ES2382546T3 - Procesos para producir compuestos de 3-cefem - Google Patents

Procesos para producir compuestos de 3-cefem Download PDF

Info

Publication number
ES2382546T3
ES2382546T3 ES04028497T ES04028497T ES2382546T3 ES 2382546 T3 ES2382546 T3 ES 2382546T3 ES 04028497 T ES04028497 T ES 04028497T ES 04028497 T ES04028497 T ES 04028497T ES 2382546 T3 ES2382546 T3 ES 2382546T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
group
compound
salt
compounds
halogenomethylcefem
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES04028497T
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Kameyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Chemical Co Ltd filed Critical Otsuka Chemical Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of ES2382546T3 publication Critical patent/ES2382546T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/02Preparation
    • C07D501/04Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

Un proceso para preparar un compuesto de 3-halogenometilcefem de la fórmula (2) o una sal del mismo en la que X1 es un átomo de halógeno, caracterizado por que un grupo protector de ácido carboxílico en la posición 4 de un compuesto de 7-amino-3-halogenometilcefem de la fórmula (1) o una sal del mismo en la que X1 es un átomo de halógeno, y R1 es un grupo bencilo que tiene en un anillo fenilo, un grupo donante de electrones como sustituyente, o un grupo difenilmetilo que puede tener un grupo donante de electrones en un anillo fenilo, se desprotege con un derivado de fenol.

