DE60100612T2 - Synchrone Halbleiterspeichervorrichtung - Google Patents

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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • 1. Bereich der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine synchrone Halbleiterspeichervorrichtung, oder genauer eine synchrone Halbleiterspeichervorrichtung wie ein dynamisches RAM, in dem Lese- und Schreibvorgänge auf der Grundlage von zwei komplementären Taktsignalen ausgeführt werden können.
  • 2. Beschreibung des entsprechenden Fachgebiets
  • Synchrone Halbleiterspeichervorrichtungen werden in zunehmendem Maß zur Erhöhung der Betriebsgeschwindigkeit von Speichervorrichtungen verwendet. Da auch die Speicherkapazität von Halbleiterspeichervorrichtungen zugenommen hat, führt die Durchführung von Einbrenntests an Halbleiterspeichervorrichtungen tendenziell zu längeren Testzeiten. Darüber hinaus schließen die Einbrenntestsysteme, die für die Einbrenntests verwendet werden, gewöhnlich entsprechende Oszillatoren ein, die mit den hohen Betriebsgeschwindigkeiten der Speichervorrichtungen oder DUTs (getestete Geräte) nicht Schritt halten können. Genauer gesagt sind die Taktfrequenzen, die in den dynamischen Einbrenntests an Halbleiterspeichervorrichtungen verwendet werden können, begrenzt. Daher ist zur Verringerung der Testzeit eine Einrichtung nötig, die eine Erhöhung der während des Einbrenntests in der Halbleiterspeichervorrichtung verwendeten Arbeitsfrequenzen ermöglicht.
  • In 1A bis 1C sind die Konfiguration sowie das Betriebsablaufdiagramm eines dynamischen RAM (DRAM) zu sehen, wie es in der japanischen Offenlegungsschrift Hei 11-213696 beschrieben wird. 1A zeigt ein Blockdiagramm eines dynamischen RAM. Hier stehen z. B. /RAS1 bzw. /CAS1 für ein überstrichenes RAS1 bzw. ein überstrichenes CAS1. Genauer gesagt stellen das "/RAS1"- und das "/CAS1"-Signal den jeweiligen Impuls der Adresse einer bestimmten Zeile bzw. Spalte dar, die beide jeweils bei einem niedrigen Signalpegel aktiv sind. Das /RAS1- und das /CAS1-Signal gelangen durch ein n-leitendes Paar von Transfergattern 81 sowie die Eingabepuffer 82 und 83 in den dynamischen RAM. Ein Adressschlüssel gelangt durch eine Adressschlüssel-Auswerteschaltung 89 in das dynamische RAM. Das dynamische RAM steuert sein Speicherfeld auf der Grundlage des /RAS1- und des /CAS1-Signals. Der Betriebsmodus des dynamischen RAM ist abhängig vom Adressschlüssel entweder der normale Betriebsmodus oder der Testmodus.
  • Im normalen Betriebsmodus schickt die Adressschlüssel-Auswerteschaltung 89 ein Signal mit niedrigem Pegel zu einem p-leitenden Transfergatterpaar 84 und einem n-leitenden Transfergatterpaar 81. Das /RAS1-Signal gelangt durch den den Eingabepuffer 82, das p-leitende Transfergatter 84 und einen Zeilen-Adressencodierer 85 in eine Steuerschaltung 87 des Speicherfeldes. Das /CAS1-Signal gelangt durch den Eingabepuffer 83, das p-leitende Transfergatter 84 und einen Spalten-Adressencodierer 86 in die Steuerschaltung 87 des Speicherfeldes.
  • Im Testmodus schickt die Adressschlüssel-Auswerteschaltung 89 ein Signal mit hohem Pegel zu dem p-leitenden Paar von Transfer gattern 84 und dem n-leitenden Paar von Transfergattern 81. Das /RAS1- und das /CAS1-Signal gelangen durch das n-leitende Transfergatter 81 in eine Logikschaltung 88.
  • 1B zeigt einen Schaltplan, der die Konfiguration der Logikschaltung 88 darstellt. Die Logikschaltung 88 erzeugt mit Hilfe eines EXCLUSIV-NOR-Gatters (im Folgenden als ExNOR-Gatter bezeichnet) ein /RAS2-Signal auf der Grundlage des /RAS1- und des /CAS1-Signals. Aus diesem /RAS2-Signal erzeugt die Logikschaltung 88 mit Hilfe einer Verzögerungsschaltung 91 ein /CAS2-Signal. Das /RAS2- und das /CAS2-Signal gelangen durch den Zeilen-Adressencodierer 85 bzw. den Spalten-Adressencodierer 86 in die Steuerschaltung 87 des Speicherfeldes.
