検出する収差補正装置を提供することを目的とす
る。
【００１２】さらにまた、情報の記録／再生時に光記録
媒体に照射する光の反射光を用いてトラック幅方向及び
これに交わる方向のチルトを検出し、これを補正するこ
とにより、情報の記録／再生と同時にチルト補正が行な
える収差補正装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】第１発明に係る収差補正
方法は、光記録媒体に照射したビーム光の反射光を用い
て、情報の記録／再生時の収差を補正する方法であっ
て、複数の収差要因に起因して生じた収差を、前記反射
光の回折光による干渉領域での強度分布に基づいて、各
収差要因に対して検出する過程と、前記検出の結果に応
じて前記収差要因の夫々を補正することにより、情報の
記録／再生時の収差を補正する過程とを有することを特
徴とする。
【００１４】第１発明にあっては、光記録媒体に照射さ
れたビーム光の反射光は、回折光により、ビーム光を集
光する光学手段、例えば対物レンズ上にトラックの幅方
向の強度分布を有する干渉領域を有している。この強度
分布は、情報の記録，再生時に生じる収差の要因によっ
て固有の分布を示すことを発明者らは見出した。この強
度分布、即ち回折パターンが各収差要因に固有であるこ
とに着目し、収差要因夫々の収差の程度を検出する。こ
の検出信号を、各収差要因を補正するための制御信号と
して用い、制御信号の振幅が零となるようにビーム光の
照射位置及び基板に対するチルトを変更せしめることに
より、収差を補正するができる。
【００１５】第２発明に係る収差補正方法は、光記録媒
体に照射したビーム光の反射光を用いて、情報の記録／
再生時の収差を補正する方法であって、前記ビーム光と
前記光記録媒体との間の相対的なチルトに起因する収差
を、前記反射光の回折光による干渉領域での強度分布に
基づいて検出する過程と、前記検出の結果に応じてチル
トを補正することにより、情報の記録／再生時の収差を
補正する過程とを有することを特徴とする。
【００１６】第２発明にあっては、チルトに起因して生
じた収差に固有の回折パターンに基づいてチルトの収差
を検出する。この検出信号に基づいてチルトを補正でき
る。光記録／再生装置のサーボ系回路を用いてチルトを
補正できるので装置が小型化され、また、光記録媒体の
基板が厚い場合でもチルトを低減できる。
【００１７】第３発明に係る収差補正方法は、光記録媒
体に照射したビーム光の反射光を用いて、情報の記録／
再生時の収差を補正する方法であって、フォーカスエラ
ーに起因する収差を、前記反射光の回折光による干渉領
域での強度分布に基づいて検出する過程と、前記検出の
結果に応じてフォーカスエラーを補正することにより、
情報の記録／再生時の収差を補正する過程とを有するこ
とを特徴とする。
【００１８】第３発明にあっては、フォーカスエラーに
起因して生じた収差に固有の回折パターンに基づいてフ
ォーカスエラーの収差を検出する。この検出信号に基づ
いてフォーカスエラーを補正できる。トラッキングエラ
ー制御と同じ光検出器を用いてフォーカス制御ができる
ので、装置の小型化が図られる。
【００１９】第４発明に係る収差補正方法は、光記録媒
体に照射したビーム光の反射光を用いて、情報の記録／
再生時の収差を補正する方法であって、前記光記録媒体
が有する基板の厚み変動に起因する収差を、前記反射光
の回折光による干渉領域での強度分布に基づいて検出す
る過程と、基板の厚み変動に起因して生じた収差を、前
記検出の結果に応じてフォーカス調整を通じて補正する
ことにより、情報の記録／再生時の収差を補正する過程
とを有することを特徴とする。
【００２０】第４発明にあっては、基板の厚み変動に起
因して生じた収差に固有の回折パターンに基づいて厚み
変動の収差を検出する。この検出信号に基づいて基板の
厚み変動による収差を補正でき、厚み変動による影響を
なくすことができる。
【００２１】第５発明に係る収差補正方法は、第１発明
において、前記収差を検出する過程では、前記光記録媒
体と前記ビーム光との間の相対的なチルトの検出信号、
前記光記録媒体が有する基板の厚み変動及びフォーカス
エラーの検出信号、並びにトラッキングエラーの検出信
号が求められ、前記収差を補正する過程は、トラッキン
グエラーの補正に先立ち、前記ビーム光が前記光記録媒
体上で合焦すべく制御する擬似フォーカス制御過程と、
該擬似フォーカス制御過程での前記厚み変動及びフォー
カスエラーの検出信号の振幅の中間値を求める過程と、
前記トラッキングエラーの検出信号を用いてトラッキン
グエラーを補正する過程と、前記中間値を基準にして前
記厚み変動及びフォーカスエラーの検出信号を用いてフ
ォーカスエラーを補正する過程と、前記チルトの検出信
号を用いてチルトを補正する過程とを有することを特徴
とする。
【００２２】第５発明にあっては、チルト，基板の厚み
変動，フォーカスエラー及びトラッキングエラーの夫々
の収差を検出することによりこれらを補正して、情報の
記録，再生時の収差を補正できる。
【００２３】第６発明に係る収差補正方法は、第５発明
において、前記擬似フォーカス制御過程は、前記ビーム
光を集束する光学手段と前記光記録媒体との間隔を変化
させる過程と、該変化の期間に別経路にて得られるフォ
ーカス制御信号に基づいてフォーカス制御を行なう過程
とを有することを特徴とする。
【００２４】第６発明にあっては、トラッキングエラー
を補正する以前に、例えばフーコー法などにより検出さ
れたフォーカス制御信号に基づいて大まかにフォーカス
制御を行なうことにより、高精度なフォーカス制御を行
なう前段過程とする。
【００２５】第７発明に係る収差補正方法は、第５発明
において、前記擬似フォーカス制御過程は、前記ビーム
光を集束する光学手段と前記光記録媒体との間隔を変化
させる過程と、該変化の期間の前記トラッキングエラー
の検出信号のレベルと所定値との差分値が零になるよう
にフォーカス制御を行なう過程とを有することを特徴と
する。
【００２６】第７発明にあっては、トラッキングエラー
を補正する以前に、トラッキングエラーによる収差の検
出信号を用いて大まかにフォーカス制御を行なうことに
より、高精度なフォーカス制御を行なう前段過程とす
る。これにより、通常のフォーカス制御部が不必要とな
り、装置の小型化が図られる。
【００２７】第８発明に係る収差補正装置は、光記録媒
体に照射したビーム光の反射光を用いて、情報の記録／
再生時の収差を補正する装置であって、前記反射光の回
折光による干渉領域での強度分布に基づいて、複数の収
差要因に起因して生じた収差を各収差要因に対して検出
する少なくとも１つの光検出器と、夫々の検出結果に応
じて各収差要因を補正する補正部とを備えることを特徴
とする。
【００２８】第８発明にあっては、収差要因の夫々に固
有の強度分布に基づいて、各収差要因の収差の程度を光
検出器により検出する。この検出信号を、各収差要因を
補正するための制御信号として用い、制御信号の振幅が
零となるようにビーム光の照射位置及び基板に対するチ
ルトを変更せしめることにより、収差を補正することが
できる。
【００２９】第９発明に係る収差補正装置は、光記録媒
体に照射したビーム光の反射光を用いて、前記光記録媒
体のトラックに情報を記録／再生する際の収差を補正す
る装置であって、前記ビーム光を集束せしめる対物レン
ズと、該対物レンズを３次元的に移動せしめるアクチュ
エータと、前記反射光が入射され、複数の収差要因に起
因して生じた収差を検出し、各収差要因を補正する収差
補正部とを備え、該収差補正部は、入射された反射光が
前記トラックの幅方向に対応する方向に分けて受光さ
れ、夫々の受光強度を演算して各収差要因に対する収差
の検出信号を出力する少なくとも１つの光検出器と、前
記光記録媒体と前記ビーム光との間の相対的なチルトに
対する収差の第１検出信号が与えられ、これに基づいて
チルトを補正するチルト制御部、前記光記録媒体が有す
る基板の厚み変動及びフォーカスエラーに対する収差の
第２検出信号が与えられ、これに基づいて基板の厚み変
動及びフォーカスエラーを補正する厚み及びフォーカス
制御部、及びトラッキングエラーに対する収差の第３検
出信号が与えられ、これに基づいてトラッキングエラー
を補正するトラッキング制御部のうち少なくとも１つと
を備えることを特徴とする。
【００３０】第９発明にあっては、チルト，基板の厚み
変動，フォーカスエラー及びトラッキングエラーの少な
くとも１つを、検出された各収差に応じて補正すること
により、情報の記録，再生時の収差を補正することがで
きる。
【００３１】第１０発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記チルトは光記録媒体のトラック幅方向
に対して傾斜を有する第１方向チルトであり、前記光検
出器の少なくとも１つは、受光面の前記反射光のトラッ
ク幅方向の一側に第１の受光領域を、他側に第２の受光
領域を有し、前記第１の受光領域及び前記第２の受光領
域の夫々は内周側領域と外周側領域とに分割してあるこ
とを特徴とする。
【００３２】第１０発明にあっては、光検出器の受光面
の、反射光の干渉領域に対応する第１及び第２の受光領
域を内周側と外周側とに分割してあるので、トラック幅
方向に対して傾斜を有する第１方向チルト、即ちラジア
ルチルト起因の収差に固有の干渉パターンに基づいてお
り、ラジアルチルト検出が可能となる。
【００３３】第１１発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記第１方向チルトの第１検出信号ＲＴＬ
ＴＥＳは、ＲＴＬＴＥＳ＝（Ａ１＋Ａ２＋ｋ１（Ｂ３＋
Ｂ４））−ｋ２（（Ａ３＋Ａ４）＋ｋ１（Ｂ１＋Ｂ
２））で求められることを特徴とする。但し、（Ａ１＋
Ａ２）は前記第１の受光領域の外周側領域の光強度，
（Ａ３＋Ａ４）は前記第２の受光領域の外周側領域の光
強度，（Ｂ１＋Ｂ２）は前記第１の受光領域の内周側領
域の光強度，（Ｂ３＋Ｂ４）は前記第２の受光領域の内
周側領域の光強度，ｋ１，ｋ２は実数である。
【００３４】第１１発明にあっては、光検出器の受光面
を、ラジアルチルト起因の収差に固有の干渉パターンに
基づいて分割し、これら分割領域が受光した光強度を用
いてラジアルチルトによる収差の検出信号を求めてい
る。
【００３５】第１２発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記光検出器の少なくとも１つは、受光面
の前記反射光のトラック幅方向の一側に第１の受光領域
を、他側に第２の受光領域を有し、前記第１の受光領域
及び前記第２の受光領域の夫々は、前記受光面に対する
中央側領域と周縁側領域とに分割され、前記基板の厚み
変動及びフォーカスエラーの第２検出信号ＴＨＥＳは、 ＴＨＥＳ＝（Ａ１＋Ｂ１＋ｋ１（Ａ３＋Ｂ３））−ｋ２
（（Ａ２＋Ｂ２）＋ｋ１（Ａ４＋Ｂ４）） で求められることを特徴とする。但し、（Ａ１＋Ｂ１）
は前記第１の受光領域の前記受光面に対する周縁側領域
の光強度，（Ａ３＋Ｂ３）は前記第２の受光領域の前記
受光面に対する周縁側領域の光強度，（Ａ２＋Ｂ２）は
前記第１の受光領域の前記受光面に対する中央側領域の
光強度，（Ａ４＋Ｂ４）は前記第２の受光領域の前記受
光面に対する中央側領域の光強度，ｋ１，ｋ２は実数で
ある。
【００３６】第１２発明にあっては、光検出器の受光面
を、基板の厚み変動及びフォーカスエラーに起因する収
差に固有の干渉パターンに基づいて分割してあるので、
厚み変動及びフォーカスエラーによる収差の検出信号を
求めることができる。
【００３７】第１３発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記基板の厚み変動及びフォーカスエラー
の第２の検出信号と、前記トラッキングエラーの第３の
検出信号とが入力され、前記第３の検出信号が所定の変
化を示すとき、前記第２の検出信号が最大ピークを示す