Description

Procesos para producir compuestos de 3-cefem
5 Campo técnico
La presente invención se refiere a un proceso para preparar un compuesto de metilcefem 3-halogenado de alta reactividad que puede usarse en lugar de ácido 7-aminocefalosporánico (7-ACA) que se usa generalmente como un material de partida convencional.
Técnica antecedente
Como proceso para preparar compuestos de metilcefem 3-halogenados, se ha empleado normalmente un proceso en el que, mediante la utilización de ácido 7-aminocefalosporánico (7-ACA) que se usa generalmente en la preparación 15 de sustancias antibióticas cefalosporánicas, se protegen un grupo amino y un ácido carboxílico con un grupo sililo, y el grupo acetoxi es halogenado, seguido de desprotección de los grupos protectores de sililo en la posición 7 y en la posición 4. En este proceso, sin embargo, se necesita un reactivo de sililo caro de no menos de 2 equivalentes, y se necesita un reactivo muy caro, tal como yoduro de trimetilsililo, en la conversión del grupo acetoxi en un átomo de halógeno. Puesto que estos reactivos son altamente sensibles al agua, es necesario mantener el sistema de reacción
20 libre de agua. Por tanto, este proceso es industrialmente inadecuado.
Por consiguiente, existía el deseo de un proceso para preparar con facilidad compuestos de 3-halogenometilcefem que fueran industrialmente factibles, y que fueran altamente prácticos.
25 Un objeto de la presente invención es establecer un proceso industrialmente factible para preparar compuestos de 3-halogenometilcefem.
Descripción de la invención
30 La presente invención proporciona un proceso para preparar compuestos de 3-halogenometilcefem de la fórmula (2) o sus sales, caracterizado porque un grupo protector de ácido carboxílico en la posición 4 de un compuesto de 7-amino-3-halogenometilcefem de la fórmula (1) o su sal se desprotege con un derivado de fenol
en el que X1 es un átomo de halógeno; y R1 es un grupo bencilo que tiene en un anillo bencilo, un grupo donante de
35 electrones como sustituyente, o un grupo difenilmetilo que puede tener un grupo donante de electrones en un anillo fenilo
en el que X1 es un átomo de halógeno.
40 Los compuestos de 3-halogenometilcefem de fórmula (2) son materiales de partida útiles para preparar compuestos de 3-tiometilcefem o sus sales.
En una realización de dicho proceso para preparar un compuesto de 3-tiometilcefem o su sal, un grupo protector de ácido carboxílico en la posición 4 de un compuesto de 7-amino-3-halogenometilcedem de la fórmula (1) se desprotege 45 con un derivado de fenol y, sin aislamiento, se hace reaccionar con un compuesto de tiol o su sal, obteniendo de esta forma un compuesto de 3-tiometilcefem o su sal.
El proceso convencional para preparar compuestos de 3-tiometilcefem mediante el empleo de 7-ACA como material de partida, experimenta los inconvenientes del bajo rendimiento de reacción y la formación de un subproducto, dando 50 como resultado un proceso insatisfactorio. Para establecer un proceso industrialmente factible, los inventores
consideraron que estos inconvenientes se debían a la baja reactividad del grupo acetoxi en la posición C-3', y emplearon compuestos de 3-halogenometilcefem, que tienen en la posición C-3' un átomo de halógeno que tiene una alta reactividad, como material de partida. Sin embargo, no se conoce ningún proceso práctico para preparar estos compuestos. Por tanto, utilizando una reacción de desprotección en la que se usa un derivado de fenol para el grupo
5 carboxilo en la posición 4 de compuestos de 7-amino-3-halogenometilcefem, los inventores establecieron un proceso industrialmente factible para preparar compuestos de 3-halogenometilcefem, así como un proceso con el que pueden prepararse compuestos de 3-tiometilcefem a partir de compuestos de 7-amino-3-halogenometilcefem con alta pureza y alto rendimiento.
El proceso de la invención permite realizar fácilmente la reacción a temperatura ambiente, minimizando los subproductos, y facilitando el aislamiento y purificación de un producto deseado. Es decir, este proceso tiene un uso práctico industrial más alto que la reacción convencional que usa el 7-ACA como material de partida.
También, el proceso de la invención permite preparar compuestos de 3-halogenometilcefem con alta pureza y alto 15 rendimiento, de tal manera que puede ser, con facilidad, industrialmente factible.
Los ejemplos de los grupos mencionados en la memoria descriptiva son como se indican a continuación. Son ejemplos del átomo de halógeno, átomo de flúor, átomo de cloro, átomo de bromo y átomo de yodo. Son ejemplos de grupo alquilo inferior, grupos alquilo C1-C4 de cadena lineal o de cadena ramificada, tales como metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, isobutilo, sec-butilo y terc-butilo. Son ejemplos de grupo arilo, fenilo y naftilo.
Son ejemplos de grupo donante de electrones sustituido en el anillo del grupo bencilo o grupo difenilmetilo representado por R1, hidroxi; metilo, etilo, terc-butilo y grupos alquilo inferior similares; y metoxi, etoxi y grupos alcoxi inferior similares. El grupo difenilmetilo incluye un tipo del grupo que es un grupo fenilo sustituido o sin sustituir
25 enlazado a la molécula mediante una cadena de metileno o heteroátomo. Existen, por ejemplo, p-metoxibencilo, difenilmetilo, 3,4,5-trimetoxibencilo, 3,5-dimetoxi-4-hidroxibencilo, 2,4,6-trimetilbencilo y ditolilmetilo.
Los compuestos de 3-halogenometilcefem (1) usados como materiales de partida en la invención, pueden prepararse fácilmente de la siguiente manera, en la que 7-fenilacetamida-3-clorometilcephem-4-carboxilato preparado por un proceso como el que se describe en la bibliografía de Torii et al., Tetrahedron Lett., 23, 2187 (1982), se somete a desprotección de la cadena lateral de amida en la posición 7, por un proceso como se describe en RECENT ADVANCES IN THE CHEMISTRY OF p-Lactam Antiobiotics pp. 109-124, 1980 editado por G. I. Gregory.
En la presente invención, los compuestos (1) incluyen la sal del grupo amino en la posición 7. Son ejemplos de la sal,
