DE69534314T2 - Magnetoresistiver Spinventilfühler mit selbstverankernder laminierter Schicht und Benutzung des Fühlers in einem magnetischen Aufzeichnungssystem - Google Patents

Magnetoresistiver Spinventilfühler mit selbstverankernder laminierter Schicht und Benutzung des Fühlers in einem magnetischen Aufzeichnungssystem Download PDF

Info

Publication number
DE69534314T2
DE69534314T2 DE69534314T DE69534314T DE69534314T2 DE 69534314 T2 DE69534314 T2 DE 69534314T2 DE 69534314 T DE69534314 T DE 69534314T DE 69534314 T DE69534314 T DE 69534314T DE 69534314 T2 DE69534314 T2 DE 69534314T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
ferromagnetic
film
spin valve
magnetization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69534314T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69534314D1 (de
Inventor
Kevin Robert Coffey
Bruce Alvin Gurney
David Eugene Heim
Haralambos Lefakis
Daniele Mauri
Virgil Simon Speriosu
Dennis Richard Wilhoit
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=22986511&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE69534314(T2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Application granted granted Critical
Publication of DE69534314D1 publication Critical patent/DE69534314D1/de
Publication of DE69534314T2 publication Critical patent/DE69534314T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09Magnetoresistive devices
    • G01R33/093Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B5/3903Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B5/3903Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
    • G11B5/399Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures with intrinsic biasing, e.g. provided by equipotential strips
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
    • G11C11/15Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/3268Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn
    • H01F10/3272Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn by use of anti-parallel coupled [APC] ferromagnetic layers, e.g. artificial ferrimagnets [AFI], artificial [AAF] or synthetic [SAF] anti-ferromagnets
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00Galvanomagnetic devices
    • H10N50/80Constructional details
    • H10N50/85Magnetic active materials
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B2005/3996Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects large or giant magnetoresistive effects [GMR], e.g. as generated in spin-valve [SV] devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)