か又は最小ピークを示すかにより前記光記録媒体上のビ
ーム光の移動方向を検出するビーム移動方向検出回路を
備えることを特徴とする。
【００３８】第１３発明にあっては、光記録媒体に情報
を記録，再生する際のシーク時に、ヘッド部の光記録媒
体に対する移動方向を検出できるので、トラックのカウ
ントミスがない。フォーカスエラーに起因する収差の検
出信号は、ランド上の走査とグルーブ上の走査とで逆極
性を示すので、同極性を示すトラッキングエラーの検出
信号と比較することにより、ビーム光の移動方向を検出
できる。
【００３９】第１４発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、少なくとも１つの光検出器は、入射された
反射光が前記トラック幅方向に交わる方向に分けて受光
され、前記チルトの第１の検出信号と前記トラッキング
エラーの第２の検出信号とを入力し、前記第２の検出信
号のレベルが零の時点の前記第１の検出信号のレベルに
基づいて前記トラック幅方向に交わる方向のチルトを検
出し、これを補正する第２のチルト制御回路を備えるこ
とを特徴とする。
【００４０】第１４発明にあっては、トラック幅方向に
交わる方向のチルトを検出できるので、トラックの幅方
向のチルトに加えて補正することにより、チルトをさら
に低減できる。チルトに起因する収差の強度分布は、ト
ラック幅方向に交わる方向のチルトには影響を受けない
ので、光検出器が、入射された反射光が前記トラック幅
方向に交わる方向に分けて受光されるように分割するこ
とにより、トラックに略平行な方向のチルトを検出でき
る。このとき装着される光記録媒体は、トラック幅方向
に長さを有するグルーブを有している。
【００４１】第１５発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記チルトは前記光記録媒体のトラック幅
方向に交わる方向に対して傾斜を有する第２方向チルト
であり、前記光検出器の少なくとも１つは、受光面の前
記反射光のトラック幅方向の一側に第１の受光領域を、
他側に第２の受光領域を有し、前記第１の受光領域及び
前記第２の受光領域の夫々は前記受光面に対する中央側
領域と周縁側領域とに分割され、分割された受光領域の
夫々は前記トラック幅方向に交わる方向に２分割してあ
ることを特徴とする。
【００４２】第１５発明にあっては、反射光の干渉領域
に対応する第１及び第２の受光領域を受光面の中央側と
周縁側とに分割し、この分割領域を前記トラック幅方向
に交わる方向にさらに分割してあるので、トラック幅方
向に交わる方向に対して傾斜を有する第２方向チルト、
即ちタンジェンシャルチルト起因の収差に固有の干渉パ
ターンに基づいており、タンジェンシャルチルト検出が
可能となる。例えば、第１及び第２の受光領域が略楕円
形状の場合に、略楕円形状の中央で交差し、トラック幅
方向及びこれに直交する方向の十字形の分割線を形成す
ることにより、タンジェンシャルチルトの検出が可能と
なる。
【００４３】第１６発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記第２方向チルトの第１検出信号ＴＴＬ
ＴＥＳは、 ＴＴＬＴＥＳ＝（Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２ｂ＋ｋ
１（Ａ３ａ＋Ｂ３ａ＋Ａ４ｂ＋Ｂ４ｂ））−ｋ２（（Ａ
２ａ＋Ｂ２ａ＋Ａ１ｂ＋Ｂ１ｂ）＋ｋ１（Ａ４ａ＋Ｂ４
ａ＋Ａ３ｂ＋Ｂ３ｂ）） で求められることを特徴とする。但し、（Ａ１ａ＋Ｂ１
ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２ｂ）は、前記第１の受光領域の対角位
置に分割された領域の光強度の和、（Ａ２ａ＋Ｂ２ａ＋
Ａ１ｂ＋Ｂ１ｂ）は、前記第１の受光領域の残り領域の
光強度の和、（Ａ３ａ＋Ｂ３ａ＋Ａ４ｂ＋Ｂ４ｂ）は、
前記第２の受光領域の（Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２
ｂ）と前記トラック幅方向に線対称な領域の光強度の
和、（Ａ４ａ＋Ｂ４ａ＋Ａ３ｂ＋Ｂ３ｂ）は、前記第２
の受光領域の残り領域の光強度の和，ｋ１，ｋ２は実数
である。
【００４４】第１６発明にあっては、光検出器の受光面
を、タンジェンシャルチルト起因の収差に固有の干渉パ
ターンに基づいて分割し、これら分割領域が受光した光
強度を用いてタンジェンシャルチルトによる収差の検出
信号を求めている。
【００４５】第１７発明に係る収差補正装置は、第１５
又は１６発明において、前記第１の受光領域及び前記第
２の受光領域の夫々は、さらに内周側領域及び外周側領
域に分割され、前記第１方向チルト及び前記第２方向チ
ルトの両チルトを検出すべくなしてあることを特徴とす
る。
【００４６】第１７発明にあっては、１つの光検出器で
ラジアルチルトとタンジェンシャルチルトとの両方のチ
ルトを検出することができる。
【００４７】第１８発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記対物レンズは光軸を合わせて配した第
１及び第２のレンズを備え、前記アクチュエータは、前
記フォーカスエラー及びトラッキングエラーを補正すべ
く前記第１のレンズを３次元的に移動せしめる第１のア
クチュエータと、前記チルトエラーを補正すべく、前記
光記録媒体のトラック幅方向及び該幅方向に交わる方向
に対して夫々独立的に前記第２のレンズを傾斜せしめる
第２のアクチュエータとを備えることを特徴とする。
【００４８】第１８発明にあっては、第２のアクチュエ
ータは、ラジアルチルトとタンジェンシャルチルトとを
補正すべく各別に駆動可能である。また、第２のレンズ
はチルトのみを補正するので、第２のレンズの傾斜制御
はアクチュエータの僅かな移動で行なえる。
【００４９】第１９発明に係る収差補正装置は、第９又
は１８発明において、前記対物レンズは前記記録媒体と
の対面側に、前記記録媒体との間隔を所定距離以上に保
つ接触防止盤を取付けてあることを特徴とする。
【００５０】第１９発明にあっては、対物レンズと光記
録媒体との異常接近時に、流動空気圧が接触防止盤に作
用し、対物レンズが所定距離以上に光記録媒体に接近し
ないので、接触が防止される。
【００５１】第２０発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記光検出器の少なくとも１つは、受光面
の前記反射光のトラック幅方向の一側に第１の受光領域
を、他側に第２の受光領域を有し、前記第１の受光領域
及び前記第２の受光領域の夫々は、前記反射光のトラッ
ク幅方向に線対称に少なくとも４分割してあることを特
徴とする。
【００５２】第２０発明にあっては、デフォーカスレベ
ルが大きくなると、干渉領域での強度ピークが増加する
ので、第１及び第２の受光領域をトラック幅方向にさら
に分割することにより、フォーカスエラー補正が可能な
デフォーカスフォーカス範囲が拡大される。
【００５３】第２１発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記光検出器は、受光面の前記反射光のト
ラック幅方向の一側に第１の受光領域を、他側に第２の
受光領域を有し、前記第１の受光領域及び前記第２の受
光領域の夫々は、前記トラック幅方向及び該幅方向に交
わる方向に夫々略平行に直線的に分割してあることを特
徴とする。
【００５４】第２１発明にあっては、略楕円形状を有す
る第１及び第２の受光領域の内部を直線的に分割するこ
とにより分割が容易となり、また、反射光のトラック幅
方向及び該幅方向に交わる方向に夫々略平行に分割する
ことにより、１つの光検出器でフォーカスエラー，トラ
ッキングエラー，基板の厚み変動，ラジアルチルト及び
タンジェンシャルチルトの全てを検出することができ
る。
【００５５】第２２発明に係る収差補正装置は、第９発
明において、前記光検出器は、受光面の前記反射光のト
ラック幅方向の一側に第１の受光領域を有する第１の光
検出部と、他側に第２の受光領域を有する第２の光検出
部とを備え、該第１及び第２の光検出部は互いに接離可
能に前記トラック幅方向に移動すべく構成してあること
を特徴とする。
【００５６】第２２発明にあっては、光記録媒体のトラ
ックピッチに応じて反射光の干渉領域の間隔が異なる
が、第１の受光領域と第２の受光領域とを夫々有する光
検出部が分離しているので、光検出部の移動により、第
１及び第２の受光領域を光記録媒体に合った間隔に調整
できる。
【００５７】
【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態を
示す図面に基づき具体的に説明する。 実施の形態１．図１は本発明の実施の形態１の光記録再
生装置の構成図であり、図２は図１の収差補正部及びア
クチュエータ駆動回路の構成図である。図１に示すよう
に、レーザ光源２から出射されたレーザ光は、強度分布
補正レンズを備えたコリメータレンズ３を通り、平行光
になって第１のビームスプリッタ４に入射する。コリメ
ータレンズ３が備える強度分布補正レンズは、レーザ光
の強度分布をガウス分布から平坦な分布に変換するレン
ズであり、これにより後述する反射光の干渉領域の感度
を高めることができる。コリメータレンズ３及び強度分
布補正レンズは本発明に必須の構成要素ではない。
【００５８】第１のビームスプリッタ４からのビーム光
は対物レンズ６により集束されて光磁気ディスク１に照
射され、反射する。対物レンズ６はアクチュエータ５に
支持されており、アクチュエータ５は、対物レンズ６と
光磁気ディスク１との距離及びチルトを調整する第１及
び第２のフォーカスアクチュエータ５０ａ，５０ｂと、
光磁気ディスク１に対する対物レンズ６の位置を調整す
るトラッキングアクチュエータ５０ｃとを備えている。
第１及び第２のフォーカスアクチュエータ５０ａ，５０
ｂはチルト補正のために各別の調整が可能になってい
る。光磁気ディスク１はランド／グルーブ記録が可能な
トラックが形成されている。
【００５９】光磁気ディスク１での反射光は対物レンズ
６により集光され、再び第１のビームスプリッタ４に入
射されて屈折し、第２のビームスプリッタ７に入射され
る。第２のビームスプリッタ７では、フォーカス制御の
ための光と収差検出のための光とに分割され、一方は波
長板８を通り、他方はフォーカス制御部７０に与えられ
る。波長板８を通った光は偏向角を４５°回転させて位
相ビームスプリッタ９を通る。位相ビームスプリッタ９
ではＰ波とＳ波とに分光され、Ｐ波はプッシュプルトラ
ッキング制御部９０に与えられ、Ｓ波は本発明の特徴と
なる収差補正部１０に与えられる。
【００６０】収差補正部１０は光検出器１１，トラッキ
ング制御部１２，厚み／フォーカス制御部１３及びチル
ト制御部１４を備えている。光検出器１１はＳ波を受光
し、各制御部に与える制御信号、即ち収差の検出信号を
演算して出力する。トラッキング制御部１２，厚み／フ
ォーカス制御部１３及びチルト制御部１４からは、各制
御信号が零となるように対物レンズ６を移動せしめる信
号が出力され、アクチュエータ駆動回路１５に入力され
る。アクチュエータ駆動回路１５は、与えられた信号に
応じてアクチュエータ５を作動させるようになってい
る。また、光検出器１１は再生信号ＭＯを演算する演算
回路に信号を出力する。
【００６１】第２のビームスプリッタ７で分光された他
方の光はフォーカス制御部７０に与えられる。フォーカ
ス制御部７０は光検出器（図示せず）を備えており、第
２のビームスプリッタ７からの光を受光してフォーカス
エラー信号（ＦＥＳ）を出力する。フォーカスエラー信
号は通常の方法、例えばフーコー法により生成される。
【００６２】また、位相ビームスプリッタ９で分光され
たＰ波は、プッシュプルトラッキング制御部９０に与え
られ、例えばＤＶＤのトラッキング用信号が生成されて
演算回路２０に出力される。演算回路２０には、前記プ
