| 
            
              US3123788A
              (en)
            
            *
            
           | 
           | 
          1964-03-03 | 
           | 
          Piezoresistive gage  | 
        
        
          | 
            
              US3162556A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1953-01-07 | 
          1964-12-22 | 
          Hupp Corp | 
          Introduction of disturbance points in a cadmium sulfide transistor 
        | 
        
        
          | 
            
              DE977684C
              (de)
            
            *
            
           | 
          1953-03-25 | 
          1968-05-02 | 
          Siemens Ag | 
          Halbleiteranordnung 
        | 
        
        
          | 
            
              GB778383A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1953-10-02 | 
          1957-07-03 | 
          Standard Telephones Cables Ltd | 
          Improvements in or relating to the production of material for semi-conductors 
      | 
        
        
          | 
            
              BE536122A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1954-03-05 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1057845B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1954-03-10 | 
          1959-05-21 | 
          Licentia Gmbh | 
          Verfahren zur Herstellung von einkristallinen halbleitenden Verbindungen 
        | 
        
        
          | 
            
              BE536985A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1954-04-01 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL130620C
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1954-05-18 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1140549B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1954-05-18 | 
          1962-12-06 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen von reinstem kristallinem Germanium, Verbindungen von Elementen der ó¾. und ó§.oder ó�. und ó÷. Gruppe des Periodischen Systems und von oxydischem Halbleitermaterial 
        | 
        
        
          | 
            
              US2964396A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1954-05-24 | 
          1960-12-13 | 
          Siemens Ag | 
          Producing semiconductor substances of highest purity 
        | 
        
        
          | 
            
              BE538469A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1954-05-27 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US2928761A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1954-07-01 | 
          1960-03-15 | 
          Siemens Ag | 
          Methods of producing junction-type semi-conductor devices 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1228342B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1954-07-14 | 
          1966-11-10 | 
          Siemens Ag | 
          Diffusionsverfahren zum Dotieren einer Oberflaechenschicht von festen Halbleiterkoerpern 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1107343B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1954-10-14 | 
          1961-05-25 | 
          Licentia Gmbh | 
          Verfahren zum Herstellen von elektrischen Halbleiteranordnungen 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1185894B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1955-03-04 | 
          1965-01-21 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zur Herstellung von Staeben aus hochreinem Titan oder Zirkon durch Abscheidung aus der Gasphase 
        | 
        
        
          | 
            
              NL107344C
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1955-03-23 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              BE546514A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1955-04-22 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US2871149A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1955-05-02 | 
          1959-01-27 | 
          Sprague Electric Co | 
          Semiconductor method 
        | 
        
        
          | 
            
              BE548791A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1955-06-20 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US2895858A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1955-06-21 | 
          1959-07-21 | 
          Hughes Aircraft Co | 
          Method of producing semiconductor crystal bodies 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1227433B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1955-07-28 | 
          1966-10-27 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Einbau definierter Stoerstellen in Metall- oder Halbleiterschichten 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1259838B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1955-08-16 | 
          1968-02-01 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen von Halbleiterkristallen 
        | 
        
        
          | 
            
              NL109064C
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1955-10-24 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US2827403A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1956-08-06 | 
          1958-03-18 | 
          Pacific Semiconductors Inc | 
          Method for diffusing active impurities into semiconductor materials 
        | 
        
        
          | 
            
              US2921905A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1956-08-08 | 
          1960-01-19 | 
          Westinghouse Electric Corp | 
          Method of preparing material for semiconductor applications 
        | 
        
        
          | 
            
              US2964435A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1957-03-27 | 
          1960-12-13 | 
          Mc Graw Edison Co | 
          Semiconductor devices and their manufacture 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1048638B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1957-07-02 | 
          1959-01-15 | 
          Siemens &. Halske Aktiengesellschaft, Berlin und München | 
          Verfahren zur Herstellung von Halbleitereinkristallen, insbesondere von Silizium durch thermische Zersetzung oder Reduktion 
        | 
        
        
          | 
            
              US3003900A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1957-11-12 | 
          1961-10-10 | 
          Pacific Semiconductors Inc | 
          Method for diffusing active impurities into semiconductor materials 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1198321B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1958-01-06 | 
          1965-08-12 | 
          Int Standard Electric Corp | 
          Verfahren zur Herstellung von Halbleitermaterial grosser Reinheit 
        | 
        
        
          | 
            
              NL236697A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1958-05-16 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL244520A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1958-10-23 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1167987B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1958-12-09 | 
          1964-04-16 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung 
        | 
        