Description

  • Diese Patentanmeldung ist mit US-A-08/139,477, eingereicht am 15. Oktober 1993 (der japanischen Patentanmeldung N. 6-206 311, eingereicht am 31. August 1994 und der koreanischen Patentanmeldung N. 94-23 917, eingereicht am 15. September 1994) verwandt.
  • Diese Erfindung betrifft einen auf dem Spinventileffekt beruhenden magnetoresistiven Fühler (MR-Fühler) zum Erfassen von Magnetfeldern und magnetische Aufzeichnungssysteme, in die solche Fühler eingebaut sind.
  • Ein MR-Fühler erfasst Magnetfeldsignale durch die Widerstandsänderungen eines Leseelements, das aus einem Magnetmaterial hergestellt ist, als Funktion der Stärke und der Richtung des Magnetflusses, der durch das Leseelement erfasst wird. Der herkömmliche MR-Fühler, wie etwa der, der beim IBM Plattenlaufwerk "Corsair" verwendet wird, funktioniert auf der Basis der anisotropen Magnetowiderstandswirkung (AMR-Wirkung), bei der sich eine Komponente des Leseelementwiderstands als das Quadrat des Kosinus des Winkels zwischen der Magnetisierung in dem Leseelement und der Richtung des Lesestromflusses durch das Leseelement verändert. Aufgezeichnete Daten können aus einem Magnetspeicher gelesen werden, weil das äußere Magnetfeld von dem beschriebenen Magnetspeicher (das Nutzfeld) eine Änderung der Magnetisierungsrichtung in dem Leseelement bewirkt, die wiederum eine Änderung des Widerstands in dem Leseelement und eine entsprechende Änderung des Lesestromes oder der Lesespannung bewirkt.
  • Ein anderer und stärker ausgeprägter Magnetowiderstand, der gigantischer Magnetowiderstand (GMR) oder Magneto-Spinventilwiderstand (SVMR) genannt wird, ist in einer Vielfalt von magnetischen Mehrschichtstrukturen bemerkt worden, wobei das wesentliche Merkmal wenigstens zwei durch eine nichtferromagnetische Metallschicht getrennte ferromagnetische Metallschichten sind. Dieser GMR-Effekt ist bei einer Vielfalt von Systemen, wie etwa bei Fe/Cr- oder Co/Cu-Mehrfachschichten gefunden worden, die sowohl eine starke antiferromagnetische Kopplung der ferromagnetischen Schichten als auch im Wesentlichen entkoppelte Mehrschichtstrukturen aufweisen, bei denen die Magnetisierungsausrichtung in einer der beiden ferromagnetischen Schichten speicherresident oder verankert ist. Der physikalische Ursprung ist bei allen Arten von Strukturen der Gleiche: Das Anlegen eines äußeren Magnetfeldes bewirkt eine Änderung der relativen Ausrichtung der Magnetisierungen der benachbarten ferromagnetischen Schichten. Dies wiederum bewirkt eine Änderung in der spinabhängigen Streuung der Leitungselektronen und folglich des elektrischen Widerstands der Struktur. Der Widerstand der Struktur ändert sich folglich, während sich die relative Ausrichtung der Magnetisierungen der ferromagnetischen Schichten ändert.
  • Eine besonders nützliche Anwendung des GMR ist eine Sandwichstruktur, die zwei im Wesentlichen entkoppelte ferromagnetische Schichten umfasst, die durch eine nichtmagnetische Metallabstandsschicht getrennt sind, in der die Magnetisierung von einer der ferromagnetischen Schichten "verankert" ist. Das Verankern kann erreicht werden, indem auf der ferromagnetischen Schicht, die verankert werden soll, eine antiferromagnetische Eisen-/Manganschicht (Fe-Mn-Schicht) abgelagert wird, sodass diese beiden benachbarten Schichten austauschgekoppelt sind. Bei der nichtverankerten oder "freien" ferromagnetischen Schicht ist die Magnetisierung ihrer Erweiterungen (jenen Abschnitten der freien Schicht auf jeder Seite des mittleren Abfühlbereichs) ebenfalls speicherresident, jedoch in einer zur Magnetisierung der verankerten Schicht senkrechten Richtung, sodass nur die Magnetisierung des Mittelbereichs der freien Schicht bei der Anwesenheit eines äußeren Feldes frei drehbar ist. Typischerweise ist die Magnetisierung in den Erweiterungen der freien Schicht durch Austauschkopplung mit einer antiferromagnetischen Schicht ebenfalls speicherresident. Um die verankerte Schicht zu verankern, muss das dafür verwendete antiferromagnetische Material jedoch von dem antiferromagnetischen Fe-Mn-Material, das verwendet wird, verschieden sein. Die entstehende Struktur ist ein magnetoresistiver Spinventilsensor (SVMR-Sensor), bei dem nur die freie ferromagnetische Schicht bei der Anwesenheit eines äußeren Magnetfeldes frei drehbar ist. Das auf IBM übertragene US-Patent 5 206 590 offenbart einen prinzipiellen SVMR-Fühler. Das ebenfalls auf IBM übertragene US-Patent 5 159 513 offenbart einen SVMR-Fühler, bei dem wenigstens eine der ferromagnetischen Schichten aus Kobalt oder aus einer Kobaltlegierung ist und bei dem die Magnetisierungen der beiden ferromagnetischen Schichten ohne von außen angelegtem Magnetfeld durch Austauschkopplung der verankerten ferromagnetischen Schicht mit einer antiferromagnetischen Schicht im Wesentlichen senkrecht zueinander gehalten werden.
  • Der SVMR-Fühler, der das linearste Ansprechverhalten und den breitesten dynamischen Bereich aufweist, ist ein Fühler, in dem die Magnetisierung der verankerten ferromagnetischen Schicht zum Nutzfeld parallel ist und die Magnetisierung der freien ferromagnetischen Schicht zum Nutzfeld senkrecht ist. In dem Fall, in dem der SVMR-Fühler bei einem horizontalen Magnetspeicherplatten-Laufwerk verwendet werden soll, bedeutet dies, dass die Ebene des Fühlers zur Plattenoberfläche senkrecht ist, wobei die Magnetisierung der verankerten Schicht senkrecht zur Plattenoberfläche und die Magnetisierung der freien Schicht parallel zur Plattenoberfläche ausgerichtet sind. Eine Schwierigkeit, diese Magnetisierungsausrichtung zu erreichen, wird durch das von der verankerten Schicht erzeugte Dipolfeld hervorgerufen. Die verankerte Schicht hat ein magnetisches Nettomoment und wirkt folglich im Wesentlichen als ein makroskopischer Dipolmagnet, dessen Feld auf die freie Schicht wirkt. Bei SVMR-Fühlern, bei denen die Höhe des Leseelements relativ klein ist, ist das Ergebnis dieser magnetostatischen Kopplung, dass die Magnetisierungsrichtung in der freien Schicht nicht gleichmäßig ist. Dies bewirkt, dass bei der Anwesenheit des Nutzfeldes Abschnitte des Fühlers vorzeitig gesättigt werden, was den dynamischen Bereich des Fühlers und folglich die Speicherdichte und die Gesamtleistung des magnetischen Aufzeichnungssystems begrenzt.
  • Die verwandte Patentanmeldung US-A-08/139,477 betrifft einen SVMR-Fühler, der dieses Problem durch die Verwendung einer laminierten, verankerten ferromagnetischen Mehrfachdünnschicht statt der herkömmlichen bei einer Einzelschicht verankerten Schicht angeht. Die laminierte verankerte Schicht weist wenigstens zwei ferromagnetische Dünnschichten auf, die über eine antiferromagnetische Kopplungsdünnschicht (antiferromagnetical coupling film – AF) antiferromagnetisch miteinander gekoppelt sind. Da die magnetischen Momente der verankerten ferromagnetische Dünnschichten antiparallel zueinander ausgerichtet sind, kann bewirkt werden, dass sich die beiden Momente im Wesentlichen einander aufheben. Das führt dazu, dass es im Wesentlichen kein Dipolfeld gibt, das die freie ferromagnetische Schicht negativ beeinflusst.
  • In SVMR-Fühlern, die entweder die bei einer Einzelschicht verankerte Schicht oder die laminierte verankerte Schicht verwenden, die in der ebenfalls anhängigen Patentanmeldung beschrieben ist, ist die Austauschkopplung mit einer antiferromagnetischen Fe-Mn-Schicht das bevorzugte Verfahren zum Verankern der Schicht. Die Verwendung von Fe-Mn als die Austauschkopplungsschicht wirft mehrere Probleme auf. Die Stärke des durch das Fe-Mn erzeugte Austauschfeldes ist sehr empfindlich gegenüber der Temperatur. Wenn die Temperatur ansteigt, "wird das Fe-Mn weich", wobei seine Fähigkeit, die Magnetisierung der verankerten ferromagnetischen Schicht festzulegen, abnimmt. Folglich können SVMR-Fühler durch den elektrostatischen Entladestrom (electrostatic discharge – ESD) und die sich daraus ergebende Erwärmung des Fe-Mn beschädigt werden. Fe-Mn ist auch gegenüber Korrosion viel anfälliger als die anderen beim SVMR-Fühler verwendeten Materialien. Diese Tatsache erfordert eine sorgfältige Steuerung der Schritte des Herstellungsverfahrens und die Verwendung von Schutzmaterialien für den SVMR. Die Verwendung von Fe-Mn erfordert auch, dass das zum Austauschvorspannen der Erweiterungen der freien ferromagnetischen Schicht verwendete antiferromagnetische Material aus einem anderen Material, vorzugsweise aus Ni-Mn hergestellt ist. Um eine ausreichende Austauschkopplungs-Feldstärke sicherzustellen, muss das Ni-Mn bei etwa 240°C getempert werden. Bei dieser Temperatur kann die wechselseitige Diffusion der anderen Materialien in die freie ferromagnetische Schicht auftreten. Dies kann zu einem verminderten Magnetowiderstand, einer erhöhten Anisotropiefeldstärke und einer großen Änderung der Magnetostriktion der freien ferromagnetischen Schicht führen.
  • Beispiele für Fühler des Standes der Technik können in Jour. Appl. Phys., Bd. 75, Nr. 10, 15. Mai 1994, Seiten 7061 bis 7063, A. Schul u. a. "Epitaxial spin-valve structures for ultra-low field detection"; oder in Zhang Z u. a., "FMR in strongly coupled Co/Ru/Co Structures", 13. April 1993, Zusammenfassungen der International Magnetic Conference (INTERMAG), 13. bis 16. Apr. 1993, DB-3; oder in der US-Patentschrift 5 287 238 gefunden werden.
  • Die oben genannten Nachteile des Stands der Technik werden durch die Erfindung, wie sie beansprucht ist, überwunden.
  • Es gibt also einen Bedarf nach einem SVMR-Fühler, der keine der mit einer Fe-Mn-Austauschkopplungsschicht verbundenen Nachteile aufweist und der eine verankerte ferromagnetische Schicht aufweist, die eine minimale magnetostatische Kopplung mit der freien ferromagnetischen Schicht bewirkt.
  • Die Erfindung ist ein verbesserter SVMR-Fühler und ein magnetisches Aufzeichnungssystem, in das der Fühler integriert ist. Der SVMR-Fühler verwendet eine selbstverankernde laminierte Schicht als die verankerte ferromagnetische Schicht statt der herkömmlichen bei einer Einzelschicht verankerten Schicht. Da diese laminierte Schicht "selbstverankernd" ist, ist eine Hartvorspannungs- oder Austauschvorspannungsschicht nicht erforderlich. Die selbstverankernde laminierte Schicht weist wenigstens zwei ferromagnetische Dünnschichten auf, die über eine antiferromagnetische Kopplungsdünnschicht antiferromagnetisch miteinander gekoppelt sind. Da die magnetischen Momente der beiden ferromagnetischen Dünnschichten in dieser laminierten Schicht antiparallel ausgerichtet sind, kann bewirkt werden, dass sich ihre beiden magnetischen Momente durch die entsprechende Wahl der Dicken im Wesentlichen einander aufheben. Die durch das Nutzfeld erzeugte Magnetfeldenergie, die an dieser laminierten Schicht wirkt, wird bedeutend kleiner als die wirksame Anisotropieenergie der laminierten Schicht sein. Dies ist so, weil die Erstere zur Differenz zwischen den Stärken der beiden ferromagnetischen Dünnschichten in der laminierten Schicht proportional ist, während die Letztere zur Summe der Stärken proportional ist. Infolgedessen dreht sich die laminierte Schicht bei der Anwesenheit des Nutzfeldes nicht nennenswert, sondern wird "selbst-verankernd" sein. Die Entfernung der Austauschvorspannungsschicht, die zuvor zum Verankern benötigt wurde, beseitigt auch die Notwendigkeit von Ni-Mn und seinem zugeordneten Hochtemperaturverfahren, weil andere Antiferromagnete wie etwa Fe-Mn-Cr oder NiO es ersetzen können.
  • Verschiedene Ausführungsformen der Erfindung werden jetzt beispielhaft anhand der beigefügten Figuren ausführlich beschrieben in denen:
  • 1 eine vereinfachte Darstellung eines Magnetspeicherplatten-Laufwerks für die Verwendung mit dem SVMR-Fühler gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
  • 2 eine Draufsicht des Plattenlaufwerks aus 1 ist, bei dem die Abdeckung entfernt ist;
  • 3 eine perspektivische Explosionsdarstellung eines SVMR-Fühlers des Standes der Technik ist, die die verankerte ferromagnetische Schicht und ihre zugeordnete Austauschvorspannungsschicht zeigt;
  • 4 eine Ansicht des SVMR-Fühlers des Standes der Technik aus 3 wie von der Magnetplatte gesehen ist, die auch die Deckschicht und elektrische Zuleitungen zeigt;
  • 5 eine Ansicht des SVMR-Fühlers gemäß der vorliegenden Erfindung wie von der Magnetplatte gesehen ist.
  • Obwohl der SVMR-Fühler der vorliegenden Erfindung als in ein Magnetplatten-Speichersystem, wie es in 1 gezeigt ist, aufgenommen beschrieben wird, ist die Erfindung auch auf andere magnetische Aufzeichnungssysteme wie etwa auf ein Magnetband-Aufzeichnungssystem und auf Direktzugriffs-Magnetspeichersysteme anwendbar, wobei ein magnetoresistives Element als eine Bitzelle dient.