35 sal de ácido hidrohalogénico, tal como clorhidrato, bromhidrato y yodhidrato; sulfato; sal de ácido hidroperhalogénico, tal como perclorato y peryodato; y sulfonatos, tales como p-toluenosulfonato.
Son ejemplos del derivado de fenol usado en la presente invención, fenol, m-cresol o-cresol y p-cresol. Puede usarse cualquier otro compuesto que tenga un grupo hidroxilo fenólico. La cantidad de un derivado de fenol usado en la reacción según se describe es de 1 a 1000 equivalentes, preferiblemente de 5 a 100 equivalentes, con respecto al compuesto (1). Para facilitar la reacción, puede usarse un ácido según se necesite. Son ejemplos del ácido, ácidos minerales, tales como ácido clorhídrico, ácido sulfúrico, ácido nítrico y ácido fosfórico; y ácidos orgánicos, tales como ácido fórmico, ácido acético, ácido propiónico y ácido trifluoroacético. Puede usarse cualquier otra sustancia que sea ácida. La temperatura de reacción depende de la clase del compuesto (1) y la clase del derivado de fenol, pero
45 normalmente es de 5 a 80 ºC, preferiblemente de 15 a 50 ºC. El tiempo de reacción depende de la clase del compuesto (1), la clase del derivado de fenol y la temperatura de reacción, pero normalmente se termina en 1 a 5 horas. Si permanece algo de material, el tiempo de reacción puede prolongarse, sin causar problemas.
Como ejemplo de la sal del compuesto (2), está la sal del compuesto amino en la posición 7 y la sal del ácido carboxílico en la posición 4. Como ejemplos de la sal del grupo amino en la posición 7, están sales del ácido hidrohalogénico, tales como clorhidrato, bromhidrato y yodhidrato; sulfato; sales de ácido hidroperhalogénico, tales como perclorato y peryodato; y sulfonatos, tales como p-toluenosulfonato. Son ejemplos de la sal del ácido carboxílico en la posición 4, sales de metales alcalinos, tales como sodio y potásico; sales de metales alcalinotérreos, tales como calcio; y sal de aluminio. También, puede formarse una sal a partir de una resina de intercambio iónico, junto con el
55 grupo amino en la posición 7 o el ácido carboxílico en la posición 4.
Son ejemplos de disolventes agua, cetonas, tales como acetona; éteres, tales como THF y dioxano; haluros de hidrocarburo, tales como cloruro de metileno y cloroformo; nitrilos, tales como acetonitrilo, propionitrilo, butironitrilo, isobutironitrilo y valeronitrilo; y dimetilsulfóxido. Éstos pueden usarse solos o en una mezcla de al menos dos de ellos. Como alternativa, es posible usar un disolvente mixto, en el que se usa principalmente el disolvente anterior y se añaden otros disolventes al mismo. Como los disolventes habituales, existen, por ejemplo, ésteres de alquilo inferior de ácidos carboxílicos inferiores, tales como formiato de metilo, formiato de etilo, formiato de propilo, formiato de butilo, acetato de etilo, acetato de etilo, acetato de propilo, acetato de butilo, propionato de metilo y propionato de etilo; éteres, tales como éter dietílico, etil propil éter, etil butil éter, dipropil éter, éter diisopropílico, dibutil éter, metil Cellosolve y 65 dimetoxietano; éteres cíclicos, tales como tetrahidrofurano y dioxano; hidrocarburos aromáticos sustituidos o sin sustituir, tales como benceno, tolueno, xileno, clorobenceno y anisol; hidrocarburos, tales como pentano, hexano,
heptano y octano; cicloalcanos, tales como ciclopentano, ciclohexano, cicloheptano y ciclooctano; e hidrocarburos halogenados, tales como diclorometano, cloroformo, dicloroetano, tricloroetano, dibromoetano, dicloruro de propileno y tetracloruro de carbono. Son disolventes particularmente preferidos, disolventes mixtos en los que el disolvente principal es agua agua, dimetilformamida, 1-metil-2-pirrolidinona o dimetilsulfóxido.
5 Estos disolventes se usan en una cantidad de aproximadamente 0,5 a 200 litros, preferiblemente de aproximadamente 1 a 50 litros, por 1 kg del compuesto (2). La reacción se realiza en el intervalo de -10 a 80 ºC, preferiblemente de 0 a 50 ºC.
10 La presente invención se describirá con mayor detalla mediante los siguientes ejemplos, un ejemplo comparativo y un ejemplo de referencia.
Preparación de compuestos de 3-halogenometilcefem
15 Ejemplo 1
Después de ponderar 70 g de clorhidrato de un compuesto de la fórmula (1) (R1 = CHPh2, X1 = C1) (1a), se añadieron 210 ml de fenol al mismo y se agitó a una temperatura de 45 a 50 ºC, durante 30 minutos. Por separado, se ponderaron 1100 ml de diisopropil éter en un matraz de cuatro bocas y 2 l, y se agitó por completo a temperatura ambiente. Cuando
20 la reacción se terminó, la solución de fenol vertió gradualmente gota a gota en el diisopropil éter, depositándose por tanto un compuesto en forma de polvo. Éste se filtró a presión reducida y se secó a presión reducida, para dar 44 g (rendimiento: 99%) de del clorhidrato de un compuesto 2a (X1= C1).1H RMN (300 MHz, DMSO-d6) δ 3,65 (d, J = 18 Hz, 1H), 3,74(d, J = 18 Hz, 1H), 4,54(d, J = 11 Hz, 1H), 4,61 (d, J = 11 Hz, 1H), 5,17(d, J = 5 Hz, 1H), 5,23(d, J = 5 Hz, 1H).
Ejemplo 2
La reacción se realizó de la misma manera que en el Ejemplo 1, con la excepción de que se usó el clorhidrato de un compuesto de la fórmula (1) (R1= p-metoxibencilo, X1= C1) (1b), en lugar del clorhidrato del compuesto 1a, para dar 43
30 g (rendimiento: 97%) del clorhidrato de un compuesto de 3-halogenometilcefem deseado (2a). El clorhidrato obtenido del compuesto (2a) fue idéntico al del Ejemplo 1 según 1H RMN.
Ejemplo 3
35 La reacción se realizó de la misma manera que en el Ejemplo 1, con la excepción de que se usó m-cresol en lugar de fenol, y la reacción se continuó durante 4 horas a temperatura ambiente, para dar 44 g (rendimiento: 99%) del clorhidrato de un compuestos de 3-halogenometilcefem deseado (2a). El clorhidrato obtenido del compuesto (2a) fue idéntico al del Ejemplo 1 según 1H RMN.
40 Ejemplo 4
La reacción se realizó de la misma manera que en el Ejemplo 1, con la excepción de que se usó un compuesto 1b, en lugar del compuesto 1a, se usó m-cresol en lugar de fenol y la reacción se continuó durante 3 horas a temperatura ambiente, para dar 44 g (rendimiento: 99%) del clorhidrato de un compuesto de 3-halogenometilcefem deseado (2a).
45 El clorhidrato obtenido del compuesto (2a) fue idéntico al del Ejemplo 1 según 1H RMN.

