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Hintergrund der Erfindung
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1. Gebiet der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung
für das
Mischen von Prozessmaterialien und insbesondere auf ein Verfahren
und eine Vorrichtung zum Mischen ultrahochreiner Chemikalien, Schleifaufschlämmungen und Ähnlichem.
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2. Beschreibung der verwandten
Technik
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Gemischte
Prozessmaterialien sind beispielsweise in pharmazeutischen, kosmetischen
und Halbleiterindustrien erforderlich. In der Halbleiterindustrie
werden gemischte Prozessmaterialien typischerweise unter Verwendung
von Chargen-Produktionssystemen
einschließlich
eines Abgabesubsystems und eines Vermischungssubsystems hergestellt.
Das Abgabesubsystem überträgt Materialien von
einer Lieferquelle zu einem Vermischungssubsystem. Die Lieferquellen
sind typischerweise Container, die für eine sichere Lagerung eines
Prozessmaterials, wie beispielsweise einer Chemikalie oder Aufschlämmung, ausgelegt
sind. Andere Lieferquellen umfassen Erzeugungsanlagen, wie beispielsweise Anlagen
zur Erzeugung von Deionat (DI-Wasser) oder Anlagen zum Liefern von
Massenproduktionsprozessmaterialien, wie beispielsweise Wasserstoffperoxid
oder Ammoniumhydroxid. Die Erzeugungsanlage kann direkt mit dem
Abgabesubsystem verbunden sein. Ein einzelnes Abgabesubsystem kann mit
einer Vielzahl von Lieferquellen verbunden sein, die Prozessmaterialien
von jeder an das Vermischungssubsystem übertragen.
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In
dem Vermischungssubsystem werden die Prozessmaterialien, die von
dem Abgabesubsystem übertragen
wurden, einem Vermischungsgefäß oder -tank
hinzugefügt.
Typischerweise werden die Materialien in einer vorbestimmten Sequenz
hinzugefügt, wie
es für
einen bestimmten Prozess erforderlich ist. Beispielsweise kann der
Prozess ein bestimmtes Verhältnis
der individuellen Prozessmaterialien erfordern, um eine erwünschte Mischung
zu erzeugen. Die Sequenz des Prozesses kann auf der Reaktivität oder Sicherheit
basiert sein, und zwar wird beispielsweise eine saure oder basische
Lösung
typischerweise nach Wasser hinzugefügt. Alternativ kann die Sequenz
des Prozesses auf dem Erfordernis basieren, Prozessvarianzen zu
verringern oder zu korrigieren, wie beispielsweise die Verdünnung einer übermäßig konzentrierten
Waferpolieraufschlämmung
mit deionisiertem Wasser bzw. Deionat. In einigen Fällen kann
es erforderlich sein, das Hinzufügen
eines ersten Prozessmaterials zu unterbrechen, um ein zweites Prozessmaterial
hinzuzufügen,
gefolgt von der Wiederaufnahme der Hinzufügung des ersten Prozessmaterials.
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Das
Hinzufügen
von Prozessmaterialien zu einem Mischungsgefäß wird typischerweise durch Messen
der Massen- oder Volumenunterschiede reguliert. Typische durch Massenunterschiede
regulierte Hinzufügungen
können
die Verwendung einer Skala auf einem Haltegefäß oder -tank umfassen. In diesem
Systemtyp wird jedes Prozessmaterial einzeln hinzugefügt, da ein
automatisiertes Steuerungssystem, welches die Masse des Haltegefäßes misst, nicht
imstande ist, die relativen Mengen der beiden simultan hinzugefügten Prozessmaterialien
auseinanderzuhalten. Typische durch Volumenunterschiede regulierte
Hinzufügungen
können
die Verwendung von Strömungsmessern
umfassen.
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Sobald
sie sich in dem Vermischungsgefäß befinden,
werden die Prozessmaterialien typischerweise in eine homogene Lösung mit
einem Impeller bzw. einem Laufrad vermischt, der eine Charge von gemischten
Prozessmaterialien bildet. Die Charge von gemischten Prozessmaterialien
wird dann typischerweise für
seine intendierte Anwendung verwendet.
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Viele
herkömmliche
Prozesse erfordern das präzise
Hinzufügen
von Prozessmaterialien um eine Charge von gemischten Prozessmaterialien
zu erzeugen, der für
seine intendierte Anwendung annehmbar ist. Demgemäß sind die
Messinstrumente, die die Eingaben in das Mischgefäß überwachen
typischerweise sehr präzise,
um eine Chargen-Konsistenz sicherzustellen. In vielen Anwendungen
können selbst
winzige Prozessvariationen zu signifikanten Unterschieden in der
Charge der gemischten Prozessmaterialien führen, was sie für die intendierte Anwendung
nutzlos machen kann.
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DE 23 20 212 offenbart ein
Mischsystem und ein Verfahren zum Mischen von Materialien.
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US-A-5
332 125 offenbart ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Messen
der Strömung
eines Zweikomponentenabgabesystems.
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US-A-S
271 521 offenbart ein Verfahren und eine Vorrichtung, um Veränderungen
in der Viskosität in
einem Zweikomponentenabgabesystem zu kompensieren.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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In
einem Ausführungsbeispiel
ist die vorliegende Erfindung auf ein Mischsystem gemäß Anspruch
1 gerichtet. Das Mischsystem weist ferner ein Prozesssteuersystem
einschließlich
einer ersten Strömungssteuervorrichtung
auf, die auf mindestens einer der ersten und zweiten Materiallieferleitungen positioniert
ist, einen ersten Sensor, der stromabwärts von dem statischen Mischer
positioniert ist, und eine Steuervorrichtung auf, die einen Logic-Code aufweist,
um ein Steuersignal an die erste Strömungssteuervorrichtung zu liefern,
und zwar basierend auf einem Sensorsignal, das durch den ersten Sensor
geliefert wird.
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In
einem weiteren Ausführungsbeispiel
ist die vorliegende Erfindung auf ein Mischsystem gemäß Anspruch
11 gerichtet. Das Mischsystem umfasst ebenfalls ein Prozesssteuersystem
einschließlich
einer Steuervorrichtung, einer Eingabevorrichtung in Verbindung
mit der Steuervorrichtung zum Liefern eines Eingangssignals, welches
eine gewünschte
oder Soll-Mischung von Prozessmaterialien repräsentiert, und eines ersten
Ventils, das mit einer der Vielzahl von Materiallieferleitungen
und mit der Steuervorrichtung verbunden ist. Das Mischsystem umfasst
ferner ein Abgabesubsystem, das ein Haltegefäß aufweist, und zwar mit einem
Einlass und einem Auslass, eine Rezirkulationsleitung, die strömungsmittelmäßig mit
dem Einlass und dem Auslass verbunden ist, sowie ein zweites Ventil,
das strömungsmittelmäßig mit
der Rezirkulationsleitung und mit einer der Vielzahl von Materiallieferleitungen
derart verbunden ist, dass Material von der Rezirkulationsleitung
selektiv zu der Materiallieferleitung abgeleitet werden kann.
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In
einem weiteren Ausführungsbeispiel
ist die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren zum Liefern von
gemischten Prozessmaterialien gemäß Anspruch 20 gerichtet. Das
Verfahren umfasst das Liefern eines ersten Prozessmaterials durch
eine erste Materiallieferleitung, Liefern eines zweiten Prozessmaterials
durch eine zweite Materiallieferleitung, und Mischen der ersten
und zweiten Prozessmaterialien in einem statischen Mischer, der
strömungsmittelmäßig stromabwärts mit
den ersten und zweiten Materiallieferleitungen verbunden ist. Das
Verfahren umfasst auch das Regulieren der Lieferung von einem der
ersten und zweiten Prozessmaterialien mit einem ersten Ventil, das
auf einer der ersten und zweiten Materiallieferleitungen positioniert
ist, und zwar basierend auf einem Sensorsignal, das durch einen Sensor
geliefert wird, der stromabwärts
von dem statischen Mischer positioniert ist.
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In
einem weiteren Ausführungsbeispiel
ist die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren zum Liefern gemischter
Prozessmaterialien gemäß Anspruch
23 gerichtet. Das Verfahren umfasst das Liefern einer Vielzahl von
Prozessmaterialien durch eine Vielzahl von Materiallieferleitungen
und das Mischen der Vielzahl von Prozessmaterialien in einem statischen
Mischer, der stromabwärts
von der Vielzahl von Materiallieferleitungen positioniert ist. Das
Verfahren umfasst auch das Regulieren der Lieferung der Vielzahl
von Prozessmaterialien mit einem Prozesssteuersystem, das eine Steuervorrichtung,
eine Eingabevorrichtung, und ein erstes Ventil umfasst, das mit
einer der Vielzahl von Materiallieferleitungen und mit der Steuervorrichtung
verbunden ist. Die Eingabevorrichtung ist mit der Steuervorrichtung
verbunden, um ein Eingangssignal zu liefern, welches eine gewünschte Mischung
von Prozessmaterialien repräsentiert.
Das Verfahren umfasst ferner das Halten von einem oder mehreren
der Vielzahl von Prozessmaterialien in einem Haltegefäß mit einem
Einlass und einem Auslass, das Rezirkulieren von einem oder mehreren
der Vielzahl von Prozessmaterialien in einer Rezirkulationsleitung,
die mit dem Haltegefäßeinlass
und -auslass verbunden ist, sowie das Ablenken eines Teils von einem
oder mehreren der Vielzahl von Prozessmaterialien in eine der Vielzahl
von Materiallieferleitungen mit einem zweiten Ventil, das mit der
Rezirkulationsleitung und mit einer oder mehreren der Vielzahl von
Materiallieferleitungen verbunden ist.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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Bevorzugte,
nicht einschränkende
Ausführungsbeispiele
der vorliegenden Erfindung werden beispielhaft mit Bezugnahme auf
die begleitenden Zeichnungen beschrieben, in denen zeigt:
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1 ein
Blockdiagramm eines ersten Ausführungsbeispiels
der Vorrichtung der Erfindung;
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2 ein
Blockdiagramm eines weiteren Ausführungsbeispiels der Vorrichtung
der Erfindung;
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3 ein
Blockdiagramm eines weiteren Ausführungsbeispiels der Vorrichtung
der Erfindung;
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4 ein
Blockdiagramm eines weiteren Ausführungsbeispiels der Vorrichtung
der Erfindung;
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5 eine
Querschnittsansicht eines Ausführungsbeispiels
des statischen Mischers der Erfindung;
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6 eine
Querschnittsansicht des Ausführungsbeispiels
des statischen Mischers der Erfindung, der in 5 dargestellt
ist, mit einem dargestellten Strömungspfad
durch die Kammer;
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7 eine
perspektivische Querschnittsansicht des Ausführungsbeispiels des statischen Mischers
der Erfindung, der in 5 dargestellt ist, mit einem
dargestellten Strömungspfad
durch die Kammer;
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8 eine
Querschnittsansicht eines Ausführungsbeispiels
des zweiten statischen Mischers der Erfindung mit einem dargestellten
Strömungspfad
durch die Kammer;
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9 ein
Blockdiagramm eines weiteren Ausführungsbeispiels der Vorrichtung
der Erfindung;
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10 ein
Blockdiagramm eines weiteren Ausführungsbeispiels der Vorrichtung
der Erfindung;
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11 ein
Diagramm des Prozentsatzes an Feststoffen versus der Versuchsnummer;
und
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12 ein
Diagramm der Dichte versus der Versuchsnummer.