  • 1 zeigt einen Schnitt durch ein Plattenlaufwerk nach dem Standes der Technik des Typs, bei dem ein MR-Fühler verwendet wird. Das Plattenlaufwerk umfasst einen Aufnahmekörper 10, an dem ein Plattenlaufwerkmotor 12 und ein Zugriffsarm 14 sowie eine Abdeckung 11 befestigt sind. Der Aufnahmekörper 10 und die Abdeckung 11 stellen ein im Wesentlichen abgedichtetes Gehäuse für das Plattenlaufwerk bereit. Typischerweise befinden sich eine Dichtung 13 und ein (nicht gezeigtes) kleines Druckausgleichsloch zum Ausgleichen des Drucks zwischen dem Inneren des Plattenlaufwerks und der äußeren Umgebung zwischen dem Aufnahmekörper 10 und der Abdeckung 11. Eine Magnetspeicherplatte 16 ist mittels einer Nabe 18 mit dem Antriebsmotor 12 verbunden, an der sie für Drehung durch den Antriebsmotor 12 befestigt ist. Ein dünner Schmierfilm 50 wird auf der Oberfläche der Platte 16 aufrechterhalten. Ein Schreib-/Lesekopf oder Wandler 25 ist an dem hinteren Ende eines Trägers wie etwa an einem Luftpolstergleiter 20 ausgebildet. Der Wandler 25 kann ein induktiver Lese- und Schreibwandler oder ein induktiver Schreibwandler mit einem SVMR-Lesewandler des zu beschreibenden Typs sein. Der Gleiter 20 ist mittels eines starren Plattenzugriffsarms 22 und einer Aufhängung 24 mit dem Zugriffsarm 14 verbunden. Die Aufhängung 24 erzeugt eine Vorspannkraft, die den Gleiter 20 auf die Oberfläche der Speicherplatte 16 drückt. Während des Betriebs des Plattenlaufwerks dreht der Antriebsmotor 12 die Platte 16 mit einer konstanten Drehzahl, wobei der Zugriffsarm 14, der typischerweise ein Linear- oder Dreh-Schwingspulenmotor (VCM) ist, den Gleiter 20 im Allgemeinen radial über die Oberfläche der Platte 16 bewegt, sodass der Schreib-/Lesekopf auf verschiedene Datenspuren auf der Platte 16 zugreifen kann.
  • 2 ist eine Draufsicht auf das Innere des Plattenlaufwerks bei entfernter Abdeckung 11 und zeigt detaillierter die Aufhängung 24, die dem Gleiter 20 eine Kraft verleiht, um ihn auf die Platte 16 zu drücken. Die Aufhängung kann eine herkömmliche Art der Aufhängung wie etwa die bekannte Watrous-Aufhängung sein, wie sie in der US-Patentschrift 4167-765 von IBM beschrieben ist. Diese Art der Aufhängung sorgt auch für eine kardanische Befestigung des Gleiters, die die Nickbewegung und die Rollbewegung des Gleiters ermöglicht, während er auf dem Luftpolster schwebt. Die durch den Wandler 25 von der Platte 16 erfassten Daten werden durch Signalverstärkung und eine auf dem Chip integrierte Verarbeitungsschaltung 15 zu einem Datenkontrolllesesignal verarbeitet, wobei sich der Chip auf dem Plattenzugriffsarm 22 befindet. Die Signale vom Wandler 25 laufen über ein biegsames Kabel 17 zum Chip 15, der seine Ausgangssignale über das Kabel 19 übermittelt.
  • Die obige Beschreibung eines typischen Magnetplatten-Speichersystems und die beigefügten 1 und 2 dienen nur für Darstellung. Es sollte klar sein, dass Plattenspeichersysteme eine große Anzahl von Platten und Zugriffsarmen enthalten können und dass jeder Zugriffsarm eine Anzahl von Gleitern tragen kann. Außerdem kann es sich bei dem Kopfträger gegebenenfalls nicht um ein Luftpolstergleiter, sondern um einen Träger handeln, bei dem der Kopf in Kontakt oder in nahem Kontakt mit der Platte gehalten wird, wie dies etwa in einem Flüssigkeitslager und in anderen Kontakt-Speicherplattenlaufwerken der Fall ist.
  • Ein SVMR-Fühler 30 des Standes der Technik ist in 3 gezeigt. Die Dünnschichten, die den fertiggestellten Fühler bilden, werden auf einem geeigneten Substrat 31 getragen. Der SVMR-Fühler 30 kann einen Teil des Wandlers 25 in dem Plattenlaufwerksystem aus 1 und 2 bilden, und das Substrat 31 kann das hintere Ende des Kopfträgers oder Gleiters 20 sein.
  • Eine Pufferschicht 33 ist auf dem Substrat 31 aufgebracht, gefolgt von einer ersten dünnen Schicht 35 aus weichem ferromagnetischem Material. Eine dünne nicht ferromagnetische Metallabstandsschicht 37, eine zweite dünne Schicht 39 aus ferromagnetischem Material und eine dünne Schicht 41 aus einem Austauschvorspannungsmaterial, die einen relativ hohen elektrischen Widerstand aufweist und in direktem Kontakt mit der ferromagnetischen Schicht 39 ist, sind über der Schicht 35 aufgebracht. Die Schichten 37, 39, 41 werden dann abgeätzt, damit sie eine vorgegebene Breite aufweisen, die im Allgemeinen der Breite der Datenspur auf dem Magnetspeicher wie etwa der Platte 16 entspricht. Die antiferromagnetischen Schichten 42, 43 werden direkt auf den Erweiterungen an den Seiten des mittleren Abfühlbereichs 36 der ferromagnetischen Schicht 35 gebildet. Nicht in 3 gezeigt sind die Deckschicht zum Korrosionsschutz und die elektrischen Zuleitungen, die in Mustern auf die Schichten 42, 43 aufgebracht sind.
  • Bei der Abwesenheit eines äußeren angelegten Magnetfeldes von der beschriebenen Magnetplatte 16 sind die Magnetisierungen der beiden Schichten 35, 39 aus ferromagnetischem Material vorzugsweise mit einem Winkel von etwa 90 Grad in Bezug zueinander ausgerichtet, wie durch die Pfeile 32 bzw. 38 gezeigt ist. Die ferromagnetische Schicht 35 wird deshalb die "freie" ferromagnetische Schicht genannt, weil sich die Richtung der Magnetisierung in ihrem mittleren Bereich 36 als Antwort auf ein äußeres angelegtes Magnetfeld (wie etwa das Magnetfeld h, wie in 3 gezeigt ist) frei drehen kann, wie durch die gestrichelten Pfeile auf der Schicht 35 gezeigt ist. Die ferromagnetische Schicht 39 wird die "verankerte" ferromagnetische Schicht genannt, weil ihre Magnetisierungsrichtung in einer bevorzugten Ausrichtung speicherresident oder verankert ist, wie durch den Pfeil 38 gezeigt ist. Die Schicht 41 erzeugt durch Austauschkopplung ein Vorspannfeld und verankert somit die Magnetisierung der ferromagnetischen Schicht 39 in einer bevorzugten Richtung (Pfeil 38), sodass sich ihre Richtung bei der Anwesenheit eines angelegten äußeren Magnetfeldes, das eine Stärke im Bereich des Nutzfeldes der Platte 16 aufweist, nicht wesentlich drehen kann. Ebenso erzielen die Schichten 42, 43 durch Austauschkopplung mit den Erweiterungen des mittleren Bereichs 36 der freien ferromagnetischen Schicht 35 ein Längsvorspannen. Dies stell sicher, dass die Magnetisierung des mittleren Abfühlbereichs 36 der freien ferromagnetischen Schicht 35 bei der Abwesenheit eines äußeren angelegten Magnetfeldes im Allgemeinen senkrecht zur Magnetisierung der verankerten ferromagnetischen Schicht 39 gehalten wird.
  • 4 ist eine Ansicht der Struktur aus 3, wie sie von der Oberfläche der Platte 16 nach oben gesehen erscheinen würde. 4 zeigt auch die Deckschicht 44 und die in Mustern aufgebrachten elektrischen Zuleitungen 45, 46 zum Herstellen der elektrischen Verbindung mit dem Fühler 30. Die verankerte ferromagnetische Schicht 39 hat ein makroskopisches magnetisches Nettomoment, das durch den Pfeil 38 in die Papierebene hinein dargestellt ist. Das diesem magnetischen Moment zugehörige Magnetfeld hat eine Wirkung auf die freie ferromagnetische Schicht 35 in ihrem mittleren Abfühlbereich 36. Die Magnetisierung (Pfeil 32) der freien Schicht 35 ist mit einem Winkel von etwa 90 Grad zur Magnetisierung der verankerten Schicht 39 ausgebildet. Das Feld der verankerten Schicht 39 bewirkt, dass die Magnetisierung in der freien Schicht 35 ungleichförmig ist. Die Ungleichförmigkeit der Magnetisierung bewirkt, dass Abschnitte des Fühlers 30 bei der Anwesenheit eines äußeren angelegten Nutzfeldes von dem Magnetspeicher vorzeitig gesättigt werden.
  • Die Verwendung der antiferromagnetischen Austauschkopplungsschichten 41 und 42, 43 ist das bevorzugte Verfahren zum Verankern der Magnetisierungen der ferromagnetischen Schicht 39 bzw. der Erweiterungen der freien Schicht 35. Jedoch können die Magnetisierungen der zweiten ferromagnetischen Schicht 39 und der Erweiterungen der freien Schicht 35 durch Alternativverfahren wie etwa durch die Verwendung einer (nicht gezeigten) Hartvorspannungsschicht verankert werden, wie den Fachleuten bekannt ist. Die Austauschvorspannungsschichten 41, und 42, 43 sind typischerweise aus einem geeigneten antiferromagnetischen Material wie etwa aus Eisen-Mangan (Fe-Mn) oder aus Nickel-Mangan (Ni-Mn) hergestellt. Die Schicht 41 muss jedoch aus einem antiferromagnetischen Material hergestellt werden, das von dem Material, das für die Schichten 42, 43 verwendet wird, verschieden ist. Dies ist so, weil die Magnetisierung der Schicht 41 zu den Magnetisierungen der Schichten 42, 43 senkrecht gemacht werden muss. Während der Bearbeitung ist das antiferromagnetische Material einem angelegten Magnetfeld ausgesetzt, während es auf eine spezifische kritische Temperatur erwärmt wird, um seine Magnetisierung auszurichten. Es müssen verschiedene Materialien gewählt werden, sodass, wenn ein Material auf seine kritische Temperatur erwärmt wird, um seine Magnetisierung auszurichten, diese Temperatur unter der kritischen Temperatur des anderen Materials liegt und seine Magnetisierung nicht beeinflusst wird. Folglich wird die Schicht 41 typischerweise aus Fe-Mn hergestellt, das eine kritische Temperatur von etwa 160°C aufweist, wobei die Schichten 42, 43 aus Ni-Mn hergestellt werden, das eine kritische Temperatur von etwa 240°C aufweist.
  • Die oben beschriebene Ausführungsform ist für einen bei einem Magnetspeicherplatten-Laufwerk verwendeten SVMR-Fühler. Das SVMR-Element der vorliegenden Erfindung ist jedoch auch bei der Verwendung in Direktzugriffs-Magnetspeichersystemen anwendbar. In einer solchen Ausführungsform dient das SVMR-Element als eine Bitzelle, wobei die Magnetisierungen der freien Schicht und der verankerten Schicht nicht rechtwinklig, sondern parallel oder antiparallel ausgerichtet wären.
  • In der vorliegenden Erfindung wird die bei einer Einzelschicht verankerte ferromagnetische Schicht in dem SVMR-Fühler durch eine selbstverankernde laminierte Struktur ersetzt, die wenigstens zwei durch eine antiferromagnetische Kopplungsdünnschicht getrennte ferromagnetische Dünnschichten umfasst. Die antiferromagnetische Schicht zum Verankern der verankerten Schicht wird entfernt. Die beiden ferromagnetischen Dünnschichten, die die laminierte verankerte Schicht bilden, sind mittels geeignetem Typ und Dicke der antiferromagnetischen Kopplungsdünnschicht antiferromagnetisch miteinander gekoppelt, sodass ihre Magnetisierungen antiparallel zueinander ausgerichtet sind.
  • Die bevorzugte Ausführungsform des SVMR-Fühlers gemäß der vorliegenden Erfindung ist schematisch in 5 gezeigt, die wie 4 eine Ansicht der Struktur ist, wie sie von der Oberfläche des Magnetspeichers aus nach oben gesehen erscheinen würde. In 5 ist der SVMR-Fühler 60 jedoch als mit der verankerten Schicht und der freien Schicht umgekehrt gegenüber dem SVMR-Fühler des Standes der Technik aus 4 hergestellt gezeigt.
  • Der SVMR-Fühler 60, wie er in 5 gezeigt ist, wird durch Gleichstrommagnetron-Zerstäubungsablagerung bei der Anwesenheit eines angelegten Magnetfeldes hergestellt. Zuerst wird eine Dünnschicht von 50 bis 100 Å (1 Å = 10–10 m) aus Tantal (Ta) als eine Pufferschicht 62 auf ein Substrat 61 aufgebracht, das in dieser Ausführungsform Glas war. Das Substrat könnte jedoch auch aus anderen Materialien wie etwa aus einem Halbleitermaterial oder aus einem Keramikmaterial sein, wie es beispielsweise für herkömmliche Gleiter verwendet wird. Die verankerte ferromagnetische Schicht 70, welche die bei einer Einzelschicht verankerten Schicht 39 in der Struktur des Standes der Technik aus 3 ersetzt, ist eine selbstverankernde laminierte Struktur. Sie umfasst eine erste Kobaltdünnschicht (Co film) 72 mit einer Dicke im Bereich von 20 bis 50 Å, die direkt auf der Ta-Pufferschicht 62 ausgebildet ist, eine Rutheniumdünnschicht (Ru film) 73 von 3 bis 10 Å, die auf der ersten Co-Dünnschicht 72 aufgebracht ist, und eine zweite Co-Dünnschicht 74 von 10 bis 40 Å Dicke, die auf dem Ru-Film 73 ausgebildet ist. Die Vorzugsachsen der Magnetisierungen der Dünnschichten 72, 74 sind auf Grund des angelegten Feldes senkrecht zur Ebene der Figur (in die Papierebene hinein) ausgerichtet. Die Richtungen der Magnetisierung der beiden Dünnschichten 72, 74 werden später eingestellt, nachdem alle Dünnschichten auf dem SVMR-Fühler 60 aufgebracht worden sind. Diese Magnetisierungsrichtungen liegen wie gezeigt, d.h. bei der Dünnschicht 72 zum Datenträger hin, wie durch den Pfeil 76 gezeigt ist, und bei dem Film 74 weg von dem Datenträger, wie durch den Pfeil 78 gezeigt ist, obwohl auch das Gegenteil funktionieren würde.
  • Dann wird eine Kupferschicht (Cu Layer 63 mit einer Dicke im Bereich von 20 bis 40 Å auf der zweiten Co-Dünnschicht 74 aufgebracht, die als die nichtferromagnetische Metallabstandsschicht dient. Während in dieser Ausführungsform Cu als die Abstandsschicht verwendet wurde, können andere nichtferromagnetische metallische Materialien mit einer hohen elektrischen Leitfähigkeit wie etwa Silber (Ag) Gold (Au) und ihre Legierungen verwendet werden.
