DE60127761T2

DE60127761T2 - Elektrodenstruktur einer Anzeigetafel und Verfahren zur Herstellung von Elektroden

Info

Publication number: DE60127761T2
Application number: DE60127761T
Authority: DE
Inventors: Tetsuya Kawasaki-shi Ogawa
Original assignee: Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd
Current assignee: Hitachi Plasma Display Ltd
Priority date: 2000-06-14
Filing date: 2001-02-13
Publication date: 2007-08-02
Anticipated expiration: 2021-02-14
Also published as: EP1164621A2; JP2001356708A; TW484157B; KR100711741B1; US20010052958A1; KR20010112056A; US6680759B2; EP1164621A3; EP1164621B1; DE60127761D1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels und ein Verfahren zur Bildung von Elektroden, und genauer auf eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels, zum Beispiel eines Plasmaanzeigepaneels (PDP), eines Flüssigkristallanzeigepaneels (LCD), einer Elektrolumineszenzanzeige (EL) oder dergleichen, bei dem Elektroden durch Ätzen auf einem Substrat gebildet werden, und ein Verfahren zur Bildung von Elektroden.
Bei einem Anzeigepaneel dieser Art werden im Allgemeinen Elektroden oft durch Ätzen gebildet. In dem Fall, bei dem die Elektroden durch Ätzen auf dem Substrat zu bilden sind, wird zunächst eine Schicht eines Elektrodenmaterials, wie etwa ITO, SnO₂, Cr, Cu oder Ag einheitlich über die gesamte Oberfläche des Substrats durch Bedampfen, Sputtern oder Drucken, wie etwa Beschichten mit Schlitzdüse, gebildet, dann wird ein Resistmuster, das eine Geometrie der Elektroden aufweist, auf der Elektrodematerialschicht durch Fotolithografie oder dergleichen gebildet, und die Elektrodematerialschicht wird geätzt, indem eine Ätzlösung wie eine Dusche über das Resistmuster gegossen wird, d.h. durch so genanntes Sprühätzen.
Besonders in den letzten Jahren war ein Inline-Herstellungssystem des Förderbandtyps die Hauptströmung der Anzeigepaneel-Herstellungseinrichtung, als Massenproduktion gefragt wurde. Bei dem Inline-Herstellungssystem wird die Bearbeitung kontinuierlich ausgeführt, während ein Paneelsubstrat auf einer Förderbahn gefördert wurde. Aus diesem Grund wird das Sprühätzen ebenso ausgeführt, indem die Ätzlösung sequentiell auf Substrate durch eine Sprühvorrichtung gesprüht wird, die in einer festen Position bereitgestellt wird, während man die Substrate durch das Förderband fördert.
Bei dem oben erwähnten Anzeigepaneel werden zum Beispiel Elektroden, die eine wie in 12 gezeigte Geometrie aufwei sen, auf dem Substrat gebildet. 12 zeigt ein Beispiel von Elektroden, die auf einem Glassubstrat auf einer Vorderseite eines PDPs des Oberflächenentladungstyps mit drei Elektroden gebildet werden. Bei diesem PDP sind eine Vielzahl von Paaren von Elektroden X und Y zur Erzeugung einer Hauptentladung (Oberflächenentladung) zur Anzeige in einer horizontalen Richtung auf einem zentralen Teil (Anzeigeregion) eines Substrats 11 vorgesehen. Diese Elektroden X und Y sind in eine Vielzahl von Blocks unterteilt und werden für jeden Block an Enden des Substrats 11 (außerhalb der Anzeigeregion) gesammelt und zusammengeführt.
Bei diesem Beispiel werden die Elektroden X an einer Seite des Substrats 11 (der linke Seite der Figur), und die Elektroden Y werden auf der anderen Seite des Substrats 11 (der rechten Seite der Figur) zusammengeführt. Die Elektroden X und Y sind mit flexiblen Kabeln 34 an Anschlussabschnitten 33 jeweils an einem Subtratende an der einen Seite und an einem Subtratende an der anderen Seite verbunden, unter Verwendung eines anisotropen, leitfähigen Klebers oder dergleichen, und mit Ansteuerelementen verbunden.
Aus Gründen der Einfachheit der Beschreibung bilden in 12 acht Anzeigeleitungen (eine Anzeigeleitung ist durch ein Paar von Elektroden X und Y dargestellt) einen Block (oder Gruppe), und die Elektroden X und Y jedes Blocks werden an den Anschlussabschnitten 33 auf der einen Seite und auf der anderen Seite zusammengeführt. In einem tatsächlichen Anzeigepaneel, das zum Beispiel 480 Anzeigeleitungen aufweist, werden die Anzeigeleitungen in vier Blocks unterteilt, wobei jeder Block 120 Anzeigeleitungen aufweist, obwohl die Unterteilung der Anzeigeleitung von der Leistung der Ansteuerelemente abhängt. In jedem der Blocks werden 120 Elektroden X und 120 Elektroden Y auf den Anzeigeabschnitten 33 jeweils auf der einen Seite und auf der anderen Seite zusammengeführt, und sind mit den flexiblen Kabeln 34 an den Anschlussabschnitten 33 verbunden.
Bei dem oben erwähnten Anzeigepaneel wird, während die Größe erhöht und nach hoher Definition gestrebt wird, die Breite von Elektroden reduziert. Demzufolge ist es notwendig, dass die Form und Dimensionierung der Elektroden, die nach dem Ätzen erhalten werden, größere Präzision und Einheitlichkeit aufweisen.