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Detaillierte
Beschreibung der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung ist auf ein System zum Mischen von Prozessmaterialien
gerichtet. Das Mischsystem ist geeignet zum Mischen und Liefern von
Prozessmaterial auf Anfrage an eine Verwendungsstelle oder zum Liefern
einer Mischung von Prozessmaterialien zur späteren Verwendung. Durch Prozessmaterialien
sind irgendwelche flüssigen
Materialien gemeint, die in der Lage sind, durch eine Leitung transportiert
zu werden. Beispielsweise können Prozessmaterialien
Wasser, verschiedene Chemikalien, Lösungen, Suspensionen von Feststoffen,
Aufschlämmungen
und irgendwelche derartigen anderen Materialien umfassen. Während das
Mischsystem der vorliegenden Erfindung zur Verwendung mit irgendeinem
Prozess dient, der gemischte Prozessmaterialien erfordert, ist es
insbesondere auf Anwendungen anwendbar auf das Mischen von ultrahochreinen
Chemikalien und Schleifaufschlämmungen und
anderen Mischungsanwendungen bei denen Genauigkeit und Präzision erwünscht sind.
Zum Beispiel ist die vorliegende Erfindung insbesondere nützlich in der
Halbleiter-, kosmetischen und pharmazeutischen Industrie.
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Ein
Ausführungsbeispiel
des Mischsystems der Erfindung umfasst eine Vielzahl von Materiallieferleitungen,
einen statischen Mischer, der stromabwärts von der Vielzahl von Materiallieferleitungen
positioniert ist, und ein Prozesssteuersystem. Die Vielzahl von
Materiallieferleitungen kann aus irgendwelchen Leitungen zum Tragen
von Prozessmaterialien bestehen. Beispielsweise können die
Materiallieferleitungen Rohre, Kanäle oder andere Vorrichtungen zum
Leiten des Strömungsmittelstromes
sein. Die Vielzahl von Materiallieferleitungen kann viele unterschiedliche
Prozessmaterialien aus einer Vielzahl von Quellen liefern. Beispielsweise
können
die Materiallieferleitungen Prozessmaterialien von Speicherbehältern oder
von Erzeugungsanlagen liefern. In einigen Umständen können die Materiallieferleitungen Prozessmaterialien
von einem Abgabesubsystem liefern.
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In
einigen Ausführungsbeispielen,
die ein Abgabesubsystem umfassen, kann das Abgabesubsystem aus einem
Haltegefäß, einer
Rezirkulationsleitung und einem Ventil bestehen. Die Rezirkulationsleitung
kann strömungsmittelmäßig mit
dem Einlass und dem Auslass des Haltegefäßes verbunden sein, um eine
kontinuierliche Zirkulation des Prozessmaterials durch die Rezirkulationsleitung
vorzusehen. Diese Strömung
kann durch eine Vorrichtung zur Veranlassung einer Strömungsmittelströmung, wie
beispielsweise einer Pumpe, geliefert werden. Das Ventil in dem
Abgabesubsystem kann mit der Rezirkulationsleitung und mit einer
Materiallieferleitung verbunden sein, so dass Prozessmaterial von der
Rezirkulationsleitung an die Materiallieferleitung abgeleitet werden
kann.
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Der
statische Mischer des Mischsystems der vorliegenden Erfindung befindet
sich in Strömungsmittelverbindung
mit der Vielzahl von Materiallieferleitungen. Beispielsweise umfasst
der statische Mischer eine Vielzahl von Einlässen, von denen jeder mit einem
der Vielzahl von Materiallieferleitungen verbunden ist. Der statische
Mischer kann ebenfalls einen Mischbereich und einen Auslass umfassen. Die
Prozessmaterialien werden aus den Materiallieferleitungen bei den
Einlässen
des statischen Mischers und an den Mischbereich weitergeleitet. Der
Mischbereich ist geformt, um eine Bewegung bzw. Agitation und eine
Mischung der Prozessmaterialien, die durch diesen strömen, zu
verursachen. Nach der Mischung gehen die Prozessmaterialien durch
den Auslass hindurch, der mit einem Verwendungspunkt oder Speichergefäß verbunden
ist. Verwendungspunkte sind irgendwelche Stellen, wo ein Bedarf
für eine
Lieferung der gemischten Prozessmaterialien besteht. Beispielsweise
können
Verwendungspunkte Prozessgeräte
oder Arbeitsstationen umfassen.
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In
einigen Ausführungsbeispielen
kann das Prozesssteuersystem des Mischsystems der Erfindung eine
Steuervorrichtung, eine Eingabevorrichtung und ein Ventil umfassen.
In anderen Ausführungsbeispielen
kann das Prozesssteuersystem eine Steuervorrichtung, einen Sensor
und ein Ventil umfassen. Es sollte erkannt werden, dass die Ventile
zur Steuerung der Strömung
hierin beispielhaft diskutiert werden; jegliche Strömungssteuerungsvorrichtung kann
für jegliches
Ventil in der Erfindung substituiert werden. Mit Strömungssteuerungsvorrichtung
ist jegliche Vorrichtung gemeint, die imstande ist, ein erwünschtes
Niveau an Strömungssteuerung
vorzusehen, wie beispielsweise verschiedene Typen von Ventilen,
Pumpen und anderen Druckveränderungsvorrichtungen.
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Die
Steuervorrichtung kann jegliche Vorrichtung sein, die imstande ist,
Information aufzunehmen und gemäß dieser
Information zu handeln, und zwar basierend auf einer Reihe von Protokollen,
wie beispielsweise einem Logic-Code. Beispielsweise kann die Steuervorrichtung
eine auf einem Mikroprozessor basierte Vorrichtung, wie beispielsweise
ein Computer sein. Wenn das Prozesssteuersystem eine Steuervorrichtung
umfasst, kann die Eingabevorrichtung mit dieser verbunden sein,
um ein Eingabesignal zu liefern, das eine erwünschte Mischung der Prozessmaterialien
repräsentiert.
Die Eingabevorrichtung kann jegliche Vorrichtung sein, die imstande
ist, Information aufzunehmen und sie an die Steuervorrichtung weiterzuleiten.
Beispielsweise kann die Eingabevorrichtung ein Potentiometer, eine
Tastatur oder ein SCADA-Knoten (SCADA = Supervision Control And
Data Acquisition) sein.
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Das
Ventil oder die Ventile des Prozesssteuersystems kann/können mit
einer oder mehreren Materiallieferleitungen und mit der Steuervorrichtung verbunden
sein. Beispielsweise kann ein Ventil entlang einer Materiallieferleitung
positioniert sein, um die Strömung
durch oder in die Materiallieferleitung zu steuern und kann durch
die Steuervorrichtung gesteuert werden. Demgemäß kann die Steuervorrichtung
die Strömung
durch oder in die Materiallieferleitung mit dem Ventil gemäß einer
erwünschten
Mischung der Prozessmaterialien steuern, die bei der Eingabevorrichtung
geliefert wird. Alternativ oder zusätzlich kann die Steuervorrichtung
die Strömung durch
oder in die Materiallieferleitung basierend auf einem Signal steuern,
das durch den Sensor geliefert wird.
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Das
Mischsystem der Erfindung als Ganzes betrachtend wird es nun klar
sein, dass Ausführungsbeispiele
des Mischsystems imstande sind, eine erwünschte Mischung der Prozessmaterialien
basierend auf einer durch den Nutzer spezifizierten Eingabe zu liefern.
Diese Mischung der Prozessmaterialien kann auf einer Bedarfsbasis
geliefert werden, was das Erfordernis beseitigt, die gemischten
Prozessmaterialien zu speichern bzw. zu lagern. Es wird erkannt
werden, dass die Steuervorrichtung zusätzliche Eingaben aufnehmen
kann, um den Mischprozess zu unterstützen. Beispielsweise kann die
Steuervorrichtung mit Information von für den Prozess geeigneten Sensoren
hinsichtlich der Prozessmaterialien oder der Prozessbedingungen
beliefert werden. Derartige Sensoren können irgendwo in dem Mischsystem
positioniert sein, wie beispielsweise in dem Abgabesubsystem, auf
einer Materiallieferleitung, oder selbst stromabwärts des
statischen Mischers. Es wird ebenfalls erkannt werden, dass die
Steuervorrichtung andere Aspekte des Mischprozesses steuern kann.
Beispielsweise kann die Steuervorrichtung mit Vorrichtungen oder
Systemen zum Verändern
bzw. Modifizieren der Eigenschaften der Prozessmaterialien verbunden
sein, und kann selektiv diese Vorrichtungen oder Systeme basierend
auf Eingaben bedienen, die von Sensoren hinsichtlich des Zustands
der Prozessmaterialien, oder von einem Bediener oder von einer anderen
Außenquelle empfangen
wurden.
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Die
vorliegende Erfindung ist für
die Verwendung in einer breiten Vielzahl von Anwendungen adaptier-
bzw. anpassbar. Beispielsweise können,
wo die Überwachung
der Prozessmaterialien erwünscht ist,
Sensoren verwendet werden, und diese Sensoren können mit den Prozessmaterialien
variieren. In ähnlicher
Weise kann der Aufbau des Mischsystems, wie beispielsweise die Rohrleitungen,
die Verrohrung, sowie benetzte Oberflächen der Instrumente und Pumpen
auf bestimmte Prozessmaterialien angepasst werden. Beispielsweise
können,
wo derartige Prozessmaterialien abschleifend oder korrodierend sein
können,
wie beispielsweise Polieraufschlämmungen
oder Chemikalien, die oft in der Halbleiterindustrie eingesetzt
werden, diese Strukturen aus Kunststoffmaterialien, wie beispielsweise
Fluropolymeren gebildet sein.