  • Als Nächstes wird die freie ferromagnetische Schicht 64 über der Abstandsschicht 63 gebildet. Sie umfasst eine auf der Cu-Abstandsschicht 63 aufgebrachte Co-Dünnschicht 65 von 3 bis 12 Å Dicke und eine über der Co-Dünnschicht 65 aufgebrachte Ni-Fe-Dünnschicht 66 von 15 bis 60 Å Dicke. Beide Dünnschichten 65, 66, die die freie ferromagnetische Schicht 64 bilden, werden bei der Anwesenheit desselben angelegten Magnetfeldes aufgebracht, das während des Aufbringens der verankerten Dünnschichten 72, 74 verwendet wird, sodass dieses Feld auch die Vorzugsachsen der Magnetisierung der freien Schicht 64 definiert. Alternativ könnte das angelegte Feld von seiner vorherigen Richtung um 90 Grad gedreht sein. Die Magnetisierungsrichtung der freien ferromagnetischen Schicht 64 wird später eingestellt, nachdem alle Filme in dem SVMR-Fühler 60 aufgebracht und strukturierte worden sind. Diese Magnetisierungsrichtung wird wie durch den Pfeil 67 gezeigt liegen, d.h. im Allgemeinen parallel zum Datenträger und senkrecht zu den Magnetisierungsrichtungen 76, 78 der verankerten Dünnschichten 72 bzw. 74. Während die freie ferromagnetische Schicht 64 in der bevorzugten Ausführungsform eine an die Cu-Abstandsschicht 63 angrenzende Co-Dünnschicht 65 enthält, kann die Dünnschicht 65 auch eine Co-Legierung sein. Es ist auch möglich, die freie ferromagnetische Schicht 64 aus einem einzelnen ferromagnetischen Material zu bilden. Die Co-Dünnschicht oder Co-Legierungsdünnschicht 65 erhöht den Magnetowiderstand des Fühlers, wird aber relativ dünn, im Bereich von 2 bis 20 Å, gehalten, um die Wirkung des relativ "hart" magnetischen Co-Materials auf die Permeabilität des Fühlers zu minimieren.
  • Nach dem Aufbringen der freien ferromagnetischen Schicht 64 wird eine erste Ta-Schicht 69 über der freien ferromagnetischen Schicht 64 gebildet. Als Nächstes wird die Ta-Schicht 69 auf dem mittleren Bereich 80 der freien ferromagnetischen Schicht 64 abgedeckt. Die Struktur wird dann zur Zerstäubungsablagerungskammer zurückgebracht, wobei das angelegte Feld senkrecht zu ihrer ursprünglichen Richtung ausgerichtet ist. Die Ta-Schicht 69 wird dann abgeätzt, um die seitlichen Erweiterungen 81, 82 der freien ferromagnetischen Schicht 64 freizulegen. Das Ätzen des Ta definiert die Kanten 90, 91 des mittleren Abfühlbereichs 80 der freien ferromagnetischen Schicht 64. Die Breite des Bereichs 80 zwischen den Kanten 90, 91 wird so gewählt, dass sie im Allgemeinen mit der Breite der Datenspur auf dem Magnetspeicher übereinstimmt. Da diese Breite im Mikrometerbereich (im Bereich 10.000 Å) liegt, ist die Zeichnung der 5 nicht maßstäblich, sodass die Fühlerdünnschichten gezeigt werden können.
  • Die antiferromagnetischen Austauschvorspannungsschichten 83, 84 werden dann direkt auf die seitlichen Erweiterungen 81, 82 der freien ferromagnetischen Dünnschicht 66 aufgebracht. Dies bewirkt, dass die Richtung der Magnetisierungen der Erweiterungen 81, 82 senkrecht zu ihren ursprünglichen Vorzugsachsen eingestellt wird. Obwohl es in 5 nicht gezeigt ist, kann es wünschenswert sein, zuerst zusätzliches Ni-Fe auf die seitlichen Erweiterungen 81, 82 aufzubringen, weil während des vorangehenden Ätzschritts etwas von dem Ni-Fe aus dem Film 66 entfernt worden sein kann. In der bevorzugten Ausführungsform ist das für die Schichten 83, 84 verwendete Material Fe-Mn-Cr. Das Fe-Mn-Cr wird dann einem äußeren Magnetfeld ausgesetzt und auf 180°C erwärmt, was erheblich niedriger als die bei Ni-Mn erforderliche Temperatur 240°C ist. Die Fe-Mn-Cr Schichten 83, 84 erzielen ein Längsvorspannen der Erweiterungen 81, 82 der freien Schicht, um ihre Magnetisierungen in der Richtung des Pfeils 67 festzulegen. Dieser zusätzliche Schritt des Erwärmens und Abkühlens in dem Feld stellt sicher, dass die gewünschten Magnetisierungsausrichtungen der Erweiterungen 81, 82 aufrechterhalten werden.
  • Eine Deckschicht 85 von 40 bis 60 Å aus Ta wird dann über den antiferromagnetischen Fe-Mn-Cr-Austauschvorspannungsschichten 83, 84 aufgebracht, um dem Fühler 60 Korrosionsbeständigkeit zu verleihen. Andere geeignete Deckmaterialien sind Materialien mit hoher Widerstandsfähigkeit wie etwa Ruthenium (Ru), Zirkonium (Zr) oder Legierungen von Cu und Gold (Au).
  • 5 zeigt ebenfalls schematisch das Mittel zum Verbinden des SVMR-Fühlers 60 mit der Abfühlschaltung in dem magnetischen Aufzeichnungssystem. Die elektrischen Zuleitungen 86, 87, die vorzugsweise aus Au oder aus mit Ta beschichtetem Au gebildet sind, werden außerhalb des Abfühlbereichs 80 auf die Deckschicht 85 aufgebracht, um eine Leiterbahn zwischen dem SVMR-Fühler 60 und einer Stromquelle 88 sowie einem Abfühlmittel 89 zu bilden.
  • Nachdem die Fühlergeometrie fertig gestellt ist, werden die Richtungen der Magnetisierungen der Schichten 72, 74 durch das Anlegen eines ausreichend starken Magnetfeldes (~10 Koe = 1 Tesla) eingestellt. Die Magnetisierungsrichtung der Schicht 66 ist auf Grund ihrer Formanisotropie und der Wirkung der verankerten Erweiterungen 81, 82 selbstverankernd.
  • In der bevorzugten Ausführungsform wird ein magnetisches Signal in dem Datenträger durch Abfühlmittel 89 abgefühlt, die die Änderung des Widerstands Delta R des SVMR 60 erfassen, während sich die Magnetisierung des mittleren Bereichs 80 der freien ferromagnetischen Schicht 64 als Reaktion auf das angelegte magnetische Signal von dem beschriebenen Datenträger dreht.
  • Die beiden Co-Dünnschichten 72, 74 in der laminierten verankerten Schicht 70 weisen die durch die Pfeile 76 bzw. 78 gezeigte Magnetisierungsrichtungen auf. Die antiparallele Ausrichtung der Magnetisierungen der beiden Co-Dünnschichten 72, 74 wird durch eine antiferromagnetische Austauschkopplung durch der antiferromagnetischen Ru-Kopplungsdünnschicht 73 bewirkt. Wegen dieser antiferromagnetischen Kopplung und da die beiden Co-Dünnschichten 72, 74 im Wesentlichen dieselbe Dicke aufweisen können, können sich die magnetischen Momente von jeder der Dünnschichten im Wesentlichen einander aufheben. Das magnetische Nettomoment der laminierten Schicht 70 ist folglich wesentlich kleiner als die Summe der magnetischen Momente der beiden einzelnen Dünnschichten 72, 74.
  • Während in der in 5 dargestellten Ausführungsformen die selbstverankernde laminierte ferromagnetische Schicht 70 zwei antiferromagnetisch gekoppelte Dünnschichten 72, 74 umfasst, die durch eine einzelne antiferromagnetische Kopplungsdünnschicht 73 getrennt sind, kann die Schicht 70 eine mehrfache Anzahl von ferromagnetischen Dünnschichten umfassen, die durch antiferromagnetische Kopplungsdünnschichten getrennt sind.
  • In Abhängigkeit von den für die ferromagnetischen Dünnschichten 72, 74 und die antiferromagnetische Kopplungsdünnschicht 73 in der laminierten verankerten Schicht 70 ausgewählten Materialien gibt es eine bevorzugte Dicke der antiferromagnetischen Kopplungsdünnschicht, bei der die ferromagnetischen Dünnschichten stark antiferromagnetisch gekoppelt werden. Die Dicke der antiferromagnetischen Kopplungsdünnschicht darf jedoch nicht so gering sein, dass eine nennenswerte Anzahl von Poren in der Dünnschicht vorkommt, was seine antiferromagnetische Kopplungsstärke beeinflussen würde. Die Stärke des antiferromagnetischen Kopplungsfeldes weist ein Schwingungsverhalten als Funktion der zunehmenden Dicke des antiferromagnetischen Films auf. Dieses Schwingungskopplungsverhältnis ist von Parkin u. a. in Phys. Rev. Lett., Bd. 64, S. 2304 (1990) für ausgewählte Materialkombinationen beschrieben.
  • Während die laminierte verankerte Schicht in dem SVMR-Fühler 60 mit den bevorzugten Materialien Co und Ru als die ferromagnetische Kopplungsdünnschicht bzw. die antiferromagnetische Kopplungsdünnschicht gezeigt worden ist, sind andere Materialkombinationen wie etwa Eisen/Chrom (Fe/Cr) und andere ferromagnetische Materialien (wie etwa Fe, Ni, Co oder Legierungen von Fe, Ni oder Co) mit anderen antiferromagnetischen Kopplungsdünnschichten (wie etwa Cr, Rhodium (Rh), Iridium (Ir) und ihren Legierungen) möglich. Jedoch müsste das Schwingungs-Austauschkopplungsverhältnis für jede solche Materialkombination ermittelt werden, wenn es nicht bereits bekannt ist, sodass die Dicke der antiferromagnetischen Kopplungsdünnschicht so gewählt werden kann, dass die antiferromagnetische Kopplung zwischen den beiden ferromagnetischen Dünnschichten gesichert ist.
  • Würden die "Live"-Dicken der beiden ferromagnetischen Dünnschichten 72, 74, die die laminierte verankerte Schicht 70 bilden, identisch sein, wäre das Nettomoment der verankerten Schicht 70 theoretisch null, weil sich jedes der magnetischen Momente genau aufheben würde. (Mit "Live"-Dicke ist die tatsächliche Dicke der verankerten Dünnschichten 72, 74 gemeint, die ein magnetisches Moment besitzt, wobei sie folglich die Oberflächen der Dünnschichten ausschließt, die mit angrenzenden Dünnschichten gemischt oder oxidiert worden sein können. Folglich ist die Livedicke von jedem der Dünnschichten 72, 74 kleiner als ihre Gesamtdicke). Da es nicht möglich ist, jede der Dünnschichten präzise mit der genau gleichen Dicke zu bilden, wird das Nettomoment der verankerten Schicht 70 als ein natürliches Ergebnis des normalen Aufbringungsverfahrens wahrscheinlich ein kleiner, aber von null verschiedener Wert sein. Es ist jedoch wünschenswert, eine der verankerten ferromagnetischen Dünnschichten absichtlich bis zu einer Stärke aufzubringen, die etwas größer als die Stärke der anderen Dünnschicht ist, wie in Bezug auf 5 beschrieben ist, sodass es ein kleines, von null verschiedenes magnetisches Nettomoment in der verankerten Schicht gibt. Dies stellt sicher, dass die Magnetisierung der verankerten Schicht 70 bei der Anwesenheit von kleinen Magnetfeldern stabil ist, sodass die Richtung ihrer Magnetisierung voraussagbar ist.
  • Der Hauptaspekt des SVMR 60 der vorliegenden Erfindung ist die Abwesenheit entweder einer Hartvorspannungsschicht oder einer antiferromagnetischen Schicht, die an die verankerte ferromagnetische Schicht 70 angrenzen, zum Verankern der Magnetisierung der verankerten ferromagnetischen Schicht 70. Das Fehlen dieser Schicht erübrigt zusätzliche Bearbeitungsschritte und ermöglicht, dass Fe-Mn (oder Fe-Mn-Cr in der bevorzugten Ausführungsform) als die antiferromagnetische Schicht zum Vorspannen der Erweiterungen 81, 82 der freien ferromagnetischen Schicht 63 in Längsrichtung verwendet wird. Folglich können die mit der Verwendung von Ni-Mn verbundenen Probleme beseitigt werden.
  • Im Gegensatz zur Verwendung der bei Einzelschichten verankerten Schichten des Standes der Technik mit der zughörigen Hartvorspannungs- oder Austauschvorspannungsschicht ist in dem SVMR-Fühler 60 der vorliegenden Erfindung keine Hartvorspannungs- oder Austauschvorspannungsschicht erforderlich, weil die laminierte Schicht 70 "selbstverankernd" ist. Da die beiden ferromagnetischen Dünnschichten 72, 74 in der laminierten Schicht 70 beinahe dieselbe Stärke aufweisen, ihre Magnetisierungen aber in entgegengesetzte Richtungen verlaufen, ist das magnetische Nettomoment der Schicht 70 klein. Ein äußeres angelegtes Feld erzeugt eine magnetostatische Energie, die mit dem Produkt aus diesem kleinen Nettomoments und der angelegten Feldstärke in Beziehung steht. Diese angelegte Feldenergie bewirkt nicht, dass sich die laminierte Schicht 70 dreht, weil diese Energie kleiner als die wirksame Anisotropiefeldenergie der laminierten Schicht 70 sein wird. Der Grund, warum die angelegte Feldenergie kleiner als die wirksame Anisotropiefeldenergie ist, liegt darin, dass sie zur Differenz der Livedicken der beiden ferromagnetischen Dünnschichten 72, 74 proportional ist, während die wirksame Anisotropiefeldenergie zur Summe der Livedicken dieser beiden Dünnschichten proportional ist. Damit die laminierte Schicht 70 selbstverankernd ist, muss auch das Eigenanisotropiefeld von jedem der Dünnschichten 72, 74 um ein Vielfaches größer als das Kopplungsfeld der freien Schicht 64 sein. Dies wird durch die Auswahl der Materialien für die laminierte verankerte Schicht 70 bei einer gegebenen. Kombination Abstandsschicht/freie Schicht erreicht. Beispielsweise ist in der in 5 beschriebenen und gezeigten Ausführungsform das Eigenanisotropiefeld von jeder Co-Dünnschicht 72, 74 etwa 60 Oe, während das Kopplungsfeld der freien Schicht 64 unter 20 Oe liegt. Die laminierte Schicht 70 dreht sich folglich bei der Anwesenheit eines angelegten Nutzfeldes nicht und ist somit selbstverankernd.
  • Der SVMR-Fühler gemäß der vorliegenden Erfindung weist eine gegenüber dem Stand der Technik bedeutend verbesserte Leistung auf. Verglichen mit SVMR-Fühlern, die dem 240°C-Berarbeitungsschritt ausgesetzt werden, der erforderlich ist, wenn Ni-Mn verwendet wird, ist der Magnetowiderstand (Delta R/R) etwa 20 bis 30% erhöht, und das Anisotropiefeld der freien ferromagnetischen Schicht ist etwa 70% geringer. Auch die Änderung der Magnetostriktion, die durch den Hochtemperatur-Bearbeitungsschritt bewirkt wird, wird um einen Faktor von 10 verringert. Im Ergebnis wurde ein Signalansprechwert von 5 Millivolt/Mikrometer berechnet, was ungefähr eine Verbesserung von 300% gegenüber dem SVMR-Fühler des Standes der Technik ist.