        
          | 
            
              US3154439A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1959-04-09 | 
          1964-10-27 | 
          Sprague Electric Co | 
          Method for forming a protective skin for transistor 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1227874B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1959-04-10 | 
          1966-11-03 | 
          Itt Ind Ges Mit Beschraenkter | 
          Verfahren zum Herstellen von n-dotierten Siliciumeinkristallen 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1197989B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1959-04-27 | 
          1965-08-05 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung 
        | 
        
        
          | 
            
              NL256300A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1959-05-28 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              BE620887A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1959-06-18 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3089794A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1959-06-30 | 
          1963-05-14 | 
          Ibm | 
          Fabrication of pn junctions by deposition followed by diffusion 
        | 
        
        
          | 
            
              NL252533A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1959-06-30 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL244298A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1959-10-13 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL256734A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1959-10-28 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3082283A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1959-11-25 | 
          1963-03-19 | 
          Ibm | 
          Radiant energy responsive semiconductor device 
        | 
        
        
          | 
            
              US3133336A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1959-12-30 | 
          1964-05-19 | 
          Ibm | 
          Semiconductor device fabrication 
        | 
        
        
          | 
            
              US3190773A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1959-12-30 | 
          1965-06-22 | 
          Ibm | 
          Vapor deposition process to form a retrograde impurity distribution p-n junction formation wherein the vapor contains both donor and acceptor impurities 
        | 
        
        
          | 
            
              US3234440A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1959-12-30 | 
          1966-02-08 | 
          Ibm | 
          Semiconductor device fabrication 
        | 
        
        
          | 
            
              NL259447A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1959-12-31 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL260906A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-02-12 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3151006A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-02-12 | 
          1964-09-29 | 
          Siemens Ag | 
          Use of a highly pure semiconductor carrier material in a vapor deposition process 
        | 
        
        
          | 
            
              NL260907A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-02-12 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1162661B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1960-03-31 | 
          1964-02-06 | 
          Wacker Chemie Gmbh | 
          Verfahren zur gleichzeitigen und gleichmaessigen Dotierung 
        | 
        
        
          | 
            
              US3098774A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-05-02 | 
          1963-07-23 | 
          Mark Albert | 
          Process for producing single crystal silicon surface layers 
        | 
        
        
          | 
            
              US3096219A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-05-02 | 
          1963-07-02 | 
          Rca Corp | 
          Semiconductor devices 
        | 
        
        
          | 
            
              US3206406A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-05-09 | 
          1965-09-14 | 
          Merck & Co Inc | 
          Critical cooling rate in vapor deposition process to form bladelike semiconductor compound crystals 
        | 
        
        
          | 
            
              IT649936A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-05-09 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3096209A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-05-18 | 
          1963-07-02 | 
          Ibm | 
          Formation of semiconductor bodies 
        | 
        
        
          | 
            
              NL258408A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-06-10 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL265823A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-06-13 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL266513A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-07-01 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL268294A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-10-10 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3131098A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-10-26 | 
          1964-04-28 | 
          Merck & Co Inc | 
          Epitaxial deposition on a substrate placed in a socket of the carrier member 
        | 
        
        
          | 
            
              NL270518A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-11-30 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3232745A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-12-05 | 
          1966-02-01 | 
          Siemens Ag | 
          Producing rod-shaped semiconductor crystals 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1419717A1
              (de)
            
            *
            
           | 
          1960-12-06 | 
          1968-10-17 | 
          Siemens Ag | 
          Monokristalliner Halbleiterkoerper und Verfahren zur Herstellung desselben 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1254607B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1960-12-08 | 
          1967-11-23 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen von einkristallinen Halbleiterkoerpoern aus der Gasphase 
        | 
        
        
          | 
            
              NL273009A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1960-12-29 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3184348A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1960-12-30 | 
          1965-05-18 | 
          Ibm | 
          Method for controlling doping in vaporgrown semiconductor bodies 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1464669B1
              (de)
            
