ES2314139T3 - Procedimiento para la limpieza de instalaciones de hilatura. - Google Patents
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Abstract
Procedimiento para la limpieza de instalaciones de hilatura con una pluralidad de taladros de hilatura para la emisión de plástico fundido líquido, en el que en el funcionamiento de la instalación de hilatura se cierren taladros de hilatura individuales contaminados y/u obstruidos con tapones, cuyos tapones están constituidos, al menos en parte, de al menos una sustancia oxidable, en el que instalación de hilatura es sometida, en el transcurso de su limpieza, a un tratamiento de pirólisis, a altas temperaturas para la eliminación de plástico residual y en el que la instalación de hilatura es sometida a un tratamiento oxidativo, de manera que se oxida la sustancia oxidable.
Description
Procedimiento para la limpieza de instalaciones
de hilatura.
La invención se refiere a un procedimiento para
la limpieza de instalaciones de hilatura con una pluralidad de
taladros de hilatura para la emisión de plástico fundido líquido.
Con tales instalaciones de hilatura se generan sobre todo
filamentos sin fin, que salen en primer lugar en estado fundido
líquido desde los taladros de hilatura o bien orificios de hilatura
de la placa de hilatura de una instalación de hilatura y se
depositan entonces en la superficie especialmente para formar tela
no tejida. Una plazca de hilatura puede presentar v arios miles de
taladros de hilatura. El concepto de instalación de hilatura se
refiere, en el marco de la invención, a los más diferentes procesos
de hilatura. A este respecto, instalación de hilatura significa,
por ejemplo, también una cabeza de fundición por soplado.
En las instalaciones de hilatura conocidas por
la práctica, delante de la placa de hilatura está dispuesto, en
general, un filtro, que captura inhomogeneidades en la colada
alimentada. Después de funcionamiento prolongado de la instalación
de hilatura, se pueden obstruir partes de este filtro y/o se pueden
obstruir algunos taladros de hilatura o bien capilares de hilatura
a través de contaminaciones. Cuando las contaminaciones y/u
obstrucciones son graves, debe desmontarse y limpiarse la placa de
hilatura y, dado el caso, montarse otra vez con un filtro nuevo.
Pero cuando solamente algunos taladros de hilatura o bien capilares
de hilatura están contaminados o bien se perjudica su modo de
funcionamiento a través de contaminaciones del filtro, es más
económico cerrar los taladros de hilatura que no trabajan ya
perfectamente de forma temporal con elementos de cierre o bien con
tapones. Solamente cuando se incrementa la contaminación o bien no
se puede utilizar ya perfectamente un número mayor de taladros de
hilatura, se desmonta la placa de hilatura para fines de limpieza.
La limpieza se realiza, en general, a través de un tratamiento de
pirólisis, en el que a presión negativa y/o en condiciones inertes
se gasifican el plástico residual que se adhiere a la placa de
hilatura así como las contaminaciones. A continuación se puede
realizar una limpieza posterior en baños de ultrasonido y/o con
limpiadores de alta presión. A través de las últimas medidas de
tratamiento mencionadas se retiran especialmente las cenizas
remanentes.