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Jetzt
auf die Figuren und insbesondere 1 Bezug
nehmend, ist ein veranschaulichendes Ausführungsbeispiel der Erfindung
gezeigt. In 1 ist ein Abgabesubsystem 2 mit
einem Mischungssystem 1 gekoppelt. Das Abgabesubsystem 2 umfasst Geräte zum kontinuierlichen
Abgeben eines Prozessmaterials von einem Haltegefäß 3 an
ein Mischungssystem 1, wie beispielsweise eine Pumpe 4 und
eine Rezirkulationsleitung 14. Von dem Haltegefäß 3 kann
das Prozessmaterial durch die Pumpe 4 durch die Rezirkulationsleitung 14 zu
dem Mischungssystem 1 gepumpt werden. Wie in 4,
die ein Blockdiagramm des Mischungssystems 1 ist, dargestellt,
geht eine Rezirkulationsleitung 14 durch das Mischungssystem 1 hindurch.
In dem Mischungssystem 1, kann ein Ventil 20,
das auf der Rezirkulationsleitung 14 positioniert ist,
die Rezirkulationsleitung 14 mit einer Materiallieferleitung 18 verbinden.
Das Ventil 20 kann betätigt
werden, um Prozessmaterial von der Rezirkulationsleitung 14 an
die Materiallieferleitung 18 abzugeben, welche wiederum
das Prozessmaterial an einen statischen Mischer 22 liefert.
Das Prozessmaterial, das nicht durch das Ventil 20 abgegeben
wird, bleibt in der Rezirkulationsleitung 14 und wird zu
dem Haltegefäß 3 zurückgeführt.
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Das
Haltegefäß 3 kann
irgendein Lagerbehälter
sein, der in der Lage ist, ausreichend Prozessmaterial aufzunehmen,
um einen Mischprozess zu beschicken. Der Bequemlichkeit halber ist
es bevorzugt, dass das Haltegefäß 3 der
Behälter
ist, in dem das Prozessmaterial geliefert und/oder gespeichert ist.
Beispielsweise kann das Haltegefäß 3 ein
Tank, wie beispielsweise ein 55-Gallonen-Fass oder ein anderes übliches
Speichergefäß, sein.
In einigen Ausführungsbeispielen
kann das Haltegefäß 3 eine Agitationsvorrichtung,
wie beispielsweise einen Rührkopf
oder einen Impeller, umfassen. Eine Rührvorrichtung ist insbesondere
geeignet, wenn sich die Prozessmaterialien absetzen oder trennen
können.
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Die
Pumpe 4 kann irgendeine Vorrichtung jeglicher Konstruktion
sein, die eine adequate Strömung
des Prozessmaterials in der Rezirkulationsleitung 14 vorsieht.
Beispielsweise kann die Pumpe 4 pneumatisch oder elektrisch
betrieben sein und kann eine Förder-
bzw. Verdrängerpumpe
sein, die ein Gebläse
bzw. Balg oder eine Membrankonstruktion nutzt. Die Pumpe 4 kann
aus Materialien konstruiert sein, die mit den Prozessmaterialien,
die gepumpt werden, kompatibel sind. Beispiele geeigneter Pumpen
umfassen die ASTI-Pumpen, die von Saint Gobain Performance Plastics
aus Garden Grove, Kalifornien, verfügbar sind, sowie die ARO-Pumpen,
die von Ingersoll-Rand aus Woodcliff Lake, New Jersey, verfügbar sind.
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Wenn
Prozessmaterialien aus der Rezirkulationsleitung 14 an
die Materiallieferleitung 18 abgegeben werden, kann sich
ein Druckverlust in der Rezirkulationsleitung 14 ergeben,
trotz des anhaltenden Betriebs der Pumpe 4. Demgemäß kann eine
zweite Art und Weise zur Druckanpassung verwendet werden. Beispielsweise
kann ein Gegendruckventil 100 in der Rezirkulationsleitung 14 installiert
werden und reguliert werden, um einen erwünschten Druck in der Rezirkulationsleitung 14 aufrechtzuerhalten,
und zwar trotz der Übertragung
von Prozessmaterial an die Materiallieferleitung 18.
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Um
nutzbares Prozessmaterial an das Mischungssystem 1 zu liefern,
kann das Abgabesubsystem 2 Systeme oder Vorrichtungen zum Überwachen
und/oder Modifizieren der Eigenschaften der Prozessmaterialien in
dem Mischungssystem 1 umfassen. Beispielsweise können Eigenschaften,
die bestätigen
dass die Prozessmaterialien für
das Mischen akzeptabel sind, überwacht
und/oder modifiziert werden. Die Überwachungs- oder Modifizierungssysteme
können
eine Vielzahl von Instrumenten umfassen. Jetzt ebenfalls auf 2 Bezug
nehmend, kann das Abgabesubsystem 2 Instrumente, wie beispielsweise
die Instrumente 5, 6, 7, 8, 9 umfassen,
um das Prozessmaterial in der Rezirkulationsleitung 14 zu überwachen.
Die Instrumente können
basierend auf dem Prozessmaterial, das an das Mischungssystem 1 geliefert
wird, und der Toleranzen der intendierten Anwendung für die gemischten Prozessmaterialien,
variieren. Beispielsweise können
die Instrumente zum Überwachen
der Dichte, des pH-Werts, der Teilchen, des Oxidations- und Reduktionspotentials,
der Leitfähigkeit,
des Brechungsindex oder anderer Prozessbedingungen für eine gegebene
Anwendung geeignet sein. Jegliches Instrument, das die erwünschte Rückmeldung
vorsieht, kann verwendet werden. Beispielsweise kann die Dichte
durch einen Densitometer bzw. eine Dichtemessvorrichtung 5,
oder der pH-Wert mit einer pH-Sonde 6 überwacht werden.
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Als
Beispiel werden Aufschlämmungen
in Halbleiterprozessen beschrieben werden. In Halbleiterprozessen
werden Aufschlämmungen
als Poliermedium bei der Herstellung von Halbleiterwafern verwendet.
Aufschlämmungen
werden verwendet, um optische Linsen und andere scheibenbezogene
Gegenstände
zu polieren. Der Poliereffekt der Aufschlämmungen ist auf feine, inerte,
schleifende Teilchen zurückzuführen, die
in einer Flüssigkeit
suspergiert sind. Typische Schleifstoffe in Aufschlämmungen,
die in der Halbleiterindustrie verwendet werden, sind Siliziumdioxid
bzw. Kieselerde, Aluminiumoxid bzw. Tonerde, und Ceria bzw. Cerdioxid.
Schleifstoffe für
Aufschlämmungen
werden hergestellt und in Teilchengrößenbereiche sortiert. Typische
Aufschlämmungen
umfassen Teilchen in einem Bereich von 0,05 Mikrometern bis 0,30
Mikrometern im Durchmesser und enthalten mehr als 1012 Teilchen
pro Kubikzentimeter.
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Zum Überwachen
einer Aufschlämmung
in einem Halbleiterprozess kann ein Instrument zur kontinuierlichen
Messung der Massendichte (hierin bezeichnen Dichten im Grunde die
Massendichte, außer
es ist anderweitig angezeigt), wie beispielsweise ein Densitometer 5,
bevorzugt sein. Die Messung der Dichte ist eine Art und Weise die
Konzentration zu verfolgen. Beispielsweise steht bei Aufschlämmungen
die Dichte mit der Menge an inerten, nichtflüchtigen Feststoffen pro Volumeneinheit
in Beziehung. Demgemäß kann durch
Messen der volumetrischen Strömungsrate
pro Zeiteinheit, beispielsweise mit einem Durchfluss- bzw. Strömungsmessgerät, sowie
der Dichte, die Menge an inerten Feststoffen überwacht werden, die an eine
Mischung von Prozessmaterialien geliefert wird. Das Überwachen
der Dichte kann für
eine Aufschlämmung
in einem Halbleiterprozess bevorzugt sein, da die Dichtemessinstrumente
geringere Anlagerungen erzeugen als andere Instrumente, die eine ähnliche
Rückmeldung
vorsehen, da sie nicht die Scherspannungen in die Aufschlämmung einführen. Ein
ausreichend genaues Massenströmungsmessgerät, das keine
inakzeptable Anlagerung erzeugt, oder ein Prozent-Feststoffsensor
können
zu diesem Zweck verwendet werden.
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Bei
Aufschlämmungsprozessen
kann ebenfalls ein Instrument zur Messung des pH-Werts, wie beispielsweise ein pH-Sensor,
verwendet werden. Wenn der pH-Wert der Aufschlämmung höher als akzeptabel ist, kann
die Aufschlämmung
zu aggressiv sein, und kann unbeabsichtigte Materialien von dem Wafer
entfernen. Umgekehrt, wenn der pH-Wert zu niedrig ist, können vorgesehene
Materialien nicht entfernt werden.
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Als
Beispiel werden Chemikalien, die in Halbleiterprozessen verwendet
werden, beschrieben. Bei Halbleiterprozessen werden verschiedene Chemikalien
als Reaktionsstoffe bzw. Reaktanten und Oxidationsmittel zur Waferpolierung
verwendet, ebenso wie Scheuerlösungen,
Nachreinigungslösungen
und Entwicklerlösungen.
Diese Chemikalien werden typischerweise in roher, konzentrierter
Form versendet. Typische Chemikalien, die zum Polieren verwendet
werden, umfassen Wasserstoffperoxid, Kaliumhydroxid und Ammoniumhydroxid.
Wasserstoffperoxid wird als ein Oxidationsmittel für Metallschichten
auf einem Wafer verwendet. Das Steuern des Betrags an Wasserstoffperoxid
in einer Mischung von Prozessmaterialien steuert die Rate, mit der
Material von der Waferoberfläche
entfernt wird. Typischerweise wird Wasserstoffperoxid aus einer
30 Gewichtsprozent (Gew.-%) Lösung
zu einer Lösung
mit wenigen Prozent, wie beispielsweise 2 bis 4 Gew.-% gemischt.
Kaliumhydroxid wird in dielektrischen Zwischenschichtpolierschritten
zum Steuern des pH-Werts eine Mischung von Prozessmaterialien verwendet,
um eine erwünschte
Feinstreinigung bzw. Polierung von Siliciumdioxidschichten vorzusehen. Wasserstoffperoxid-
und Ammoniumhydroxidmischungen werden typischerweise als Reinigungs- und
Scheuerlösungen
verwendet. Wenn diese Mischungen ungenutzt bleiben, zersetzen sich
Wasserstoffperoxid und Ammoniumhydroxid in Wasser und Ammoniak.