Claims (13)

  1. Magnetoresistives Spinventilelement (60), das umfasst: eine erste Schicht (64) und eine zweite Schicht (70) aus ferromagnetischem Material, die durch eine Abstandsschicht (63) aus nicht magnetischem Material getrennt sind, wobei die Magnetisierungsrichtung der ersten Schicht (64) aus ferromagnetischem Material mit einem Winkel in Bezug auf die Magnetisierungsrichtung der zweiten Schicht (70) aus ferromagnetischem Material bei null angelegtem Magnetfeld ausgerichtet ist, wobei die zweite Schicht (70) aus ferromagnetischem Material eine laminierte Schicht ist, die einen ersten ferromagnetischen Film (72) und einen zweiten ferromagnetischen Film (74) umfasst, die mittels eines antiferromagnetischen Kopplungsfilms (73), der sich zwischen dem ersten ferromagnetischen Film (72) und dem zweiten ferromagnetischen Film (74) befindet und in Kontakt mit den beiden Filmen ist, um den ersten ferromagnetischen Film und den zweiten ferromagnetischen Film antiferromagnetisch zusammenzukoppeln, sodass ihre Magnetisierungen antiparallel zueinander ausgerichtet sind und bei der Anwesenheit eines angelegten Magnetfeldes antiparallel bleiben, antiferromagnetisch miteinander gekoppelt sind, wobei die laminierte Schicht ein magnetisches Nettomoment aufweist, das wesentlich kleiner als die Summe der magnetischen Momente ihres ersten ferromagnetischen Films und ihres zweiten ferromagnetischen Films ist, wodurch die in der laminierten Schicht durch das angelegte Magnetfeld erzeugte Magnetfeldenergie unzureichend ist, eine Drehung der Magnetisierungen der ferromagnetischen Filme zu bewirken, wobei dem Element keine Hartvorspannungsschicht oder Austauschvorspannungsschicht erfordert, um die Magnetisierung der zweiten ferromagnetischen Schicht (70) zu verankern.
  2. Magnetoresistives Spinventilelement (60) wie in Anspruch 1, wobei der antiferromagnetische Kopplungsfilm (73) in der zweiten ferromagnetischen Schicht (70) im Wesentlichen aus Ru besteht.
  3. Magnetoresistives Spinventilelement (60) wie in Anspruch 1 oder 2, wobei der erste ferromagnetische Film (72) und der zweite ferromagnetische Film (74) in der zweiten ferromagnetischen Schicht (70) im Wesentlichen aus Co bestehen.
  4. Magnetoresistives Spinventilelement (60) wie in Anspruch 1, wobei der erste ferromagnetische Film (72) und der zweite ferromagnetische Film (74) in der zweiten ferromagnetischen Schicht (70) aus einem Material hergestellt sind, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Co, Fe, Ni und Legierungen von Co, Fe oder Ni besteht, und wobei der antiferromagnetische Kopplungsfilm (73) in der zweiten ferromagnetischen Schicht (70) aus einem Material hergestellt ist, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Ru, Cr, Rh, Ir und ihren Legierungen besteht.
  5. Magnetoresistives Spinventilelement (60) nach einem vorangehenden Anspruch, wobei der erste Film (72) und der zweite Film (74) in der zweiten ferromagnetischen Schicht (70) im Wesentlichen dasselbe magnetische Moment aufweisen.
  6. Magnetoresistives Spinventilelement (60) nach einem vorangehenden Anspruch, wobei die nicht magnetische Abstandsschicht (63) ein Material umfasst, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Ag, Au, Cu und Legierungen von Ag, Au und Cu besteht.
  7. Magnetoresistives Spinventilelement (60) nach einem vorangehenden Anspruch, wobei die erste ferromagnetische Schicht (64) einen dünnen Film (65) aus Co oder einer Co-Legierung enthält, der an die Abstandsschicht (63) angrenzt.
  8. Magnetoresistives Spinventilelement (60) nach einem vorangehenden Anspruch, das ferner eine über der ersten ferromagnetischen Schicht (64) ausgebildete Deckschicht (85) umfasst.
  9. Magnetoresistiver Spinventilfühler, der umfasst: das magnetoresistive Spinventilelement (60) nach einem vorangehenden Anspruch, wobei die erste ferromagnetische Schicht (64) eine freie ferromagnetische Schicht ist, die bei der Abwesenheit eines angelegten Magnetfeldes eine gegebene Ausrichtung der Magnetisierung aufweist, und die zweite ferromagnetische Schicht (70) die laminierte, selbstverankernde Schicht ist, wobei der erste ferromagnetische Film (72) ein erster verankerter ferromagnetischer Film ist, der eine Magnetisierung aufweist, die mit einem Winkel zur Magnetisierung der freien ferromagnetischen Schicht (64) ausgerichtet ist, und der zweite ferromagnetische Film (74) ein zweiter verankerter ferromagnetischer Film ist, der eine Magnetisierungsrichtung aufweist, die im Allgemeinen antiparallel zur Magnetisierung des ersten verankerten ferromagnetischen Films (72) ist.
  10. Magnetoresistiver Spinventilfühler nach Anspruch 9, wobei die freie ferromagnetische Schicht (64) einen mittleren Abfühlbereich (80) und Erweiterungen (81, 82) auf den Seiten des mittleren Abfühlbereichs (80) aufweist, und der ferner Schichten (83, 84) aus einer Legierung, die Fe und Mn umfasst, umfasst, die an die Erweiterungen der freien ferromagnetischen Schicht angrenzend ausgebildet sind, um die Magnetisierungen der Erweiterungen der freien Schicht in Längsrichtung vorzuspannen.
  11. Magnetoresistiver Spinventilfühler wie in Anspruch 9 oder 10, der ferner ein Substrat (61) umfasst, wobei sich die selbstverankernde laminierte Schicht (70) zwischen dem Substrat (61) und der freien ferromagnetischen Schicht (64) befindet.
  12. Magnetoresistiver Spinventilfühler wie in Anspruch 11, der ferner eine Pufferschicht (62) zwischen dem Substrat (61) und der selbst verankernden laminierten Schicht (70) umfasst.
  13. Magnetspeichersystem, das den magnetoresistiven Spinventilfühler nach einem der Ansprüche 9 bis 12 umfasst.
DE69534314T 1994-06-15 1995-05-02 Magnetoresistiver Spinventilfühler mit selbstverankernder laminierter Schicht und Benutzung des Fühlers in einem magnetischen Aufzeichnungssystem Expired - Lifetime DE69534314T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US259815 1994-06-15
US08/259,815 US5583725A (en) 1994-06-15 1994-06-15 Spin valve magnetoresistive sensor with self-pinned laminated layer and magnetic recording system using the sensor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69534314D1 DE69534314D1 (de) 2005-08-25
DE69534314T2 true DE69534314T2 (de) 2006-04-20

Family

ID=22986511

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69534314T Expired - Lifetime DE69534314T2 (de) 1994-06-15 1995-05-02 Magnetoresistiver Spinventilfühler mit selbstverankernder laminierter Schicht und Benutzung des Fühlers in einem magnetischen Aufzeichnungssystem

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5583725A (de)
EP (1) EP0687917B2 (de)
JP (1) JP3033934B2 (de)
KR (1) KR0175984B1 (de)
CN (1) CN1064132C (de)
DE (1) DE69534314T2 (de)
MY (1) MY115958A (de)