Claims (1)

  1. REIVINDICACIONES
    1. Un proceso para preparar un compuesto de 3-halogenometilcefem de la fórmula (2) o una sal del mismo
    en la que X1 es un átomo de halógeno, caracterizado por que un grupo protector de ácido carboxílico en la posición 4 de un compuesto de 7-amino-3-halogenometilcefem de la fórmula (1) o una sal del mismo
    10 en la que X1 es un átomo de halógeno, y R1 es un grupo bencilo que tiene en un anillo fenilo, un grupo donante de electrones como sustituyente, o un grupo difenilmetilo que puede tener un grupo donante de electrones en un anillo fenilo, se desprotege con un derivado de fenol.
    15 2. A proceso como se ha definido en la reivindicación 1, en el que el grupo donante de electrones es un grupo hidroxi, un grupo alquilo C1-4 o un grupo alcoxi C1-4.
ES04028497T 1997-10-17 1998-10-16 Procesos para producir compuestos de 3-cefem Expired - Lifetime ES2382546T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30376597 1997-10-17
JP9303765A JPH11124384A (ja) 1997-10-17 1997-10-17 3−セフェム化合物の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2382546T3 true ES2382546T3 (es) 2012-06-11

Family

ID=17925019

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES04028497T Expired - Lifetime ES2382546T3 (es) 1997-10-17 1998-10-16 Procesos para producir compuestos de 3-cefem
ES98947899T Expired - Lifetime ES2310011T3 (es) 1997-10-17 1998-10-16 Proceso para producir compuestos de 3-cefem.