Demgemäß ist es
gemäß der vorliegenden
Erfindung bevorzugt, diese Mischungen herzustellen, wenn sie verwendet
werden.
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Für die Verteilung
von Grund- bzw. Massenchemikalien zur Verwendung in der Halbleiterindustrie
ist es bevorzugt, dass die Instrumente 5, 7, 8, 9 die Strömung in
der Rezirkulationsleitung 14 überwachen, um sicherzustellen,
dass zulässiges
bzw. akzeptables Material weitergeleitet wird. Eines der bevorzugten
Instrumente zum Überwachen
der Annehmbarkeit bzw. der Eignung eines chemischen Prozessmaterials
ist ein Instrument, das die Dichte des Prozessmaterials auf einer
kontinuierlichen Basis misst, wie beispielsweise ein Densitometer 5.
Das Überwachen
der Dichte eines chemischen Prozessmaterials kann, wie bei dem Überwachen
der Dichte einer Aufschlämmung,
es möglich
machen, die Konzentration des Prozessmaterials vor der Abgabe an das
Vermischungssubsystem zu messen. Alternativ kann, wo die Dichte
gut mit der Temperatur korreliert, ein Thermopaar oder eine andere
Temperatursonde das Densitometer ersetzen.
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Andere
Instrumente, die für
die Messung und Überwachung
eines chemischen Prozessmaterials nützlich sein können, und
die für
derartige Prozesse in der Halbleiterindustrie bevorzugt sind, sind
Instrumente zur Bestimmung der Konzentration und der Reaktionsfähigkeit
bzw. Reaktivität,
wie beispielsweise Leitfähigkeitssensoren 9 bzw.
Sensoren 8 für
das Oxidations- und Reduktionspotential (ORP = Oxidation and Reduction
Potential). Die Leitfähigkeit
kann verwendet werden, um die chemische Konzentration durch Korrelieren
von den beiden zu messen. Für viele übliche Prozessmaterialien
existieren Tabellen, die die Leitfähigkeit zu der Konzentration
in Beziehung setzen. Demgemäß ist es
durch Überwachen der
Leitfähigkeit
des Prozessmaterials möglich,
seine Konzentration zu überwachen.
Das Überwachen
des ORP des Prozessmaterials kann die Detektion von raschen Veränderungen
in der chemischen Reaktivität
ermöglichen.
Die ORP-Sensoren 8 arbeiten ähnlich wie
die pH-Sonden 6, jedoch können die ORP-Sensoren 8 die
Eigenschaften von Flüssigkeiten,
wie beispielsweise Fluorwasserstoffsäure, messen, die typische pH-Sonden
degenerieren kann. Brechungsindexsensoren können ebenfalls beim Bestimmen
der Konzentration nützlich
sein, da der Brechungsindex des Materials mit der Konzentration
korreliert sein kann.
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Eine
weitere Prozessmaterialeigenschaft, die von besonderer Bedeutung
in hochreinen Anwendungen, wie beispielsweise der Halbleiterindustrie, ist,
ist die Konzentration an Teilchen. Beispielsweise erfordert die
Herstellung von Wafern ultrahochreine Prozessmaterialien. Teilchen,
die aus dem Haltegefäß 3 oder
bei der Herstellung des Prozessmaterials erzeugt werden, können das
Prozessmaterial und das Produkt kontaminieren. Strikte Richtlinien
für die Teilchengrößen und
die Anzahl der Teilchen einer bestimmten Größe können nötig sein, damit ein Halbleiterprozess
wirtschaftlich durchführbar
ist. Demgemäß kann für Prozesse,
die empfindlich gegenüber Teilchen
sind, ein Instrument zur Messung der Teilchenkonzentrationen in
einem Prozessmaterial, wie beispielsweise ein leitungsexterner oder
leitungsinterner Teilchenzähler 7,
verwendet werden. Die Teilchenzähler 7 können Anwendung
sowohl innerhalb des Abgabesubsystems 2 als auch zwischen
dem Abgabesubsystem 2 und dem Vermischungssubsystem 1 finden,
wo sie überprüfen können, dass
das Prozessmaterial von dem Abgabesubsystem 1 eine akzeptabel
niedrige Teilchenkonzentration besitzt. Die Teilchenzähler 7 können ebenfalls
verwendet werden, um zu überprüfen, dass
eine Mischung von Prozessmaterialien von dem statischen Mischer
eine akzeptabel niedrige Teilchenkonzentration besitzt.
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Ein
leitungsinterner Teilchenzähler 7 umfasst typischerweise
eine Durchflusszelle, die direkt in einer Prozessleitung, wie beispielsweise
der Rezirkulationsleitung 14, angebracht ist. Der leitungsinterne Teilchenzähler 7 überwacht
die Teilchen, die durch die Durchflusszelle hindurchgehen. Der leitungsinterne
Teilchenzähler 7 misst
typischerweise die Teilchen pro Volumen und, wenn die volumetrische
Strömungsrate
variiert, kann die gemeldete Teilchenzahl variieren. Demgemäß kann die
Rate, mit der Material durch den Teilchenzähler 7 hindurchgeht,
reguliert werden, um eine präzise
Teilchenzahl zu liefern. Beispielsweise kann für ein präzises leitungsinternes Teilchenzählen eine
Messzelle mit einer Abzweigung einer Prozessleitung verbunden sein.
Die Abzweigung kann einen Strom an Strömungsmittel durch die Messzelle
umlenken und es ermöglichen,
dass die Strömungsrate
durch den Zähler 7 an
ein erwünschtes
Niveau angepasst wird. Typischerweise wird die Strömungsrate
durch den Zähler 7 auf
ungefähr
100 Milliliter pro Minute (ml/min) angepasst.
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Da
er im Allgemeinen direkt in einer Prozessleitung angebracht ist,
kann ein leitungsinterner Teilchenzähler 7 typischerweise
nur die Teilchenkonzentration in dieser Prozessleitung überwachen.
Alternativ kann der leitungsinterne Teilchenzähler 7 mit mehreren
Prozessleitungen durch einen Schaltmechanismus bzw. eine Schaltung
verbunden sein, und Prozessmaterial von irgendeiner dieser Leitungen
kann zu dem Teilchenzähler 7 zur Überwachung
umgeleitet werden. Wenn jedoch die Strömungsraten von den mehreren
Prozessleitungen nicht identisch sind, werden die Messwerte von
dem Teilchenzähler 7 für jede der
Prozessleitungen nicht in der gleichen Volumenskala sein.
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In
einem leitungsexternen Teilchenzähler 7 muss
sich der Teilchenzähler 7 nicht
auf einer Prozessleitung befinden. Stattdessen können Proben von verschiedenen
Prozessleitungen durch ein System zur Lenkung multipler Ströme, wie
beispielsweise eine Sammelleitung, und zu dem Zähler 7 weitergeleitet
werden. Die Proben können
in eine Probensammelvorrichtung, wie beispielsweise eine kleine geschlossene
Schleife gezogen werden, die sicherstellt, dass das Volumen jeder
Probe gleich ist. Da das Volumen jeder Probe gleich ist, können die
Teilchenmesswerte für
jede Prozessleitung der gleichen Volumenskala entsprechen und können verglichen werden.
Demgemäß ermöglicht es
ein leitungsexternen Teilchenzähler 7,
dass mehrere Prozessleitungen oder Punkte in einer Prozessleitung
leichter überwacht
und verglichen werden.
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Ein
Prozesssteuersystem zum Steuern des Abgabesubsystems 2 und/oder
des Vermischungssubsystems 1 kann auf dem Prozess und den
Prozessmaterialeigenschaften basierend arbeiten. Beispielsweise
kann Information, die von Instrumenten gesammelt wird, in eine Steuervorrichtung
eingegeben werden, die mit einem Prozesssteuersystem verbunden ist,
das mit einem Ventil 20 verbunden ist, und/oder kann einem
Bediener angezeigt werden, der die Probleme identifizieren und korrigieren
kann. Die Darstellung für
einen Bediener kann, wie gewünscht,
in irgendeiner Form erfolgen, die die Aufmerksamkeit des Bedieners
auf sich zieht, wie beispielsweise ein Ausgabemonitor oder ein Alarm. Wenn
die Steuervorrichtung mit dem Ventil 20 verbunden ist,
kann die Menge an Prozessmaterial, das von der Rezirkulationsleitung 14 an
die Materiallieferleitung 18 abgezweigt wird, durch die
Steuervorrichtung ausgewählt
werden, und zwar basierend auf dem Prozess für eine gegebene Mischung von
Prozessmaterialien. Demgemäß kann die
Steuervorrichtung in der Lage sein, eine Mischung von Prozessmaterialien
durch Verändern
der Strömungsrate durch
das Ventil 20 zu modifizieren, oder sie kann in der Lage
sein, Abweichungen im Prozessmaterial zu korrigieren, das von der
Rezirkulationsleitung 14 abgeleitet wird. Wenn beispielsweise
der pH-Sensor 6 detektiert, dass der pH-Wert eines Prozessmaterials, das
verwendet wird, um eine Mischung von Prozessmaterialien anzusäuern, angestiegen
ist (eine Abweichung), kann die Steuervorrichtung ein Signal empfangen,
welches sie auf diesen Umstand aufmerksam macht, und kann zusätzliches
Prozessmaterial von der Rezirkulationsleitung 14 an die
Materiallieferleitung 18 abzweigen, so dass der pH-Wert
der gemischten Prozessmaterialien konstant bleibt. Alternativ, wenn
eine Veränderung
in der Strömungsrate die
detektierte Abweichung nicht korrigieren kann, kann der Prozess
angehalten werden und das Material kann innerhalb des Verteilungssystems 2 gehalten
werden, bis eine geeignete Korrektur vorgenommen werden kann.
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Wenn
eine Anpassung der Strömungsrate des
Prozessmaterials von der Rezirkulationsleitung 14 zu der
Materiallieferleitung 18 unzureichend ist, um eine Abweichung
zu korrigieren, ist es bevorzugt, dass die Rezirkulationsleitung 14 eines
oder mehrere Systeme oder Vorrichtungen zum Korrigieren der Abweichung
aufweist. Diese Systeme oder Vorrichtungen können Behandlungseinrichtungen
umfassen. Wenn beispielsweise inakzeptable Teilchenkonzentrationen
in der Rezirkulationsleitung 14 detektiert werden können, ist
es bevorzugt, dass Teilchentrennvorrichtungen bzw. -separatoren 10, 11 entlang
der Rezirkulationsleitung 14 positioniert sind. Die Teilchenseparatoren 10, 11 können beispielsweise
grobe oder Polierfilter sein.