  • 1C zeigt ein Ablaufdiagramm, das die Betriebsweise der Logikschaltung 88 erläutert. Die Periodendauer des /RAS1- und des /CAS1-Signals beträgt 2 μs. Anstieg bzw. Abfall des /RAS1-Signals eilen dem Anstieg bzw. Abfall des /CAS1-Signals jeweils um eine festgelegte Zeitspanne nach. Das /RAS2-Signal weist eine Wellenform mit einer Pulsweite von festgelegter Länge auf. Die Verzögerungsschaltung 91 verzögert das ankommende /RAS2-Signal um 20 ns, um so das /CAS2-Signal erzeugen zu können. Das /RAS2- und das /CAS2-Signal haben eine Periodendauer von 1 μs.
  • Mit der in der oben erwähnten Publikation beschriebenen Technologie wird mit Hilfe eines konventionellen Einbrenntestsystems die Periodendauer des Taktgebers reduziert, um so die Testzeit im dynamischen Einbrenntest zu verkürzen. Bei dieser Technologie wird im Einbrenntestsystem eine Schaltung benötigt, die mit der doppelten Lesegeschwindigkeit Schritt halten kann, um die Lesedaten zur Gut-Schlecht-Evaluierung mit den Schreibdaten vergleichen zu können. Dadurch erhöhen sich die Kosten für das Gerät zur Durchführung des dynamischen Einbrenntests und damit auch die Kosten für das dynamische RAM.
  • Das europäische Patent mit der Veröffentlichungsnummer EP 0 640 986 A beschreibt eine Speichervorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Im Hinblick auf das oben beschriebene Problem bei der konventionellen Technologie ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine synchrone Halbleiterspeichervorrichtung zu schaffen, deren Betriebsgeschwindigkeit im Testmodus doppelt so hoch ist wie die Betriebsgeschwindigkeit im normalen Modus, und die somit die Gut-Schlecht-Evaluierung im dynamischen Einbrenntest an der Halbleiterspeichervorrichtung vereinfacht.
  • Die vorliegende Erfindung ermöglicht eine synchrone Halbleiterspeichervorrichtung, welche Folgendes aufweist: ein Speicherzellenfeld, das eine Vielzahl von Gruppen von Speicherzellen aufweist, wobei jede Gruppe eine Anzahl m Speicherzellen zum Speichern einer Anzahl m an Datenbits einschließt; einen Taktsignalerzeuger zum Empfangen eines Paares komplementärer Signale, welche erste und zweite Taktsignale zum Erzeugen dritter und vierter Taktsignale in einem normalen Betriebsmodus aufweisen, wobei das dritte Taktsignal eine voreilende Flanke besitzt, die im Wesentlichen synchron zu einer nacheilenden Flanke des ersten Taktsignals ist, das vierte Taktsignal eine voreilende Flanke besitzt, die im Wesentlichen synchron zu einer voreilenden Flanke des ersten Taktsignals ist, wobei der Taktsignalerzeuger in einem Testmodus ein fünftes Taktsignal erzeugt, das eine Frequenz aufweist, die doppelt so groß ist wie die Frequenz des ersten Taktsignals; einen Lese-/Schreib-Steuerschaltkreis, der auf das erste Taktsignal in dem normalen Betriebsmodus zur Steuerung eines Lese-/Schreibvorgangs für die Speicherzellen anspricht, wobei der Lese-/Schreib-Steuerschaltkreis im Testmodus auf das fünfte Taktsignal zur Steuerung eines Lese-/Schreibvorgangs für die Speicherzellen anspricht; eine Vielzahl von Daten-Zwischenspeichern, die jeweils für ein entsprechendes Bit aus der in der Anzahl m vorliegenden Bits angeordnet sind, wobei alle Daten-Zwischenspeicher auf das dritte und vierte Taktsignal in dem normalen Betriebsmodus zum Zwischenspeichern von Lesedaten von einer entsprechenden Speicherzelle in Synchronisation mit dem dritten Taktsignal ansprechen und die zwischengespeicherten Lesedaten in Synchronisation mit dem vierten Taktsignal liefern; und einen Umgehungsschaltkreis, der es ermöglicht, dass die Lesedaten während des Testmodus die Zwischenspeicher umgehen.
  • In der erfindungsgemäßen synchronen Halbleiterspeichervorrichtung arbeitet der Lese-/Schreib-Steuerschaltkreis in Synchronisation mit dem verdoppelten Signal, und der Umgehungsschaltkreis umgeht beim Lesevorgang im Testmodus die Zwischenspeicher. Dies ermöglicht im Testmodus eine Verdopplung der Betriebsgeschwindigkeit ohne eine Erhöhung der Arbeitsfrequenz des Testgeräts für den Einbrenntest.