Families Citing this family (206)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5991125A (en) * 1994-09-16 1999-11-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic head
US5896251A (en) * 1994-12-26 1999-04-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetoresistance effect head with conductor film pair and magnetic field proving film pair disposed between substrate and magnetoresistance effect film
JP3629309B2 (ja) * 1995-09-05 2005-03-16 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッド
EP0749112B1 (de) * 1995-06-15 2002-02-13 TDK Corporation Magnetoresistiver Wandler mit "Spin-Valve" Struktur und Herstellungsverfahren
SG46731A1 (en) * 1995-06-30 1998-02-20 Ibm Spin valve magnetoresistive sensor with antiparallel pinned layer and improved exchange bias layer and magnetic recording system using the senor
JP3362818B2 (ja) * 1995-08-11 2003-01-07 富士通株式会社 スピンバルブ磁気抵抗効果型トランスジューサ及び磁気記録装置
US5896252A (en) * 1995-08-11 1999-04-20 Fujitsu Limited Multilayer spin valve magneto-resistive effect magnetic head with free magnetic layer including two sublayers and magnetic disk drive including same
JPH0983039A (ja) * 1995-09-14 1997-03-28 Nec Corp 磁気抵抗効果素子
US5768067A (en) 1995-09-19 1998-06-16 Alps Electric Co., Ltd. Magnetoresistive head using exchange anisotropic magnetic field with an antiferromagnetic layer
EP0768641A1 (de) * 1995-10-09 1997-04-16 TDK Corporation Herstellungsverfahren für ein Magnetkopfgerät mit magnetoresistivem Kopf mit Spinventil-Effekt
US5650887A (en) * 1996-02-26 1997-07-22 International Business Machines Corporation System for resetting sensor magnetization in a spin valve magnetoresistive sensor
US5742162A (en) * 1996-07-17 1998-04-21 Read-Rite Corporation Magnetoresistive spin valve sensor with multilayered keeper
US5696655A (en) * 1996-07-30 1997-12-09 Nec Research Institute, Inc. Self-biasing non-magnetic giant magnetoresistance
US5612098A (en) * 1996-08-14 1997-03-18 Read-Rite Corporation Method of forming a thin film magnetic structure having ferromagnetic and antiferromagnetic layers
US5705973A (en) * 1996-08-26 1998-01-06 Read-Rite Corporation Bias-free symmetric dual spin valve giant magnetoresistance transducer
US5739988A (en) * 1996-09-18 1998-04-14 International Business Machines Corporation Spin valve sensor with enhanced magnetoresistance
US5751521A (en) * 1996-09-23 1998-05-12 International Business Machines Corporation Differential spin valve sensor structure
JP3291208B2 (ja) * 1996-10-07 2002-06-10 アルプス電気株式会社 磁気抵抗効果型センサおよびその製造方法とそのセンサを備えた磁気ヘッド
JP3593220B2 (ja) * 1996-10-11 2004-11-24 アルプス電気株式会社 磁気抵抗効果多層膜
US5717550A (en) * 1996-11-01 1998-02-10 Read-Rite Corporation Antiferromagnetic exchange biasing using buffer layer
US5739990A (en) * 1996-11-13 1998-04-14 Read-Rite Corporation Spin-valve GMR sensor with inbound exchange stabilization
US5768069A (en) * 1996-11-27 1998-06-16 International Business Machines Corporation Self-biased dual spin valve sensor
US5796561A (en) * 1996-11-27 1998-08-18 International Business Machines Corporation Self-biased spin valve sensor
JP3255872B2 (ja) * 1997-04-17 2002-02-12 アルプス電気株式会社 スピンバルブ型薄膜素子及びその製造方法
US6104189A (en) * 1997-06-13 2000-08-15 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor having at least one layer with a pinned magnetization direction
US5867351A (en) * 1997-07-25 1999-02-02 International Business Machines Corporation Spin valve read head with low moment, high coercivity pinning layer
EP1134815A3 (de) * 1997-09-29 2001-10-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetowiderstandseffektvorrichtung und Herstellungsverfahren desselben
US6038107A (en) * 1997-10-27 2000-03-14 International Business Machines Corporation Antiparallel-pinned spin valve sensor
US5898549A (en) * 1997-10-27 1999-04-27 International Business Machines Corporation Anti-parallel-pinned spin valve sensor with minimal pinned layer shunting
US6245450B1 (en) 1997-11-17 2001-06-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exchange coupling film magnetoresistance effect device magnetoresistance effective head and method for producing magnetoresistance effect device
US6141191A (en) * 1997-12-05 2000-10-31 International Business Machines Corporation Spin valves with enhanced GMR and thermal stability
US6175477B1 (en) 1997-12-05 2001-01-16 International Business Machines Corporation Spin valve sensor with nonmagnetic oxide seed layer
US5920446A (en) * 1998-01-06 1999-07-06 International Business Machines Corporation Ultra high density GMR sensor
US6108166A (en) * 1998-03-12 2000-08-22 Read-Rite Corporation Current-pinned spin valve sensor
US6074767A (en) * 1998-03-12 2000-06-13 International Business Machines Corporation Spin valve magnetoresistive head with two sets of ferromagnetic/antiferromagnetic films having high blocking temperatures and fabrication method
US6134090A (en) * 1998-03-20 2000-10-17 Seagate Technology Llc Enhanced spin-valve/GMR magnetic sensor with an insulating boundary layer
JPH11296823A (ja) * 1998-04-09 1999-10-29 Nec Corp 磁気抵抗効果素子およびその製造方法、ならびに磁気抵抗効果センサ,磁気記録システム
US6191926B1 (en) 1998-05-07 2001-02-20 Seagate Technology Llc Spin valve magnetoresistive sensor using permanent magnet biased artificial antiferromagnet layer
US6356420B1 (en) 1998-05-07 2002-03-12 Seagate Technology Llc Storage system having read head utilizing GMR and AMr effects
US6738236B1 (en) 1998-05-07 2004-05-18 Seagate Technology Llc Spin valve/GMR sensor using synthetic antiferromagnetic layer pinned by Mn-alloy having a high blocking temperature
JP4316806B2 (ja) * 1998-05-11 2009-08-19 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 磁気多重層センサ
US6117569A (en) * 1998-05-27 2000-09-12 International Business Machines Corporation Spin valves with antiferromagnetic exchange pinning and high uniaxial anisotropy reference and keeper layers
US6127053A (en) * 1998-05-27 2000-10-03 International Business Machines Corporation Spin valves with high uniaxial anisotropy reference and keeper layers
US6169647B1 (en) 1998-06-11 2001-01-02 Seagate Technology Llc Giant magnetoresistive sensor having weakly pinned ferromagnetic layer
US6313973B1 (en) 1998-06-30 2001-11-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Laminated magnetorestrictive element of an exchange coupling film, an antiferromagnetic film and a ferromagnetic film and a magnetic disk drive using same
US6424506B1 (en) 1998-07-21 2002-07-23 Alps Electric Co., Ltd. Spin-valve magnetoresistive thin film element
US6195240B1 (en) * 1998-07-31 2001-02-27 International Business Machines Corporation Spin valve head with diffusion barrier
JP2000057538A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Hitachi Ltd 磁気抵抗センサを用いた磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置
US6252796B1 (en) * 1998-08-14 2001-06-26 U.S. Philips Corporation Device comprising a first and a second ferromagnetic layer separated by a non-magnetic spacer layer
JP2002522866A (ja) * 1998-08-14 2002-07-23 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ スピントンネル接合素子を具える磁界センサ
US6052263A (en) * 1998-08-21 2000-04-18 International Business Machines Corporation Low moment/high coercivity pinned layer for magnetic tunnel junction sensors
US7294242B1 (en) 1998-08-24 2007-11-13 Applied Materials, Inc. Collimated and long throw magnetron sputtering of nickel/iron films for magnetic recording head applications
AU6268599A (en) * 1998-09-28 2000-04-17 Seagate Technology Llc Quad-layer gmr sandwich
US6122150A (en) * 1998-11-09 2000-09-19 International Business Machines Corporation Antiparallel (AP) pinned spin valve sensor with giant magnetoresistive (GMR) enhancing layer
WO2000030077A1 (en) 1998-11-18 2000-05-25 Seagate Technology Llc Differential vgmr sensor
US6795280B1 (en) 1998-11-18 2004-09-21 Seagate Technology Llc Tunneling magneto-resistive read head with two-piece free layer
US6185077B1 (en) 1999-01-06 2001-02-06 Read-Rite Corporation Spin valve sensor with antiferromagnetic and magnetostatically coupled pinning structure
JP2000215422A (ja) * 1999-01-27 2000-08-04 Alps Electric Co Ltd スピンバルブ型磁気抵抗効果素子およびその製造方法とその素子を備えた薄膜磁気ヘッド
US6351355B1 (en) * 1999-02-09 2002-02-26 Read-Rite Corporation Spin valve device with improved thermal stability
US6469878B1 (en) 1999-02-11 2002-10-22 Seagate Technology Llc Data head and method using a single antiferromagnetic material to pin multiple magnetic layers with differing orientation
US6567246B1 (en) 1999-03-02 2003-05-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetoresistance effect element and method for producing the same, and magnetoresistance effect type head, magnetic recording apparatus, and magnetoresistance effect memory element
US6201673B1 (en) 1999-04-02 2001-03-13 Read-Rite Corporation System for biasing a synthetic free layer in a magnetoresistance sensor
US6330128B1 (en) * 1999-04-26 2001-12-11 International Business Machines Corporation Magnetic head assembly having open yoke write head with highly defined narrow track width
US6219208B1 (en) * 1999-06-25 2001-04-17 International Business Machines Corporation Dual spin valve sensor with self-pinned layer specular reflector
DE69940443D1 (de) * 1999-07-05 2009-04-02 Fujitsu Ltd Spinventil-magnetowiderstandseffektkopf, denselben enthaltenden zusammengesetzten magnetkopf und widerstandsaufgezeichneten mediumantrieb
US6687098B1 (en) * 1999-07-08 2004-02-03 Western Digital (Fremont), Inc. Top spin valve with improved seed layer
US6356419B1 (en) * 1999-07-23 2002-03-12 International Business Machines Corporation Antiparallel pinned read sensor with improved magnetresistance
JP3272329B2 (ja) 1999-07-26 2002-04-08 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッド及び浮上式磁気ヘッド
US6507187B1 (en) * 1999-08-24 2003-01-14 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Ultra-sensitive magnetoresistive displacement sensing device
JP3793669B2 (ja) 1999-08-26 2006-07-05 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ 巨大磁気抵抗効果ヘッド、薄膜磁気ヘッドならびに磁気記録再生装置
JP2001067625A (ja) 1999-08-30 2001-03-16 Alps Electric Co Ltd 磁気抵抗効果型素子及びその製造方法
JP2001084530A (ja) 1999-09-16 2001-03-30 Alps Electric Co Ltd 磁気抵抗効果素子及びその製造方法
KR100373473B1 (ko) 1999-09-24 2003-02-25 가부시끼가이샤 도시바 자기 저항 효과 소자, 자기 저항 효과 헤드, 자기 재생장치 및 자성 적층체
WO2001024170A1 (fr) 1999-09-29 2001-04-05 Fujitsu Limited Tete a effet de resistance magnetique et dispositif de reproduction d'informations
US6455177B1 (en) 1999-10-05 2002-09-24 Seagate Technology Llc Stabilization of GMR devices
US6205052B1 (en) * 1999-10-21 2001-03-20 Motorola, Inc. Magnetic element with improved field response and fabricating method thereof
US6381105B1 (en) 1999-10-22 2002-04-30 Read-Rite Corporation Hybrid dual spin valve sensor and method for making same
US6388847B1 (en) * 2000-02-01 2002-05-14 Headway Technologies, Inc. Specular spin valve with robust pinned layer
US6396668B1 (en) 2000-03-24 2002-05-28 Seagate Technology Llc Planar double spin valve read head
US6383668B1 (en) * 2000-03-27 2002-05-07 International Business Machines Corporation Magnetic recording media with antiferromagnetically coupled host layer for the magnetic recording layer
US6466419B1 (en) 2000-03-31 2002-10-15 Seagate Technology Llc Current perpendicular to plane spin valve head
US6700760B1 (en) 2000-04-27 2004-03-02 Seagate Technology Llc Tunneling magnetoresistive head in current perpendicular to plane mode
US6522507B1 (en) * 2000-05-12 2003-02-18 Headway Technologies, Inc. Single top spin valve heads for ultra-high recording density
JP2001358381A (ja) * 2000-06-14 2001-12-26 Fujitsu Ltd 磁気抵抗効果膜、磁気抵抗効果型ヘッド、および情報再生装置
EP1187103A3 (de) * 2000-08-04 2003-01-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetowiderstandsbauteil, Kopf und Speicherelement
GB2382452A (en) * 2000-09-19 2003-05-28 Seagate Technology Llc Giant magnetoresistive sensor having self-consistent demagnetization fields
US6714389B1 (en) 2000-11-01 2004-03-30 Seagate Technology Llc Digital magnetoresistive sensor with bias
US6570745B1 (en) 2000-11-20 2003-05-27 International Business Machines Corporation Lead overlaid type of sensor with sensor passive regions pinned
US6721146B2 (en) 2001-03-14 2004-04-13 International Business Machines Corporation Magnetic recording GMR read back sensor and method of manufacturing
US6650509B2 (en) 2001-03-20 2003-11-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Dual spin valve sensor with AP pinned layers
US6946834B2 (en) * 2001-06-01 2005-09-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of orienting an axis of magnetization of a first magnetic element with respect to a second magnetic element, semimanufacture for obtaining a sensor, sensor for measuring a magnetic field
US20030002231A1 (en) * 2001-06-29 2003-01-02 Dee Richard Henry Reduced sensitivity spin valve head for magnetic tape applications
JP4024499B2 (ja) * 2001-08-15 2007-12-19 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置
GB2396740B (en) * 2001-11-30 2006-02-01 Seagate Technology Llc Anti-ferromagnetically coupled perpendicular magnetic recording media
US7842409B2 (en) 2001-11-30 2010-11-30 Seagate Technology Llc Anti-ferromagnetically coupled perpendicular magnetic recording media with oxide
US7010848B2 (en) * 2002-02-15 2006-03-14 Headway Technologies, Inc. Synthetic pattern exchange configuration for side reading reduction
US7370404B2 (en) * 2002-03-21 2008-05-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for resetting pinned layer magnetization in a magnetoresistive sensor
US6856493B2 (en) 2002-03-21 2005-02-15 International Business Machines Corporation Spin valve sensor with in-stack biased free layer and antiparallel (AP) pinned layer pinned without a pinning layer
US6741432B2 (en) 2002-03-21 2004-05-25 International Business Machines Corporation Current perpendicular to the planes (CPP) spin valve sensor with in-stack biased free layer and self-pinned antiparallel (AP) pinned layer structure
US6866751B2 (en) * 2002-03-21 2005-03-15 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of setting self-pinned AP pinned layers with a canted field
US6865062B2 (en) 2002-03-21 2005-03-08 International Business Machines Corporation Spin valve sensor with exchange biased free layer and antiparallel (AP) pinned layer pinned without a pinning layer
US6751072B2 (en) * 2002-03-21 2004-06-15 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. High magnetoresistance spin valve sensor with self-pinned antiparallel (AP) pinned layer structure
US6857180B2 (en) * 2002-03-22 2005-02-22 Headway Technologies, Inc. Method for fabricating a patterned synthetic longitudinal exchange biased GMR sensor
US6697236B2 (en) * 2002-03-25 2004-02-24 International Business Machines Corporation System and method for an exchange stabilized AP-coupled free layer for MR heads
US6801412B2 (en) 2002-04-19 2004-10-05 International Business Machines Corporation Method and apparatus for improved pinning strength for self-pinned giant magnetoresistive heads
US6760966B2 (en) * 2002-04-30 2004-07-13 Headway Technologies, Inc. Process of manufacturing a side reading reduced GMR for high track density
US6781798B2 (en) 2002-07-15 2004-08-24 International Business Machines Corporation CPP sensor with dual self-pinned AP pinned layer structures
US7038889B2 (en) * 2002-09-30 2006-05-02 International Business Machines Corporation Method and apparatus for enhanced dual spin valve giant magnetoresistance effects having second spin valve self-pinned composite layer
US7224556B2 (en) 2002-10-24 2007-05-29 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Self-pinned CPP magnetoresistive sensor
US6947264B2 (en) * 2002-12-06 2005-09-20 International Business Machines Corporation Self-pinned in-stack bias structure for magnetoresistive read heads
JP2004289100A (ja) * 2003-01-31 2004-10-14 Japan Science & Technology Agency Cpp型巨大磁気抵抗素子及びそれを用いた磁気部品並びに磁気装置
US7259545B2 (en) * 2003-02-11 2007-08-21 Allegro Microsystems, Inc. Integrated sensor
JP2004296000A (ja) 2003-03-27 2004-10-21 Hitachi Ltd 磁気抵抗効果型ヘッド、及びその製造方法
JP3961496B2 (ja) * 2003-04-18 2007-08-22 アルプス電気株式会社 Cpp型巨大磁気抵抗効果ヘッド
US7265946B2 (en) * 2003-04-30 2007-09-04 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Multilayer self-pinned structure for CPP GMR
US6867953B2 (en) * 2003-07-02 2005-03-15 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Self-pinned in-stack bias structure with improved pinning
US7194796B2 (en) * 2003-07-10 2007-03-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for creating a magnetic head
US20050013059A1 (en) * 2003-07-15 2005-01-20 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor with a net magnetic moment
US7245463B2 (en) * 2003-07-25 2007-07-17 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Apparatus for extended self-pinned layer for a current perpendicular to plane head
US7072154B2 (en) * 2003-07-29 2006-07-04 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method and apparatus for providing a self-pinned bias layer that extends beyond the ends of the free layer
US7050277B2 (en) * 2003-07-29 2006-05-23 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Apparatus having a self-pinned abutted junction magnetic read sensor with hard bias layers formed over ends of a self-pinned layer and extending under a hard bias layer
US7099123B2 (en) * 2003-07-29 2006-08-29 Hitachi Global Storage Technologies Self-pinned abutted junction heads having an arrangement of a second hard bias layer and a free layer for providing a net net longitudinal bias on the free layer
US7092220B2 (en) * 2003-07-29 2006-08-15 Hitachi Global Storage Technologies Apparatus for enhancing thermal stability, improving biasing and reducing damage from electrostatic discharge in self-pinned abutted junction heads having a first self-pinned layer extending under the hard bias layers
US6961224B2 (en) * 2003-09-24 2005-11-01 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. GMR enhancing seed layer for self pinned spin valves
US7119997B2 (en) * 2003-09-30 2006-10-10 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Spin valve sensor having an antiparallel (AP) self-pinned layer structure comprising cobalt for high magnetostriction
JP2005209301A (ja) * 2004-01-23 2005-08-04 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッド及びその製造方法
US7463459B2 (en) * 2004-02-18 2008-12-09 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Self-pinned read sensor design with enhanced lead stabilizing mechanism
US7190560B2 (en) 2004-02-18 2007-03-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Self-pinned CPP sensor using Fe/Cr/Fe structure
US7151653B2 (en) * 2004-02-18 2006-12-19 Hitachi Global Technologies Netherlands B.V. Depositing a pinned layer structure in a self-pinned spin valve
US7221545B2 (en) * 2004-02-18 2007-05-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. High HC reference layer structure for self-pinned GMR heads
WO2005081007A1 (ja) * 2004-02-19 2005-09-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha 磁界検出器、これを用いた電流検出装置、位置検出装置および回転検出装置
FR2866750B1 (fr) * 2004-02-23 2006-04-21 Centre Nat Rech Scient Memoire magnetique a jonction tunnel magnetique et procede pour son ecriture
US7196878B2 (en) * 2004-02-27 2007-03-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Self-pinned spin valve sensor with stress modification layers for reducing the likelihood of amplitude flip
JP2005293761A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリおよびハードディスク装置
US7382587B2 (en) * 2004-04-30 2008-06-03 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Magnetic head having self-pinned SV structures for CPP GMR applications
JP2005347495A (ja) * 2004-06-02 2005-12-15 Tdk Corp 磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置及び磁気記録再生装置
US7511926B2 (en) * 2004-06-14 2009-03-31 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Larger dR CPP GMR structure
JP2006005277A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Alps Electric Co Ltd 磁気検出素子
JP2006005286A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Alps Electric Co Ltd 磁気検出素子
JP2006005282A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Alps Electric Co Ltd 磁気検出素子
JP2006005278A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Alps Electric Co Ltd 磁気検出素子
US7446982B2 (en) * 2004-07-01 2008-11-04 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Pinning structure with trilayer pinned layer
US7405908B2 (en) * 2004-07-30 2008-07-29 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Magnetic head with improved free magnetic layer biasing for thinner CPP sensor stack
US7408749B2 (en) * 2004-08-23 2008-08-05 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. CPP GMR/TMR structure providing higher dR
JP2006092649A (ja) * 2004-09-24 2006-04-06 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気抵抗効果型ヘッド及び記録再生分離型磁気ヘッド
JP4614061B2 (ja) * 2004-09-28 2011-01-19 ヤマハ株式会社 巨大磁気抵抗効果素子を用いた磁気センサ及び同磁気センサの製造方法
US7777607B2 (en) * 2004-10-12 2010-08-17 Allegro Microsystems, Inc. Resistor having a predetermined temperature coefficient
WO2007013887A2 (en) * 2004-10-15 2007-02-01 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Methods of manipulating the relaxation rate in magnetic materials and devices for using the same
US7289304B2 (en) * 2004-10-29 2007-10-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Current-perpendicular-to-the-plane (CPP) magnetoresistive sensor with improved antiparallel-pinned structure
US7394619B2 (en) * 2004-11-30 2008-07-01 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Disk drive write head for writing cross-track magnetizations
US7375932B2 (en) * 2004-11-30 2008-05-20 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Disk drive read head for reading cross-track magnetizations
US7079344B2 (en) * 2004-11-30 2006-07-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Magnetic recording disk drive with data written and read as cross-track magnetizations
US7367109B2 (en) * 2005-01-31 2008-05-06 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of fabricating magnetic sensors with pinned layers with zero net magnetic moment
US7554775B2 (en) * 2005-02-28 2009-06-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. GMR sensors with strongly pinning and pinned layers
US7346977B2 (en) * 2005-03-03 2008-03-25 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for making a magnetoresistive read head having a pinned layer width greater than the free layer stripe height
JP4786331B2 (ja) 2005-12-21 2011-10-05 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子の製造方法
US7768083B2 (en) 2006-01-20 2010-08-03 Allegro Microsystems, Inc. Arrangements for an integrated sensor
JP4514721B2 (ja) 2006-02-09 2010-07-28 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果ヘッド、磁気記録再生装置及び磁気記憶装置
JP2007299880A (ja) 2006-04-28 2007-11-15 Toshiba Corp 磁気抵抗効果素子,および磁気抵抗効果素子の製造方法
US8497538B2 (en) 2006-05-31 2013-07-30 Everspin Technologies, Inc. MRAM synthetic antiferromagnet structure
JP4550777B2 (ja) 2006-07-07 2010-09-22 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気記録再生装置及び磁気メモリ
US8072711B1 (en) * 2006-08-02 2011-12-06 Jian-Qing Wang System and method for the fabrication, characterization and use of magnetic corrosion and chemical sensors
JP2008085220A (ja) 2006-09-28 2008-04-10 Toshiba Corp 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、および磁気再生装置
JP4649433B2 (ja) 2007-03-27 2011-03-09 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気記憶装置及び磁気メモリ
JP4388093B2 (ja) 2007-03-27 2009-12-24 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気記録再生装置
US7795862B2 (en) 2007-10-22 2010-09-14 Allegro Microsystems, Inc. Matching of GMR sensors in a bridge
FR2924851B1 (fr) * 2007-12-05 2009-11-20 Commissariat Energie Atomique Element magnetique a ecriture assistee thermiquement.
EP2232495B1 (de) * 2007-12-13 2013-01-23 Crocus Technology Magnetspeicher mit einem wärmeunterstützten schreibverfahren
FR2925747B1 (fr) 2007-12-21 2010-04-09 Commissariat Energie Atomique Memoire magnetique a ecriture assistee thermiquement
JP4780117B2 (ja) 2008-01-30 2011-09-28 日立金属株式会社 角度センサ、その製造方法及びそれを用いた角度検知装置
FR2929041B1 (fr) * 2008-03-18 2012-11-30 Crocus Technology Element magnetique a ecriture assistee thermiquement
FR2931011B1 (fr) 2008-05-06 2010-05-28 Commissariat Energie Atomique Element magnetique a ecriture assistee thermiquement
EP2124228B1 (de) * 2008-05-20 2014-03-05 Crocus Technology Magnetischer Direktzugriffsspeicher mit einem elliptischen Tunnelübergang
US7816905B2 (en) * 2008-06-02 2010-10-19 Allegro Microsystems, Inc. Arrangements for a current sensing circuit and integrated current sensor
US8031519B2 (en) * 2008-06-18 2011-10-04 Crocus Technology S.A. Shared line magnetic random access memory cells
US9007055B2 (en) 2008-09-12 2015-04-14 Hitachi Metals, Ltd. Self-pinned spin valve magnetoresistance effect film and magnetic sensor using the same, and rotation angle detection device
JP5039006B2 (ja) 2008-09-26 2012-10-03 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録再生装置
JP5039007B2 (ja) 2008-09-26 2012-10-03 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録再生装置
JP2010080839A (ja) 2008-09-29 2010-04-08 Toshiba Corp 磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアセンブリおよび磁気記録再生装置
EP2249349B1 (de) * 2009-05-08 2012-02-08 Crocus Technology Magnetischer Speicher mit wärmeunterstütztem Schreibverfahren und eingeschränktem Schreibfeld
ATE544153T1 (de) 2009-05-08 2012-02-15 Crocus Technology Magnetischer speicher mit wärmeunterstütztem schreibverfahren und niedrigem schreibstrom
JP5516584B2 (ja) 2009-07-13 2014-06-11 日立金属株式会社 磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気センサ、回転角度検出装置
FR2954622B1 (fr) * 2009-12-21 2013-12-20 Commissariat Energie Atomique Oscillateur radiofrequence
CN103262276A (zh) * 2010-12-16 2013-08-21 阿尔卑斯电气株式会社 磁传感器以及磁传感器的制造方法
EP2477227B1 (de) 2011-01-13 2019-03-27 Crocus Technology S.A. Magnettunnelübergang mit einer Polarisierungsschicht
EP2479759A1 (de) 2011-01-19 2012-07-25 Crocus Technology S.A. Stromsparende Magnetdirektzugriffsspeicherzelle
JP2013016609A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Alps Electric Co Ltd 磁気検出素子及びそれを用いた磁気センサ、並びに、磁気検出素子の製造方法
EP2788780A1 (de) 2011-12-05 2014-10-15 Advanced Microsensors Corporation Magnetfeldsensor und verfahren
JP5869405B2 (ja) 2012-03-30 2016-02-24 アルプス電気株式会社 磁気検出素子及びそれを用いた磁気センサ
US9064534B1 (en) * 2012-11-30 2015-06-23 Western Digital (Fremont), Llc Process for providing a magnetic recording transducer with enhanced pinning layer stability
US9431047B1 (en) 2013-05-01 2016-08-30 Western Digital (Fremont), Llc Method for providing an improved AFM reader shield
US9461242B2 (en) 2013-09-13 2016-10-04 Micron Technology, Inc. Magnetic memory cells, methods of fabrication, semiconductor devices, memory systems, and electronic systems
US9608197B2 (en) 2013-09-18 2017-03-28 Micron Technology, Inc. Memory cells, methods of fabrication, and semiconductor devices
US9147408B1 (en) 2013-12-19 2015-09-29 Western Digital (Fremont), Llc Heated AFM layer deposition and cooling process for TMR magnetic recording sensor with high pinning field
US10454024B2 (en) 2014-02-28 2019-10-22 Micron Technology, Inc. Memory cells, methods of fabrication, and memory devices
US9281466B2 (en) 2014-04-09 2016-03-08 Micron Technology, Inc. Memory cells, semiconductor structures, semiconductor devices, and methods of fabrication
US9349945B2 (en) 2014-10-16 2016-05-24 Micron Technology, Inc. Memory cells, semiconductor devices, and methods of fabrication
US9768377B2 (en) 2014-12-02 2017-09-19 Micron Technology, Inc. Magnetic cell structures, and methods of fabrication
US10439131B2 (en) 2015-01-15 2019-10-08 Micron Technology, Inc. Methods of forming semiconductor devices including tunnel barrier materials
CN105954692A (zh) * 2016-04-26 2016-09-21 中国科学院物理研究所 具有改善的灵敏度和线性度的磁传感器
US11348970B2 (en) * 2018-04-23 2022-05-31 Intel Corporation Spin orbit torque (SOT) memory device with self-aligned contacts and their methods of fabrication
US10935612B2 (en) 2018-08-20 2021-03-02 Allegro Microsystems, Llc Current sensor having multiple sensitivity ranges
US11187764B2 (en) 2020-03-20 2021-11-30 Allegro Microsystems, Llc Layout of magnetoresistance element
US11127422B1 (en) 2020-07-01 2021-09-21 Western Digital Technologies, Inc. Magnetic read sensors and related methods having a rear hard bias and no AFM layer
US11567108B2 (en) 2021-03-31 2023-01-31 Allegro Microsystems, Llc Multi-gain channels for multi-range sensor
US11994541B2 (en) 2022-04-15 2024-05-28 Allegro Microsystems, Llc Current sensor assemblies for low currents