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES98947899T Expired - Lifetime ES2310011T3 (es) 1997-10-17 1998-10-16 Proceso para producir compuestos de 3-cefem.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6448393B1 (es)
EP (2) EP1028118B1 (es)
JP (1) JPH11124384A (es)
KR (1) KR100420739B1 (es)
CN (1) CN1155603C (es)
AT (2) ATE554094T1 (es)
AU (1) AU9462298A (es)
ES (2) ES2382546T3 (es)
WO (1) WO1999020631A1 (es)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4383557B2 (ja) * 1998-07-01 2009-12-16 大塚化学株式会社 3−セフェム化合物の製造方法
WO2007013043A2 (en) * 2005-07-29 2007-02-01 Ranbaxy Laboratories Limited Processes for the preparation of 7-amino-3-vinyl cephalosporanic acid
CN101792453B (zh) * 2010-03-17 2012-04-18 河北九派制药有限公司 一种7-氨基-3-磺酸基四氮唑硫甲基头孢烷酸的制备方法
CN102633813A (zh) * 2012-04-17 2012-08-15 黑龙江豪运精细化工有限公司 一种头孢唑林钠中间体tda的制备方法
CN104910188B (zh) * 2015-05-26 2017-07-04 齐鲁安替制药有限公司 一种头孢唑林酸的合成方法
CN105131018B (zh) * 2015-09-23 2017-12-26 浙江华方药业股份有限公司 一种头孢替唑酸的制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6011917B2 (ja) * 1981-04-09 1985-03-28 山之内製薬株式会社 新規なセファロスポリン化合物
JP2501785B2 (ja) * 1984-07-09 1996-05-29 明治製菓株式会社 新規セフアロスポリン系化合物
AU5258786A (en) * 1985-01-31 1986-08-07 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. 3-pyridinio thio methyl cephalosporins
JPH064638B2 (ja) * 1985-05-17 1994-01-19 大塚化学株式会社 β−ラクタム誘導体の製造方法
US5070194A (en) * 1985-05-17 1991-12-03 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Method for production of β-lactam derivatives
JPH064645B2 (ja) * 1985-11-27 1994-01-19 明治製菓株式会社 新規セフアロスポリン誘導体およびそれを含む抗菌剤
CA1283404C (en) * 1986-07-01 1991-04-23 Shigeru Sanai Cephalosporin compounds, processes for their preparation and antibacterial agents
GB8616002D0 (en) * 1986-07-01 1986-08-06 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephem compounds
JPH0651706B2 (ja) * 1986-08-18 1994-07-06 科研製薬株式会社 新規なセファロスポリン化合物
EP0416814B1 (en) * 1989-09-04 2002-04-24 Pfizer Inc. Antibacterial cephalosporin derivatives
GB9006728D0 (en) * 1990-03-26 1990-05-23 Beecham Group Plc Novel compounds
GB9104238D0 (en) * 1990-03-16 1991-04-17 Ici Pharma 3-tetrazolylthiomethyl cephalosporin antibiotics

Also Published As

Publication number Publication date
EP1512689B1 (en) 2012-04-18
EP1512689A1 (en) 2005-03-09
CN1155603C (zh) 2004-06-30
ATE554094T1 (de) 2012-05-15
KR20010031117A (ko) 2001-04-16
JPH11124384A (ja) 1999-05-11
AU9462298A (en) 1999-05-10
EP1028118A1 (en) 2000-08-16
KR100420739B1 (ko) 2004-03-02
US6448393B1 (en) 2002-09-10
EP1028118A4 (en) 2003-01-22
ES2310011T3 (es) 2008-12-16
WO1999020631A1 (fr) 1999-04-29
EP1028118B1 (en) 2008-07-30
CN1270594A (zh) 2000-10-18
ATE402940T1 (de) 2008-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1767538B1 (en) Process for producing 1-oxacephalosporin-7alpha-methoxy-3-chloromethyl derivative
ES2382546T3 (es) Procesos para producir compuestos de 3-cefem
JP4157177B2 (ja) 3−アルケニルセフェム化合物の製造法
KR100439491B1 (ko) 3-술포닐옥시-3-세펨 화합물의 제조방법
FI109126B (fi) Menetelmä kefepiimidihydrokloridihydraattiantibiootin valmistamiseksi
US20070004916A1 (en) Process for the production of cefotaxime sodium
EP1061082B1 (en) Process for the preparation of beta-hydroxy esters
JP4659959B2 (ja) 3−セフェム化合物及びその製造法
JP3775818B2 (ja) ハロゲン化β−ラクタム化合物の製造法
US5606071A (en) Process for preparing 5-arylhydantoins using 5-hydantoin, a halogenating agent and p-phenol
US20070037971A1 (en) Process for desilylation of carbapenem intermediates
EP0002128B1 (en) Process for preparing azetidinone mercury sulfides
JP3791941B2 (ja) 3−ハロゲン化セフェム誘導体の製造法
EP0647630B1 (en) Process for producing 5-arylhydantoins
KR930001115B1 (ko) 세팔로스포린의 제조방법
GB2051790A (en) Process for the production of serine derivatives
JPH08269025A (ja) アルコキシカルボニルアミノチアゾール酢酸誘導体の塩の製造方法
JPH07149731A (ja) 5−アリールヒダントイン化合物およびその誘導体の製造方法
JP2003313174A (ja) 4−アルキル−チアゾール化合物の製造法
JP2001261604A (ja) ハロゲノプロピルエーテル類の製造方法
KR19980701254A (ko) 3-할로겐화 세펨유도체 제조법(process for the preparation of 3-halogenocephem derivatives)
JPH10245387A (ja) 3−置換セフェム化合物の製造法
KR20040050437A (ko) 세프디토렌의 신규 제조 방법
JP2000044525A (ja) アミノベンゾニトリル化合物の製造方法
KR20010002705A (ko) 신규 티아졸 초산의 반응성 포스페이트 유도체의 제조방법