  • In der folgenden Beschreibung, die sich auf die beigefügten Zeichnungen bezieht, werden die oben angeführten wie auch weitere Zielsetzungen, Merkmale und Vorteile noch klarer herausgestellt.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1A bis 1C sind Diagramme, die die Konfiguration und das Betriebsablaufdiagramm eines herkömmlichen dynamischen RAM zeigen;
  • 2 ist ein Schaltplan einer synchronen Halbleiterspeichervorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
  • 3 ist ein Blockdiagramm, das ein erstes Beispiel für den Taktsignalerzeuger 11 in 1 zeigt;
  • 4 ist ein Schaltplan, der ein konkretes Beispiel für die Eingangsbereiche 3 und 4 in 2 zeigt;
  • 5 ist ein Schaltplan, der ein konkretes Beispiel für den Impulssignalerzeuger 15 in 3 zeigt;
  • 6 ist ein Signal-Ablaufdiagramm, das die Arbeitsweise des Eingangsbereichs 13 in 2 zeigt;
  • 7 ist ein Signal-Ablaufdiagramm, das die Arbeitsweise des Taktsignalerzeugers 11 in 2 zeigt;
  • 8 ist ein Blockdiagramm, das ein Beispiel für den Leseschaltkreis in der synchronen Halbleiterspeichervorrichtung in 2 zeigt;
  • 9 ist ein Schaltplan, der ein Beispiel für die Selektionsschaltkreise 8 in 8 zeigt; und
  • 10 ist ein Blockdiagramm, das ein zweites konkretes Beispiel für den Taktsignalerzeuger 11 in 2 zeigt.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
  • Im Folgenden wird die erfindungsgemäße synchrone Halbleiterspeichervorrichtung im Bezug auf ihre Ausführungsform und anhand der Zeichnungen beschrieben. In 2 umfasst die erfindungsgemäße Ausführungsform der synchronen Halbleiterspeichervorrichtung, allgemein dargestellt durch die Nummer 10, einen Taktsignalerzeuger 11, einen Steuersignalerzeuger (ein weiterer Taktsignalerzeuger) 12 und einen Steuerschaltkreis 20, der auch einen Lese-/Schreib-Steuerschaltkreis umfasst. Der Steuersignalerzeuger 12 enthält die Inverter 21 bis 23, die NAND-Gatter 24 und 25 sowie ein OR-Gatter 26. Die synchrone Halbleiterspeichervorrichtung empfängt zwei komplementäre Taktsignale, die Signale CLK 101 und CLKB 102, die für Schreib- und Lesevorgänge benötigt werden, und ein Signal zum Umschalten auf einen anderen Modus, das TESTM-Signal 103, dessen Signalpegel den Betriebsmodus der Speichervorrichtung bestimmt.
  • Der Taktsignalerzeuger 11 erzeugt ein erstes internes Taktsignal, das ICLK-Signal 104, das auf dem CLK-Signal 101 basiert, und sendet dieses zum ersten Eingang des OR-Gatters 26. Daneben erzeugt er auch ein zweites internes Signal, das ICLKB-Signal 105, das auf dem CLKB-Signal 102 basiert, und sendet dieses zu den ersten Eingängen der beiden NAND-Gatter 24 und 25. Das TESTM-Signal 103 wird durch den Inverter 21 zum zweiten Eingang des NAND-Gatters 24 sowie zum zweiten Eingang des NAND-Gatters 25 geschickt. Das NAND-Gatter 24 sendet ein Steuersignal, das ICLKBK-Signal 106, aus, das den Inverter 22 durchläuft. Das NAND-Gatter 25 sendet ein Steuersignal, das ICLKBT-Signal 107, durch den Inverter 23 zum zweiten Eingang des OR-Gatters 26. Das OR-Gatter 26 erzeugt aus dem ICLK-Signal 104 und dem ICLKBT-Signal 107 ein Signal 108 mit der verdoppelten Frequenz und sendet dieses zum Takteingang des Steuerschaltkreises 20. Der Steuerschaltkreis 20 steuert den Gesamtbetrieb der synchronen Halbleiterspeichervorrichtung in Synchronisation mit dem Signal 108 mit der verdoppelten Frequenz, das hierbei den Betriebstakt vorgibt.
  • In 3 umfasst ein erstes Beispiel für den Taktsignalerzeuger 11 in 2 die beiden Eingangsschaltkreise 13 und 14; diese sind ein Paar funktioneller Schaltungsblocks mit gleicher Konfiguration. Das CLK-Signal 101 wird in ein Eingangsterminal 201 der Eingangsschaltung 13 und ein Eingangsterminal 202 der Eingangsschaltung 14 geleitet. Das CLKB-Signal 102 wird in ein Eingangsterminal 202 der Eingangsschaltung 13 sowie ein Eingangsterminal 201 der Eingangsschaltung 14 geleitet. Das ICLK-Signal 104 verlässt die Eingangsschaltung 13 am Ausgangsterminal 203. Das ICLKB-Signal 105 verlässt die Eingangsschaltung 14 am Ausgangsterminal 203.
