DE4135967A1 - Plasmaanzeigefeld und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents

Description

Die Erfindung befaßt sich mit einer Plasmaanzeigevorrich­ tung und betrifft insbesondere ein Gleichspannungsplasmaanzeige­ feld.

Ein Gleichspannungsplasmaanzeigefeld wird üblicherweise so ausgebildet, daß Kathoden und Anoden, an denen jeweils eine hohe Gleichspannung liegt, in einem mit einem Entladegas gefüllten, dicht abgeschlossenen Raum freiliegen. Die Kathoden und Anoden sind in einem streifenförmigen Muster angeordnet und kreuzen einander, so daß eine sogenannte X-Y-Matrix gebildet ist.

Ein Beispiel eines herkömmlichen Gleichspannungsplasmaan­ zeigefeldes ist in Fig. 3 der zugehörigen Zeichnung dargestellt. Bei dem in Fig. 3 dargestellten Plasmaanzeigefeld sind Anoden A und Kathoden K in einer X-Y-Matrix an den jeweiligen Innenflä­ chen einer Frontplatte 10 und einer Rückplatte 20 angeordnet, die in einem bestimmten Abstand voneinander durch Sperrstege B gehalten sind, die in gleichen regelmäßigen Abständen angeordnet sind. Die Anoden A sind in der gleichen Richtung wie die Sperr­ stege B vorgesehen und an einem Rand zur Hälfte in den unteren Teil der Sperrstege B eingebettet, so daß nur der gegenüberlie­ gende Rand teilweise freiliegt.

Bei einem Plasmaanzeigefeld mit dem oben beschriebenen Aufbau kann ein zwischen einer Anode und einer Kathode erzeugtes Entladelicht ohne Behinderung durch die Anode ausgesandt werden. Es ist auch vorteilhaft, daß die Anodenstärke größer als bei anderen Plasmaanzeigefeldern sein kann, bei denen das Entlade­ licht durch die Anode hindurchgehen muß, was die Wirksamkeit der Entladung erhöht, die Ungleichmäßigkeit der Helligkeit an den verschiedenen Stellen des Anzeigefeldes vermindert und somit die Anzahl von mangelhaften Produkten stark herabsetzt. Da jedoch die Anoden bei dem herkömmlichen Plasmaanzeigefeld asymmetrisch neben einer Seite jedes Entladeraumes angeordnet sind, wird das Entladelicht vom Entladeraum teilweise durch einen Randbereich jeder Anode abgeschirmt. Eine derartige Teilblockierung oder Teilabschirmung des Entladelichtes durch die Anode führt zu einem asymmetrischen Weg des Entladelichtes, so daß sich opti­ sche Unterschiede bei verschiedenen Betrachtungswinkeln ergeben. Da darüber hinaus die Anode in nur eine Seite des Sperrsteges eingebettet ist, neigen sich die durch ein Dick­ schichtverfahren gebildeten Sperrstege zu einer Seite, was die Festigkeit des Aufbaus herabsetzt.

Durch die Erfindung sollen ein Plasmaanzeigefeld und ein Verfahren zu seiner Herstellung geschaffen werden, bei denen die oben genannten Schwierigkeiten nicht auftreten.

Dazu umfaßt das erfindungsgemäße Plasmaanzeigefeld eine Front- und eine Rückplatte, die in einem bestimmten Abstand von­ einander angeordnet sind, mehrere Sperrstege, die parallel zu­ einander zwischen der Front- und der Rückplatte angeordnet sind, mehrere Kathoden, die senkrecht zu den Sperrstegen auf der Rück­ platte angeordnet sind, und mehrere Anoden, die senkrecht zu den Kathoden an der Frontplatte so angeordnet sind, daß jeweils zwei gegenüberliegende Elektroden zentriert um jeden zweiten Sperr­ steg angeordnet sind und ein Rand jeder Kathode in den Sperrsteg eingebettet ist.

Bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren eines Plas­ maanzeigefeldes, das zwei Substrate, mehrere Metalldickschicht­ anoden und -kathoden, die in Form einer X-Y-Matrix an den jewei­ ligen Innenflächen der Substrate angeordnet sind, und Sperrstege zum Verhindern eines Nebensprechens zwischen den Bildpunkten umfaßt, werden die ungeradzahligen Anoden an der Frontplatte in Abständen angeordnet, die doppelt so groß wie die normalen Ab­ stände sind, werden die Grundschichten der geradzahligen und der ungeradzahligen Sperrstege an der Frontplatte im normalen Ab­ stand ausgebildet, wobei ein Rand jeder Grundschicht jedes unge­ radzahligen Sperrsteges die entsprechende ungeradzahlige Anode überlappt, werden die geradzahligen Anoden an der Frontplatte in Abständen, die doppelt so groß wie die normalen Abstände sind, den jeweiligen ungeradzahligen Anoden gegenüber ausgebildet, wobei ein Rand jeder geradzahligen Anode die entsprechende Grundschicht jedes ungeradzahligen Sperrsteges überlappt, und werden mehrere obere Schichten auf den Grundschichten der gerad­ zahligen und der ungeradzahligen Sperrstege ausgebildet, um die Sperrstege fertigzustellen.