En el procedimiento conocido en la práctica, los
taladros de hilatura obstruidos o bien perjudicados en su modo de
funcionamiento, son cerrados de forma temporal con elementos de
cierre en forma de tapones de grafito. Estos tapones de grafito se
producen a través de combustión de una mezcla de grafito y arena. El
grafito está presente, por lo tanto, en estos tapones de grafito,
por decirlo así, en una aglomeración cerámica cocida. La
aglomeración cerámica es térmicamente estable hasta temperaturas de
más de 1000ºC. En el caso de una limpieza posterior de la
instalación de hilatura o bien de la placa de hilatura, deben
retirarse totalmente estos tapones de grafito, para que todos los
taladros de hilatura sean de nuevo totalmente funcionales como en el
estado original de la placa de hilatura. La retirada de los tapones
de grafito en el marco de las medidas de limpieza conocidas en la
práctica es posible de una manera relativamente sencilla en el caso
de taladros de hilatura en forma de capilares redondo, por ejemplo,
con 0,4 a 1 mm de diámetro. Cuando, a pesar de todo, se plantean
problemas durante la limpieza de los taladros de hilatura, se puede
realizar adicionalmente, en el marco de estas medidas conocidas,
una limpieza mecánica, por ejemplo con un hilo o similar. Pero esto
tiene el inconveniente de que en el caso de taladros de hilatura
con diámetro reducido no se pueden excluir totalmente daños en los
taladros de hilatura. Pero esto se aplica sobre todo para taladros
de hilatura con secciones transversales de salida especiales, como
taladros de hilatura con fibras huecas y similares. Estas secciones
transversales de salida tienen con frecuencia orificios con
anchuras de intersticio inferiores a 0,4 mm. Una limpieza mecánica,
por ejemplo con un alambre, es difícil o bien imposible sin
ocasionar daños en los taladros de hilatura.
En cambio, la invención se basa en el problema
técnico de indicar un procedimiento del tipo mencionado al
principio, con el que es posible una limpieza muy efectiva de la
instalación de hilatura o bien de la placa de hilatura y con el que
los tapones introducidos temporalmente se pueden retirar de una
manera sencilla y funcionalmente segura fuera de los taladros de
hilatura asociados.
Para la solución de este problema técnico, la
invención enseña un procedimiento para la limpieza de instalaciones
de hilatura con una pluralidad de taladros de hilatura para la
emisión de plástico fundido líquido,
- en el que en el funcionamiento de la instalación de hilatura se cierren taladros de hilatura individuales contaminados y/u obstruidos con tapones, cuyos tapones están constituidos, al menos en parte, de al menos una sustancia oxidable,
- en el que instalación de hilatura es sometida, en el transcurso de su limpieza, a un tratamiento de pirólisis, a altas temperaturas para la eliminación de plástico residual
- y en el que la instalación de hilatura es sometida a un tratamiento oxidativo, de manera que se oxida la sustancia oxidable.
En virtud de la instalación de última oxidación
mencionada de la sustancia oxidable, que es componente de los
tapones, es posible una retirada muy sencilla, funcionalmente segura
y completa de los tapones fuera de los taladros de hilatura.
Una instalación de hilatura de acuerdo con la
invención comprende especialmente una placa de hilatura, que está
provista con una pluralidad de taladros de hilatura. Como se ha
representado ya al principio, una instalación de hilatura
significa, por ejemplo, también cabezas de fundición por soplado o
las placas de hilatura de instalaciones de hilatura cortas u otras
instalaciones de hilatura. Que en el funcionamiento de la
instalación de hilatura se cierras los taladros de hilatura con
tapones significa que los tapones son introducidos en el periodo de
tiempo previo a una limpieza o limpieza a fondo, es decir, antes del
desmontaje temporal de la placa de hilatura, en los taladros de
hilatura. Solamente cuando no funciona ya perfectamente un número
mayor de taladros de hilatura o bien están contaminados y/u
obstruidos, se lleva a cabo la limpieza de acuerdo con la invención
de la instalación de hilatura con el tratamiento de pirólisis y el
tratamiento oxidativo.
Tapón significa en el marco de la invención un
elemento de cierre, que está adaptado en su forma de la sección
transversal o bien en sus dimensiones de la sección transversal a
los orificios de hilatura o bien a los taladros de hilatura. Está
en el marco de la invención, que se inserta un tapón en un taladro
de hilado a cerrar y de una manera más conveniente enchaveta en el
taladro de hilado.