Wenn jedoch die Elektrodenmaterialschicht durch das Sprühätzverfahren geätzt wird, während das Substrat mittels des Inline-Herstellungssystems gefördert wird, wird einem Blockrandabschnitt B des Resistmusters, das auf der Elektrodenmaterialschicht gebildet ist, Ätzlösung übermäßig zugeführt, und die Elektrodenmaterialschicht wird in diesem Abschnitt überätzt. Dieses Problem wird nun beschrieben.
13 ist eine Ansicht, die die Details eines Endes des Substrates, auf dem die Elektroden X und Y gebildet sind, illustriert. Hiernach werden aus Bequemlichkeitsgründen geradlinige Abschnitte der Elektroden X und Y, die beinah parallel in der Anzeigeregion des Substrats angeordnet sind, als Entladungselektrodenabschnitte 51 bezeichnet, und schräge Abschnitte der Elektroden X und Y, die sich von den Entladungselektrodenabschnitten 51 erstrecken, in einer vorbestimmten Anzahl für jeden Block zusammenlaufen, und die Anschlussabschnitte 33 an dem Ende des Substrats erreichen, als Zuleitungselektrodenabschnitte 52 bezeichnet.
Wie in der 13 gezeigt, werden zum Ende des Substrats die Entladungselektrodenabschnitte 51 von entweder X- oder Y-Elektroden der Elektrodenpaare alleine (zum Beispiel nur die Y-Elektroden) von den Zuleitungselektrodenabschnitte 52 herausgeführt und erreichen die Anschlussabschnitte 33. Demzufol ge sind in Bezug auf die Y-Elektroden die Elektrodenabstände zwischen den Elektroden kleiner an den Anschlussabschnitten 33, als in der Anzeigeregion. Da jedoch in dem Blockrandabschnitt 8 die Zuleitungselektrodenabschnitte 52 von Y-Elektroden in benachbarten Blocks sich schräg in solche Richtungen erstrecken, dass sie einander fernbleiben (d.h. in entgegengesetzten Richtungen), wobei der Blockrandabschnitt dazwischen liegt, sind die Elektrodenabstände an den Anschlussabschnitten 33 größer, als in der Anzeigeregion. Des Weiteren ist ein Elektrodenintervall (eine Lücke) zwischen den Elektroden X und Y jedes Elektrodenpaars, das als ein Entladungsschlitz (Entladungsabschnitt) wirkt, kleiner als die Elektrodenabstände in den Anschlussabschnitten, und ein Elektrodenintervall (eine Lücke) zwischen den Elektroden X und Y von benachbarten Elektrodenpaaren, das als ein inverser Schlitz (Nicht-Entladungsabschnitt) wirkt, größer als die Elektrodenabstände in den Anschlussabschnitten. Mit anderen Worten unterscheiden sich die Elektrodenabstände in dem zentralen Teil des Substrats geringfügig, und sind viel größer in den Blockrandabschnitten am Ende des Substrats. Diese Differenz in den Elektrodenabständen (d.h. in der Dichte der Elektroden) am Ende des Substrats verursacht während des Ätzens ein Problem.
14 ist eine Ansicht, die die Details eines Endes des Substrats illustriert, auf dem das Resistmuster zur Bildung der oben beschriebenen Elektroden vorgesehen ist. Wenn, wie in 14 gezeigt, das Resistmuster für die Elektroden, das heißt ein Resistmuster 51a zur Bildung der Entladungselektrodenabschnitte, ein Resistmuster 52a zur Bildung der Zuleitungselektrodenabschnitte und ein Resistmuster 33a zur Bildung der Anschlussabschnitte vorgesehen sind, und das Sprühätzen durchgeführt wird, während das Substrat 11 in einer Richtung eines Pfeils K gefördert wird, wird ein Fluss in einer relativen Richtung, die durch einen Pfeil F gezeigt wird, in der Ätzlösung aus dem folgenden Grunde erzeugt.
15 ist eine Ansicht, die einen Querschnitt illustriert, der entlang einer Linie A A in 14 gemacht wurde. Allgemein weisen die Resistmuster 51a, 52a und 33a Hydrophobie auf und haben die Eigenschaft, Ätzlösung 36 abzuweisen. Aus diesem Grunde gelangt die Ätzlösung 36 nicht leicht auf die Resistmuster 51a, 52a und 33a und schwappt über die Elektrodenmaterialschicht 31. Dementsprechend fließt die Ätzlösung 36 in die Richtung, die durch einen Pfeil F gezeigt wird, ohne über die Resistmuster 51a, 52a und 33a zu gelangen.
In 14 wird auf den Blockrandabschnitt B des Resistmusters ein Augenmerk geworfen. An dem Substratende ist das Intervall zwischen Anschlusselektroden in dem Blockrandabschnitt größer als das Intervall zwischen Anschlusselektroden, die nicht in dem Blockrandabschnitt positioniert sind, und weist eine größere Fläche zur Aufnahme der Ätzlösung auf. Demzufolge ist der Zufluss der Ätzlösung in den Blockrandabschnitt B größer. Jedoch ist in der Anzeigeregion das Elektrodenintervall in dem Blockrandabschnitt B gleich den Elektrodenabständen anderer Elektroden. Wenn die Ätzlösung, die in die Richtung F am Substratende fließt, sich entlang des Resistmusters 52a zur Bildung der Zuleitungselektrodenabschnitte konzentriert und in die Anzeigeregion fließt, vergrößert sich dementsprechend der Zufluss der Ätzlösung in der Anzeigeregion, so dass eine Flussgeschwindigkeit vergrößert wird.