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In
dem in 2 dargestellten Ausführungsbeispiel kann eine kontinuierliche
Rückmeldung
von einem leitungsexternen oder leitungsinternen Teilchenzähler 7 Informationen
an eine Steuervorrichtung zur Überwachung
der Teilchenkonzentration in der Rezirkulationsleitung 14 liefern.
Bei der Inbetriebnahme oder wann immer detektiert wurde, dass die Teilchenkonzentration
einen voreingestellten Schwellenwert überschritten hat, können Ventile 12 durch
die Steuervorrichtung oder einen Bediener betätigt werden, um die Rezirkulationsleitung 14 zu
umgehen, und um das Prozessmaterial durch eine Umgehungsleitung 13 umzuleiten.
Während
das Prozessmaterial in der Umgehungsleitung 13 zirkuliert, kann
ein Filter, wie beispielsweise ein grober Filter 10, die
Teilchenkonzentration in dem Prozessmaterial verringern. Wenn die
Teilchenkonzentration in den voreingestellten Schwellenwert fällt, kann
die Steuervorrichtung entweder die Ventile 12 betätigen oder
einen Bediener aufmerksam machen, der diese betätigen kann, wobei die Umgehung
beendet und ermöglich
wird, dass das Prozessmaterial durch die Rezirkulationsleitung 14 hindurchgeht,
wo es an die Materiallieferleitung 18 abgezweigt wird.
In Anwendungen, die sehr niedrige Teilchenkonzentrationen erfordern,
ist es bevorzugt, dass ein Polierfilter 11 ebenfalls entlang
der Rezirkulationsleitung 14 angeordnet ist. Die Verwendung
einer Umgehungsleitung 13 mit einem groben Filter 10 und
einem Polierfilter 11 auf der Rezirkulationsleitung 14 ist
bevorzugt für
die Verteilung von Grundchemikalien (bulk chemicals) für die oben
beschriebene Verwendung in der Halbleiterindustrie. Wie in 1 dargestellt,
können
die Filter 10, 11 ebenfalls ohne die Umgehungsleitung 13 verwendet
werden, um eine konstante Teilchenentfernung aus der Rezirkulationsleitung 14 vorzusehen. Darüber hinaus
kann eine Umgehungsleitung in Systemen verwendet werden, die dafür ausgelegt
sind, um andere Eigenschaften als die Teilchenkonzentrationen zu
modifizieren.
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Jetzt
auf die 3 Bezug nehmend, können in
einer großen
Produktionsanlage, die zahlreiche Prozessmaterialien verwendet,
wie beispielsweise multiple Aufschlämmungen und Chemikalien in
einer Halbleiterverarbeitungsanlage, mehrere Abgabesubsysteme 2 mit
einem Leitungsnetzwerk 16 verbunden sein. In dem Leitungsnetzwerk 16 kann
jedes Prozessmaterial in einer Rezirkulationsleitung 14 enthalten
sein. In einigen Ausführungsbeispielen
kann jede Rezirkulationsleitung 14 in einer sekundären Leitungsstruktur
enthalten sein, um Leckagen zu verhindern und die Sicherheit zu
erhöhen,
wo die Prozessmaterialien gefährlich
sind.
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In
Industrien, die eine hohe Reinheit erfordern, wie beispielsweise
der Halbleiterindustrie, sind die Abgabesubsysteme 2 vorzugsweise
in halb-reinen Räumen,
weniger als idealen (sub-fab), oder Räumen einer bestimmten Reinheitsklasse
untergebracht. Die Rezirkulationsleitungen 14 laufen vorzugsweise
von dem Abgabesubsystem 2 zu einer Reinraumumgebung, wo
das Vermischungssubsystem 1 und die Prozessausrüstung 60 angeordnet sind.
Die Prozessausrüstung 60 kann
mit dem Vermischungssubsystem 1 durch eine Ausgabeleitung 17 verbunden
sein.
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Jetzt
auf 4 Bezug nehmend, kann, wie zuvor beschrieben,
jede Rezirkulationsleitung 14 durch das Vermischungssubsystem 1 geführt werden.
Jede Rezirkulationsleitung 14 kann mit einer Materiallieferleitung 18 über ein
Ventil 20 verbunden sein. Ebenso kann es, wie zuvor beschrieben,
das Ventil 20 zulassen, dass Strömungsmittel von der Rezirkulationsleitung 14 in
die Materiallieferleitung 18 und dann zu dem statischen
Mischer 22 strömt,
und zwar ohne das gesamte Prozessmaterial in die Materiallieferleitung 18 abzuzweigen.
Zahlreiche Ventile 20 können
verwendet werden, um multiple Verbindungen mit einer einzelnen Materiallieferleitung 18 zuzulassen,
was zu einer beschränkten
Mischung der Prozessmaterialien in der Materiallieferleitung 18 führt. Das
Ventil 20 ist vorzugsweise ein Nachstromventil (slip stream
valve) und kann in jeglicher Art und Weise arbeiten, wie beispielsweise
pneumatisch durch eine Luftzufuhr oder elektromagnetisch durch eine
elektronische Betätigungsvorrichtung.
In Prozessen, wie beispielsweise Halbleiterprozessen, wo die Prozessmaterialien
entzündlich
sein können, werden
die Ventile 20 vorzugsweise durch eine pneumatisch Quelle
aus Sicherheits- und Brandgefahrverhinderungszwecken erregt.
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Im
Vermischungssubsystem 1 können Materiallieferleitungen 18 Prozessmaterialien
direkt von den Erzeugungsanlagen 70 tragen. Die Strömung der
Prozessmaterialien von der Erzeugungsanlage 70 in das Vermischungssubsystem 1 kann
durch ein Ventil 19 gesteuert werden. Andere Ventile 20 können entlang
der Materiallieferleitung 18 positioniert sein und mit
einer Rezirkulationsleitung 14 verbunden sein, um es zu
ermöglichen,
dass ein zweites Prozessmaterial dem Prozessmaterial der Erzeugungsanlage 70 hinzugefügt wird.
Die kombinierten Prozessmaterialien werden dann dem statischen Mischer 22 zugeführt. Zum
Beispiel kann Wasser von der Erzeugungsanlage 70 in die
Materiallieferleitung 18 geliefert werden. Ein Prozessmaterial
von der Rezirkulationsleitung 14 kann dann zu der Materiallieferleitung 18 bei
dem Ventil 20 hinzugefügt
werden, was zu einem verdünnten
Prozessmaterial in der Materiallieferleitung 18 führt. Das
verdünnte
Prozessmaterial wird dann an den statischen Mischer 22 übermittelt.
In einigen Ausführungsbeispielen
ist es bevorzugt, dass die Materiallieferleitung 18 unter konstanten
Strömungsbedingungen
gehalten wird, um den Aufbau von Verschmutzungen bzw. Kontaminanten,
wie beispielsweise Feststoffen und Bakterien, zu hemmen bzw. zu
verhindern. Anstatt kontinuierlich teurere oder gefährliche
Prozessmaterialien durch die Materiallieferleitungen 18 zu
strömen,
kann in einem derartigen Ausführungsbeispiel
Deionat oder ein weiteres relativ inertes Material durch die Leitungen
laufen, die gegenwärtig
kein Prozessmaterial liefern. Die Materiallieferleitungen 18 mit
einer Quelle von Deionat zu verbinden, kann ebenfalls beim Reinigen
und der Wartung der Materiallieferleitungen 18 helfen.
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Die
Strömung
der Prozessmaterialien zu dem statischen Mischer 22 von
den Materiallieferleitungen 18 kann durch ein Ventil 21 reguliert
werden. Wo Prozessmaterialien einer Materiallieferleitung 18 hinzugefügt werden,
die ein anderes Material enthält, werden
die Strömungsraten
und die verbundenen Drücke
in den verschiedenen Leitungen vorzugsweise gesteuert, um sicherzustellen,
dass die Prozessmaterialien mit der gewünschten Rate und in der gewünschten
Richtung strömen.
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Das
Abgabesubsystem 2 und das Vermischungssubsystem 1 können manuell
oder elektronisch gesteuert werden. Vorzugsweise sind das Abgabesubsystem 2 und
das Vermischungssubsystem 1 mit einem Prozesssteuersystem
einschließlich
einer Steuervorrichtung (am üblichsten
eine Zentralverarbeitungseinheit (CPU) mit einem Speicher, wie beispielsweise
eine speicherprogrammierbare Steuerung (PLC = Programmable Logic
Controller), verbunden. Eine Eingabevorrichtung kann es ermöglichen,
dass eine erwünschte
Mischung von Prozessmaterialien durch einen Benutzer spezifiziert
wird. Beispielsweise kann eine Tastatur oder ein Computerterminal
verwendet werden, um eine vorgegebene Mischung von Prozessmaterialien
an die Steuervorrichtung zu spezifizieren. Die Steuervorrichtung
kann Signale von der Prozessausrüstung
empfangen, um beispielsweise die zuströmenden Prozessmaterialien,
die Prozessbedingungen und die Sicherheit des Personals kontinuierlich
zu überwachen.
Die Steuervorrichtung kann die Eingabe von der Eingabevorrichtung
und die Signale der Prozessausrüstung
interpretieren, um das Abgabesubsystem 2 und das Vermischungssubsystem 1 zu
steuern, um die spezifizierte Mischung von Prozessmaterialien zu
erzeugen. Beispielsweise kann ein SCADA-System verwendet werden,
um das Abgabesubsystem 2 und das Vermischungssubsystem 1 zu
steuern. Eine derartige Steuervorrichtung kann Qualitätssteuerungsdaten,
Information über
den Gebrauch des Systems, Alarminformation und andere Prozessinformation speichern.
Darüber
hinaus kann die Steuervorrichtung die statistische Prozesssteuerung
durch die Aufbewahrung von historischen Daten, die mit der Prozessausgangsgröße korreliert
sein können,
ermöglichen,
um Trends zu bestimmen und um Probleme zu erkennen. Ein Prozesssteuerungssystem
kann derart ausgelegt sein, dass ein Bediener physisch aus der Prozessausrüstung entfernt
werden kann, insbesondere da wo der Prozess oder die Prozessmaterialien gefährlich sind.
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Ein
typisches Prozesssteuersystem umfasst eine Vielzahl von Pumpen,
Ventilen, Instrumenten und Überwachungsschaltern.