ッシュプルトラッキング制御部９０からと前記光検出器
１１からの出力信号が与えられる。即ち、位相ビームス
プリッタ９で分光されたＳ波及びＰ波が収差補正部１０
及びプッシュプルトラッキング制御部９０を介して演算
回路２０に与えられ、再生信号が演算されるようになっ
ている。
【００６３】上述したように収差補正部１０は光検出器
１１を備えており、位相ビームスプリッタ９からのＳ波
を受光する。光検出器１１は、図２に示すように、受光
面に受光領域Ａ１〜Ａ４及び受光領域Ｂ１〜Ｂ４が形成
されており、各受光領域の光強度を演算することによ
り、後述するトラッキングエラー信号（ＴＥＳ），厚み
／フォーカスエラー信号（ＴＨＥＳ）及びチルトエラー
信号（ＴＬＴＥＳ）を生成する。以下に各制御信号を求
める演算式について説明する。なお、ここでＡ１〜Ａ
４，Ｂ１〜Ｂ４は対応する受光領域で検出される光強度
を示す。なお、本構成は一例であり、収差検出部は反射
光路のいずれの岐路にあっても構わない。
【００６４】図３〜図５は反射光の回折パターンを示す
模式的斜視図であり、シュミレーションにより計算して
３次元図示したものである。図６〜図８は収差によるレ
ンズ径方向の回折パターンと光検出器の分割領域を示す
図である。対物レンズ６の外側にも１次回折光は存在す
るが、光検出器１１に到達しないのでこれを省略して示
している。図３はチルトによるコマ収差が生じた場合の
回折パターンを無収差の場合と比較して示している。図
６（ａ）は光磁気ディスクにレーザ光が照射された際の
トラック幅方向の断面図であり、図６（ｂ）はチルトに
よる回折パターンをトラック幅方向の光強度の変化で表
したグラフであり、図６（ｃ）はＴＬＴＥＳを生成する
ための光検出器１１の分割領域を示す平面図である。
【００６５】図６（ａ）に示すように、反射光は照射時
と同角度で反射する０次光Ｄ0 と、トラックの両側に角
度を広げて（角度θ）反射する１次光Ｄ1 ，Ｄ1 とに分
かれ、対物レンズ６で集光される。このとき対物レンズ
６には、０次光Ｄ0 と１次光Ｄ1 ，Ｄ1 とが重なった領
域に第１，第２の干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 が形成される。無
収差の場合には干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 は、図３に示すよう
に略円柱形状の回折パターンを示すが、チルトによるコ
マ収差が生じた場合は、干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 は同心円状
に強度が変化しており、中央側が高強度の領域と中央側
が低強度の領域とを形成する。この回折パターンは、デ
ィスクの凹凸によって生じるのでタンジェンシャルチル
トには影響を受けず、ラジアルチルトによって生じる。
トラック幅方向の正負チルトにより、２つ干渉領域
Ｉ1 ，Ｉ2 の形状は入れ替わる（図６（ｂ）に示す実線
と一点鎖線）。
【００６６】このような干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 の回折パタ
ーンは、収差の要因により固有の強度変化パターンとし
て表れる。従って、この回折パターンに対応して光検出
器１１の受光領域の光強度を演算することにより、チル
トに起因する収差の程度、即ちチルトの程度を検出し、
ＴＬＴＥＳが生成される。図６（ｃ）に示すように、チ
ルトに起因する収差を検出するための光検出器１１は円
形状の受光面を有し、受光面には反射光のトラック幅方
向に対応する方向の一側に第１の受光領域１１ａを、他
側に第２の受光領域１１ｂを形成している。第１の受光
領域１１ａ及び前記第２の受光領域１１ｂの夫々は略楕
円形状を有しており、夫々は各受光領域の内周側領域と
外周側領域とに分割されている。互いの内周側領域及び
外周側領域は夫々略同面積に形成されている。この分割
形状はチルト起因の回折パターンに対応している。
【００６７】このように分割された光検出器１１によ
り、ＴＬＴＥＳは、 ＴＬＴＥＳ＝（Ａ１＋Ａ２＋ｋ１（Ｂ３＋Ｂ４））−ｋ
２（（Ａ３＋Ａ４）＋ｋ１（Ｂ１＋Ｂ２）） で演算される。但し、Ａ１＋Ａ２は第１の受光領域１１
ａの外周側領域で受光された光強度であり、Ｂ１＋Ｂ２
はその内周側領域の光強度である。また、Ａ３＋Ａ４は
第２の受光領域１１ｂの外周側領域で受光された光強度
であり、Ｂ３＋Ｂ４はその内周側領域の光強度である。
また、ｋ１，ｋ２は光検出器及び増幅器等のゲインに基
づく値であり、実数である。
【００６８】次に、基板厚み及びデフォーカスに起因す
る収差を補正するためのＴＨＥＳを生成する演算式につ
いて説明する。図４は基板の厚み変動による球面収差が
生じた場合の回折パターンを、図５はデフォーカスによ
る球面収差が生じた場合の回折パターンを無収差と比較
して示している。図７（ａ）は光磁気ディスクにレーザ
光が照射された際のトラック幅方向の断面図であり、図
７（ｂ）は基板厚み変動及びデフォーカスによる回折パ
ターンをトラック幅方向の光強度の変化で表したグラフ
であり、図７（ｃ）はＴＨＥＳを生成するための光検出
器１１の分割領域を示す平面図である。
【００６９】図４，図５及び図７（ｂ）に示すように、
基板の厚み変動／デフォーカスによる球面収差が生じた
場合は、干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 はトラック幅方向に大きく
強度が変化する。図４に示すように、基板厚みの薄側へ
の変化には照射スポットのトラック幅方向の内寄りの領
域で高強度であり、厚側への変化には照射スポットのト
ラック幅方向の外寄りの領域で高強度である。また図５
に示すように、デフォーカスで近すぎる場合は照射スポ
ットの内寄りの領域で高強度であり、遠すぎる場合は照
射スポットの外寄りの領域で高強度である。図７（ｂ）
では、内寄りの領域が高強度である干渉パターンを一点
鎖線で示し、外寄りの領域で高強度である干渉パターン
については、厚み変化に起因するものは実線で、デフォ
ーカスに起因するものは鎖線で示している。
【００７０】このような干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 の回折パタ
ーンは、収差の要因により固有の強度変化パターンとし
て表れる。従って、この回折パターンに対応して光検出
器１１の受光領域での光強度を演算することにより、厚
み変動及びデフォーカスに起因する収差の程度を検出
し、ＴＨＥＳが生成される。図７（ｃ）に示すように、
厚み変動及びデフォーカスに起因する収差を検出するた
めの光検出器１１は円形状の受光面を有し、受光面には
反射光のトラック幅方向に対応する方向の一側に第１の
受光領域１１ａを、他側に第２の受光領域１１ｂを形成
している。第１の受光領域１１ａ及び前記第２の受光領
域１１ｂの夫々は略楕円形状を有しており、夫々は受光
面のトラック幅方向に対応する方向の中央側領域と周縁
側領域とに分割されている。中央側領域及び周縁側領域
は夫々略同面積に形成されている。この分割形状は厚み
／デフォーカス起因の回折パターンに対応している。
【００７１】このように分割された光検出器１１によ
り、ＴＨＥＳは、 ＴＨＥＳ＝（Ａ１＋Ｂ１＋ｋ１（Ａ３＋Ｂ３））−ｋ２
（Ａ２＋Ｂ２＋ｋ１（Ａ４＋Ｂ４）） で演算される。但し、Ａ１＋Ｂ１は第１の受光領域１１
ａの周縁側領域で受光された光強度であり、Ａ２＋Ｂ２
はその中央側領域の光強度である。また、Ａ３＋Ｂ３は
第２の受光領域１１ｂの周縁側領域で受光された光強度
であり、Ａ４＋Ｂ４はその中央側領域の光強度である。
【００７２】次に、トラッキングエラーに起因する収差
を補正するためのＴＥＳを生成する演算式について説明
する。図８（ａ）は光磁気ディスクにレーザ光が照射さ
れた際のトラック幅方向の断面図であり、図８（ｂ）は
トラッキングエラーによる回折パターンをトラック幅方
向の光強度の変化で表したグラフであり、図８（ｃ）は
ＴＥＳを生成するための光検出器１１の分割領域を示す
平面図である。
【００７３】図８（ｂ）に示すように、トラッキングエ
ラーによる収差が生じた場合は、どちらかの干渉領域Ｉ
1 ，Ｉ2 に光強度が大きく偏る。トラックのどちら側に
トラッキングがずれるかにより、２つ干渉領域Ｉ1 ，Ｉ
2 の回折パターンは入れ替わる（図８（ｂ）に示す実線
と一点鎖線）。
【００７４】このような干渉領域Ｉ1 ．Ｉ2 の回折パタ
ーンは、収差の要因により固有の強度変化パターンとし
て表れる。従って、この回折パターンに対応して光検出
器１１の分割領域での光強度を演算することにより、ト
ラッキングエラーに起因する収差の程度が検出され、Ｔ
ＥＳが生成される。図８（ｃ）に示すように、トラッキ
ングエラーに起因する収差を検出するための光検出器１
１は円形状の受光面を有し、受光面には反射光のトラッ
ク幅方向に対応する方向の一側に第１の受光領域１１ａ
を、他側に第２の受光領域１１ｂを形成している。第１
の受光領域１１ａ及び前記第２の受光領域１１ｂの夫々
は略楕円形状を有している。この分割形状はトラッキン
グエラー起因の回折パターンに対応している。
【００７５】このように分割された光検出器１１によ
り、ＴＥＳは、 ＴＥＳ＝（Ａ１＋Ａ２＋ｋ（Ｂ１＋Ｂ２））−（Ａ３＋
Ａ４＋ｋ（Ｂ３＋Ｂ４）） で演算される。但し、Ａ１＋Ａ２＋Ｂ１＋Ｂ２は第１の
受光領域１１ａで受光された光強度であり、Ａ３＋Ａ４
＋Ｂ３＋Ｂ４は第２の受光領域１１ｂで受光された光強
度である。
【００７６】このような光検出器１１の分割形状につい
て１例をあげて説明する。図９は光検出器の分割形状を
示す平面図である。光検出器１１の受光面中心を０とし
て２次元座標を設定した場合に、受光面の径寸法を半径
ａ１とする。第１の受光領域は１１ａ、（ｘ，ｙ）＝
（ａ１，０）の点に中心を有する半径ａ１の円弧と受光
面の円弧とで囲まれた領域である。第２の受光領域１１
ｂは、第１の受光領域１１ａとｙ軸対称に形成されてい
る。
【００７７】上述したようにチルト検出のために用いら
れる第１の受光領域１１ａの内周側領域は、中心が
（０，０）点で半径ａ２の円弧と中心が（ａ１，０）点
で半径ａ２の円弧とで囲まれた領域であり、外周側領域
は第１の受光領域１１ａ内の残りの領域である。この内
周側領域と外周側領域とを同面積に形成するためには、
ａ 2 ＝０．８３１×ａ1 に設定する。また、厚み変動及
びフォーカスエラー検出のために用いられる受光面の中
央側領域及び周縁側領域は、第１の受光領域１１ａをｘ
＝ｂの直線で分割した領域である。この中央側領域と周
縁側領域とを同面積に形成するためには、ｂ＝0.5 ×ａ
1 に設定する。なお、図９に示した分割形状は本発明の
一例であり、寸法及び形状はこれに限るものではなく、
ディスク径に対応する方向の回折パターンに応じて受光
面の光強度が演算できるように分割してあれば良い。
【００７８】以上の如く求められたＴＬＴＥＳはチルト
制御部１４に、ＴＨＥＳは厚み／フォーカス制御部１３
に、ＴＥＳはトラッキング制御部１２に与えられる。Ｔ
ＥＳは極性反転回路１２ａに入力され、ランド／グルー
ブ指示信号に応じて極性を反転させてトラッキング制御
回路１２ｂに出力する。トラッキング制御回路１２ｂは
ＴＥＳが零となるようにアクチュエータを制御する信号
を第１のスイッチング回路１２ｃを介してトラッキング
制御用駆動回路１５ａに入力し、対物レンズ６の位置を
移動すべくトラッキングアクチュエータ５０ｃを作動さ
せる。
【００７９】ＴＬＴＥＳは極性反転回路１４ａに入力さ
れ、ランド／グルーブ指示信号に応じて極性を反転させ
てチルト制御回路１４ｂに出力する。チルト制御回路１
４ｂは、ＴＬＴＥＳが零となるようにアクチュエータを
制御する信号を第２のスイッチング回路１４ｃを介して
加算器５１及び差分器５２に入力する。
【００８０】ＴＨＥＳは、その振幅の最大ピーク，最小