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4103315A (en) * 1977-06-24 1978-07-25 International Business Machines Corporation Antiferromagnetic-ferromagnetic exchange bias films
JPS63289633A (ja) * 1987-05-21 1988-11-28 Hitachi Ltd 入力制御方式
DE3820475C1 (de) * 1988-06-16 1989-12-21 Kernforschungsanlage Juelich Gmbh, 5170 Juelich, De
FR2648942B1 (fr) * 1989-06-27 1995-08-11 Thomson Csf Capteur a effet magnetoresistif
JP2544845B2 (ja) * 1990-08-23 1996-10-16 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 磁性薄膜、ラミネ―ト、磁気記録ヘッドおよび磁気遮蔽体ならびにラミネ―トの製造方法
US5206590A (en) * 1990-12-11 1993-04-27 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor based on the spin valve effect
US5159513A (en) * 1991-02-08 1992-10-27 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor based on the spin valve effect
US5341261A (en) * 1991-08-26 1994-08-23 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor having multilayer thin film structure
US5304975A (en) * 1991-10-23 1994-04-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetoresistance effect element and magnetoresistance effect sensor
FR2685489B1 (fr) * 1991-12-23 1994-08-05 Thomson Csf Capteur de champ magnetique faible a effet magnetoresistif.
US5315468A (en) * 1992-07-28 1994-05-24 International Business Machines Corporation Magnetoresistive sensor having antiferromagnetic layer for exchange bias
US5287238A (en) * 1992-11-06 1994-02-15 International Business Machines Corporation Dual spin valve magnetoresistive sensor
US5301079A (en) * 1992-11-17 1994-04-05 International Business Machines Corporation Current biased magnetoresistive spin valve sensor
DE4243358A1 (de) * 1992-12-21 1994-06-23 Siemens Ag Magnetowiderstands-Sensor mit künstlichem Antiferromagneten und Verfahren zu seiner Herstellung
US5465185A (en) * 1993-10-15 1995-11-07 International Business Machines Corporation Magnetoresistive spin valve sensor with improved pinned ferromagnetic layer and magnetic recording system using the sensor
US5404377A (en) * 1994-04-08 1995-04-04 Moses; Donald W. Simultaneous transmission of data and audio signals by means of perceptual coding