Diese Komponenten können
multiple Rollen im Betrieb des Systems spielen. Beispielsweise kann
ein Strömungsdruckabfall über einen
Filter hinweg überwacht
werden, um zu bestimmen, ob der Filter gereinigt oder ersetzt werden
muss. Die gleichen Druckmessvorrichtungen, die den Druckabfall über den
Filter hinweg überwachen,
können
ebenfalls Daten über
den absoluten Druck in der Prozessleitung liefern.
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Prozesssteuersysteme
können
den Prozess graphisch auf einem Monitor anzeigen, was die Überwachung
der Schlüssel-
bzw. Hauptmerkmale des Prozesses ermöglicht. Diese graphische Anzeige kann
es ermöglichen,
dass ein Bediener sämtliche Subsysteme
und Prozessdiagramme auf einem Übersichtsbildschirm
betrachten kann. Im Allgemeinen kann jedes Teil der Prozessausrüstung graphisch
in einem Gesamtschema beschrieben werden, das sämtliche Verbindungen, Endpunkte
und Subsysteme zeigt. Aus dem Übersichtsbildschirm kann
jedes Subsystem ausgewählt
und ein separater Bildschirm geöffnet
werden, der die Merkmale dieses Systems anzeigt.
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Das
Prozesssteuersystem kann ebenfalls eine Rückmeldung, wie beispielsweise
einen Alarm, an einen Bediener vorsehen und zwar für Wartungsarbeiten
oder zur Sicherheit. In dem obige Beispiel der Überwachung der Druckdifferenz über einen
Filter hinweg, kann ein Alarm, wenn die Druckdifferenz einen bestimmten
eingestellten Punkt überschreitet, einen
Bediener darauf hinweisen, beispielsweise auf der graphischen Anzeige,
den Filter zu reinigen oder zu wechseln. Wenn die Bedingung, die
den Alarm verursacht, nicht innerhalb einer eingestellten Zeitperiode
beseitigt wird, kann ein kritischer Alarm betätigt werden, der zu einer zusätzlichen
Meldung der Alarmbedingung oder zu einer automatischen Handlung
seitens des Prozesssteuersystems, wie beispielsweise ein Herunterfahren
des Prozesses, führen
kann.
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Da
die Strömungsrate,
der Druck und andere Eigenschaften, wie beispielsweise die Konzentration oder
die Dichte des Prozessmaterials in der Rezirkulationsleitung 14 sowohl
die Strömung
des Prozessmaterials durch das Ventil 20 in die Materiallieferleitung 18 als
auch die erforderliche Menge an Prozessmaterial beeinflusst, können diese
Daten an die Steuervorrichtung geliefert werden. Die Steuervorrichtung kann
die Geschwindigkeit der Pumpe 4 und anderer Vorrichtungen
in dem Abgabesubsystem 2 regulieren, um sicherzustellen,
dass die geeignete Menge an Prozessmaterial in die Materiallieferleitung 18 übermittelt
wird. Alternativ kann das Ventil 20 basierend auf diesen
Daten reguliert werden, um die Strömung des Prozessmaterials in
die Materiallieferleitung 18 zu steuern.
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Die
Strömungsrate
des Prozessmaterials in die Materiallieferleitung 18 kann
auch von der Strömungsrate
und dem Druck irgendeines Prozessmaterials, wie beispielsweise Wasser,
abhängen,
das bereits in der Materiallieferleitung 18 vorhanden ist. Demgemäß ist es
bevorzugt, dass diese Daten ebenfalls an die Steuervorrichtung geliefert
werden. Die Steuervorrichtung kann die Ventile 19, 20 und/oder 21,
ebenso wie die Strömungsrate
in der Rezirkulationsleitung 14 mit der Pumpe 4 anpassen,
um eine erwünschte
Strömungsrate
und Zusammensetzung in der Materiallieferleitung 18 zu
erhalten. Aufgrund der Datenmenge, die an die Steuervorrichtung
geliefert werden kann, und der Anzahl an Variablen, die basierend
auf diesen Daten gesteuert werden können, ist es bevorzugt, dass
die Steuervorrichtung einen oder mehrere Mikroprozessoren aufweist,
die imstande sind, die Daten zu interpretieren und basierend auf den
eingestellten Protokollen zu handeln, um eine gewünschte Mischung
von Prozessmaterialien herzustellen. Diese Funktion kann jedoch
auch durch Bediener oder durch analoge Steuerungen ausgeführt werden.
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Das
Vermischungssubsystem 1 kann gemäß Massen- oder Volumenströmungsraten
oder einer Kombination von diesen gesteuert werden, und zwar abhängig von
den beteiligten Materialien. Da diese typischerweise genauer sind,
sind Massenströmungsraten
bevorzugt. Die Strömungssteuerung
für Prozessventile 12, 19, 20, 21 können ein
Strömungssteuerungsventil
oder ein Ventil mit einer variablen Zumessöffnungsfläche beinhalten, das mit einem Strömungsmesser
verbunden ist, der durch ein Proportional-Integral-Differenzial-(PID)-System
oder eine ähnliche
Steuerregelschleife betrieben werden.
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In
der Halbleiterindustrie können
mehrere Bestandteile aus dem Abgabesubsystem 2, einschließlich beispielsweise
Aufschlämmungen,
Chemikalien und/oder Deionat aus der Erzeugungsanlage 70,
in eine gegebene Mischung von Prozessmaterialien eingehen. Die Komponenten
der Mischung können
durch eine Benutzerschnittstelle spezifiziert werden, die ein SCADA-Knoten
sein kann. Typische Prozesse erfordern, dass Schleifaufschlämmungen mit
Deionat für
dielektrische Zwischenschichtpolierschritte verdünnt werden. Andere typischer
Prozesse erfordern für
das Polieren von Metallschichten eine Schleifaufschlämmung, Oxidationsmittel
und Deionat. Diese Prozesse erfordern eine Vielzahl von Schleifmitteln,
oxidierenden Chemikalien, Verdünnungsmitteln
und Mengen von diesen, und zwar abhängig von dem Prozess, und diese
können
sich häufig
verändern.
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In
einem derartigen Halbleiterprozesssystem können die Materiallieferleitungen 18 Deionat
von der Erzeugungsanlage 70 zur Verdünnung der Prozessmaterialien
und zum Ausspülen
der Materiallieferleitung 18 und des statischen Mischers 22,
wenn dies erforderlich ist, führen.
Jede Materiallieferleitung 18 kann Deionat durch die Ventile 19, 21 an
den statischen Mischer 22 übertragen. Wie zuvor erwähnt, halten die
Deionatzugaben vorzugsweise jede Materiallieferleitung 18 bei
konstanter Strömung,
wodurch die Teilchen- und Bakterienbildung vermieden wird. Wenn
ein Prozess ein Aufschlämmungsprozessmaterial
enthält,
kann das Ventil 20 betätigt
werden, um das Wasser in der Materiallieferleitung 18 dem
Aufschlämmungsprozessmaterial
aus der Rezirkulationsleitung 14 auszusetzen. Das Ventil 19 reguliert vorzugsweise
die Strömung
des Deionats, um sicherzustellen, dass die Strömung aus der Rezirkulationsleitung 14 bei
Ventil 20 zu dem Ventil 21 strömt. Das Ventil 21 reguliert
die Aufschlämmungsströmungsrate
zu dem statischen Mischer 22. Die Strömungsrate kann von der erforderlichen
Menge an Aufschlämmung
und der Dichte der Aufschlämmung
abhängen. In ähnlicher
Weise, wo ein Prozess ein chemisches Prozessmaterial aus einer Rezirkulationsleitung 14 erfordert,
kann das Ventil 20 betätigt
werden, um das Wasser in der Materiallieferleitung 18 dem
chemischen Prozessmaterial auszusetzen. Die Strömungsrate kann von der erforderlichen
Menge des chemischen Prozessmaterials und der Dichte, der Konzentration
und anderen Eigenschaften des chemischen Prozessmaterials abhängen.
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Die
Prozessmaterialien aus den Materiallieferleitungen 18 können kontinuierlich
in den statischen Mischer 22 zur Vermischung übermittelt
werden. Die Prozessmaterialien treten in den statischen Mischer 22 durch
jegliche Vorrichtung ein, die es ermöglicht, dass sämtliche
Prozessmaterialien, die für einen
Prozess erforderlich sind, gleichzeitig eingespeist werden. Bezug
nehmend auf die 5, 6 und 7,
kann der statische Mischer 22 multiple Einlässe 30 umfassen,
die mit den Materiallieferleitungen 18 verbunden sind.
Die Einlässe 30 können mit
Materiallieferleitungen 18, die direkt von den Erzeugungsanlagen 70 wegführen, mit
Materiallieferleitung 18, die von den Rezirkulationsleitungen 14 wegführen oder
mit Materiallieferleitungen 18, die von beiden Quellen
Eingaben empfangen, verbunden sein. In der Halbleiterindustrie führen die
Materiallieferleitungen 18 typischerweise Aufschlämmungsprozessmaterialien,
chemische Prozessmaterialien und Deionat zu dem statischen Mischer 22.
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Der
statische Mischer 22 kann in jeglicher Weise konstruiert
sein, die zu einer ausreichenden Vermischung der Prozessmaterialien
führt.
Vorzugsweise wird diese Vermischung dadurch bewerkstelligt, dass
der statische Mischer 22 so konstruiert ist, dass die Prozessmaterialien
turbulenten bzw. Wirbelströmungsbedingungen
ausgesetzt werden. Beispielsweise kann der statische Mischer 22 einen
oder mehrere Ablenkplatten bzw. Ablenkvorrichtungen oder andere
Strömungsunterbrechungselemente umfassen.
Für Prozesse,
die Aufschlämmungen
oder andere scherempfindliche Materialien verwenden, kann der statische
Mischer 22 so konstruiert sein, dass die Vermischung sanft
genug erfolgt, um nicht die Materialien zu schädigen, die vermischt werden, jedoch
für eine
gründliche
Vermischung kräftig
genug ist. Beispielsweise kann bei Aufschlämmungen, die für das Polieren
in der Halbleiterindustrie verwendet werden, die Einführung von
hohen Scherraten Teilchenwachstum erzeugen und ein siginifikantes
Mikroverkratzen verursachen. Demgemäß ist für diese Aufschlämmungen
der statische Mischer 22 vorzugsweise in einer Art und
Weise konstruiert, die zu einem relativ sanften Vermischen führt. Ein
typischer statischer Mischer, wie beispielsweise ein statischer Mischer,
der ein schraubenförmiges
Strömungsunterbrechungselement
umfasst, kann in einigen Ausführungsbeispielen
akzeptabel sein.