Daher ist, wie in 15 gezeigt, eine Ätzgeschwindigkeit eines Teils der Elektrodenmaterialschicht 32, die in dem Blockrandabschnitt B positioniert ist, größer als die eines Teils davon, der nicht in dem Blockrandabschnitt B positioniert ist. Als Ergebnis werden die Entladungselektrodenabschnitte 51 der Elektroden (schattiert in 14 gezeigt), die in dem Blockrandabschnitt 8 positioniert sind, überätzt, verglichen mit den Entladungselektrodenabschnitten 51 der Elektroden, die nicht in dem Blockrandabschnitt B positioniert sind, und somit geringere Breiten aufweisen.
16 entspricht 15 und zeigt die Form der Elektroden nach dem Ätzen. Wie in 16 gezeigt, werden die Entladungselektrodenabschnitte 51 der Elektroden (schattiert in 16 gezeigt), die in dem Blockrandabschnitt B positioniert sind, schmaler gebildet, als die Entladungselektrodenabschnitte 51 der Elektroden, die nicht in dem Blockrandabschnitt B positioniert sind. Dies wird ein Grund für unregelmäßige Anzeige des fertigen Anzeigepaneels sein.
Wie in 13 gezeigt, werden des weiteren die zu fördernden Elektroden (die Y-Elektroden in 13) schräg vorgesehen, so dass Elektroden von benachbarten Blocks einander in dem Blockrandabschnitt B am Ende des Substrats fernbleiben. Daher ist in dem Blockrandabschnitt B das Intervall zwischen den benachbarten Elektroden größer als die Elektrodenabstände in anderen Abschnitten. Demzufolge ist eine Kopplungskapazität zwischen den Elektroden, die ein größeres Elektrodeintervall aufweisen, verschieden von der zwischen Elektroden, die geringere Elektrodenabstände aufweisen. Somit weisen elektrische Charakteristiken auch eine Uneinheitlichkeit auf.
US 5914763 offenbart ein Flüssigeitskristallanzeigepaneel, das eine Vielzahl von parallelen Anzeigeelektroden und Anschlüsse für die Anzeigelektroden an einem Endabschnitt des Substrats aufweist. Ausleitungsverdrahtungen verbinden die Anzeigeelektroden mit ihren jeweiligen Anschlüssen. Des Weiteren sind Blindelektroden zwischen den Anschlüssen und geneigten Ausleitungsverdrahtungen vorgesehen, um so die Lücke zwischen den oberen und unteren Substraten des Anzeigepaneels einheitlich zu machen.
JP 10283940 offenbart ein Plasmaanzeigepaneel, dass ein Paar Glassubstrate umfasst, die jedes ein darauf gebildetes Elektrodenmuster aufweisen. Während der Herstellung des Paneels wird ebenso ein bLindelektrodenmuster gebildet, um die Geschwindigkeit der Wärmeabsorption innerhalb eines Substrats während der Wärmebehandlung des Paneels einzustellen, um so Substratbruch während der Wärmebehandlung zu verhindern.
Unter Berücksichtigung solcher Umstände ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Elektrodenstruktur und ein Bildungsverfahren eines Anzeigepaneels bereitzustellen, bei dem eine Blindelektrode zum Beschränken des Flusses der Ätzlösung an einem Blockrandabschnitt an einem Substratende vorgesehen ist, um übermäßiges Ätzen einer an dem Blockrandabschnitt positionierten Elektrodenmaterialschicht zu verhindern. Des Weiteren kann die Blindelektrode nach der Herstellung auch zur Korrektur nichteinheitlicher Kopplungskapazität verwendet werden, wodurch die Nichteinheitlichkeit von elektrischen Charakteristiken beseitigt wird, die ansonsten mit der Ungleichförmigkeit in den Intervallen zwischen Anschlüssen einhergehen würde.
Ein erster Aspekt der vorliegenden Erfindung stellt eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels bereit, die umfasst: eine Vielzahl von Elektroden, die in Blocks auf einem Substrat gebildet sind, das das Anzeigepaneel ausmacht, wobei die Elektroden Anzeigeelektrodenabschnitte, die im Wesentlichen parallel in einem zentralen Teil des Substrats vorgesehen sind, und schräge Zuleitungselektrodenabschnitte umfassen, die in einer vorherbestimmten Anzahl für jeden Block vorgesehen sind und sich schräg von den Anzeigeelektrodenabschnitten erstrecken, um Anschlussabschnitte an einem Ende des Substrats zu erreichen, wobei für jeden Block die Zuleitungselektrodenabschnitte zu assoziierten Anschlussabschnitten zusammenlaufen; wobei eine Blindelektrode zwischen zwei schrägen Zuleitungselektroden abschnitten, die sich in verschiedene Richtungen von einem Blockrandabschnitt zwischen zwei benachbarten Blocks erstrecken, vorgesehen ist, wobei die Blindelektrode eine im Wesentlichen V-förmige Elektrode ist, die entlang der zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitte gebildet ist, die sich in verschiedene Richtungen von dem Blockrandabschnitt erstrecken, um einen Fluss einer Ätzlösung in den Blockrandabschnitt während des Ätzens, wenn die Elektroden gebildet werden, zu beschränken; gekennzeichnet durch einen Kopplungsabschnitt, der die Blindelektrode mit mindestens einem der zwei schrägen Elektrodenabschnitte koppelt, die auf demselben Substrat gebildet sind.