ピークを夫々保持する最大ピークホールド回路３１，最
小ピークホールド回路３２に入力され、ホールド指示信
号の入力タイミングに応じて最大ピーク及び最小ピーク
が保持され、中間値検出回路３３にて振幅の中間値が求
められて極性反転回路３４に入力される。極性反転回路
３４に入力された信号はランド／グルーブ指示信号に応
じて極性を反転され、第３のスイッチング回路３５の第
１の選択端子３５ａに与えられる。第３のスイッチング
回路３５の第２の選択端子３５ｂにはフォーカス制御部
７０からのＦＥＳが与えられている。第３のスイッチン
グ回路３５の共通端子は厚み／フォーカス制御回路３６
に接続されている。
【００８１】厚み／フォーカス制御回路３６は入力され
た信号が零となるようにアクチュエータを制御する信号
を第４のスイッチング回路３７の第１選択端子３７ｂに
与えている。第４のスイッチング回路３７の第２の選択
端子３７ｂは走査電圧発生回路４１からの電圧が与えら
れている。共通端子３７ｃは、前記加算器５１及び前記
差分器５２に信号を入力するようになっている。前記加
算器５１及び前記差分器５２からの出力信号は、フォー
カス／チルト制御用駆動回路１５ｂに入力され、対物レ
ンズ６の位置を移動すべく第１及び第２のフォーカスア
クチュエータ５０ａ，５０ｂを夫々作動させるようにな
っている。また、ＴＥＳ及びＴＨＥＳはシーク方向検出
回路４０に入力され、シーク方向を知らせる信号をトラ
ックカウンタ４１ａに入力して、シーク時のトラック数
をカウントする。
【００８２】なお、本実施の形態の制御回路は、本発明
に関連する回路を中心に示したものであり、例えばトラ
ックジャンプのような他の制御機能に関する回路は省略
して示している。
【００８３】以上の如き構成の光磁気記録再生装置で
は、光磁気ディスク１の記録時又は再生時に生じた収差
が何に因るものであるかを判別でき、収差補正部１０に
より要因ごとに収差を検出してこれを補正することがで
きる。以下に収差補正の方法を説明する。図１０は収差
を補正する手順を示すフローチャートである。まず、第
４のスイッチング回路３７が第２の選択端子３７ｂを選
択し、第３のスイッチング回路３５が第２の選択端子３
５ｂを選択して擬似フォーカス走査を行なう（ステップ
Ｓ１１）。第４のスイッチング回路３７により走査電圧
がフォーカス／チルト制御用駆動回路１５ｂに出力さ
れ、対物レンズ６を上下に移動させてＦＥＳ＝０（ステ
ップＳ１２）の瞬間にフォーカス制御をかける（ステッ
プＳ１３）。この擬似フォーカス制御とは、厚み変動に
よる球面収差を補正する以前にまず大まかにフォーカス
制御を行うことである。擬似フォーカス制御が終了した
後、スイッチング回路３７を第２の選択端子３７ｂから
第１の選択端子３７ａに切り換える。
【００８４】次に、トラッキング制御を行なっていない
状態でＴＨＥＳの振幅の最大ピークと最小ピークを保持
し、これらを加算して振幅の中点を検出し、これを保持
する（ステップＳ１４）。そして、ランド／グルーブに
応じて（ステップＳ１５）ＴＥＳの極性を反転し（ステ
ップＳ１６）、トラッキング制御回路１２ｂにてＴＥＳ
が零になるようにトラッキング制御を行ない（ステップ
Ｓ１７）、トラッキングアクチュエータ５０ｃが作動
し、トラッキングエラーを補正するように対物レンズ６
を移動せしめる。
【００８５】次に、ランド／グルーブに応じてＴＨＥＳ
の極性を反転し、厚み／フォーカス制御回路３６にてＴ
ＨＥＳが零になるようにフォーカス制御を行なう（ステ
ップＳ１８）。このとき、ステップＳ１２で検出された
中点を基準値としてフォーカス制御を行なう。これによ
り、厚み変動による球面収差が補正される。そして、ラ
ンド／グルーブに応じてＴＬＴＥＳの極性を反転し、チ
ルト制御回路１４ｂにてＴＬＴＥＳが零になるようにチ
ルト制御を行なう（ステップＳ１９）。
【００８６】第４のスイッチング回路３７は第１の選択
端子３７ａにすでに切り換えられており、厚み／フォー
カス制御回路３６からの出力信号と、チルト制御回路１
４ｂからの出力信号とが加算器５１及び差分器５２に入
力され、フォーカスアクチュエータ５０ａ，５０ｂが作
動してデフォーカス，基板厚み変動及びチルトを補正す
るように対物レンズ６を移動せしめる。
【００８７】なお、チルト補正のために本実施の形態で
は対物レンズ６の傾きを変える場合を説明しているが、
これに限るものではなく、光学系全体の傾きを変えるよ
うに構成してあっても良い。
【００８８】このように、収差を検出した結果に応じて
その収差の要因を夫々制御することにより収差を補正す
るので、高精度に再生結果を得ることができる。また、
複雑な検出機構を用いることなくチルトを補正でき、高
ＮＡの対物レンズを用い、且つ、厚い基板を用いた場合
でもチルトを小さくすることができる。また情報の記録
／再生時に光磁気ディスクに照射するレーザ光の反射光
を用いてラジアルチルト及びタンジェンシャルチルトを
検出するので、チルトのフィードバック制御が可能とな
り、且つ、情報の記録／再生と同時にチルト補正が行な
える。さらに、光記録媒体が有する基板の厚み変動に起
因する収差を補正することができる。
【００８９】図１１は、上述した実施の形態１でのＴＥ
Ｓの感度を示すグラフである。横軸はオフトラックを表
し、縦軸はＴＥＳの光量を全光量で割った値を表してお
り、シュミレーションによる計算値を用いている。グラ
フ中、‘○’は実施の形態１のＴＥＳを示し、‘△’は
加えてデフォーカスが生じた場合のＴＥＳを示し、
‘□’は加えてチルトが生じた場合のＴＥＳを示し、
‘×’は従来のＴＥＳを示している。グラフから明らか
なように、オフトラックが零の点でこれらのＴＥＳは零
を示している。これは、本実施の形態１でＴＥＳを零に
補正することにより、トラッキングエラーが補正されて
いることを示している。
【００９０】図１２は、上述した実施の形態１でのＴＬ
ＴＥＳの感度を示すグラフである。横軸はチルトを表
し、縦軸はＴＬＴＥＳの光量を全光量で割った値を表し
ており、シュミレーションによる計算値を用いている。
グラフ中、‘○’は実施の形態１のＴＬＴＥＳを示し、
‘△’は加えてデフォーカスが生じた場合のＴＬＴＥＳ
を示し、‘□’は加えて負側のオフトラック、‘×’は
加えて正側のオフトラックが生じた場合のＴＬＴＥＳを
示している。グラフから明らかなように、オフトラック
が生じている場合でもチルトが±２ｍｒａｄ以内の誤差
で、これらのＴＬＴＥＳは零を示している。これは、本
実施の形態１でＴＬＴＥＳを零に補正することにより、
チルトが精度良く補正されていることを示している。
【００９１】図１３は、上述した実施の形態１でのデフ
ォーカスによるＴＨＥＳの感度を示すグラフである。横
軸はデフォーカスを表し、縦軸はＴＨＥＳの光量を全光
量で割った値を表しており、シュミレーションによる計
算値を用いている。グラフ中、‘○’は実施の形態１の
ＴＨＥＳを示し、‘△’は加えてオフトラックが生じた
場合のＴＨＥＳを示し、‘□’は加えてチルトが生じた
場合のＴＨＥＳを示している。グラフから明らかなよう
に、デフォーカスの零点付近でこれらのＴＨＥＳは略零
を示している。これは、本実施の形態１でＴＨＥＳを零
に補正することにより、デフォーカスが補正されている
ことを示している。
【００９２】図１４は、上述した実施の形態１での厚み
変動によるＴＨＥＳの感度を示すグラフである。横軸は
厚み変動を表し、縦軸はＴＨＥＳの光量を全光量で割っ
た値を表しており、シュミレーションによる計算値を用
いている。グラフ中、‘○’は実施の形態１のＴＨＥＳ
を示し、‘△’は加えてオフトラックが生じた場合のＴ
ＨＥＳを示し、‘□’は加えてチルトが生じた場合のＴ
ＨＥＳを示している。グラフから明らかなように、厚み
変動が零の点でこれらのＴＨＥＳは略零を示している。
これは、本実施の形態１でＴＨＥＳを零に補正すること
により、厚み変動による収差が補正されていることを示
している。チルトは厚み変動に影響されないので、チル
ト補正を行なうことにより精度は向上する。
【００９３】図１５，図１６は、光検出器１１の他の分
割形状を示す平面図である。装着する光記録媒体のトラ
ックピッチ，レーザ光の波長，強度分布などの違いによ
り、干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 の範囲が異なる。干渉パターン
は収差の要因により固有のものであるが、干渉領域の範
囲が異なる場合にはこれに対応する受光領域を使用する
ことにより、高感度の制御信号を得ることができる。図
１５は受光面の中央部分を多く利用するものであり、干
渉領域Ｉ1 ，Ｉ2 が対物レンズ６の中央側に寄っている
場合に使用される。図１６は受光領域のトラック幅方向
の端側を多く利用するものであり、干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2
が端側に寄っている場合に使用される。
【００９４】また、図１７は光検出器１１のさらに他の
分割形状を示す平面図である。この受光領域はマトリク
ス状に分割されており、分割された単位領域１１ｃ，１
１ｃ…のうち、干渉パターンに対応する単位領域１１ｃ
の光強度を用いて各制御信号を演算する。これにより、
トラックピッチ、レーザ光の波長などにより干渉領域Ｉ
1 ，Ｉ2 の範囲が変更された場合でも、演算すべき単位
領域１１ｃ，１１ｃ…を容易に変更することができ、制
御信号を高感度に得ることができる。なお、分割領域及
び単位領域１１ｃの寸法及び形状はこれに限るものでは
なく、ディスク径に対応する方向の回折パターンに応じ
て受光面の光強度が演算できるように分割してあれば良
い。
【００９５】実施の形態２．図１８は、本発明の実施の
形態２の収差補正部及びアクチュエータ駆動回路の構成
図である。図１８に示すように、ＴＥＳは振幅検出回路
１２ｅに入力され、基準振幅指示値が差分回路１２ｄに
与えられ、ＴＥＳの振幅から減算されて第３のスイッチ
ング回路３５の第２の選択端子３５ｂに与えられるよう
になっている。その他の構成は図２に示す実施の形態１
と同様であり、対応する部分に対応する符号を付して説
明を省略する。実施の形態１では、フォーカス制御部７
０からのＦＥＳが第３のスイッチング回路３５の第２の
選択端子３５ｂに与えられ、切り換えにより厚み／フォ
ーカス制御回路３６に入力されるように構成してある
が、実施の形態２では、フォーカス制御部７０は備えて
おらず、第２の選択回路３５ｂにはＴＥＳと基準振幅値
との差分信号が与えられるようになっている。
【００９６】このような構成の光磁気記録再生装置を用
いて、記録又は再生時の収差を補正する手順を説明す
る。まず、第４のスイッチング回路３７が第２の選択端
子３７ｂを選択し、第３のスイッチング回路３５が第２
の選択端子３５ｂを選択して擬似フォーカス制御を行な
う。走査電圧発生回路４１から走査電圧がフォーカス／
チルト制御用駆動回路１５ｂに出力され、対物レンズ６
を上下に移動させる。このときＴＥＳの振幅と基準振幅
指示値との差分信号が厚み／フォーカス制御回路３６に
入力され、ＴＥＳが基準振幅指示値に一致した瞬間にフ
ォーカス制御をかける。
【００９７】擬似フォーカス制御の終了後、第３のスイ
ッチング回路３５を第２の選択端子３５ｂから第１の選
択端子３５ａに切り換える。次に、トラッキング制御を
行なっていない状態でＴＨＥＳの振幅の最大ピークと最
小ピークを加算して、振幅の中点を検出し、保持する。
【００９８】トラッキング制御回路１２ｂにてＴＥＳが
零になるようにトラッキング制御を行ない、トラッキン
グエラーを補正するように対物レンズ６を移動せしめ
る。次に、厚み／フォーカス制御回路３６にてＴＨＥＳ
が零になるようにフォーカス制御を行なう。このとき、
ステップＳ１２で検出された中点を基準値としてフォー
カス制御を行なう。これにより、厚み変動による球面収
差が補正される。そして、ランド／グルーブに応じてＴ
ＬＴＥＳの極性を反転し、チルト制御回路１４ｂにてＴ