Im folgenden wird anhand der zugehörigen Zeichnung ein besonders bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung näher beschrieben. Es zeigen

Fig. 1 eine schematische Schnittansicht des Ausführungsbei­ spiels des erfindungsgemäßen Plasmaanzeigefeldes,

Fig. 2A bis 2D in Querschnittsansichten die aufeinanderfol­ genden Schritte zur Bildung eines Sperrsteges und einer Anode auf der Frontplatte nach dem erfindungsgemäßen Herstellungsver­ fahren und

Fig. 3 eine schematische Querschnittsansicht eines herkömm­ lichen Plasmaanzeigefeldes.

In Fig. 1 ist ein Plasmaanzeigefeld mit dem erfindungsgemä­ ßen Aufbau dargestellt.

Eine Frontplatte 10 und eine Rückplatte 20 sind in einem geeigneten Abstand einander gegenüber angeordnet und Metalldick­ schichtkathoden K sowie eine Metalldickschichtanodengruppe A sind streifenförmig als X-Y-Matrix auf den jeweiligen Innenfla­ chen der beiden Platten vorgesehen. Ein Sperrsteg B, der in der­ selben Richtung wie die Anoden A angeordnet ist, ist auf der Frontplatte 10 vorgesehen. Die Anodengruppe A ist in eine Gruppe ungeradzahliger Anoden A1 und einer Gruppe geradzahliger Anoden A2 unterteilt, wobei die nebeneinander liegenden Ränder der ungeradzahligen Anoden A1 und der geradzahligen Anoden A2 teil­ weise in jeden zweiten Sperrsteg eingebettet sind. Der eingebet­ tete Rand der geradzahligen Anoden A2 ist dabei im Gegensatz zu dem Rand der ungeradzahligen Anode A1 von der Frontplatte 10 ge­ trennt.

Wie es oben beschrieben wurde, sind bei diesem Ausführungs­ beispiel des erfindungsgemäßen Plasmaanzeigefeldes zwei gegen­ überliegende Anoden halb in den unteren Teil jedes zweiten Sperrsteges eingebettet. Das Plasmaanzeigefeld wird jedoch in der gleichen Weise wie ein herkömmliches Plasmaanzeigefeld ange­ steuert, indem eine Anode und die entsprechende Kathode ausge­ wählt und mit einer bestimmten Spannung versorgt werden, um eine Gasentladung an der Schnittstelle der Kathode und des freilie­ genden Randes der Anode zu erzeugen, der nicht in den Sperrsteg eingebettet ist.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Herstellen eines Plasmaanzeigefeldes mit dem obigen Aufbau erfolgt die Bildung der Anodengruppe A aus geradzahligen und ungeradzahligen Anoden A1 und A2 und der Gruppe der Sperrstege B aus geradzahligen und ungeradzahligen Sperrstegen B1 und B2 in der folgenden Weise:

Wie es in Fig. 2A dargestellt ist, werden die ungeradzah­ ligen Anoden A1 auf der Frontplatte 10 in Abständen, die doppelt so groß wie die üblichen Abstände sind, durch Siebdruck unter Verwendung einer Nickelpaste ausgebildet.

Grundschichten B11 und B12 der Gruppe der Sperrstege B werden in üblichen Abständen auf der Frontplatte 10 ausgebildet, wobei gemäß Fig. 2B die Grundschicht B11 einen Rand jeder unge­ radzahligen Anode A1 überlappt. Gegebenenfalls kann die Grund­ schicht eine Mehrfachschicht sein.

Anschließend werden die geradzahligen Anoden A2 der Anoden­ gruppe A gleichfalls im doppelten Abstand mit demselben Sieb­ druckverfahren, jedoch gegenüber den ungeradzahligen Anoden ver­ setzt, auf der Frontplatte ausgebildet. Wie es in Fig. 2C darge­ stellt ist, überlappt ein Rand jeder geradzahligen Anode A2 teilweise die Grundschicht B11, die den benachbarten Rand der ungeradzahligen Anode A1 überlappt, wie es bereits erwähnt wur­ de.