Die vorliegende Erfindung kann vorsehen, dass ein feines Elektrodenmuster einheitlicher mit großer Präzision gebildet werden kann. Demzufolge ist es möglich, Anzeigeunebenheit in dem Blockrandabschnitt zu verhindern. Des Weiteren kann, da ein Kopplungsabschnitt zum Koppeln der Blindelektrode und eines Zuleitungselektrodenabschnitts vorgesehen ist, die Kopplungskapazität der Elektroden beinah gleich in allen Elektroden gemacht werden. Somit ist es möglich, ein Anzeigepaneel zu erhalten, das einheitliche elektrische Charakteristika aufweist.
Ein zweiter Aspekt der Erfindung wird durch das Verfahren des Anspruchs 6 bereitgestellt.
Merkmale und Vorteile von bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden Fachleuten deutlicher aus der folgenden Beschreibung unter Bezugnahme auf die dazugehörigen Zeichnungen, in denen:
1 eine perspektivische Ansicht ist, die teilweise ein allgemeines Oberflächenentladungs-PDP des AC-Typs mit 3 Elektroden zeigt,
2 eine Ansicht ist, die eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels und ein Elektrodenbildungsverfahren gemäß einem ersten Vorschlag illustriert,
3 eine Ansicht ist, die einen Fluss von Ätzlösung gemäß dem obigen Vorschlag illustriert,
4 eine Ansicht ist, die einen Querschnitt illustriert, der entlang einer Linie B B in 3 gemacht wurde,
5 eine Ansicht ist, die 4 entspricht, und die die Form von Elektroden nach dem Ätzen gemäß dem obigen Vorschlag zeigt,
6 eine Ansicht ist, die eine erste Variante eines Resistmusters zur Bildung einer Blindelektrode gemäß dem obigen Vorschlag illustriert,
7 eine Ansicht ist, die eine zweite Variante des Resistmusters zur Bildung einer Blindelektrode gemäß dem obigen Vorschlag illustriert,
8 eine Ansicht ist, die eine dritte Variante illustriert, bei der die Breite des Resistmusters zur Bildung einer Blindelektrode gemäß dem obigen Vorschlag verändert wird,
9 eine Ansicht ist, die ein Beispiel illustriert, bei dem ein Resistmuster zur Bildung eines Kopplungsabschnitts zum Koppeln der Blindelektrode mit einem Zuleitungselektrodenabschnitt gemäß einer Ausführungsform der Erfindung vorgesehen ist,
10 eine Ansicht ist, die eine Differenz in der Kopplungskapazitätswerte der Zuleitungselektrodenabschnitte illustriert,
11 eine Ansicht ist, die einen Zustand illustriert, in dem der Kopplungsabschnitt gemäß der Ausführungsform gebildet wird,
12 eine Ansicht ist, die eine herkömmliche Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels illustriert, bei der Elektroden auf einem Paneelsubstrat gebildet sind,
13 eine Ansicht ist, die die Details eines Endes eines Substrats illustriert, auf dem X- und Y-Elektroden gemäß dem herkömmlichen Stand der Technik gebildet sind,
14 eine Ansicht ist, die die Details eines Endes des Substrats illustriert, auf dem ein Resistmuster zur Elektrodenbildung gemäß dem herkömmlichen Stand der Technik vorgesehen ist,
15 eine Ansicht ist, die einen Querschnitt illustriert, der entlang einer Linie A A in 14 gemacht wurde, und
16 eine Ansicht ist, die 15 entspricht, die die Form von Elektroden nach dem Ätzen gemäß dem herkömmlichen Stand der Technik zeigt.
Bei der vorliegenden Erfindung kann das Substrat, das das Anzeigepaneel darstellt, ein Substrat aus Glas, Quarz, Keramik oder dergleichen sein, auf dem eine gewünschte Struktur, wie etwa Elektroden, ein Isolierfilm, eine dielektrische Schicht oder ein Schutzfilm gebildet oder nicht gebildet werden kann.
Es genügt, dass die Elektrode von dem Anzeigeelektrodenabschnitt und dem Zuleitungselektrodenabschnitt ausgemacht ist. Die Elektrode kann aus jedem bekannten Elektrodenmaterial durch jeden in diesem Gebiet bekannten Prozess ohne besondere Beschränkung gebildet sein. Beispiele von Elektrodenmaterialien umfassen ITO, SnO₂, Ag, Au, Al, Cu, Cr und ihre Legierungen und mehrschichtige Strukturen (z.B. eine Cr/Cu/Cr Mehrschichtstruktur) und dergleichen umfassen. Als ein Elektrodenbildungsverfahren wird beispielsweise eine Elektrodenmaterialschicht einheitlich auf dem Substrat durch eine Filmbildungstechnik, wie etwa Bedampfung oder Sputtern, gebildet, ein Resistmuster, das die Geometrie der Elektroden aufweist, wird auf der Elektrodenmaterialschicht durch Fotolithografie oder dergleichen gebildet, und das Sprühätzen wird darauf ausge führt. In dem Falle, bei dem Elektroden, die eine unterschiedliche Geometrie aufweisen, auf den so gebildeten Elektroden vorgesehen werden sollen, werden die gleichen Schritte wiederholt. Durch ein solches Bildungsverfahren ist es möglich, eine gewünschte Anzahl von Elektroden, die eine gewünschte Dicke und Breite in gewünschten Intervallen aufweisen, zu erhalten.