Also Published As

Publication number Publication date
JP3033934B2 (ja) 2000-04-17
CN1064132C (zh) 2001-04-04
KR960002308A (ko) 1996-01-26
CN1121178A (zh) 1996-04-24
US5583725A (en) 1996-12-10
MY115958A (en) 2003-10-31
EP0687917B1 (de) 2005-07-20
JPH087235A (ja) 1996-01-12
EP0687917A3 (de) 1996-03-06
DE69534314D1 (de) 2005-08-25
KR0175984B1 (ko) 1999-04-15
EP0687917A2 (de) 1995-12-20
EP0687917B2 (de) 2008-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69534314T2 (de) Magnetoresistiver Spinventilfühler mit selbstverankernder laminierter Schicht und Benutzung des Fühlers in einem magnetischen Aufzeichnungssystem
DE69826090T2 (de) Magnetische Tunnelübergangseinrichtung mit verbesserten ferromagnetischen Schichten
DE69317178T2 (de) Magnetoresistiver Sensor
DE69431149T2 (de) Magnetoresistiver Fühler in Mehrschicht-Bauweise
DE69611326T2 (de) Magnetoresistiver Sensor
DE69430964T2 (de) Magnetoresistiver Spinventilfühler und magnetische Anordnung mit solchem Fühler
DE69316708T2 (de) Magneto-resistiver Fühler
DE69835410T2 (de) Magnetoresistiver Lesekopf mit abgeschirmtem magnetischem Tunnelübergang
DE69326308T2 (de) Magneto-resistiver Fühler
DE69835650T2 (de) Magnetische Tunnelübergangsvorrichtungen
DE69419202T2 (de) Granulierter mehrschichtiger magnetoresistiver Fühler
DE69533636T2 (de) Magnetowiderstandseffektvorrichtung und hiermit versehener Magnetkopf, Speicher- und Verstärkungsanordnung
DE69919391T2 (de) Plattenantrieb mit aufhebungsschaltung für thermische unebenheiten ,einen magnetischen tunnelgrenzsensor gebrauchend
US5465185A (en) Magnetoresistive spin valve sensor with improved pinned ferromagnetic layer and magnetic recording system using the sensor
US6947263B2 (en) CPP mode magnetic sensing element including a multilayer free layer biased by an antiferromagnetic layer
DE69624323T2 (de) Magnetoresistives Element, magnetoresistiver Kopf und magnetoresistiver Speicher
DE69932800T2 (de) Anordnung mit einer ersten und einer zweiten ferromagnetischen schicht getrennt durch eine nicht-magnetische abstandsschicht
US6282069B1 (en) Magnetoresistive element having a first antiferromagnetic layer contacting a pinned magnetic layer and a second antiferromagnetic layer contacting a free magnetic layer
DE19848110B4 (de) Magnetowiderstandselement
DE102015015307A1 (de) Tmr-lesekopf (tunnelungs-magnetoresistiv) mit verringerter lückendicke
DE102013017836A1 (de) Current-Perpendicular-to-the-Plane-(CPP)-Magnetowiderstands-(MR)-Sensor mit austauschgekoppelter Seitenabschirmungsstruktur
DE19820465A1 (de) Magnetowiderstandseffektelement, und ein derartiges Element aufweisender Magnetkopf und magnetische Aufzeichnungseinrichtung
DE69727261T2 (de) Element mit magnetoresistivem Effekt, sein Herstellungsverfahren und Magnetkopf daraus
DE4312040A1 (de) Magnetisches Speicher-/Lesesystem
DE102016005190A1 (de) Magnetische Tunnelwiderstandsvorrichtung (TMR) mit Magnesiumoxid-Tunnelsperrschicht und freier Schicht mit Einfügungsschicht

Legal Events

Date Code Title Description
8363 Opposition against the patent
8366 Restricted maintained after opposition proceedings
8332 No legal effect for de