ＬＴＥＳが零になるようにチルト制御を行なう。
【００９９】第４のスイッチング回路３７は第１の選択
端子３７ａに切り換えられており、厚み／フォーカス制
御回路３６からの出力信号、及びチルト制御回路１４ｂ
からの出力信号は加算器５１及び差分器５２に入力され
てフォーカスアクチュエータ５０ａ，５０ｂが作動し、
デフォーカス，基板厚み変動及びチルトを補正するよう
に対物レンズ６を移動せしめる。このように、実施の形
態２では擬似フォーカス制御するためにＴＥＳを用いて
おり、その他の手順は実施の形態１と同様である。
【０１００】以上の如く、実施の形態２の光磁気記録再
生装置は各収差要因を検出することにより収差を補正で
きるので、実施の形態１と同様の効果を奏し、さらに、
フォーカス制御部を備える必要がないので、第２のビー
ムスプリッタ７（図１参照）も必要なく、光学系の簡易
化を図ることができる。
【０１０１】実施の形態３．光ディスク又は光磁気ディ
スクは、トラックのシーク時に光ヘッドがトラックを越
えてトラック幅方向に移動する。光ヘッドは指示を受け
た方向に移動するが、ディスクの偏心のためにディスク
に対しては逆方向に移動している場合がある。このとき
のトラック数を順方向の移動時と同様にカウントした場
合には、正確なシーク動作が行なえない。これは、例え
ばランド／グルーブ記録方式のディスクでランドとグル
ーブとの幅寸法が同じである場合には、ランドとグルー
ブとで反射率の差及びＴＥＳの差がなく、逆方向の移動
が検出できないためである。
【０１０２】上述したように、デフォーカス，基板の厚
み変動などにより球面収差が生じた場合に、本発明に係
るＴＨＥＳはレーザ光の照射トラックがランドであるか
グルーブであるかでその極性が異なる（図７（ａ）の実
線及び一点鎖線参照）。この特徴を利用して、光ヘッド
のシーク時の移動方向を検出することができる。この方
向検出は、上述した図２又は図１８の光磁気記録再生装
置を用いて次のように行なうことができる。光磁気へッ
ドのシーク時に、アクチュエータの制御により故意にデ
フォーカス状態とし、光検出器１１によりＴＥＳとＴＨ
ＥＳとを演算し、シーク方向検出回路４０に出力する。
図１９は、シーク時の移動方向の検出を説明する出力波
形図である。
【０１０３】図１９に示すように、光ヘッドのシーク時
のＴＥＳとＴＨＥＳとは、順方向の移動時にはＴＥＳが
プラス変化途中の零点でＴＨＥＳは最大値を示し、逆方
向の移動時にはＴＨＥＳは最小値を示している。このよ
うに、ＴＨＳの零点に対するＴＨＥＳのピークを検出す
ることにより、光ヘッドのシーク方向を検出することが
できる。シーク方向検出回路４０はトラックのカウント
数をトラックカウンタ４１ａに与える。トラックカウン
タ４１ａはこれに応じてトラック数を加減算し、正確な
シーク動作を行なう。
【０１０４】このように、シーク方向を検出することが
できるので、ランドとグルーブとの幅寸法が同じである
光記録媒体のシーク動作を正確に行なうことができる。
【０１０５】実施の形態４．上述したチルト補正は、光
磁気ディスク１のラジアルチルトを補正する場合を説明
している。以下に、タンジェンシャルチルトを補正する
方法について説明する。図２０は、タンジェンシャルチ
ルトの検出を実現するための光磁気ディスクの一部破断
斜視図である。図２１は、チルト補正を行なう際のＴＥ
Ｓ及びＴＬＴＥＳの波形図であり、光磁気ディスクの平
面図と共に示している。図２０に示すように、光磁気デ
ィスク１００は基板１０１上に磁性膜１０２を積層して
おり、その表面にはディスクの略中央を中心にスパイラ
ル状にグルーブ１０３，１０３が形成されている。グル
ーブ１０３，１０３の間にはランド１０４，１０４が形
成されて、ランドとグルーブとは略同幅寸法を有してい
る。光磁気ディスク１００の所定位置にはランド１０４
が所定長さにわたって形成されておらず、この位置にタ
ンジェンシャルチルト検出用ランド１０５を長手方向が
ディスクの径方向となるべく形成してある。タンジェン
シャルチルト検出用ランド１０５の両側には、ディスク
の径方向のグルーブ１０６，１０６が形成されている。
【０１０６】以上の構造の光磁気ディスク１００を図２
又は図１８に示す光磁気記録再生装置に装着し、タンジ
ェンシャルチルト検出用ランド１０５を横切るようにト
ラック方向にビーム光を照射し、光検出器１１によりＴ
ＥＳ及びＴＬＴＥＳを検出する。このとき、光検出器１
１は、受光面を同一面内で９０°回転せしめた方向に配
してある。図２１（ａ）はＴＥＳの出力波形を示してい
る。図２１（ｂ）〜図２１（ｄ）はＴＬＴＥＳの出力波
形で、図２１（ｂ）はトラックの接線方向の一側方向に
チルトが生じている場合を示し、図２１（ｃ）はチルト
が生じていない場合を示し、図２１（ｄ）は接線方向の
他側方向にチルトが生じている場合を示している。ＴＥ
Ｓのサンプリング時点でのＴＬＴＥＳの振幅及び極性を
検出することにより、トラックのタンジェンシャルチル
トを検出することができる。
【０１０７】実施の形態５．実施の形態４では、光磁気
ディスクに特別な形状のグルーブ構造を形成することに
よりタンジェンシャルチルトを検出しているが、実施の
形態５では通常のグルーブ構造を有する光磁気ディスク
を用いてタンジェンシャルチルトを検出する方法を説明
する。まず、光磁気ディスクにラジアルチルト及びタン
ジェンシャルチルトが生じた場合に形成される反射光の
干渉領域の回折パターンを、ラジアルチルト及びタンジ
ェンシャルチルトの混合パターンを含めて示す。
【０１０８】図２２は、ラジアルチルトエラー及びタン
ジェンシャルチルトエラー起因の収差による反射光の回
折パターンを示す模式的斜視図であり、シュミレーショ
ンにより計算して３次元図示したものである。図中、中
央が無収差の回折パターンであり、横方向にラジアルチ
ルトが生じた場合を、縦方向にタンジェンシャルチルト
が生じた場合を示しており、斜め方向にはラジアルチル
ト及びタンジェンシャルチルトの双方が生じた場合を示
している。図から判るように、光記録媒体にタンジェン
シャルチルトが生じた場合は、反射光の０次光の中央か
ら４方向の位置に強度ピークが生じており、干渉領域に
おいてタンジェンシャルチルトの程度に応じた固有の強
度分布を示している。
【０１０９】図２３（ａ）及び図２３（ｂ）は、タンジ
ェンシャルチルトエラー信号（以下、ＴＴＬＴＥＳとい
う）を生成する光検出器の平面図、及びＴＴＬＴＥＳの
感度を示すグラフである。図２３（ａ）に示すように、
ＴＴＬＴＥＳに起因する収差を検出するための光検出器
１１１は円形状の受光面を有し、受光面には反射光のト
ラック幅方向に対応する方向の一側に第１の受光領域１
１ａを、他側に１１ｂを形成している。第１の受光領域
１１ａ及び前記第２の受光領域１１ｂは略楕円形状を有
しており、夫々は略楕円形状の中央で交差する十字形の
分割線により４分割されている。４分割された領域は略
同面積に形成されている。この分割形状は均等分割に限
らず、タンジェンシャルチルト起因の回折パターンに対
応して決定される。
【０１１０】このように分割された光検出器１１１によ
りＴＴＬＴＥＳは、 ＴＴＬＴＥＳ＝（Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２ｂ＋ｋ
１（Ａ３ａ＋Ｂ４ａ＋Ａ４ｂ＋Ｂ４ｂ））−ｋ２（Ａ２
ａ＋Ｂ２ａ＋Ａ１ｂ＋Ｂ１ｂ＋ｋ１（Ａ４ａ＋Ｂ３ａ＋
Ａ３ｂ＋Ｂ３ｂ）） で演算される。但し、（Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２
ｂ）は第１の受光領域１１ａの対角に位置する分割領域
で受光された光強度の和であり、（Ａ３ａ＋Ｂ３ａ＋Ａ
４ｂ＋Ｂ４ｂ）は第２の受光領域１１ｂの対角に位置す
る分割領域の光強度の和であり、これらの領域は反射光
のトラック幅方向に線対称に位置し、図中には白抜きで
示している。また、（Ａ２ａ＋Ｂ２ａ＋Ａ１ｂ＋Ｂ１
ｂ）は第１の受光領域１１ａの対角に位置する分割領域
の光強度の和であり、（Ａ４ａ＋Ｂ４ａ＋Ａ３ｂ＋Ｂ３
ｂ）は第２の受光領域１１ｂの対角に位置する分割領域
の光強度の和であり、これらの領域は反射光のトラック
幅方向に線対称に位置し、図中にはハッチングで示して
いる。
【０１１１】このような光検出器１１１を用いて得られ
るＴＴＬＴＥＳの感度を図２３（ｂ）に示している。図
２３（ｂ）のグラフは、横軸はタンジェンシャルチルト
を表し、縦軸はＴＴＬＴＥＳの光量を全光量で割った値
を表しており、これらはシュミレーションによる計算値
を用いている。グラフ中、‘○’はＴＴＬＴＥＳを示
し、‘△’はタンジェンシャルチルトに加えて正側のオ
フトラックが生じた場合、‘□’は加えて負側のオフト
ラックが生じた場合のＴＴＬＴＥＳを示し、‘▽’は加
えてデフォーカスが生じた場合のＴＴＬＴＥＳを示し、
‘×’は加えてラジアルチルトが生じた場合のＴＴＬＴ
ＥＳを示している。グラフから明らかなように、タンジ
ェンシャルチルトが零の点でこれらのＴＴＬＴＥＳは零
を示している。これは、ＴＴＬＴＥＳを零に補正するこ
とによりタンジェンシャルチルトが補正されることを示
しており、ラジアルチルトが共に生じた場合も同様のこ
とが言える。
【０１１２】なお、上述した光検出器１１１は、十字形
の分割線により第１及び第２の受光領域の夫々が分割さ
れた場合を説明しているが、これに限るものではなく、
受光領域の略中央から４方に位置すべく分割してあれ
ば、同様にＴＴＬＴＥＳを求めることができる。
【０１１３】また、図２４（ａ）及び図２４（ｂ）はラ
ジアルチルトエラー信号（以下、ＲＴＬＴＥＳという）
を生成する光検出器の平面図及びＲＴＬＴＥＳの感度を
示すグラフである。図２４（ａ）に示すように、ＲＴＬ
ＴＥＳに起因する収差を検出するための光検出器１１２
は円形状の受光面を有し、受光面には反射光のトラック
幅方向に対応する方向の一側に第１の受光領域１１ａ
を、他側に１１ｂを形成している。第１の受光領域１１
ａ及び前記第２の受光領域１１ｂは略楕円形状を有して
おり、夫々は内側領域と外側領域とに分割されている。
内側領域及び外側領域は夫々略同面積に形成されてい
る。この分割形状は均等分割に限らず、ラジアルチルト
起因の回折パターンに対応して決定される。
【０１１４】このように分割された光検出器１１２によ
りＲＴＬＴＥＳは、 ＲＴＬＴＥＳ＝（Ａ１ａ＋Ａ１ｂ＋Ａ２ａ＋Ａ２ｂ＋ｋ
１（Ｂ３ａ＋Ｂ３ｂ＋Ｂ４ａ＋Ｂ４ｂ））−ｋ２（Ａ３
ａ＋Ａ３ｂ＋Ａ４ｂ＋Ａ４ｂ＋ｋ１（Ｂ１ａ＋Ｂ１ｂ＋
Ｂ２ａ＋Ｂ２ｂ）） で演算される。但し、（Ａ１ａ＋Ａ１ｂ＋Ａ２ａ＋Ａ２
ｂ）は第１の受光領域１１ａの外周側に位置する分割領
域で受光された光強度の和であり、（Ｂ３ａ＋Ｂ３ｂ＋
Ｂ４ａ＋Ｂ４ｂ）は第２の受光領域１１ｂの内周側に位
置する分割領域の光強度の和であり、図中には白抜きで
示している。また、（Ａ３ａ＋Ａ３ｂ＋Ａ４ｂ＋Ａ４
ｂ）は第２の受光領域１１ｂの外周側に位置する分割領
域の光強度の和であり、（Ｂ１ａ＋Ｂ１ｂ＋Ｂ２ａ＋Ｂ
２ｂ）は第１の受光領域１１ａの内周側に位置する分割
領域の光強度の和であり、図中にはハッチングで示して
いる。
【０１１５】このような光検出器１１２を用いて得られ
るＲＴＬＴＥＳの感度を図２４（ｂ）に示している。図
２４（ｂ）のグラフは、横軸はラジアルチルトを表し、
縦軸はＲＴＬＴＥＳの光量を全光量で割った値を表して
おり、これらはシュミレーションによる計算値を用いて
いる。グラフ中、‘○’はＲＴＬＴＥＳを示し、‘△’
はラジアルチルトに加えて正側のオフトラックが生じた
場合、‘□’は加えて負側のオフトラックが生じた場合
のＲＴＬＴＥＳを示し、‘▽’は加えてデフォーカスが
生じた場合のＲＴＬＴＥＳを示し、‘×’は加えてタン
ジェンシャルチルトが生じた場合のＲＴＬＴＥＳを示し
ている。前述の図１２で説明した如く、オフトラックが
生じている場合にチルトが±２ｍｒａｄ以内の誤差でＲ
ＴＬＴＥＳは零であり、ＴＬＴＥＳを零に補正すること