Es genügt, dass eine Blindelektrode zwischen zwei Zuleitungselektrodenabschnitten gebildet wird, die in verschiedenen Richtungen in dem Blockrandabschnitt zusammengeführt werden. Die Blindelektrode ist vorgesehen, um die Ätzlösung davor zurückzuhalten, in den Blockrandabschnitt zu fließen, wenn während der Elektrodenbildung das Ätzen durchgeführt wird. Aus Gründen der Einfachheit der Herstellungsschritte ist es wünschenswert, dass die Blindelektrode aus dem gleichen Material gebildet sein sollte, wie das der Elektroden, durch das gleiche Bildungsverfahren, wenn die Elektroden gebildet werden.
Bei dem oben erwähnten Verfahren sollte die Blindelektrode eine im Wesentlichen V-förmige Elektrode sein, die entlang der zwei Zuleitungselektrodenabschnitte gebildet ist, die schräg in verschiedene Richtungen in dem Blockrandabschnitt vorgesehen sind.
Es ist wünschenswert, dass die Blindelektrode breiter sein sollte, als die Elektroden. Die Blindelektrode kann aus einer Vielzahl von Elektroden bestehen, die in der Richtung des Flusses der Ätzlösung angeordnet sind. In diesem Falle können die Blindelektroden unterschiedliche Breiten aufweisen.
Um die Kopplungskapazität zwischen den Elektroden einheitlich zu machen, sollte ein Kopplungsabschnitt 8 zum Koppeln der Blindelektrode mit einem der Zuleitungselektrodenabschnitte ferner auf dem gleichen Substrat gebildet sein sollte, wie in 11 gezeigt. Demzufolge können ein G-Abschnitt und ein I-Abschnitt in 11 dieselbe Kopplungskapazität aufweisen.
Des weiteren sieht die vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Bildung von Elektroden eines Anzeigepaneels vor, umfassend die Schritte: Bildung einer Elektrodenmaterialschicht auf einem Substrat, Bildung eines Resistmusters zur Bildung einer Vielzahl von Anzeigeelektroden, die in Blocks angeordnet sind, und Anzeigeelektrodenabschnitte, die im Wesentlichen parallel auf einem zentralen Teil des Substrats angeordnet sind, und schräge Zuleitungselektrodenabschnitte umfassen, die in einer vorherbestimmten Anzahl für jeden Block vorgesehen sind und sich von den Anzeigeelektrodenabschnitten erstrecken, um Anschlussabschnitte an einem Ende des Substrats zu erreichen, so, dass für jeden Block die die Zuleitungselektrodenabschnitte zu assoziierten Anschlussabschnitten zusammenlaufen werden; gekennzeichnet durch gleichzeitige Bildung von Resistmustern zur Bildung einer Blindelektrode und eines Kupplungsabschnitts, wobei die Blindelektrode vorgesehen ist, um einen Fluss einer Ätzlösung in einen Blockrandabschnitt zwischen zwei benachbarten Blocks zu beschränken, wobei das Resistmuster der Blindelektrode zwischen Spuren des Resistmusters zur Bildung von Anzeigeelektroden gebildet ist, die zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitten entsprechen, die sich in verschiedene Richtungen von dem Blockrandabschnitt erstrecken, wobei der Kupplungsabschnitt vorgesehen ist, um die Blindelektrode mit mindestens einem der zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitte zu koppeln; und Ausführen des Ätzens, um die Elektroden zu bilden
Bei diesem Elektrodenbildungsverfahren ist es wünschenswert, dass das Resistmuster zum Beschränken des Flusses der Ätzlösung ein im Wesentlichen V-förmiges Muster aufweist, das entlang von Spuren des Resistmusters zur Bildung der zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitte gebildet ist, die sich schräg in verschiedene Richtungen in dem Blockrandabschnitt erstrecken.
Es ist wünschenswert, dass das Resistmuster zum Beschränken des Flusses der Ätzlösung breiter sein sollte, als das Resistmuster zur Bildung der Elektroden. Des Weiteren kann das Resistmuster zum Beschränken des Flusses der Ätzlösung durch eine Vielzahl von Resistmustern ausgemacht sein, die in der Richtung des Flusses der Ätzlösung angeordnet sind. In diesem Falle können die Resistmuster zum Beschränken des Flusses der Ätzlösung jeweils unterschiedliche Breiten aufweisen.
Vorgeschlagene Strukturen und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden im Folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
Zunächst wird die Konstruktion eines Anzeigepaneel, das eine Elektrodenstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung aufweist, beschrieben, indem ein in 1 gezeigtes PDP als Beispiel genommen wird.
1 ist eine perspektivische Ansicht, die teilweise ein allgemeines Oberflächenentladungs-PDP des AV-Typs mit 3 Elektroden zeigt. Die in 1 gezeigte Struktur ist ein Beispiel, auf das die vorliegende Erfindung nicht beschränkt ist. Die vorliegende Erfindung kann für jedes Anzeigepaneel gelten, das Elektroden aufweist, die durch Ätzen auf einem Paneelsubstrat gebildet wurden.
Ein PDP 10 ist durch einen Paneelaufbau auf einer Vorderseite und einem Paneelaufbau auf einer Rückseite aufgebaut.
Der Paneelaufbau auf der Vorderseite hat eine solche Struktur, dass ein Paar von streifenförmigen Anzeige- (Halte) elektroden X und Y parallel in einer Querrichtung für jede Anzeigeleitung L auf einem Substrat 11 auf der Vorderseite gebildet sind, eine dielektrische Schicht 17 gebildet ist, um die Anzeigelelektroden X und Y abzudecken, und ein Schutzfilm 18 auf der dielektrischen Schicht 17 gebildet ist.