Está en el marco de la invención que los tapones
están constituidos de al menos una primera sustancia y al menos una
segunda sustancia en forma de un aglutinante oxidable. El
aglutinante oxidable forma, por lo tanto, por decirlo así, un
enlace oxidable para la primera sustancia. De acuerdo con una forma
de realización preferida, que adquiere una importancia muy especial
en el marco de la invención, los tapones están constituidos de
grafito y de una sustancia oxidable. A este respecto, no se ignora
que el grafito es, en principio, igualmente oxidable. Pero de
acuerdo con esta forma de realización preferida de la invención, el
tapón está constituido de otra sustancia oxidable. El concepto de
sustancia oxidable o bien de aglutinante oxidable no comprende
grafito en el marco de la invención. De una manera preferida, en la
otra sustancia oxidable se trata de una sustancia, que se puede
oxidar más fácilmente o bien en condiciones más suaves que el
grafito. De acuerdo con una forma de realización muy preferida, que
adquiere una importancia muy especial en el marco de la invención,
la sustancia oxidante está constituida, al menos en parte, de
carbono amorfo puro. Carbono amorfo significa en este caso
especialmente al menos una sustancia del grupo "negro de carbón,
carbón vegetal, carbón activo, coque, carbón de gas, carbón
animal". Como se conoce, el grafito se diferencia del carbono
amorfo porque en el grafito existe una rejilla de capas regular o
bien una rejilla de grafito, mientras que el carbono amorfo no
presenta una estructura regular de este tipo.
Está en el marco de la invención que a medida
que se incrementa la contaminación y/o la obstrucción de la placa
de hilatura o bien de sus taladros de hilatura, se desmonta la palca
de hilatura para la limpieza. Entonces se realiza el tratamiento de
pirólisis y el tratamiento oxidativo. De acuerdo con una forma de
realización muy preferida de la invención, se realiza la pirólisis
a presión negativa y/o en condiciones inertes. La pirólisis sirve
para la gasificación de plástico residual que se adhiere en la
instalación de hilatura o bien en la placa de hilatura y/o de otras
impurezas bien contaminaciones. Presión negativa significa
especialmente que la pirólisis se realiza a vacío o, por decirlo
así, en condiciones de vacío. Para la pirólisis se puede emplear,
por ejemplo, vapor caliente. Está, además, en el marco de la
invención realizar la pirólisis bajo un gas de protección
inerte.
De una manera preferida, a continuación del
tratamiento de pirólisis se realiza una limpieza de la instalación
de hilatura o bien de la placa de hilatura en un baño de
ultrasonido. De una manera más conveniente, además, después del
tratamiento de pirólisis se realiza una limpieza de la instalación
de hilatura o bien de la placa de hilatura con un limpiador de alta
presión. Las dos medidas de limpieza mencionadas anteriormente
sirven especialmente para la retirada de cenizas que permanecen
después de la pirólisis. De una manera preferida, después del
tratamiento de pirólisis se realiza en primer lugar una limpieza en
el baño de ultrasonido y a continuación se lleva a cabo una
limpieza con un limpiador de alta presión.
Está en el marco de la invención que después del
tratamiento de pirólisis y, dado el caso, después de la limpieza en
el baño de ultrasonido y/o de la limpieza con un limpiador de alta
presión, tiene lugar el tratamiento oxidativo de la instalación de
hilatura. De acuerdo con una forma de realización muy preferida de
la invención, se realiza el tratamiento oxidativo de la instalación
de hilatura o bien de la placa de hilatura a temperaturas por
encima de 100ºC, con preferencia por encima de 150ºC, de una manera
preferida por encima de 200ºC en presencia de al menos un medio
oxidante. Está en el marco de la invención que el tratamiento
oxidativo se realiza a temperaturas de 200 a 600ºC, con preferencia
de 250 a 550ºC, de una manera preferida de 350 a 500ºC. De una
manera más conveniente, se emplea aire y/u oxígeno puro como medio
oxidante. Pero, en principio, es posible también la utilización de
otros medios oxidantes o bien de otros agentes de oxidación. Durante
el tratamiento oxidativo se lleva a cabo una oxidación del carbono
amorfo contenido en los tapones para formar dióxido de carbono.
Esto posibilita una retirada especialmente efectiva de los tapones
fuera de los taladros de hilatura asociados. De acuerdo con una
forma de realización especialmente preferida de la invención, se
realiza el tratamiento oxidativo a presión reducida. Presión
reducida significa en este caso una presión, que está por debajo de
la presión atmosférica.