によりラジアルチルトが精度良く補正されることが判
る。図２４ではさらに、タンジェンシャルチルトが生じ
た場合でもＲＴＬＴＥＳを零に補正することにより、ラ
ジアルチルトが補正されることが判る。
【０１１６】以上のことから、タンジェンシャルチルト
及びラジアルチルトの両チルトを検出し、各チルトを補
正することによりコマ収差を精度良く補正できる。以下
に両チルトを補正できる収差補正装置について説明す
る。図２５は本発明の収差補正装置に係る実施の形態５
の光記録再生装置の構成図である。レーザ光源から出射
されたレーザ光が光磁気ディスク１にて反射され、ビー
ムスプリッタ、波長板及び位相ビームスプリッタを通っ
て光検出器にて受光される光路は、前述した実施の形態
１の図１に示すものと同様であり、その説明は省略す
る。
【０１１７】図中１１３は光検出器である。本実施の形
態で用いられる光検出器１１３は、ラジアルチルト及び
タンジェンシャルチルトの両チルトの検出に併用できる
分割形状を有している。即ち、図２３及び図２４に示す
如く、第１及び第２の受光領域１１ａ，１１ｂの夫々は
外側領域と内側領域とに分割され、且つ、中央で交差す
る十字形の分割線を有している。このように分割された
各領域で受光された光強度Ａ１ａ〜Ａ４ａ，，Ａ１ｂ〜
Ａ４ｂ，Ｂ１ａ〜Ｂ４ａ，，Ｂ１ｂ〜Ｂ４ｂを用いて、
上述した如く演算することによりＲＴＬＴＥＳ及びＴＴ
ＬＴＥＳが夫々検出される。
【０１１８】検出されたＲＴＬＴＥＳ及びＴＴＬＴＥＳ
はチルト制御部１４に与えられる。チルト制御部１４
は、極性反転回路１４ａ，１４ｄ、ラジアルチルト制御
回路１４ｂ、及びタンジェンシャルチルト制御回路１４
ｅとを備えており、ＲＴＬＴＥＳは極性反転回路１４ａ
に入力され、ランド／グルーブ指示信号に応じて極性を
反転させてラジアルチルト制御回路１４ｂに出力され
る。また、ＴＴＬＴＥＳは極性反転回路１４ｄに入力さ
れ、ランド／グルーブ指示信号に応じて極性を反転させ
てタンジェンシャルチルト制御回路１４ｅに出力され
る。ラジアルチルト制御回路１４ｂ及びタンジェンシャ
ルチルト制御回路１４ｅは、夫々、ＲＴＬＴＥＳ及びＴ
ＴＬＴＥＳが零となるようにアクチュエータを制御する
信号を、第２のスイッチング回路１４ｃ，１４ｆを介し
てアクチュエータ駆動回路１５に出力する。
【０１１９】アクチュエータ駆動回路１５は、トラッキ
ング制御用駆動回路１５ａ、フォーカス制御用駆動回路
１５ｃ、ラジアルチルト制御用駆動回路１５ｄ及びタン
ジェンシャルチルト制御用駆動回路１５ｅを備えてい
る。これらの駆動回路は対物レンズに取り付けられたア
クチュエータに駆動信号を与える。本実施の形態の光記
録再生装置は、異なる径の２枚の対物レンズ６ａ，６ｂ
と、これらの対物レンズを各別に移動制御せしめるアク
チュエータ５０，５０ａ〜５０ｇとを備える２重レンズ
装置を用いている。図２６は２重レンズ装置の構造を示
す平面図及び断面図であり、光磁気ディスク１の中心を
通るトラック幅方向に沿う断面を示している。
【０１２０】図２６に示すように２重レンズ装置は、大
径の対物レンズ６ａの上方に、光軸を合わせて小径の対
物レンズ６ｂが所定間隔を有して配されている。大径の
対物レンズ６ａの周縁にはトラッキング／フォーカスア
クチュエータ５０が取付けられており、トラッキング／
フォーカスアクチュエータ５０は、トラッキング制御用
の信号が与えられて対物レンズ６ａを光磁気ディスク１
のトラック幅方向に移動せしめ、フォーカス制御用の信
号が与えられて対物レンズ６ａを光磁気ディスク１の接
離方向に平行移動せしめる。
【０１２１】小径の対物レンズ６ｂの周縁には４方位置
から突き出す態様に支持板５０ｄ〜５０ｇが固定されて
おり、支持板５０ｄ〜５０ｇとトラッキング／フォーカ
スアクチュエータ５０との間には、光磁気ディスク１の
接離方向に移動する例えばピエゾ素子のような圧電素子
５１ｄ〜５１ｇ（５１ｅ，５０ｆは図示せず）が取り付
けられている。光磁気ディスク１のトラック幅方向に対
向配置された圧電素子５１ｄ，５１ｅは、ラジアルチル
ト用の制御信号が与えられて各別に上下移動する。また
光磁気ディスク１のトラック接線方向に対向配置された
圧電素子５１ｆ，５１ｇは、タンジェンシャルチルト用
の制御信号が与えられて各別に上下移動する。このよう
に４方の圧電素子５１ｄ〜５１ｇが独立的に駆動するこ
とにより、小径の対物レンズ６ｂはラジアルチルト及び
タンジェンシャルチルトの補正を行なうようになってい
る。
【０１２２】このような圧電素子は移動距離が短いため
にフォーカス制御には用いることはできない。しかしな
がら、チルト補正は１０ｍｒａｄ程度の移動で十分であ
り、本実施の形態のようにチルト補正のみに圧電素子を
用いることができる。小径の対物レンズ６ｂの径が例え
ば２ｍｍである場合には圧電素子５１ｄ〜５１ｇは１０
μｍ程度移動できれば良い。
【０１２３】ラジアルチルト制御回路１４ｂからの信号
はラジアルチルト制御用駆動回路１５ｄに入力され、圧
電素子５１ｄ，５１ｅの夫々を独立駆動せしめてラジア
ルチルトを補正する。また、タンジェンシャルチルト制
御回路１４ｅからの信号はタンジェンシャルチルト制御
用駆動回路１５ｅに入力され、圧電素子５１ｆ，５１ｇ
の夫々を独立駆動せしめてタンジェンシャルチルトを補
正する。トラッキング制御及びフォーカス制御について
の構成及び制御手順は前述した実施の形態１の図２と同
様であり、説明を省略する。また、本実施の形態では基
板厚み制御については省略して示しているが、実施の形
態１と同様に行なうこともできる。
【０１２４】以上の如き構成の光磁気記録再生装置で
は、上述した実施の形態１と同様の効果に加え、ラジア
ルチルト及びタンジェンシャルチルトの両方のチルトを
検出して補正するので、コマ収差を精度良く補正するこ
とができる。
【０１２５】なお、上述した実施の形態では、大径の対
物レンズ６ａと小径の対物レンズ６ｂとの２枚を備える
２重レンズ装置を用いた場合を説明しているが、これに
限るものではなく、上下夫々のレンズが、例えば組みレ
ンズのように複数のレンズで構成してあっても良い。ま
た、上述した実施の形態では、圧電素子を用いる場合を
説明しているが、これに限るものではなく、コイルアク
チュエータのような移動手段を用いても良いが、小径の
対物レンズはチルト制御のみを行なうので、アクチュエ
ータは小さな移動量で良く、フォーカス／トラッキング
制御には不向きな圧電素子を用いることもできる。
【０１２６】図２７は、スライダ構造の２重レンズ装置
の構造を示す平面図及び断面図である。図に示すよう
に、小径の対物レンズ６ｂに、その外縁部分を覆う態様
で光磁気ディスク１側に接触防止盤６０が取り付けられ
ている。接触防止盤６０の光磁気ディスク１との対向面
は曲率を有して形成されている。光磁気ディスク１が回
転中に、接触防止盤６０が所定距離よりも光磁気ディス
ク１側に接近した際に、エアベアリングの作用により対
物レンズ６ｂが光磁気ディスク１に接触しないようにな
っている。その他の構成及びアクチュエータの駆動機構
は図２６と同様であり、説明を省略する。なお、接触防
止盤６０の対向面の形状は流動空気圧によって接触を避
け得る形状であれば良く、円筒面形状、球面形状又は曲
率面が複数あるような形状であっても良く、また面の一
部分だけが曲率を有していても良い。
【０１２７】実施の形態６．図２８は異なるデフォーカ
スレベルの反射光の回折パターンを示す模式的斜視図で
ある。図２８（ａ）はデフォーカスが零の場合、図２８
（ｂ）はデフォーカスが１．５μｍの場合、図２８
（ｃ）はデフォーカスが３．０μｍの場合、図２８
（ｄ）はデフォーカスが４．５μｍの場合を示してい
る。図２９は図２８の回折パターンの断面をプロットし
たグラフであり、図２９（ａ）はデフォーカスが１．５
μｍの場合、図２９（ｂ）はデフォーカスが３．０μｍ
の場合、図２９（ｃ）はデフォーカスが４．５μｍの場
合を示している。図２８及び図２９から判るように、デ
フォーカスレベルが高くなるほど、干渉領域Ｉ1 ，Ｉ2
の夫々において中心線から反射光のトラック幅方向に対
称に、強度ピークが多く現れているのが判る。
【０１２８】実施の形態６では、光検出器の受光領域に
おいて反射光のトラック幅方向の分割数を多くすること
により、高いデフォーカスレベルの強度ピークに対応で
き、広いデフォーカスレベル範囲でのフォーカス制御を
可能とする収差補正装置について説明する。図３０は本
実施の形態で用いる光検出器の分割領域を示す平面図で
ある。図３０（ａ）は４分割光検出器１１４を、図３０
（ｂ）は８分割光検出器１１４を、図３０（ｃ）は１２
分割光検出器１１４を示している。
【０１２９】図３０（ａ）に示すように、４分割光検出
器１１４は上記の実施の形態１で説明した光検出器と同
様であり、デフォーカスレベルが１．５μｍ程度のＴＨ
ＥＳ（フォーカスエラー信号）の分割領域を示してい
る。第１及び第２の受光領域１１ａ，１１ｂの夫々は、
反射光のトラック幅方向にさらに２分割されており、上
記の実施の形態１で示した演算式によりＴＨＥＳを求め
ることができる。図３０（ｂ）に示すように、８分割光
検出器１１５はデフォーカスレベルが３．０μｍ程度の
ＴＨＥＳの分割領域を示している。第１及び第２の受光
領域１１ａ，１１ｂの夫々は、反射光のトラック幅方向
にさらに４分割されており、図中白抜きで示した第１及
び第２の受光領域１１ａ，１１ｂ内の分割領域と、ハッ
チングで示した分割領域との光強度を用いてＴＨＥＳを
求めることができる。
【０１３０】また、図３０（ｃ）に示すように、１６分
割光検出器１１６はデフォーカスレベルが４．５μｍ程
度のＴＨＥＳの分割領域を示している。第１及び第２の
受光領域１１ａ，１１ｂの夫々は、反射光のトラック幅
方向にさらに６分割されており、図中白抜きで示した第
１及び第２の受光領域１１ａ，１１ｂ内の分割領域と、
ハッチングで示した分割領域との光強度を用いてＴＨＥ
Ｓを求めることができる。なお、第１及び第２の受光領
域１１ａ，１１ｂの分割形状は、夫々の中心線に対して
反射光のトラック幅方向に線対称になっている。
【０１３１】図３１は、図３０の光検出器１１４，１１
５を用いて求めたＴＨＥＳの感度を示すグラフであり、
シュミレーションによる計算値を用いている。横軸はデ
フォーカスを示し、縦軸はＴＨＥＳの光量を全光量で割
った値を示している。グラフ中‘□’は４分割光検出器
１１４を用いて求めたＴＨＥＳ１、‘×’は８分割光検
出器１１５を用いて求めたＴＨＥＳ２、‘○’はこれら
２つのＴＨＥＳの和であるＷＴＨＥＳを示している。グ
ラフから判るように、２つのＴＨＥＳを加算することに
より、光検出器１１４のみを用いる場合よりもデフォー
カスレベルの範囲を拡大できる。また、図３０の４分割
光検出器１１４と１２光検出器１１６とを用いた場合
は、さらにデフォーカスレベルの範囲を拡大できる。
【０１３２】図３２は、本発明の収差補正装置に係る実
施の形態６の光記録再生装置の構成図である。８分割光
検出器１１５を用いてＴＨＥＳ１及びＴＨＥＳ２を求
め、加算器１３２に入力してこれらを加算してＷＴＨＥ
Ｓをフォーカス制御部１３１に与える。その他の構成
は、上記の実施の形態２に示した光記録再生装置と同様
であり、説明を省略する。本実施の形態のレンズ装置
は、実施の形態１に示すものでも、実施の形態５に示す
ものでも良い。
【０１３３】このような構成の光記録再生装置を用いる
ことにより、上述した実施の形態２と同様の効果を得、
加えて、広いデフォーカスレベルの範囲でフォーカス制
御を精度良く行なうことができる。なお、本実施の形態
ではフォーカス制御についてデフォーカスレベルを拡大
する光検出器について説明しているが、これに限るもの
ではなく、例えば制御可能なチルトレベルを拡大するこ
ともできる。この場合は、光検出器の第１及び第２の受
光領域の夫々を、中央に同心的に分割し、この分割数を
多くするほどチルトレベルを拡大できる。