  • In 4 umfasst ein konkretes Beispiel für die in 3 dargestellte Eingangsschaltung 13, die in ihrer Konfiguration der Eingangsschaltung 14 ähnelt, die P-Kanal-MOS-Transistoren Qp1 und Qp2, die N-Kanal-MOS-Transistoren Qn1 und Qn2 sowie einen Impulssignalerzeuger 15. Die Source-Elektroden der MOS-Transistoren Qp1 und Qp2 sind beide mit der Stromversorgungsleitung VCC verbunden, ihre Gate-Elektroden mit der Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qp1. Die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qn1 ist mit der Drain-Elektrode des Modulatortransistors Qp1 verbunden, seine Gate-Elektrode mit dem Eingangsterminal 202 des Eingangsschaltkreises 13 oder 14. Die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qn2 ist mit der Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qp2 sowie mit dem Eingangsterminal 204 des Impulssignalerzeugers 15 verbunden, seine Gate-Elektrode mit dem Eingangsterminal 201 des Eingangsschaltkreises 13 oder 14. Der Ausgangsterminal 205 des Impulssignalerzeugers 15 ist mit dem Ausgangsterminal 203 des Eingangsschaltkreises 13 oder 14 verbunden. Die Source-Elektroden der MOS-Transistoren Qn1 und Qn2 sind beide geerdet.
  • In 5, umfasst ein konkretes Beispiel für den in 3 dargestellten Impulssignalerzeuger 15 die Inverter 27 und 28, ein NAND-Gatter 29 sowie eine Verzögerungseinheit 30 sowie eine gewisse Anzahl (n) hintereinander geschalteter Inverter. Der Inverter 27 empfängt ein A-Signal 111 vom Eingangsterminal 204 des Impulssignalerzeugers 15 und sendet ein B-Signal 112 zum ersten Eingang des NAND-Gatters 29 sowie zum Eingangsterminal der Verzögerungseinheit 30. Die Verzögerungseinheit 30 sendet ein C-Signal 113 zum zweiten Eingang des NAND-Gatters 29. Das NAND-Gatter 29 wiederum sendet ein D-Signal 114 zum Inverter 28, der ein E-Signal 115 zum Ausgangsterminal 205 des Impulssignalerzeugers 15 sendet.
  • 6 zeigt ein Ablaufdiagramm zur Erläuterung der Betriebsweise des in 3 dargestellten Eingangsschaltkreises 13. Das CLK-Signal 101 ist ein Taktsignal mit der Periodendauer T. Das CLKB-Signal 102 ist das Komplementärsignal zum CLK-Signal 101. wie in 3 bis 5 gezeigt, ermöglicht bei einem niedrigen Signalpegel des CLK-Signals 101 der Eingangsschaltkreis 13 ein Einschalten der MOS-Transistoren Qn1, Qp1 und Qp2 und ein Ausschalten des MOS-Transistors Qn2, wodurch der Signalpegel des A-Signals 111 am Eingang des Inverters 27 in 5 stark ansteigt. Umgekehrt werden bei einem hohen Signalpegel des CLK-Signals 101 die MOS-Transistoren Qn1, Qp1 und Qp2 abgeschaltet, und der MOS-Transistor Qn2 eingeschaltet, was ein Absinken des A-Signals 111 auf einen niedrigen Signalpegel ermöglicht.
  • Das A-Signal 111 fällt mit einer Verzögerungszeit t1 nach dem Anstieg des CLK-Signals 101 ab, der wiederum von den Operationen der MOS-Transistoren Qn1, Qp1 und Qp2 abhängt; die Verzögerungszeit t1 entspricht dabei einem einzigen logischen Gatter. Daher steigt das B-Signal 112 am Ausgang des Inverters 27 mit einer Verzögerungszeit t2 nach dem Abfall des A-Signals 111 an, die ebenfalls einem einzigen logischen Gatter entspricht. Die Verzögerungseinheit 30 bewirkt einen Abfall des C-Signals 113 am Ausgang der Verzögerungseinheit 30 mit einer Verzögerungszeit td nach dem Anstieg des B-Signals 112, welche Verzögerungszeit n Invertern entspricht. Das D-Signal 114, das sich aus einer NAND-Verknüpfung des B-Signals 112 und des C-Signals 113 ergibt, besteht aus einem einmaligen Impuls und hat einen niedrigen Signalpegel sowie eine Pulsweite von td. Das E-Signal 115 am Ausgang des Inverters 28 steigt mit einer Verzögerungszeit von t2 nach dem Abfall des D-Signals 114 an, der einem einzigen logischen Gatter entspricht.
  • 7 zeigt ein Ablaufdiagramm zur Erläuterung der Betriebsweise des Taktsignalerzeugers 11 in 1. Der Taktsignalerzeuger 11 erzeugt nach Ablauf einer bestimmten Zeitspanne nach dem Anstieg des CLK-Signals 101 einen einmaligen Impuls als ICLK-Signal 104. Daneben erzeugt er nach Ablauf einer bestimmten Zeitspanne nach Anstieg des CLKB-Signals 102 einen weiteren einmaligen Impuls mit hohem Signalpegel als ICLKB-Signal 105.