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In
dem in den 5, 6 und 7 dargestellten
Ausführungsbeispiel
besitzt der statische Mischer 22 einen einzelnen Auslass 39 und
ist nach den Einlässen 30 axial
symmetrisch um die Länge des
statischen Mischers herum. In diesem Ausführungsbeispiel werden die Prozessmaterialien
durch die Einlässe 30 hindurch
in einen Vermischungsbereich 32 übermittelt. Während sich
die Strömungsmittel
vermischen und sich unter Druck stehenden Bedingungen bewegen, gehen
sie durch einen Prall- bzw. Ablenkvorrichtung 33 hindurch,
der toroidal geformt sein kann. Die Ablenkvorrichtung 33 erzeugt eine
Druckdifferenz und Wirbelbildungen durch die Turbulenz. Diese Wirbel
sind mit sehr hohen Reynolds-Zahlen assoziiert, die für die Vermischung
der Prozessmaterialien in eine homogene Lösung notwendig sind. Nach dem
Passieren der Ablenkvorrichtung 33, werden die Prozessmaterialien
vorzugsweise um ein Strömungsunterbrechungselement 34 herum
geleitet. Das Strömungsunterbrechungselement 34 kann
zylindrisch sein und kann entlang der Mittellinie des statischen
Mischers 22 gelegen sein. Das Strömungsunterbrechungselement 34 sieht
eine zweite Agitationsstufe vor. Das Strömungsunterbrechungselement 34 kann
Karmann-Strudel bzw. -Vortices erzeugen, die zu der Turbulenz durch
die Wirbelerzeugung hinzukommen. Auf das Strömungsunterbrechungselement 34 folgend
befindet sich vorzugsweise ein Restriktor bzw. ein Strömungsverengungsbereich 35.
Der Strömungsverengungsbereich 35 komprimiert
die Prozessmaterialien, während
sie durch einen Auslass 39 hindurchgehen. Der Strömungsverengungsbereich 35 besitzt
vorzugsweise eine verjüngte,
konische Oberfläche,
da dies den Rück-
bzw. Gegendruck verringern kann, der andernfalls auftreten kann,
wenn der Bereich stufenweise im Durchmesser verringert wird.
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Bezug
nehmend auf 8 können die Prozessmaterialien,
die durch den Auslass 39 des statischen Mischers 22 hindurchgehen,
in einen sekundären
statischen Mischer 23 eintreten. Der sekundäre statische
Mischer 23 ist vorzugsweise ein leitungsinterner statischer
Mischer. Der sekundäre
statische Mischer 23 kann ein schraubenförmiges Merkmal 38 enthalten.
Das schraubenförmige
Merkmal 38 kann beispielsweise aus einem gewundenen Kunststoffflächenelement
hergestellt sein. Der sekundäre
statische Mischer 23 sieht vorzugsweise ein konstantes Rühren der
Prozessmaterialien vor. Für
Aufschlämmungsprozessmaterialien
in der Halbleiterindustrie wird der sekundäre statischer Mischer 23 vorzugsweise
bei ausreichend niedrigen Strömungsraten
betrieben, so dass der schraubenförmige Pfad des sekundären statischen
Mischers 23 keine schädlichen Scherraten
erzeugt, die Teilchenwachstum erzeugen und ein signifikantes Mikroverkratzen
erzeugen können.
Obwohl dies stark von dem Prozessmaterial und den Abmessungen und
der Geometrie des sekundären
statischen Mischers 23 abhängig ist, ist eine Strömungsrate
von ungefähr
100–250
ml/min für
einige Umstände
geeignet. Es sollte verstanden werden, dass ein Mischer des Typs,
der als sekundärer
statischer Mischer 23 beschrieben wurde, als ein statischer
Mischer 22 dienen kann und dass kein sekundärer statischer
Mischer 23 vorhanden sein muss.
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Die
in den 6, 7 und 8 dargestellten
Strömungsmittelflussdiagramme,
die aus grundsätzlichen
Strömungsmittelflussprinzipien
erzeugt werden, zeigen mit den Strömungsleitungen 37 ein
ausreichendes Rühren
durch den statischen Mischer 22 und den sekundären statischen
Mischer 23, um ein gründliches
Vermischen der Prozessmaterialien sicherzustellen.
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In
einem Ausführungsbeispiel
können
die gemischten Prozessmaterialien durch den statischen Mischer 22 oder
den sekundären
statischen Mischer 23 durch die Auslassleitung 17 zu
einem Verwendungspunkt, wie beispielsweise eine Prozessausrüstung 60 hindurchgehen.
Der Verwendungspunkt kann jegliche Maschine, Ausrüstung, Station
oder andere Stelle sein, wo ein Strom von gemischten Prozessmaterialien
erwünscht
ist. Die Auslassleitung 17 kann direkt zu einer Prozessausrüstung 60 führen oder
zu einem Auslass zur Verwendung durch einen Bediener. Für Prozessmaterialien,
die eine begrenzte Lebensdauer besitzen, oder die andernfalls während des
Transports durch die Auslassleitung 17 an Wert verlieren,
kann der statische Mischer 22 oder der sekundäre statische
Mischer 23 nahe an einem Verwendungspunkt gelegen sein,
um diesen Verlust zu minimieren.
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In
einem alternativen Ausführungsbeispiel, wie
es beispielsweise in den 9 und 10 dargestellt
ist, kann die Auslassleitung 17 in ein Haltegefäß 3 führen und
die gemischten Prozessmaterialien können, wie erforderlich, von
dem Haltegefäß 3 einem
Verwendungspunkt zugeführt
werden. Das Speichern der Prozessmaterialien in dem Haltegefäß 3 kann
es ermöglichen,
dass die Annehmbarkeit der gemischten Prozessmaterialien getestet
wird, bevor sie an einen Verwendungspunkt gesendet werden. Instrumente,
die ähnlich
zu denen sind, die oben für die
Analyse von chemischen und Aufschlämmungsprozessmaterialien beschrieben
wurden, können ebenfalls
verwendet werden, um zu verifizieren, dass die gemischten Prozessmaterialien
annehmbar sind. Die Konzentrationen der einzelnen Prozessmaterialien
in einer Mischung können
ebenfalls unabhängig mit
einer geeigneten Vorrichtung getestet werden. Beispielsweise können die
Konzentrationen der verschiedenen Bestandteile mit Chromatographie,
wie beispielsweise Gaschromatographie, gemessen werden. Das Speichern
des gemischten Prozessmaterials in dem Haltegefäß 3 kann ebenfalls
die Vereinfachung des Mischsystems, wie oben beschrieben, ermöglichen.
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9 stellt
ein relativ einfaches Ausführungsbeispiel
des Mischsystems der vorliegenden Erfindung dar, in dem zwei Materialien,
wie beispielsweise eine Aufschlämmung
und Deionat, gemischt werden können.
In diesem Ausführungsbeispiel
werden die Prozessmaterialien, die gemischt werden sollen, anfänglich in
Haltegefäßen 3 gespeichert.
Die Prozessmaterialien können
von dem Haltegefäß 3 durch
die Materiallieferleitungen 18 zu dem statischen Mischer 22 durch
eine Pumpe 90 gepumpt werden. Die Ventile 21 können verwendet
werden, um die Strömung
von jedem Prozessmaterial zu regulieren. Um das Mischsystem zu vereinfachen, kann
eines der Prozessmaterialien mit einer konstanten volumetrischen
Strömungsrate
geliefert werden. Beispielsweise kann ein Ventil 21 in
einer einzigen Position belassen werden oder eine Zumessöffnung fester
Geometrie kann verwendet werden, um eine konstante volumetrische
Strömungsrate
von einem der Prozessmaterialien vorzusehen. Die Strömungsrate
des anderen Prozessmaterials kann dann angepasst werden, um eine
gewünschte
Mischung der Prozessmaterialien vorzusehen.
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Wenn
eines der Prozessmaterialien bei einer konstanten volumetrischen
Strömungsrate
belassen wird, kann ein Sensor 92, der Daten liefert, die
es ermöglichen
dass die volumetrische Strömungsrate
in eine Massenströmungsrate
umgewandelt wird, auf der Materiallieferleitung 18 beinhaltet
sein. Der Sensor 92 kann die Dichte oder eine Eigenschaft
messen, die mit der Dichte korreliert ist, wie beispielsweise die
Temperatur. Beispielsweise kann eine Steuervorrichtung 91 ein
Signal von dem Sensor 92 empfangen, das eine Dichte des
Prozessmaterials darstellt, und kann eine Massenströmungsrate
des Prozessmaterials basierend auf diesem Signal und der bekannten
volumetrischen Strömung
berechnen.
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Die
Steuervorrichtung 91 kann ebenfalls Signale von einem Sensor 93 empfangen,
der mit der Materiallieferleitung assoziiert ist, durch die die
volumetrische Strömungsrate
variiert. Wie bei dem Sensor 92 kann der Sensor 93 ein
Signal vorsehen, das eine Eigenschaft repräsentiert, die es ermöglicht, dass
die Massenströmung
in der Materiallieferleitung basierend auf einer volumetrischen
Strömung
berechnet wird. Da die volumetrische Strömungsrate des Prozessmaterials
variieren kann, kann die Steuervorrichtung 91 auch ein
Signal von einem volumetrischen Strömungsmesser 94 empfangen,
was es ermöglicht,
die Massenströmungsrate
zu berechnen. Basierend auf der Massenströmungsrate in der Materiallieferleitung,
kann die Steuervorrichtung 91 ein Ventil 21 steuern,
um eine Massenströmungsrate vorzusehen,
die gemeinsam mit der Massenströmungsrate
des Prozessmaterials in der anderen Materiallieferleitung eine gewünschte Mischung
der Prozessmaterialien vorsieht.
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In
einem alternativen Ausführungsbeispiel, wie
es zum Beispiel in 10 dargestellt ist, können der
Sensor 93 und der volumetrische Strömungsmesser 94 durch
Vorsehen eines Sensors 96 stromabwärts von dem statischen Mischer 22 beseitigt werden,
der in der Lage ist, zu verifizieren, dass die gemischten Prozessmaterialien
akzeptabel sind. Beispielsweise können, wo eine Aufschlämmung und Deionat
gemischt werden, ein Densitometer, ein Prozent-Feststoffsensor oder Ähnliches
verwendet werden, um zu verifizieren, dass das gemischte Prozessmaterial
annehmbar ist. Der Sensor 96 kann ein Signal an die Steuervorrichtung 91 liefern,
welches den Zustand des gemischten Prozessmaterials darstellt. Wenn
notwendig, kann die Steuervorrichtung 91 die Strömungsrate
von einem der Prozessmaterialien mit dem Ventil 21 anpassen,
bis ein Signal, welches einen Sollwert darstellt, von dem Sensor 96 erreicht wird.