【０１３４】実施の形態７．実施の形態７では効率的な
分割形状を有する光検出器を説明する。図３３は夫々の
収差要因を検出するための分割領域を示した光検出器の
平面図である。図３３（ａ）は光検出器の分割形状を示
している。受光面の前記反射光のトラック幅方向の一側
に略楕円形状の第１の受光領域１１ａを、他側に略楕円
形状の第２の受光領域１１ｂを有し、第１及び第２の受
光領域１１ａ，１１ｂの夫々は、中心線を分割線として
前記反射光のトラック幅方向に分割され、分割された領
域はさらにトラック幅方向に２分割され、この分割され
た領域はトラック幅方向に交わる方向にさらに２分割さ
れている。第１及び第の２受光領域１１ａ，１１ｂ内は
直線的に分割されているので、容易に分割できる。
【０１３５】図３３（ｂ）は、この光検出器のＴＥＳを
求める場合の分割領域を示している。図中、第１及び第
２の受光領域１１ａの白抜き領域とハッチング領域とで
分割領域を示している。図３３（ｃ）はＴＨＥＳ１を、
図３３（ｄ）はＴＨＥＳ２を、図３３（ｅ）はＴＴＬＴ
ＥＳを、図３３（ｆ）はＲＴＬＴＥＳを夫々求める場合
の分割領域を同様に示している。
【０１３６】図３４はこの光検出器で検出されたＲＴＬ
ＴＥＳの感度を示すグラフであり、シュミレーションに
よる計算値を用いている。縦軸はＲＴＬＴＥＳの光量を
全光量で割った値を示しており、横軸はラジアルチルト
を示している。グラフ中、‘○’はＲＴＬＴＥＳを示
し、‘×’はラジアルチルトに加えてタンジェンシャル
チルトが生じた場合のＲＴＬＴＥＳを示している。グラ
フから判るように、ラジアルチルトが零のときに何れの
ＲＴＬＴＥＳも零である。これにより、ＲＴＬＴＥＳを
零に制御することによりラジアルチルトが補正されると
言える。なお、ＴＥＳ，ＴＨＥＳ１，ＴＨＥＳ２及びＴ
ＴＬＴＥＳについては、上記の実施の形態１〜６で説明
した分割領域と同形状であるので、図３３に示す光検出
器を用いて各収差要因を精度良く補正できる。以上の如
き構成の光検出器を用いることにより、同一の光検出器
で各収差要因を検出でき、且つ、光検出器の分割が容易
である。
【０１３７】実施の形態８．次に、光磁気記録媒体のト
ラックピッチに応じて、第１及び第２の受光領域１１
ａ，１１ｂ間のトラック幅方向の距離を調整できる光検
出器について説明する。図３５〜図３７は、光検出器の
受光領域間の距離の調整を説明する図であり、図３５は
光検出器の基準状態を示し、図３６はトラックピッチが
狭い場合を、図３７はトラクピッチが広い場合を示して
いる。光検出器１２０は第１の受光領域１１ａを含む第
１の光検出部１２０ａと、第２の受光領域１１ｂを含む
第２の光検出部１２０ｂとを備えており、第１の光検出
部１２０ａと第２の光検出部１２０ｂとは、圧電素子又
はコイルアクチュエータなどにより、互いに接離可能に
トラック幅方向に移動可能に構成されている。
【０１３８】反射光の０次光とトラックの両側に角度を
広げて反射する１次光との反射角度の差φは、 φ＝λ・ｘ の関係を有する。但し、λは照射レーザ光の波長であ
り、ｘは光磁気ディスク１のグルーブの空間周波数、即
ち１ｍ当たりのグルーブの数である。トラックピッチが
狭い場合、即ちグルーブの空間周波数が大きい場合は、
反射角度の差φが大きくなり、従って図３６に示すよう
に、第１及び第２の受光領域１１ａ，１１ｂ間のトラッ
ク幅方向の距離を大きくすることにより、受光領域を反
射光の干渉領域に追従させることができる。また逆に、
トラックピッチが広い場合、即ちグルーブの空間周波数
が小さい場合は、反射角度の差φが小さくなり、従って
図３７に示すように、第１及び第２の受光領域１１ａ，
１１ｂ間のトラック幅方向の距離を小さくすることによ
り、受光領域を反射光の干渉領域に追従させることがで
きる。
【０１３９】以上の如き構成の光検出器を用いることに
より、光磁気ディスク１のトラックピッチに応じて光検
出器内の干渉領域の位置を調整できるので、異なる種類
のディスクに対応できる。なお、光検出器１２０の受光
領域の分割形状は一例を示したものであり、これに限る
ものではない。
【０１４０】なお、上述した実施の形態１〜８では光磁
気記録再生装置について説明しているが、これに限るも
のではなく、照射したビーム光の反射光を利用して情報
を記録再生する光記録再生装置であれば適用できる。ま
た、記録専用装置であっても再生専用装置であっても適
用できる。また、光記録媒体として光磁気ディスクを用
いる場合を説明しているが、これに限るものではなく、
ビーム光の照射により情報が記録／再生される媒体であ
れば良く、ディスク形状には限らない。
【０１４１】また、上述した実施の形態１〜８では、光
検出器を分割することにより反射光の干渉領域を分割し
て各収差要因を検出しているが、これに限るものではな
い。例えば、反射光の光検出器に到達するまでの光路に
配されたプリズム又はホログラムのような光学素子によ
り反射光を分割して光路を振り分け、各ビーム光に対応
して設けられた複数の光検出器により各収差要因を求め
ても良い。
【０１４２】
【発明の効果】以上のように、本発明においては、基板
厚変動，チルト，フォーカスエラー及びトラッキングエ
ラーに起因する収差を検出し、検出結果に基づいて各別
の補正を行なうので、高精度に再生結果を得ることがで
きる。また、収差の検出によりチルトを補正するので複
雑な検出機構を用いる必要がなく、高ＮＡの対物レンズ
を用い、且つ、基板を薄くしてもチルトを小さくするこ
とができる。
【０１４３】さらに、収差の検出によりトラッキング制
御及びフォーカス制御を行なうので収差用及びサーボ用
の光検出器を兼用でき、光学系の構成部品の簡易化を図
ることができる。さらにまた、光記録媒体上の光ヘッド
のシークの方向を検出できるので、正確なシーク動作を
行なうことができる。さらにまた、受光面を同一面内で
略９０°回転させた光検出器を用いることにより、タン
ジェンシャルチルトを検出することができる。
【０１４４】さらにまた、光検出器を反射光のトラック
幅方向に略平行な分割線で分割することによりタンジェ
ンシャルチルトを補正でき、また、同一の光検出器を用
いてラジアルチルトを共に補正することができる。さら
にまた、対物レンズの４方位置で独立的に駆動可能なア
クチュエータを備えることにより、ラジアルチルト及び
タンジェンシャルチルトの両方をフィードバック制御で
きる。
【０１４５】さらにまた、干渉領域に対応する夫々の受
光領域を、トラックの幅方向に対応する方向に４以上に
分割してあるので、フォーカス制御が可能なデフォーカ
スレベルの範囲が拡大される。さらにまた、夫々の受光
領域を直線的に１２分割してあるので、各収差要因を同
一の光検出器で検出でき、且つ、光検出器の分割が容易
である。さらにまた、干渉領域に対応する夫々の受光領
域が分離可能に構成されており、トラック幅方向の両者
の間隔を変化できるので、同一の光検出器でトラックピ
ッチが異なる記録媒体の収差補正が可能である等、本発
明は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の収差補正装置に係る実施の形態１の光
記録再生装置の構成図である。
【図２】図１の収差補正部及びアクチュエータ駆動回路
の構成図である。
【図３】チルトエラー起因の収差による反射光の回折パ
ターンを示す模式的斜視図である。
【図４】基板の厚み変動起因の収差による反射光の回折
パターンを示す模式的斜視図である。
【図５】デフォーカス起因の収差による反射光の回折パ
ターンを示す模式的斜視図である。
【図６】チルトエラー起因の収差によるレンズ径方向の
回折パターンと光検出器の分割領域を示す図である。
【図７】基板の厚み変動及びデフォーカス起因の収差に
よるレンズ径方向の回折パターンと光検出器の分割領域
を示す図である。
【図８】トラッキングエラー起因の収差によるレンズ径
方向の回折パターンと光検出器の分割領域を示す図であ
る。
【図９】図１の光検出器の分割領域を説明する図であ
る。
【図１０】本発明に係る収差補正の手順を示すフローチ
ャートである。
【図１１】実施の形態１のＴＥＳの感度を示すグラフで
ある。
【図１２】実施の形態１のＴＬＴＥＳの感度を示すグラ
フである。
【図１３】実施の形態１のデフォーカスによるＴＨＥＳ
の感度を示すグラフである。
【図１４】実施の形態１の厚み変動によるＴＨＥＳの感
度を示すグラフである。
【図１５】本発明の他の光検出器の分割領域を説明する
図である。
【図１６】本発明のさらに他の光検出器の分割領域を説
明する図である。
【図１７】本発明のさらに他の光検出器の分割領域を説
明する図である。
【図１８】実施の形態２の収差補正部及びアクチュエー
タ駆動回路の構成図である。
【図１９】シーク方向の検出を説明する出力波形図であ
る。
【図２０】本発明のタンジェンシャルチルトの検出を実
現する光磁気ディスクの模式的斜視図である。
【図２１】本発明に係るタンジェンシャルチルトの検出
を説明する波形図である。
【図２２】ラジアル及びタンジェンシャルチルトエラー
起因の収差による反射光の回折パターンを示す模式的斜
視図である。
【図２３】ＴＴＬＴＥＳを生成する光検出器の平面図及
びＴＴＬＴＥＳの感度を示すグラフである。
【図２４】ＲＴＬＴＥＳを生成する光検出器の平面図及
びＲＴＬＴＥＳの感度を示すグラフである。
【図２５】本発明の収差補正装置に係る実施の形態５の
光記録再生装置の構成図である。
【図２６】実施の形態５に用いられる２重レンズ装置の
構成を示す平面図及び断面図である。
【図２７】他の２重レンズ装置の構成を示す平面図及び
断面図である。
【図２８】様々なデフォーカスレベルの回折パターンを
示す模式的斜視図である。
【図２９】図２８の回折パターンの断面をプロットした
グラフである。
【図３０】実施の形態６の光検出器の分割領域を示す平
面図である。
【図３１】実施の形態６の光検出器により検出されたＴ
ＨＥＳの感度を示すグラフである。
【図３２】本発明の収差補正装置に係る実施の形態６の
光記録再生装置の構成図である。
【図３３】実施の形態７の光検出器の分割領域を示す平
面図である。
【図３４】実施の形態７の光検出器で検出されたＲＴＬ
ＴＥＳの感度を示すグラフである。
【図３５】実施の形態８の光検出器の基準状態を示す平
面図である。
【図３６】図３５よりもトラックピッチが狭い場合の光
検出器の平面図である。
【図３７】図３５よりもトラックピッチが広い場合の光
検出器の平面図である。
【符号の説明】
１ 光磁気ディスク ６ 対物レンズ ６ａ 大径の対物レンズ ６ｂ 小径の対物レンズ １０ 収差補正部 １１，１１１〜１１５，１２０ 光検出器 １１ａ 第１の受光領域 １１ｂ 第２の受光領域 １２ トラッキング制御部 １３ 厚み／フォーカス制御部 １４ チルト制御部 １５ アクチュエータ駆動回路 ３３ 中間値検出回路 ５１ｄ〜５１ｅ 圧電素子 ６０ 接触防止盤 １２０ａ，１２０ｂ 光検出部 Ｉ1 ，Ｉ2 干渉領域

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光記録媒体に照射したビーム光の反射光
    を用いて、情報の記録／再生時の収差を補正する方法で
    あって、 複数の収差要因に起因して生じた収差を、前記反射光の
    回折光による干渉領域での強度分布に基づいて、各収差
    要因に対して検出する過程と、前記検出の結果に応じて
    前記収差要因の夫々を補正することにより、情報の記録
    ／再生時の収差を補正する過程とを有することを特徴と
    する収差補正方法。
  2. 【請求項２】 光記録媒体に照射したビーム光の反射光
    を用いて、情報の記録／再生時の収差を補正する方法で
    あって、 前記ビーム光と前記光記録媒体との間の相対的なチルト
    に起因する収差を、前記反射光の回折光による干渉領域
    での強度分布に基づいて検出する過程と、前記検出の結
    果に応じてチルトを補正することにより、情報の記録／