            *
            
           | 
          1961-03-06 | 
          1971-02-04 | 
          Itt Ind Gmbh Deutsche | 
          Halbleiterdiode mit stark spannungsabhaengiger Kapazitaet 
        | 
        
        
          | 
            
              US3207635A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-04-19 | 
          1965-09-21 | 
          Ibm | 
          Tunnel diode and process therefor 
        | 
        
        
          | 
            
              US3210624A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-04-24 | 
          1965-10-05 | 
          Monsanto Co | 
          Article having a silicon carbide substrate with an epitaxial layer of boron phosphide 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1141386B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1961-04-26 | 
          1962-12-20 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung 
        | 
        
        
          | 
            
              NL275313A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1961-05-10 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL284599A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1961-05-26 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL278620A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1961-06-02 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1156176B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1961-06-09 | 
          1963-10-24 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Halbleiteranordnungen durch einkristalline Abscheidung von Halbleitermaterial aus der Gasphase auf einen Traegerkristall 
        | 
        
        
          | 
            
              NL279828A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1961-07-05 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3172792A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-07-05 | 
          1965-03-09 | 
           | 
          Epitaxial deposition in a vacuum onto
semiconductor wafers through an in-
teracttgn between the wafer and the
support material  | 
        
        
          | 
            
              US3145125A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-07-10 | 
          1964-08-18 | 
          Ibm | 
          Method of synthesizing iii-v compound semiconductor epitaxial layers having a specified conductivity type without impurity additions 
        | 
        
        
          | 
            
              US3220380A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-08-21 | 
          1965-11-30 | 
          Merck & Co Inc | 
          Deposition chamber including heater element enveloped by a quartz workholder 
        | 
        
        
          | 
            
              FR1335282A
              (fr)
            
            *
            
           | 
          1961-08-30 | 
          1963-08-16 | 
          Gen Electric | 
          Composés semi-conducteurs, procédés de préparation et de dépôt de ceux-ci, et dispositifs semi-conducteurs ainsi obtenus 
        | 
        
        
          | 
            
              US3170825A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-10-02 | 
          1965-02-23 | 
          Merck & Co Inc | 
          Delaying the introduction of impurities when vapor depositing an epitaxial layer on a highly doped substrate 
        | 
        
        
          | 
            
              US3218203A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-10-09 | 
          1965-11-16 | 
          Monsanto Co | 
          Altering proportions in vapor deposition process to form a mixed crystal graded energy gap 
        | 
        
        
          | 
            
              US3261726A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-10-09 | 
          1966-07-19 | 
          Monsanto Co | 
          Production of epitaxial films 
        | 
        
        
          | 
            
              US3312571A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1961-10-09 | 
          1967-04-04 | 
          Monsanto Co | 
          Production of epitaxial films 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1264419B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1961-10-27 | 
          1968-03-28 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Abscheiden einer einkristallinen Silicium-Schicht aus der Gasphase aufeinem Silicium-Einkristall 
        | 
        
        
          | 
            
              NL285435A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1961-11-24 | 
          1900-01-01 | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1258983B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1961-12-05 | 
          1968-01-18 | 
          Telefunken Patent | 
          Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung mit epitaktischer Schicht und mindestens einem pn-UEbergang 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1289831B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1961-12-22 | 
          1969-02-27 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zur Herstellung duenner frei tragender Folien aus einkristallinem Halbleitermaterial 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1241811B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1962-01-12 | 
          1967-06-08 | 
          Itt Ind Ges Mit Beschraenkter | 
          Verfahren zur Herstellung eindiffundierter Zonen von Verunreinigungen in einem Halbleiterkoerper 
        | 
        
        
          | 
            
              NL288035A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-01-24 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3152932A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1962-01-29 | 
          1964-10-13 | 
          Hughes Aircraft Co | 
          Reduction in situ of a dipolar molecular gas adhering to a substrate 
        | 
        
        
          | 
            
              NL288409A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-02-02 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL288472A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-02-02 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3223904A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1962-02-19 | 
          1965-12-14 | 
          Motorola Inc | 
          Field effect device and method of manufacturing the same 
        | 
        
        
          | 
            
              NL288745A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-02-19 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1202616B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1962-02-23 | 
          1965-10-07 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Entfernen der bei der Epitaxie auf dem Heizer abgeschiedenen Halbleiterschicht 
        | 
        
        
          | 
            
              US3178798A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1962-05-09 | 
          1965-04-20 | 
          Ibm | 
          Vapor deposition process wherein the vapor contains both donor and acceptor impurities 
        | 
        
        
          | 
            
              BE632892A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-05-29 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL279389A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-06-06 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1255635B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1962-06-14 | 
          1967-12-07 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen kristalliner, insbesondere einkristalliner Schichten aus halbleitenden Stoffen 
        | 
        
        
          | 
            
              US3224912A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1962-07-13 | 
          1965-12-21 | 
          Monsanto Co | 
          Use of hydrogen halide and hydrogen in separate streams as carrier gases in vapor deposition of ii-vi compounds 
        | 
        