Schließlich werden gemäß Fig. 2D die Sperrstege B1 und B2 dadurch fertiggestellt, daß die Restschichten über den Grund­ schichten B11 und B21 mehrfach ausgebildet werden.

Die Frontplatte 10, die mit jedem Bauteil nach dem oben beschriebenen Verfahren versehen ist, wird mit der Rückplatte 20 kombiniert, die mit den Kathoden K versehen ist, um im anschlie­ ßenden Herstellungsprozeß ein Plasmaanzeigefeld zu erzeugen.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Herstellen eines Plasmaanzeigefeldes, das oben beschrieben wurde, werden die beiden Bauteile der Anodengruppe A (A1 und A2) nicht gleichzei­ tig, sondern in zwei Schritten ausgebildet, so daß keine Gefahr besteht, daß Kurzschlüsse zwischen benachbarten Anoden auftreten und die Produktivität wesentlich größer ist. Da sich bei einem derartigen Aufbau in der Mitte zwischen benachbarten Anoden ein Sperrsteg befindet, in den die Ränder der Anoden teilweise ein­ gebettet sind, neigen sich die Sperrstege nicht zu einer Seite, wie es bei einem herkömmlichen Aufbau der Fall ist. Da weiterhin die Fortpflanzungsrichtung des ausgesandten Lichtes jedes Bild­ punktes abwechselnd von der zugehörigen Anode weggelenkt wird, sind Luminanzschwankungen aufgrund einer Änderung des Betrach­ tungswinkels kleiner.

Im obigen wurde ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemä­ ßen Plasmaanzeigefeldes mit einem sehr einfachen Aufbau be­ schrieben, die erfindungsgemäße Ausbildung ist aber bei ver­ schiedenen komplizierten Plasmaanzeigefeldern gleichfalls an­ wendbar und eignet sich insbesondere bei einem Produkt mit hoher und gleichmäßiger Luminanz sowie sehr komplizierten und insbe­ sondere hochdichten Plasmaanzeigevorrichtungen. Das gleiche gilt für das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren.

Claims (2)

1. Plasmaanzeigefeld mit einer Front- und einer Rückplatte (10, 20), die in einem bestimmten Abstand voneinander angeordnet sind, einer Vielzahl von Sperrstegen (B), die parallel zuein­ ander zwischen der Front- und der Rückplatte (10, 20) angeordnet sind, einer Vielzahl von Kathoden (K), die senkrecht zu den Sperrstegen (B) auf der Rückplatte (20) angeordnet sind, und einer Vielzahl von Anoden (A), die senkrecht zu den Kathoden (K) auf der Frontplatte (10) angeordnet sind, dadurch gekennzeich­ net, daß jeweils zwei gegenüberliegende Anoden (A1, A2) um jeden zweiten Sperrsteg herum zentriert angeordnet sind und ein Rand jeder Anode (A1, A2) in jeden zweiten Sperrsteg eingebettet ist.

2. Verfahren zum Herstellen eines Plasmaanzeigefeldes mit zwei Substraten, Metalldickschichtanoden (A) und -kathoden (K), die in Form einer X-Y-Matrix auf den jeweiligen Innenflächen der Substrate angeordnet sind, und mit Sperrstegen (B) zum Verhin­ dern eines Nebensprechens zwischen den Bildpunkten, dadurch gekennzeichnet, daß die ungeradzahligen Anoden (A1) auf der Frontplatte (20) in Abständen ausgebildet werden, die doppelt so groß wie die normalen Abstände sind, die Grundschichten (B11, B21) der ungeradzahligen und der geradzahligen Sperrstege auf der Frontplatte (10) in normalen Abständen ausgebildet werden, wobei ein Rand der Grundschicht (B11) jedes ungeradzahligen Sperrsteges die entsprechende ungeradzahlige Anode (A1) über­ lappt, die geradzahligen Anoden (A2) auf der Frontplatte (10) in Abständen, die doppelt so groß wie die normalen Abstände sind, den jeweiligen ungeradzahligen Anoden (A1) gegenüber ausgebildet werden, wobei ein Rand jeder geradzahligen Anode (A2) die ent­ sprechende Grundschicht (B11) jedes ungeradzahligen Sperrsteges überlappt, und mehrere obere Schichten auf den Grundschichten (B11, B21) der geradzahligen und der ungeradzahligen Sperrstege ausgebildet werden, um die Sperrstege zu vervollständigen.