  • Das TESTM-Signal 103 weist im normalen Betriebsmodus einen niedrigen Signalpegel auf, im Testmodus dagegen einen hohen Signal pegel. Im normalen Betriebsmodus passiert das ICLKB-Signal 105 das NAND-Gatter 24 und den Inverter 22 als ICLKBK-Signal 106, während das ICLKBT-Signal 107 seinen niedrigen Pegel beibehält. Im Testmodus behält das ICLKBK-Signal 106 seinen niedrigen Pegel bei, während das ICLKB-Signal 105 das NAND-Gatter 25 und den Inverter 23 als ICLKBT-Signal durchläuft.
  • Das Signal 108 mit verdoppelter Frequenz ergibt sich aus einer OR-Verknüpfung des ICLK-Signals 104 und des ICLKBT-Signals 107 und hat eine Pulsweite von td. Dieses Signal 108 hat im normalen Betriebsmodus nach jeder Zeitspanne T einen einzigen einmaligen Impuls, im Testmodus nach jeder Zeitspanne T/2.
  • 8 zeigt ein Beispiel für einen Leseschaltkreis in der synchronen Halbleiterspeichervorrichtung aus 2. Der Leseschaltkreis, der allgemein durch das Bezugszeichen 60 dargestellt wird, umfasst eine Vielzahl von (m) Daten-Zwischenspeichern 17 und m Selektionsschaltkreisen 18, die von einem als Umgehungsschaltkreis ausgeführten Entscheidungsschaltkreis 19 gesteuert wird. Die Lesedaten werden dem Leseschaltkreis 60 aus einer Gruppe von Speicherzellen im Speicherzellenfeld 50 durch einen A-Datenbus 116 zugeführt und durch einen B-Datenbus 117 vom Leseschaltkreis 60 aus weiter transportiert. Sowohl der A-Datenbus als auch der B-Datenbus verfügen über Signalleitungen; diese entsprechen entweder der Anzahl von Datenbits einschließlich dem am wenigsten wichtigen Bit, einem ersten Bit b1 bis hin zum wichtigsten Bit, oder aber einem m-ten Bit bm. Der Entscheidungsschaltkreis 19 enthält auch ein ExNor-Gatter mit m Eingängen.
  • Jede der Signalleitungen, die den Bits b1 bis bm des A-Datenbusses 116 entsprechen, ist mit dem Dateneingang eines entsprechenden Zwischenspeicher-Schaltkreises 17 sowie mit einem entsprechenden Eingang des ExNOR-Gatters im Entscheidungsschaltkreis 19 verbunden. Alle m Daten-Zwischenspeicher empfangen das ICLKBK-Signal 106 an ihrem ersten Takteingang und das ICLK-Signal 104 an ihrem zweiten Takteingang. Jeder Datenausgang der m Daten- Zwischenspeicher 17 ist mit dem A-Eingang eines entsprechenden Selektionsschaltkreis 18 verbunden. Alle m Selektionsschaltkreise 18 empfangen das TESTM-Signal 103 an ihrem S-Eingang, der als Eingang für das Selektions-Steuerungssignal dient. Der B-Eingang eines der Selektionsschaltkreise 18, der dem m-ten Datenbit entspricht, ist mit dem Ausgang des ExNOR-Gatters im Entscheidungsschaltkreis 19 verbunden. Die B-Eingänge der Selektionsschaltkreise 18, die den Bits bm-1 bis b1 entsprechen, sind geerdet. Die Y-Ausgabeterminals der Selektionsschaltkreise 18, die den Bits bm bis b1 entsprechen, sind mit den jeweiligen Signalleitungen auf dem B-Datenbus 117 verbunden.
  • In 9 umfasst ein Beispiel für die in 8 dargestellten Selektionsschaltkreise 18 die P-Kanal-MOS-Transistoren Qp5 und Qp6, die N-Kanal-MOS-Transistoren Qn5 und Qn6 sowie einen Inverter 32.
  • Der S-Eingang des Selektionsschaltkreises 18 ist mit dem Eingang des Inverters 32, der Gate-Elektrode des MOS-Transistors Qp5 sowie der Gate-Elektrode des MOS-Transistors Qn6 verbunden. Der A-Eingang des Selektionsschaltkreises 18 ist sowohl mit der Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qn5 als auch mit der Source-Elektrode des MOS-Transistors Qp5 verbunden. Der B-Eingang des Selektionsschaltkreises 18 ist sowohl mit der Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qn6 als auch mit der Source-Elektrode des MOS-Transistors Qp6 verbunden. Der Ausgang des Inverters 32 ist sowohl mit der Gate-Elektrode des MOS-Transistors Qn5 als auch mit der Gate-Elektrode des MOS-Transistors Qp6 verbunden. Die Source-Elektrode des MOS-Transistors Qn5, die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qp5, die Source-Elektrode des MOS-Transistors Qn6 und die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qp6 sind alle mit dem Y-Ausgangsterminal des Selektionsschaltkreises 18 verbunden.