        
          | 
            
              NL295293A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-07-13 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3218205A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1962-07-13 | 
          1965-11-16 | 
          Monsanto Co | 
          Use of hydrogen halide and hydrogen in separate streams as carrier gases in vapor deposition of iii-v compounds 
        | 
        
        
          | 
            
              NL296876A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-08-23 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              NL298449A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1962-10-05 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              DE1245333B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1962-10-31 | 
          1967-07-27 | 
          Merck & Co Inc | 
          Verfahren zur Herstellung von blattfoermigen Einkristallen 
        | 
        
        
          | 
            
              GB1064290A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1963-01-14 | 
          1967-04-05 | 
          Motorola Inc | 
          Method of making semiconductor devices 
      | 
        
        
          | 
            
              NL302321A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1963-02-08 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3268374A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1963-04-24 | 
          1966-08-23 | 
          Texas Instruments Inc | 
          Method of producing a field-effect transistor 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1273484B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1963-08-01 | 
          1968-07-25 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Herstellen von reinem, gegebenenfalls dotiertem Halbleitermaterial mittels Transportreaktionen 
        | 
        
        
          | 
            
              US3370980A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1963-08-19 | 
          1968-02-27 | 
          Litton Systems Inc | 
          Method for orienting single crystal films on polycrystalline substrates 
        | 
        
        
          | 
            
              US3206339A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1963-09-30 | 
          1965-09-14 | 
          Philco Corp | 
          Method of growing geometricallydefined epitaxial layer without formation of undesirable crystallites 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1244732B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1963-10-22 | 
          1967-07-20 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum einseitigen, epitaktischen Aufwachsen einkristalliner Schichten aus Verbindungshalbleitern 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1244733B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1963-11-05 | 
          1967-07-20 | 
          Siemens Ag | 
          Vorrichtung zum Aufwachsen einkristalliner Halbleitermaterialschichten auf einkristallinen Grundkoerpern 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1248014B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1963-12-05 | 
          1967-08-24 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum Abscheiden von Halbleitermaterial unter Anwendung einer elektrischen Glimmentladung 
        | 
        
        
          | 
            
              US3343114A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1963-12-30 | 
          1967-09-19 | 
          Texas Instruments Inc | 
          Temperature transducer 
        | 
        
        
          | 
            
              US3297501A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1963-12-31 | 
          1967-01-10 | 
          Ibm | 
          Process for epitaxial growth of semiconductor single crystals 
        | 
        
        
          | 
            
              US3346414A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1964-01-28 | 
          1967-10-10 | 
          Bell Telephone Labor Inc | 
          Vapor-liquid-solid crystal growth technique 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1262243B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1964-03-18 | 
          1968-03-07 | 
          Ibm Deutschland | 
          Verfahren zum epitaktischen Aufwachsen von Halbleitermaterial 
        | 
        
        
          | 
            
              US3345209A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1964-04-02 | 
          1967-10-03 | 
          Ibm | 
          Growth control of disproportionation process 
        | 
        
        
          | 
            
              US3421946A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1964-04-20 | 
          1969-01-14 | 
          Westinghouse Electric Corp | 
          Uncompensated solar cell 
        | 
        
        
          | 
            
              GB1050759A
              (en:Method)
            
            *
            
           | 
          1964-09-22 | 
           | 
           | 
           | 
        
        
          | 
            
              US3343518A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1964-09-30 | 
          1967-09-26 | 
          Hayes Inc C I | 
          High temperature furnace 
        | 
        
        
          | 
            
              DE1268600B
              (de)
            
            *
            
           | 
          1964-11-16 | 
          1968-05-22 | 
          Siemens Ag | 
          Verfahren zum epitaktischen Abscheiden einer einkristallinen, insbesondere dotiertenHalbleiterschicht 
        | 
        
        
          | 
            
              US3505107A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1966-01-03 | 
          1970-04-07 | 
          Texas Instruments Inc | 
          Vapor deposition of germanium semiconductor material 
        | 
        
        
          | 
            
              US3675619A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1969-02-25 | 
          1972-07-11 | 
          Monsanto Co | 
          Apparatus for production of epitaxial films 
        | 
        
        
          | 
            
              US4496609A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1969-10-15 | 
          1985-01-29 | 
          Applied Materials, Inc. | 
          Chemical vapor deposition coating process employing radiant heat and a susceptor 
        | 
        
        
          | 
            
              US4910163A
              (en)
            
            *
            
           | 
          1988-06-09 | 
          1990-03-20 | 
          University Of Connecticut | 
          Method for low temperature growth of silicon epitaxial layers using chemical vapor deposition system 
        |