Das Substrat 11 auf der Vorderseite ist gewöhnlich aus einem Glassubstrat gebildet, kann aber auch aus einem Quarzglassubstrat oder dergleichen gebildet sein.
Die Anzeigeelektroden X und Y weisen eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels gemäß der vorliegenden Erfindung auf, die im Folgenden beschrieben wird, und die durch ein Elektrodenbildungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung gebildet werden.
Die dielektrische Schicht 17 ist aus einem Material gebildet, das gewöhnlich für PDPs verwendet wird. Genauer kann die dielektrische Schicht 17 gebildet werden, indem eine Paste, die ein Glaspulver mit niedrigem Schmelzpunkt und ein Bindemittel enthält, auf dem Substrat durch Siebdruck aufgebracht wird und gebrannt wird.
Der Schutzfilm 18 ist vorgesehen, die dielektrische Schicht 17 vor Beschädigung zu schützen, die durch Ionenkollision verursacht wird, welche während der Anzeige durch Entladung erzeugt wurde. Der Schutzfilm 18 ist aus zum Beispiel MgO, CaO, SrO, BaO oder dergleichen gebildet.
Allgemein weist der Paneelaufbau auf der Rückseite eine solche Struktur auf, dass eine Vielzahl von streifenförmigen Adress-(Daten-)elektroden A parallel in einer vertikalen Richtung auf einem Substrat 21 auf der Rückseite gebildet werden, eine dielektrische Schicht 24 wird gebildet, um die Adresselektroden A abzudecken, eine Vielzahl von streifenförmigen Barriererippen 29 zur Aufteilung eines Entladungsraums sind parallel auf der dielektrischen Schicht 24 zwischen den Adresselektroden A gebildet, und streifenförmige fluoreszierende Schichten 28R, 28G und 28B sind auf Bodenflächen und Seitenflächen in Gräben zwischen den Barriererippen 29 gebildet.
Das Substrat 21 auf der Rückseite kann aus einem Substrat des gleichen Typs gebildet sein, wie das Substrat 11 auf der Vorderseite. Die dielektrische Schicht 24 kann aus einem Material des gleichen Typs gebildet sein, wie es für die dielektrische Schicht 17 verwendet wird, die auf dem Substrat 11 auf der Vorderseite vorgesehen ist.
Die Adresselektroden A weisen ebenso eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels gemäß der vorliegenden Erfindung auf, wie die Anzeigeelektroden X und Y, und werden des Weiteren durch ein Elektrodenbildungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung gebildet.
Die Barriererippen 29 können durch Sandstrahlen, Drucken, Fotoätzen oder dergleichen gebildet werden. Zum Beispiel wird, nachdem eine Paste, die Glaspulver mit niedrigem Schmelzpunkt und einem Bindemittel enthält, auf der dielektrischen Schicht 24 aufgetragen wird und dann gebrannt wird, die resultierende Paste durch Sandstrahlen geschnitten, um die Barriererippen 29 zu bilden. Alternativ wird ein lichtempfindliches Harz als Bindemittel verwendet, und die Paste wird belichtet und entwickelt, wobei eine Maske verwendet wird, und dann gebrannt. Somit können die Barriererippen 29 gebildet werden.
Die fluoreszierenden Schichten 28R, 28G und 28B können gebildet werden, indem eine fluoreszierende Paste, die ein fluoreszierendes Pulver und ein Bindemittel enthält, in Gräben zwischen den Barriererippen 29 aufgebracht wird, indem Siebdruck, ein Spender oder dergleichen verwendet wird, und diese Operation für jede Farbe wiederholt wird, gefolgt von Brennen.
So können die fluoreszierenden Schichten 28R, 28G und 28B gebildet werden. Alternativ können die fluoreszierenden Schichten 28R, 28G und 28B durch Fotolithografie gebildet werden, indem man folienförmige fluoreszierende Schichtmaterialien (so genannte Green Sheets), die fluoreszierende Pulver und Bindemittel enthalten, verwendet. In diesem Falle wird eine Folie, die eine gewünschte Farbe aufweist, auf die gesamten Anzeigeregion auf dem Substrat befestigt, und belichtet und entwikkelt. Diese Operation wird für jede Farbe wiederholt, so dass die fluoreszierenden Schichten der jeweiligen Farben zwischen den entsprechenden Barriererippen gebildet werden können.
Das PDP 10 wird hergestellt, indem der Paneelaufbau auf der Vorderseite dem Paneelaufbau auf der Rückseite gegenübergelegt wird, so dass die Anzeigeelektroden X und Y und die Adresselektrode A zueinander orthogonal sind, die Ränder der Paneelaufbauten versiegelt werden, und ein durch die Barriererippen 29 aufgeteilter Raum mit einem Entladungsgas wie etwa Neon oder Xenon aufgefüllt wird. Bei dem PDP 10 wirkt ein Entladungsraum an einer Kreuzungsposition der Anzeigelektroden X und Y mit der Adresselektrode A als eine Zellregion (Einheitslichtemissionsregion), die eine kleinste Einheit der Anzeige ist.
Wie oben beschreiben, weisen die Anzeigeelektroden X und Y, wie auch die Adresselektrode A, eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels nach der vorliegenden Erfindung auf, und sind des Weiteren durch ein Elektrodenbildungsverfahren nach der vorliegenden Erfindung gebildet worden.