De una manera preferida, después del tratamiento
oxidativo se realiza una limpieza de la instalación de hilatura o
bien de la placa de hilatura en el baño de ultrasonido. De una
manera más conveniente, se realiza, además, después del tratamiento
oxidativo una limpieza de la instalación de hilatura o bien de la
placa de hilatura con un limpiador de alta presión. Con
preferencia, se lleva a cabo en primer lugar una limpieza en el baño
de ultrasonido y a continuación una limpieza con el limpiador de
alta presión. Está en el marco de la invención que la secuencia de
etapas del procedimiento "tratamiento oxidativo limpieza en el
baño de ultrasonido- limpieza a alta presión" se repite al menos
una vez.
Si después del tratamiento de pirólisis y/o
después del tratamiento oxidativo tiene lugar una limpieza de la
instalación de hilatura o bien de la placa de hilatura con un
limpiador de alta presión, ha dado especialmente buen resultado un
limpiador de alta presión con toberas de taladro redondo. Además,
una forma de realización preferida de la invención se caracteriza
porque se emplea un limpiador de alta presión, que trabaja con un
chorro de líquido impulsado o bien con chorros de líquido
impulsados.
La invención se basa en el reconocimiento de que
con el procedimiento de acuerdo con la invención es posible una
limpieza completa y funcionalmente segura de una instalación de
hilatura o bien de una placa de hilatura. Hay que resaltar que esta
limpieza se puede realizar con un gasto relativamente reducido. Los
tapones insertados previamente en determinados taladros de hilatura
se pueden retirar de una manera sencilla y completa en el
transcurso de la limpieza. En virtud de la limpieza efectiva con el
procedimiento de acuerdo con la invención no son necesarias ya
etapas de limpieza adicionales, especialmente mecánicas. De esta
manera se evitan, naturalmente, también los datos de los taladros
de hilatura implicados con las medidas de limpieza mecánica.
Claims (10)
1. Procedimiento para la limpieza de
instalaciones de hilatura con una pluralidad de taladros de hilatura
para la emisión de plástico fundido líquido,
- en el que en el funcionamiento de la instalación de hilatura se cierren taladros de hilatura individuales contaminados y/u obstruidos con tapones, cuyos tapones están constituidos, al menos en parte, de al menos una sustancia oxidable,
- en el que instalación de hilatura es sometida, en el transcurso de su limpieza, a un tratamiento de pirólisis, a altas temperaturas para la eliminación de plástico residual
- y en el que la instalación de hilatura es sometida a un tratamiento oxidativo, de manera que se oxida la sustancia oxidable.
2. Procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 1, en el que los tapones están constituidos de
grafito y de una sustancia oxidable.
3. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 ó 2, en el que la sustancia oxidable está
constituida, al menos en parte, de carbono amorfo.
4. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 3, en el que la pirólisis se realiza a presión
negativa o bien a vacío y/o en condiciones inertes.
5. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 4, en el que el tratamiento oxidativo se
realiza a temperaturas por encima de 100ºC, con preferencia por
encima de 150ºC, de una manera preferida por encima de 200ºC en
presencia de al menos un medio oxidante (agente de oxidación).
6. Procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 5, en el que el tratamiento oxidativo se realiza a
temperaturas de 200 a 600ºC, con preferencia de 250 a 550ºC, de una
manera preferida de 350 a 500ºC.
7. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 6, en el que se emplea aire y/u oxígeno puro
como medio oxidante.
8. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 7, en el que el tratamiento oxidan se te
realiza a presión reducida.
9. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 8, en el que la instalación de hilatura se
limpia después del tratamiento de pirólisis y/o después del
tratamiento oxidativo en un baño de ultrasonido.
10. Procedimiento de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 9, en el que la instalación de hilatura se
limpia después del tratamiento de pirólisis y/o después del
tratamiento oxidativo con un limpiador de alta presión.
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