  • Wenn das dem S-Eingangsterminal zugeführte Signal einen niedrigen Signalpegel aufweist, ermöglicht der Selektionsschaltkreis 18 ein Einschalten der MOS-Transistoren Qn5 und Qp5 sowie ein Ausschalten der MOS-Transistoren Qn6 und Qp6, wodurch eine Verbindung zwischen dem A-Eingangsterminal und dem Y-Ausgangsterminal hergestellt wird. Wenn das dem S-Eingangsterminal zugeführte Signal einen hohen Signalpegel aufweist, werden die MOS-Transistoren Qn5 und Qp5 ausgeschaltet und die MOS-Transistoren Qn6 und Qp6 eingeschaltet, wodurch eine Verbindung zwischen dem B-Eingangsterminal und dem Y-Ausgangsterminal hergestellt wird.
  • So werden zum Beispiel bei einem Schreibvorgang eines synchronen DRAM, der hier als ein Ausführungsbeispiel für eine Halbleiterspeichervorrichtung dienen soll, Schreibdaten von außerhalb des DRAM synchron mit dem Betriebstakt sofort in Speicherzellen gespeichert. Bei einem Lesevorgang des synchronen DRAM werden Lesedaten aus den Speicherzellen zwischengespeichert und verlassen den DRAM wenige Takte später synchron mit dem Betriebstakt wieder. Die synchrone Halbleiterspeichervorrichtung führt ihre Lese- und Schreibvorgänge bei einem Einbrenntest im Testmodus mit verdoppelter Frequenz des Betriebstaktes aus – dabei weist das TESTM-Signal 103 einen hohen Signalpegel auf – und nicht im normalen Betriebsmodus, in dem das TESTM-Signal 103 einen niedrigen Signalpegel aufweist.
  • Die Lesedaten aus den Speicherzellen werden sowohl den Zwischenspeichern 17 als auch dem Entscheidungsschaltkreis 19 durch den A-Datenbus 116 zugeführt. Im normalen Betriebsmodus werden die Lesedaten synchron mit dem ICLK-Signal 104 und dem ICLKBK-Signal 106 in den m Daten-Zwischenspeichern zwischengespeichert und dann nach einigen Takten an die A-Eingangsterminals der Selektionsschaltkreise 18 weitergeleitet. Die Selektionsschaltkreise 18 leiten alle Bits bm bis b1 der Lesedaten an den B-Datenbus 117 weiter.
  • Im Testmodus leitet der Entscheidungsschaltkreis 19 die Entscheidungsresultate, die auf den Lesedaten beruhen, an den Selektionsschaltkreis 18 weiter, der dem m-ten Datenbit bm entspricht. Der Selektionsschaltkreis 18, der dem m-ten Datenbit entspricht, leitet die Entscheidungsresultate zur Signalleitung des B-Datenbusses 17 weiter, die dem m-ten Bit bm entspricht. Die Selektionsschaltkreise 18, die den Bits bm-1 bis b1 der Daten entsprechen, stellen die jeweiligen Signalleitungen des B-Datenbusses 117 auf einen niedrigen Signalpegel ein.
  • Im Folgenden wird nun der Einbrenntest beschrieben, wie er an der synchronen Halbleiterspeichervorrichtung durchgeführt werden soll, die über den Lese-Schaltkreis in 8 verfügt. Das Einbrenn-Testsystem schreibt Daten, welche über die gesamten Bits aus einer Folge von "0" und "1" bestehen, in die Speicherzellen. Anschließend stellt das Testsystem das TESTM-Signal 103 auf einen hohen Signalpegel ein, was. zur Folge hat, dass die synchrone Halbleiterspeichervorrichtung nun im Testmodus arbeitet. Dann liest die synchrone Halbleiterspeichervorrichtung die Daten aus den Speicherzellen und überprüft den Wert des m-ten Bits auf dem B-Datenbus 117.
  • Haben alle Bits der Lesedaten den selben Wert, so nimmt das m-te Bit bm auf dem B-Datenbus 117 den Wert "1" an. Haben die Bits der Lesedaten unterschiedliche Werte, so nimmt das m-te Bit bm auf dem B-Datenbus 117 den Wert "0" an. Das Einbrenn-Testsystem trifft die Entscheidung "GUT", wenn das m-te Bit bm auf dem B-Datenbus 117 den Wert "1" annimmt; es trifft die Entscheidung "SCHLECHT", wenn das m-te Bit bm auf dem B-Datenbus 117 den Wert "0" annimmt .