Beispielsweise, wo die Prozessmateralien eine Aufschlämmung und
Deionat sind, kann die Dichte der erwünschten Aufschlämmung/Deionat-Mischung der
Sollwert sein. Wenn detektiert wird, dass diese Dichte zu gering
ist, kann mehr Aufschlämmung
hinzugefügt
werden, und wenn detektiert wird, dass diese zu hoch ist, kann die
Aufschlämmungsmenge,
die hinzugefügt
wird, verringert werden. In einigen Ausführungsbeispielen können mehrere
Sensoren 96, unterschiedlichen oder gleichen Typs, Signale
an die Steuervorrichtung liefern, die die Bedingungen der gemischten
Prozessmaterialien darstellen.
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In
irgendeinem Ausführungsbeispiel,
wo eines der Prozessmaterialien mit einer konstanten Strömungsrate
zugeführt
und die Strömungsrate
des anderen Prozessmaterials angepasst wird, um eine erwünschte Mischung
herzustellen, ist die Gesamtströmungsrate
im Allgemeinen nicht auswählbar. Demgemäß können derartige
Ausführungsbeispiele das
gemischte Prozessmaterial an ein Haltegefäß 3 liefern. Das Haltegefäß 3 kann
eine Vorrichtung oder ein System enthalten, um das Absetzen oder
die Trennung der gemischten Prozessmaterialien zu verhindern, wie
beispielsweise eine Rührvorrichtung.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel
kann überschüssiges gemischtes
Prozessmaterial erzeugt werden und was erforderlich ist, kann auf
Nachfrage geliefert werden, wobei der Rest abgeschieden bzw. abgesondert
wird. Alternativ kann die Strömungsrate des
anderen Prozessmaterials ebenfalls angepasst werden, so dass die
Gesamtströmungsrate
der gemischten Prozessmaterialien dem Bedarf angepasst werden kann,
wie zuvor beschrieben.
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Während des
Anlaufens oder irgendeinem anderen Zeitpunkt, an dem eine Mischung
der Prozessmaterialien nicht annehmbar oder erforderlich ist, kann
die Mischung weg von einem Verwendungspunkt oder Haltegefäß abgezweigt
werden. Beispielsweise kann die inakzeptable oder nicht erforderliche
Mischung von Prozessmaterial an einen Ableitungskanal 95 gesendet
oder anderweitig entsorgt werden. Ein Ableitungskanal oder anderes
Entsorgungssystem kann in jeglichem Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung verwendet werden, wo die Mischung des Prozessmaterials
inakzeptabel oder unter einigen Umständen nicht erforderlich ist.
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Die
vorliegende Erfindung wird durch die folgenden Beispiele veranschaulicht,
die ihrem Wesen nach veranschaulichend sein sollen und den Rahmen
der beigefügten
Ansprüche
nicht beschränkend betrachtet
werden sollen.
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BEISPIELE
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Beispiel 1
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Ein
typischer Mischprozess umfasst die Verdünnung einer feststoffreichen,
konzentrierten Siliciumdioxidaufschlämmung mit Deionat. Eine derartige, industriell
verfügbare
Aufschlämmung
ist die CABOT® SEMISPERSETM 25 Aufschlämmung, welches eine kolloidale
Suspension mit 25 Gew.-% Feststoffen und einem Dichtebereich von
1,162–1,170
g/ml (1,166 ± 0,004
g/ml). Diese Aufschlämmung
ist eine typische Polieraufschlämmung
bei der Halbleiterherstellung, die während dem Polieren der Siliciumdioxid-Oxid-Schicht
oder der Oxidstufe verwendet wird. Zu Zwecken dieses Beispiels wird
angenommen, dass die Nachfrage nach den gemischten Prozessmaterialien
200 Milliliter pro Minute (ml/min) beträgt.
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Typische
Polierprozesse erfordern eine Mischung mit einem Verhältnis einer
Aufschlämmung zu
Deionat von 1:1 in der Masse oder ungefähr 1:1,17 im Volumen, was zu
einer endgültigen
Dichte von ungefähr
1,074 Gramm pro Millimeter (g/ml) führt. Variationen in der Aufschlämmung können sich aus
Variationen bei der Herstellung des Basismaterials ergeben. Darüber hinaus
kann, obwohl es ein inkompressibles Strömungsmittel ist, die Dichte
des in der Herstellung von Rohaufschlämmungen verwendeten Wassers
variieren, wie es die Dichte des Deionats tut, das mit der Aufschlämmung gemischt
wird. Dichtewerte des Deionats sind bekannt und einfach aus den
technischen Referenzpublikationen verfügbar. Eine derartige Publikation,
das „Handbook
of Chemistry and Physics" von
CRC Press Inc. bezeichnet einen Dichtebereich von 0,99970 bis 0,99565 g/ml
für Wasser über einen
Temperaturbereich von 50° bis
86°F (10° bis 30°C). Die Temperatur
der Deionatlieferung von einer Erzeugungsanlage reicht typischerweise
von ungefähr
65° bis
75°F (18° bis 24°C). Demgemäß wird zu
Zwecken dieses Beispiels angenommen, dass die Dichte des Deionats
0,9821 g/ml (seine aufgelistete Dichte bei 68°F (20°C)) beträgt, jedoch könnte in
der Praxis seine Temperatur überwacht
werden, um eine genaue Dichte vorzusehen.
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Da
die Dichte der beiden Komponenten variieren kann, erzeugt die volumetrische
Vermischung ein höheres
Fehlerrisiko in der Mischung als die Massenvermischung. Demgemäß werden
für ein
Rezept mit Verhältnis
von 1:1 im Gewicht, gleiche Massen von jedem Bestandteil hinzugefügt, was
zu ungefähr 1,00
ml des Aufschlämmungskonzentrats
und ungefähr
1, 168 ml des Deionats führt.
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In
einer dynamischen Situation der Rezeptmischung müssen die Materialien mit Raten
ausgetauscht werden, deren Summen 200 ml/min oder 3,33 ml/Sek. entsprechen.
Unter Verwendung der oben erwähnten
nominalen Dichte von 1,074 g/ml und die erwünschte Mischungsströmungsrate
von 200 ml/min oder 3,3 ml/Sek., ist eine Massenströmungsrate
von ungefähr
1,789 g/Sek. das erwünschte
Endprodukt.
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Da
diese einfache Anwendung gleiche Massen der beiden Bestandteile
beinhaltet, kann das individuelle Anpassen der Strömungsrate
der Lieferströme
von sowohl der Aufschlämmung
als auch dem Wasser den endgültigen
projizierten Strömungsmittelstrom
steuern. Idealer Weise entsprechen sich die beiden Massenraten der
konzentrierten Aufschlämmung
und des Deionats und das Verhältnis
jeder Massenrate zu den entsprechenden Dichten für jedes Material liefert die
erwünschte
volumetrische Strömungsrate.
Dies würde
die volumetrischen Strömungsraten
von ungefähr
92,064 ml/min (1,534 ml/Sek.) für
die Aufschlämmung
mit 25% Feststoffen und von ungefähr 107,928 ml/min (1,799 ml/Sek.)
für das Deionat
erzeugen. Es sei bemerkt, dass diese Anwendung nur für die konstante
Dichte der Aufschlämmung
von 1,166 g/ml, wie oben erwähnt,
geeignet ist. Da die tatsächliche
Dichte des Materials fluktuieren kann, kann die Übertragung dieses Werts von
dem Abgabesubsystem zu der Steuervorrichtung die Strömungssteuervorrichtungen
demgemäß anpassen.
Wenn beispielsweise der Wert der Dichte auf 1,180 g/ml ansteigt,
kann die Steuervorrichtung die Strömungsrate durch Schließen des
Ventils zu einem geeigneten Grad reguliert werden. Dies würde wiederum
die absolute Ausgangsströmungsrate
verringern, was wiederum durch Erhöhen der Strömungsrate des Deionats angepasst
werden würde.
Die spezifizierte Endpunktströmungsrate
und Dichte würde während dieser
Anpassungen im Wesentlichen konstant bleiben.
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Beispiel 2
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Um
zu demonstrieren, dass das Mischungssystem der vorliegenden Erfindung
akzeptable Mischungen des Prozessmaterials erzeugen könnte, wurde
die hypothetische Mischung von Aufschlämmung und Deionat, die in Beispiel
1 beschrieben ist, unter Verwendung des in 9 dargestellten
Mischsystems ausgeführt.
Deionat wurde von einem Haltegefäß bei einer
konstanten, bekannten volumetrischen Strömungsrate geliefert und seine
Temperatur wurde überwacht
und an eine Steuervorrichtung geliefert, die eine Massenströmungsrate
des Deionats berechnete. Die in Beispiel 1 beschriebene Aufschlämmung wurde
von einem zweiten Haltegefäß geliefert.
Diese Aufschlämmung
wurde getestet und es wurde gefunden, dass sie einen Prozentsatz
an Feststoffen von 25,8 Gew-% und eine Dichte von 1,151 g/ml besitzt.
Die Dichte der Aufschlämmung und
ihre volumetrische Strömungsrate
wurden überwacht
und an eine Steuervorrichtung geliefert, um eine Massenströmungsrate
der Aufschlämmung
zu berechnen. Die Aufschlämmungsmassenströmungsrate
wurde mit einem Ventil durch die Steuervorrichtung angepasst, um
ein Massenverhältnis
des Deionats zu der Aufschlämmung
von 1:1 zu erzeugen.
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Basierend
auf typischen Fehlertoleranzen für die
Halbleiterindustrie wurde ein Bereich des akzeptablen Prozentsatzes
an Feststoffen und der Dichte definiert, wie durch die oberen und
unteren Niveaus in 11 und 12 dargestellt.
Diese Darstellungen berichten auch den Prozentsatz an Feststoffen und
die Dichte jeweils für
jeden von fünf
Versuchen. In sämtlichen
Fällen
war der Prozentsatz an Feststoffen akzeptabel und in sämtlichen
Fällen
außer
einem war die Dichte akzeptabel. Dies demonstriert, dass das Mischsystem
der vorliegenden Erfindung wiederholt akzeptable Mischungen der
Prozessmaterialien liefern kann.
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Während spezielle
Ausführungsbeispiele
der Erfindung dargestellt und beschrieben wurden, ist es nicht beabsichtigt,
dass sie auf die gezeigten Details beschränkt ist, da verschiedene Modifikationen
und Substitutionen vorgenommen werden können, ohne in irgendeiner Weise
von dem Rahmen der folgenden Ansprüche abzuweichen.