Dies wird im Folgenden beschrieben.
Wie in 12 gezeigt, ist eine große Anzahl von Anzeigeelektroden X und Y, die Paare zur Erzeugung einer Hauptentladung (Oberflächenentladung) für die Anzeige ausmachen, in einer horizontalen Richtung des Substrats 11 vorgesehen. Die An zeigeelektroden X und Y sind in eine Vielzahl von Blocks unterteilt und werden für jeden Block an Enden des Substrats 11 (außerhalb der Anzeigeregion) gesammelt und zusammengeführt. Die Anzeigeelektroden X und Y sind mit flexiblen Kabeln mit einem anisotropen leitfähigen Kleber oder dergleichen mit Anschlussabschnitten verbunden, und dann mit ihren jeweiligen Ansteuerelementen verbunden.
Genauer ist das PDP 10 ein Anzeigepaneel, das 480 Anzeigeleitungen aufweist. Die Anzeigeleitungen sind in vier Blocks unterteilt, wobei jeder Block 120 Anzeigeleitungen aufweist. 120 Anzeigeelektroden X und 120 Anzeigeelektroden Y in jedem Block werden in den Anschlussabschnitten jeweils auf einer Seite und der anderen Seite zusammengeführt und mit den flexiblen Kabeln verbunden. Das heißt, die Anzeigeelektroden X, die in vier Blocks aufgeteilt sind, sind an vier Positionen einer Seite mit den flexiblen Kabeln verbunden, ebenso, wie es die Anzeigeelektroden Y auf der anderen Seite sind.
Genauer werden die Anzeigeelektroden X und Y von geradlinigen Entladungselektrodenabschnitten (Anzeigeelektrodenabschnitten), die beinah parallel in der Anzeigeregion des Substrats vorgesehen sind, und schräge Zuleitungselektrodenabschnitte, die in einer vorbestimmten Anzahl für jeden Block von den Entladungselektrodenabschnitten zusammengeführt wurden, und die Anschlussabschnitte an Enden des Substrats auf den gegenüberliegenden Seiten davon erreichen, aufgebaut.
Die Anzeigeelektroden X und Y werden jede durch eine transparente Elektrode 12, wie etwa ITO oder SnO₂ und eine metallische Elektrode 13, wie etwa Ag, Au, Al, Cu, Cr oder deren Mehrschichtstruktur (zum Beispiel einer Cr/Cu/Cr-Mehrschichtstruktur) gebildet, um den Widerstand der Elektrode zu verringern.
Die Anzeigeelektroden X und Y werden durch Ätzen gebildet. Genauer wird eine Elektrodenmaterialschicht für die transparenten Elektroden, wie etwa ITO oder SnO₂, einheitlich über das Substrat 11 durch eine Filmbildungstechnik, wie etwa Bedampfen oder Sputtern gebildet, ein Resistmuster, dass die Geometrie der Elektroden aufweist, wird auf der Elektrodenmaterialschicht durch Fotolithografie oder dergleichen gebildet, und Sprühätzen wird von über dem Resistmuster durchgeführt. So werden die transparenten Elektroden 12 gebildet. Dieselben Schritte werden wiederholt, indem man ein Elektrodenmaterial für die Buselektroden 13 verwendet. Demzufolge werden die Buselektroden 13 gebildet. Die Buselektroden werden mit einer solchen Länge gebildet, dass sie die Anschlussabschnitte an den Substratenden erreichen, während die transparenten Elektroden 12 mit einer solchen Länge gebildet werden, dass sie in der Mitte der Zuleitungselektrodenabschnitte stoppen. Mit anderen Worten werden die Anschlussabschnitten nur von den Buselektroden gebildet. Somit werden die Anzeigeelektroden X und Y in einer gewünschten Anzahl in einer gewünschten Dicke und Breite in gewünschten Intervallen gebildet.
Das PDP 10 wird unter Verwendung eines Inline-Herstellungssystems hergestellt. Die Anzeigeelektroden X und Y werden dem Sprühätzen unterzogen. Dementsprechend wird das Sprühätzen durch das sequentielle Sprühen von Ätzlösung auf Substrate 11 mittels eines Sprühgerätes (nicht gezeigt), das in einer Feuerposition bereitgestellt wird, durchgeführt, während die Substrate 11 auf einem Förderband gefördert werden.
Die Adresselektroden A bestehen zum Beispiel aus Ag, Au, Al, Cu, Cr in einer laminierten Struktur (zum Beispiel einer Cr/Cu/Cr-Mehrschichtstruktur) oder dergleichen. Die Adresselektroden werden ebenso in einer wünschenswerten Anzahl mit einer gewünschten Dicke und Breite in gewünschten Intervallen durch eine Kombination einer Filmbildungstechnik, wie etwa Be dampfen oder Sputtern, Fotolithografie und Sprühätzen, in der gleichen Weise hergestellt, wie die Elektroden X und Y. Die Anschlussabschnitte der Adresselektroden können alternativ an Substratenden an gegenüberliegenden Seiten oder zusammen an ein Substratende an einer Seite geführt werden. Üblicherweise wird das erstere eingesetzt.
Die detaillierte Elektrodenstruktur der Anzeigeelektroden X und Y und die Adresselektroden A, und das Elektrodenbildungsverfahren, dass das Sprühätzen verwendet, werden im Folgenden beschrieben.