  • Wichtig ist hierbei, dass der Entscheidungsschaltkreis 19 Schalter und Inverter einschließt, die zwischen den Eingängen des ExNOR-Gatters und den jeweiligen Signalleitungen des A-Datenbusses 116 liegen.
  • Die Signalleitungen des A-Datenbusses 116 sind mit dem ersten Eingang des jeweiligen Schalters und dem Eingang des jeweiligen Inverters verbunden. Die Ausgänge der Inverter sind mit dem zweiten Eingang des jeweiligen Schalters verbunden. Die Eingänge des ExNOR-Gatters sind dann mit dem Ausgang des jeweiligen Schalters verbunden.
  • Je nach Anweisung von außerhalb der Speichervorrichtung ermöglichen die Schalter eine Verbindung eines der beiden Eingänge mit dem Ausgang, so dass die Erwartungswerte, d. h. die Lesedaten, weitergeleitet werden können. In diesem Fall können beliebige Erwartungswerte als Schreibdaten verwendet werden, was zu einer Verbesserung der Zuverlässigkeit des Einbrenntests führt.
  • Die synchrone Halbleiterspeichervorrichtung benützt das Signal mit doppelter Frequenz gemäß der oben beschriebenen Ausführungsform während der Durchführung von Schreibvorgängen, Lesevorgängen sowie Vergleichs- und Entscheidungsvorgängen als Betriebstakt seines Steuerschaltkreises. Der Leseschaltkreis umgeht die Zwischenspeicher, wenn der Entscheidungsschaltkreis den Testmodus erkennt. Dadurch wird im Testmodus eine Verdopplung der Betriebsgeschwindigkeit möglich.
  • In 10 weist ein zweites konkretes Beispiel für den in 2 dargestellten Taktsignalerzeuger 11 anstelle der beiden Eingangsschaltkreise 13 und 14 nur einen einzigen Eingangsschaltkreis auf. Der Taktsignalerzeuger 11A weist die P-Kanal-MOS-Transistoren Qp1 und Qp2, die N-Kanal-MOS-Transistoren Qn1 und Qn2 sowie zwei Takterzeuger 15 und 16 auf.
  • Die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qp1 und die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qn1 sind mit dem Eingangsterminal 204 des Impulssignalerzeugers 15 verbunden. Die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qp2 und die Drain-Elektrode des MOS-Transistors Qn2 sind mit dem Eingangsterminal 204 des Impulssignalerzeugers 16 verbunden. Das ICLKB-Signal 105 verlässt den Impulssignalerzeuger 15 an dessen Ausgangsterminal 205. Das ICLK-Signal 104 verlässt den Impulserzeuger 16 an dessen Ausgangsterminal 205. In diesem Fall kann die Größe des Schaltkreises verringert werden.
  • Die Beschreibung der vorliegenden Erfindung erfolgte mit Bezug auf ihre bevorzugte Verwirklichung. Die erfindungsgemäße synchrone Halbleiterspeichervorrichtung ist jedoch nicht auf die oben beschriebene Konfiguration der Ausführungsform beschränkt. Vielmehr bietet die vorliegende Erfindung auch die Möglichkeit der Variation synchroner Halbleiterspeichervorrichtungen durch verschiedene Modifikationen oder Änderungen der oben beschriebenen Ausführungsform.

Claims (4)

  1. Synchrone Halbleiterspeichervorrichtung, welche Folgendes aufweist: ein Speicherzellenfeld (50), das eine Vielzahl von Gruppen von Speicherzellen aufweist, wobei jede Gruppe eine Anzahl m Speicherzellen zum Speichern einer Anzahl m an Datenbits einschließt; einen Taktsignalerzeuger (11, 12) zum Empfangen eines Paares komplementärer Signale, welche erste und zweite Taktsignale zum Erzeugen dritter und vierter Taktsignale in einem normalen Betriebsmodus aufweisen, wobei das dritte Taktsignal eine voreilende Flanke besitzt, die im Wesentlichen synchron zu einer nacheilenden Flanke des ersten Taktsignals ist, das vierte Taktsignal eine voreilende Flanke besitzt, die im Wesentlichen synchron zu einer voreilenden Flanke des ersten Taktsignals ist, wobei der Taktsignalerzeuger (11, 12) in einem Testmodus ein fünftes Signal erzeugt, das eine Frequenz aufweist, die doppelt so groß ist wie die Frequenz des ersten Taktsignals; einen Lese-/Schreib-Steuerschaltkreis (20), der auf das erste Taktsignal in dem normalen Betriebsmodus zur Steue rung eines Lese-/Schreibvorgangs für die Speicherzellen anspricht, wobei der Lese-/Schreib-Steuerschaltkreis (20) im Testmodus auf das fünfte Taktsignal zur Steuerung eines Lese-/Schreibvorgangs für die Speicherzellen anspricht; gekennzeichnet durch eine Vielzahl von Daten-Zwischenspeichern (17), die jeweils für ein. entsprechendes Bit aus der in der Anzahl m vorliegenden Bits angeordnet sind, wobei alle Daten-Zwischenspeicher (17) auf das dritte und vierte Taktsignal in dem normalen Betriebsmodus zum Zwischenspeichern von Daten von jeder entsprechenden Speicherzelle in Synchronisation mit dem dritten Taktsignal ansprechen und die zwischengespeicherten Lesedaten in Synchronisation mit dem vierten Taktsignal liefern; und durch einen Umgehungsschaltkreis (18, 19), der es ermöglicht, dass Lesedaten die Zwischenspeicher (17) während des Testmodus umgehen.