    再生時の収差を補正する過程とを有することを特徴とす
    る収差補正方法。
  3. 【請求項３】 光記録媒体に照射したビーム光の反射光
    を用いて、情報の記録／再生時の収差を補正する方法で
    あって、 フォーカスエラーに起因する収差を、前記反射光の回折
    光による干渉領域での強度分布に基づいて検出する過程
    と、前記検出の結果に応じてフォーカスエラーを補正す
    ることにより、情報の記録／再生時の収差を補正する過
    程とを有することを特徴とする収差補正方法。
  4. 【請求項４】 光記録媒体に照射したビーム光の反射光
    を用いて、情報の記録／再生時の収差を補正する方法で
    あって、 前記光記録媒体が有する基板の厚み変動に起因する収差
    を、前記反射光の回折光による干渉領域での強度分布に
    基づいて検出する過程と、基板の厚み変動に起因して生
    じた収差を、前記検出の結果に応じてフォーカス調整を
    通じて補正することにより、情報の記録／再生時の収差
    を補正する過程とを有することを特徴とする収差補正方
    法。
  5. 【請求項５】 前記収差を検出する過程では、前記光記
    録媒体と前記ビーム光との間の相対的なチルトの検出信
    号、前記光記録媒体が有する基板の厚み変動及びフォー
    カスエラーの検出信号、並びにトラッキングエラーの検
    出信号が求められ、前記収差を補正する過程は、トラッ
    キングエラーの補正に先立ち、前記ビーム光が前記光記
    録媒体上で合焦すべく制御する擬似フォーカス制御過程
    と、該擬似フォーカス制御過程での前記厚み変動及びフ
    ォーカスエラーの検出信号の振幅の中間値を求める過程
    と、前記トラッキングエラーの検出信号を用いてトラッ
    キングエラーを補正する過程と、前記中間値を基準にし
    て前記厚み変動及びフォーカスエラーの検出信号を用い
    てフォーカスエラーを補正する過程と、前記チルトの検
    出信号を用いてチルトを補正する過程とを有する請求項
    １記載の収差補正方法。
  6. 【請求項６】 前記擬似フォーカス制御過程は、前記ビ
    ーム光を集束する光学手段と前記光記録媒体との間隔を
    変化させる過程と、該変化の期間に別経路にて得られる
    フォーカス制御信号に基づいてフォーカス制御を行なう
    過程とを有する請求項５記載の収差補正方法。
  7. 【請求項７】 前記擬似フォーカス制御過程は、前記ビ
    ーム光を集束する光学手段と前記光記録媒体との間隔を
    変化させる過程と、該変化の期間の前記トラッキングエ
    ラーの検出信号のレベルと所定値との差分値が零になる
    ようにフォーカス制御を行なう過程とを有する請求項５
    記載の収差補正方法。
  8. 【請求項８】 光記録媒体に照射したビーム光の反射光
    を用いて、情報の記録／再生時の収差を補正する装置で
    あって、 前記反射光の回折光による干渉領域での強度分布に基づ
    いて、複数の収差要因に起因して生じた収差を各収差要
    因に対して検出する少なくとも１つの光検出器と、夫々
    の検出結果に応じて各収差要因を補正する補正部とを備
    えることを特徴とする収差補正装置。
  9. 【請求項９】 光記録媒体に照射したビーム光の反射光
    を用いて、前記光記録媒体のトラックに情報を記録／再
    生する際の収差を補正する装置であって、 前記ビーム光を集束せしめる対物レンズと、該対物レン
    ズを３次元的に移動せしめるアクチュエータと、前記反
    射光が入射され、複数の収差要因に起因して生じた収差
    を検出し、各収差要因を補正する収差補正部とを備え、 該収差補正部は、入射された反射光が前記トラックの幅
    方向に対応する方向に分けて受光され、夫々の受光強度
    を演算して各収差要因に対する収差の検出信号を出力す
    る少なくとも１つの光検出器と、前記光記録媒体と前記
    ビーム光との間の相対的なチルトに対する収差の第１検
    出信号が与えられ、これに基づいてチルトを補正するチ
    ルト制御部、前記光記録媒体が有する基板の厚み変動及
    びフォーカスエラーに対する収差の第２検出信号が与え
    られ、これに基づいて基板の厚み変動及びフォーカスエ
    ラーを補正する厚み及びフォーカス制御部、及びトラッ
    キングエラーに対する収差の第３検出信号が与えられ、
    これに基づいてトラッキングエラーを補正するトラッキ
    ング制御部のうち少なくとも１つとを備えることを特徴
    とする収差補正装置。
  10. 【請求項１０】 前記チルトは光記録媒体のトラック幅
    方向に対して傾斜を有する第１方向チルトであり、前記
    光検出器の少なくとも１つは、受光面の前記反射光のト
    ラック幅方向の一側に第１の受光領域を、他側に第２の
    受光領域を有し、前記第１の受光領域及び前記第２の受
    光領域の夫々は内周側領域と外周側領域とに分割してあ
    る請求項９記載の収差補正装置。
  11. 【請求項１１】 前記第１方向チルトの第１検出信号Ｒ
    ＴＬＴＥＳは ＲＴＬＴＥＳ＝（Ａ１＋Ａ２＋ｋ１（Ｂ３＋Ｂ４））−
    ｋ２（（Ａ３＋Ａ４）＋ｋ１（Ｂ１＋Ｂ２）） で求められる請求項９記載の収差補正装置。但し、（Ａ
    １＋Ａ２）は前記第１の受光領域の外周側領域の光強
    度、 （Ａ３＋Ａ４）は前記第２の受光領域の外周側領域の光
    強度、 （Ｂ１＋Ｂ２）は前記第１の受光領域の内周側領域の光
    強度、 （Ｂ３＋Ｂ４）は前記第２の受光領域の内周側領域の光
    強度、 ｋ１，ｋ２は実数である。
  12. 【請求項１２】 前記光検出器の少なくとも１つは、受
    光面の前記反射光のトラック幅方向の一側に第１の受光
    領域を、他側に第２の受光領域を有し、前記第１の受光
    領域及び前記第２の受光領域の夫々は、前記受光面に対
    する中央側領域と周縁側領域とに分割され、前記基板の
    厚み変動及びフォーカスエラーの第２検出信号ＴＨＥＳ
    は、 ＴＨＥＳ＝（Ａ１＋Ｂ１＋ｋ１（Ａ３＋Ｂ３））−ｋ２
    （（Ａ２＋Ｂ２）＋ｋ１（Ａ４＋Ｂ４）） で求められる請求項９記載の収差補正装置。但し（Ａ１
    ＋Ｂ１）は前記第１の受光領域の受光面に対する周縁側
    領域の光強度 （Ａ３＋Ｂ３）は前記第２の受光領域の受光面に対する
    周縁側領域の光強度 （Ａ２＋Ｂ２）は前記第１の受光領域の受光面に対する
    中央側領域の光強度 （Ａ４＋Ｂ４）は前記第２の受光領域の受光面に対する
    中央側領域の光強度 ｋ１，ｋ２は実数である。
  13. 【請求項１３】 前記基板の厚み変動及びフォーカスエ
    ラーの第２の検出信号と、前記トラッキングエラーの第
    ３の検出信号とが入力され、前記第３の検出信号が所定
    の変化を示すとき、前記第２の検出信号が最大ピークを
    示すか又は最小ピークを示すかにより前記光記録媒体上
    のビーム光の移動方向を検出するビーム移動方向検出回
    路を備える請求項９記載の収差補正装置。
  14. 【請求項１４】 少なくとも１つの光検出器は、入射さ
    れた反射光が前記トラック幅方向に交わる方向に分けて
    受光され、前記チルトの第１の検出信号と前記トラッキ
    ングエラーの第２の検出信号とを入力し、前記第２の検
    出信号のレベルが零の時点の前記第１の検出信号のレベ
    ルに基づいて前記トラック幅方向に交わる方向のチルト
    を検出し、これを補正する第２のチルト制御回路を備え
    る請求項９記載の収差補正装置。
  15. 【請求項１５】 前記チルトは前記光記録媒体のトラッ
    ク幅方向に交わる方向に対して傾斜を有する第２方向チ
    ルトであり、前記光検出器の少なくとも１つは、受光面
    の前記反射光のトラック幅方向の一側に第１の受光領域
    を、他側に第２の受光領域を有し、前記第１の受光領域
    及び前記第２の受光領域の夫々は前記受光面に対する中
    央側領域と周縁側領域とに分割され、分割された受光領
    域の夫々は前記トラック幅方向に交わる方向に２分割し
    てある請求項９記載の収差補正装置。
  16. 【請求項１６】 前記第２方向チルトの第１検出信号Ｔ
    ＴＬＴＥＳは、 ＴＴＬＴＥＳ＝（Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２ｂ＋ｋ
    １（Ａ３ａ＋Ｂ３ａ＋Ａ４ｂ＋Ｂ４ｂ））−ｋ２（（Ａ
    ２ａ＋Ｂ２ａ＋Ａ１ｂ＋Ｂ１ｂ）＋ｋ１（Ａ４ａ＋Ｂ４
    ａ＋Ａ３ｂ＋Ｂ３ｂ）） で求められる請求項１４記載の収差補正装置。但し、
    （Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２ｂ）は、前記第１の受
    光領域の対角位置に分割された領域の光強度の和、 （Ａ２ａ＋Ｂ２ａ＋Ａ１ｂ＋Ｂ１ｂ）は、前記第１の受
    光領域の残り領域の光強度の和、 （Ａ３ａ＋Ｂ３ａ＋Ａ４ｂ＋Ｂ４ｂ）は、前記第２の受
    光領域の（Ａ１ａ＋Ｂ１ａ＋Ａ２ｂ＋Ｂ２ｂ）と前記ト
    ラック幅方向に線対称な領域の光強度の和、 （Ａ４ａ＋Ｂ４ａ＋Ａ３ｂ＋Ｂ３ｂ）は、前記第２の受
    光領域の残り領域の光強度の和、 ｋ１，ｋ２は実数である。
  17. 【請求項１７】 前記第１の受光領域及び前記第２の受
    光領域の夫々は、さらに内周側領域及び外周側領域に分
    割され、前記第１方向チルト及び前記第２方向チルトの
    両チルトを検出すべくなしてある請求項１５又は１６記
    載の収差補正装置。
  18. 【請求項１８】 前記対物レンズは光軸を合わせて配し
    た第１及び第２のレンズを備え、前記アクチュエータ
    は、前記フォーカスエラー及びトラッキングエラーを補
    正すべく前記第１のレンズを３次元的に移動せしめる第
    １のアクチュエータと、前記チルトエラーを補正すべ
    く、前記光記録媒体のトラック幅方向及び該幅方向に交
    わる方向に対して夫々独立的に前記第２のレンズを傾斜
    せしめる第２のアクチュエータとを備える請求項９記載
    の収差補正装置。
  19. 【請求項１９】 前記対物レンズは前記記録媒体との対
    面側に、前記記録媒体との間隔を所定距離以上に保つ接
    触防止盤を取付けてある請求項９又は１８記載の収差補
    正装置。
  20. 【請求項２０】 前記光検出器の少なくとも１つは、受
    光面の前記反射光のトラック幅方向の一側に第１の受光
    領域を、他側に第２の受光領域を有し、前記第１の受光
    領域及び前記第２の受光領域の夫々は、前記反射光のト
    ラック幅方向に線対称に少なくとも４分割してある請求
    項９記載の収差補正装置。
  21. 【請求項２１】 前記光検出器は、受光面の前記反射光
    のトラック幅方向の一側に第１の受光領域を、他側に第
    ２の受光領域を有し、前記第１の受光領域及び前記第２
    の受光領域の夫々は、前記トラック幅方向及び該幅方向
    に交わる方向に夫々略平行に直線的に分割してある請求
    項９記載の収差補正装置。
  22. 【請求項２２】 前記光検出器は、受光面の前記反射光
    のトラック幅方向の一側に第１の受光領域を有する第１
    の光検出部と、他側に第２の受光領域を有する第２の光
    検出部とを備え、該第１及び第２の光検出部は互いに接
    離可能に前記トラック幅方向に移動すべく構成してある
    請求項９記載の収差補正装置。
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