  2. Synchrone Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Umgehungsschaltkreis (18, 19) ein exklusives NOR-Gatter mit m Eingängen aufweist, die. der Bitanzahl m entsprechen.
  3. Synchrone Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Umgehungsschaltkreis (18, 19) weiter eine Vielzahl von Selektionsschaltkreisen (18) aufweist, die jeweils für einen entsprechenden der Datenzwischenspeicher (17) angeordnet sind, um ein Ausgangssignal des jeweiligen Datenspeichers (17) in dem normalen Betriebsmodus weiterzuleiten.
  4. Synchrone Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 3, welche ferner mindestens einen Inverter aufweist, der zwischen einer der Speicherzellen und einem entsprechenden Eingang des exklusiven NOR-Gatters angeordnet ist.
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6667917B1 (en) * 2001-06-15 2003-12-23 Artisan Components, Inc. System and method for identification of faulty or weak memory cells under simulated extreme operating conditions
JP4215443B2 (ja) 2002-04-05 2009-01-28 富士通株式会社 ダイナミックバーンイン装置用アダプタ・カードおよびダイナミックバーンイン装置
KR100493027B1 (ko) * 2002-10-01 2005-06-07 삼성전자주식회사 외부클럭의 주파수 체배기와 테스트 데이터의 출력버퍼를 구비하는 반도체 장치 및 반도체 장치의 테스트 방법
KR100498501B1 (ko) * 2003-06-04 2005-07-01 삼성전자주식회사 내부 클럭 신호의 특성 검증을 위한 바이패스 회로를가지는 반도체 메모리 장치
US7587645B2 (en) * 2005-01-24 2009-09-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Input circuit of semiconductor memory device and test system having the same
KR100657830B1 (ko) * 2005-01-24 2006-12-14 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 테스트 장치 및 방법
KR100663362B1 (ko) 2005-05-24 2007-01-02 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 데이터 라이트 및 리드방법
KR100656455B1 (ko) * 2005-12-27 2006-12-11 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리의 액티브 싸이클 제어장치 및 방법
JP2008052803A (ja) * 2006-08-23 2008-03-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2010003388A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置およびそのテスト方法
JP2010198715A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置
KR20130015725A (ko) * 2011-08-04 2013-02-14 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치를 포함하는 시스템-인 패키지 및 시스템-인 패키지의 입출력 핀 확인방법
US8612815B2 (en) 2011-12-16 2013-12-17 International Business Machines Corporation Asynchronous circuit with an at-speed built-in self-test (BIST) architecture
US8917566B2 (en) 2012-04-11 2014-12-23 International Business Machines Corporation Bypass structure for a memory device and method to reduce unknown test values
US9614436B2 (en) * 2013-04-10 2017-04-04 Linear Technology Corporation Circuit and method for dynamic switching frequency adjustment in a power converter
KR102355437B1 (ko) * 2017-05-11 2022-01-26 에스케이하이닉스 주식회사 클럭 생성 회로를 포함하는 반도체 장치 및 반도체 시스템

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0475588B1 (de) * 1990-08-17 1996-06-26 STMicroelectronics, Inc. Halbleiter-Speicher mit unterdrücktem Testmodus-Eingang während des Strom-Einschaltens
EP0640986A1 (de) * 1993-08-26 1995-03-01 Siemens Aktiengesellschaft Halbleiterspeicheranordnung und Verfahren zum Testen dieser Halbleiterspeicheranordnung
JPH09161476A (ja) * 1995-10-04 1997-06-20 Toshiba Corp 半導体メモリ及びそのテスト回路、並びにデ−タ転送システム
JP2833563B2 (ja) * 1996-01-23 1998-12-09 日本電気株式会社 半導体記憶装置
KR100211609B1 (ko) * 1997-06-30 1999-08-02 윤종용 이중에지 클록을 사용한 집적회로 소자 검사방법
JPH11213696A (ja) 1998-01-29 1999-08-06 Mitsubishi Electric Corp ダイナミックram及び当該ダイナミックramを用いたバーンインテスト方法
AU1913500A (en) * 1998-11-25 2000-06-13 Nanopower, Inc. Improved flip-flops and other logic circuits and techniques for improving layouts of integrated circuits
JP4748828B2 (ja) * 1999-06-22 2011-08-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置

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