2 ist eine Ansicht, die eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels und ein Elektrodenbildungsverfahren gemäß einem ersten Vorschlag illustriert. 2 illustriert die Details eines Endes eines Substrats, auf dem ein Resistmuster zur Bildung der Buselektroden der Anzeigeelektroden X und Y vorgesehen ist, und entspricht der 14, die eine herkömmliche Struktur zeigt. Transparente Elektroden werden nicht gezeigt.
In 2 bezeichnet B einen Blockrandabschnitt, 51a₁ und 51a₂ bezeichnen ein Resistmuster zur Bildung von Entladungselektrodenabschnitten von X- und Y-Elektroden, 52a₁ und 52a₂ bezeichnen ein Resistmuster zur Bildung von Zuleitungselektrodenabschnitten der Y-Elektroden, 33a₁ und 33a₂ bezeichnen ein Resistmuster zur Bildung von Anschlussabschnitten der Y-Elektroden, und 5a bezeichnet Resistmuster zur Blindelektrodenbildung (in 2 schattiert gezeigt). Das Resistmuster 5a für die Blindelektrodenbildung umfasst Spuren 33a₃ und 33a₄ für Anschlussabschnitte. Die Blindelektrode ist gebildet, um sich bis zu den Positionen der Anschlussabschnitte zu erstrecken.
Eine Spur 52a₁ des Resistmusters zur Bildung eines Zuleitungselektrodenabschnitts von einem Block und eine Spur 52a₂ des Resistmusters zur Bildung eines Zuleitungselektrodenab schnitts von einem anderen Block sind in zwei Richtungen von dem Blockrandabschnitt B getrennt, und erstrecken sich zu den Spuren 33a₁ und 33a₂ zur Bildung von verschiedenen Anschlussabschnitten.
Wie in 2 gezeigt, wird, wenn das Resistmuster auf der Elektrodenmaterialschicht gebildet wird, das Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung, das keinen direkten Bezug zu einer Bildanzeigeoperation des PDPs hat, gebildet, um das Fließen der Ätzlösung in den Blockrandabschnitt zu beschränken.
Das Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung ist in dem Blockrandabschnitt 8 positioniert und im Wesentlichen V-förmig parallel mit der Spur 52a₁ des Resistmusters zur Bildung eines Zuleitungselektrodenabschnitts und der Spur 52a₂ des Resistmusters zur Bildung eines Zuleitungselektrodenabschnitts. Das Resistmuster 5a weist beinah dieselbe Musterbreite und dasselbe Musterintervall auf, wie die der Resistmuster der benachbarten Elektroden.
Da das Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung bereitgestellt wird, wird übermäßige Zuführung der Ätzlösung an den Blockrandabschnitt B behindert (wie durch einen Pfeil E in 3 angezeigt), sogar, wenn das Sprühätzen ausgeführt wird, während das Substrat 11 in die Richtung des Pfeils K, der in 3 gezeigt wird, gefördert wird. Daher wird die Fließgeschwindigkeit der Ätzlösung (die in der Richtung eines Pfeils F in 3 fließt), nicht in dem Blockrandabschnitt B erhöht und wird vollständig einheitlich.
4 ist eine Ansicht, die einen Querschnitt illustriert, der entlang einer Linie B B in 3 gemacht wurde. Wie oben beschrieben, ist der Fluss der Ätzlösung vollständig einheitlich. Demzufolge ist die Ätzgeschwindigkeit einer in dem Blockrandabschnitt B positionierten Elektrodenmaterialschicht 32 beinah gleich der in den anderen Abschnitten. Somit kann man verhindern, dass die in dem Blockrandabschnitt B positionierte Elektrodenmaterialschicht 32 übermäßig geätzt wird. Im Ergebnis ist die Breite eines Entladungselektrodenabschnitts 53 einer in dem Blockrandabschnitt B positionierten Elektrode beinah gleich der eines Entladungselektrodenabschnitts 51 einer nicht in einem in dem Blockrandabschnitt B positionierten Elektrode.
5 entspricht 4, die die Form von Elektroden zeigt, die nach dem Ätzen erhalten werden. Wie in 5 gezeigt, weisen die Entladungselektrodenabschnitte 53 (schattiert in 5 gezeigt) der X- und Y-Elektroden, die in dem Blockrandabschnitt 8 positioniert sind, eine Breite auf, die der der Entladungselektrodenabschnitte 51 der X- und Y-Elektroden, die nicht in dem Blockrandabschnitt B positioniert sind, beinah gleich ist.
Somit kann das Resistmuster 5a für die Blindelektrodenbildung, das während der Bildung der Elektroden vorgesehen ist, verhindern, dass die Elektrodenmaterialschicht, die in dem Blockrandabschnitt B positioniert ist, übermäßig geätzt wird. Somit können Elektroden, die eine einheitliche Dimension aufweisen, gebildet werden, so dass verhindert werden kann, dass Anzeigeunebenheit in der Richtung der Elektroden auf der fertigen Anzeige erzeugt wird.
Obwohl das Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung mit beinah der gleichen Musterbreite gebildet wurde, wie das des Resistmusters für die benachbarten Elektroden in dem obigen Beispiel, kann die Musterbreite größer sein als die des Resistmusters für die anderen Elektroden. In diesem Falle gelangt die Ätzlösung unter mehr Schwierigkeiten über das Resistmuster 5a für die Blindelektrodenbildung.
6 ist eine Ansicht, die eine erste Variante des Resistmusters zur Blindelektrodenbildung illustriert.
Im vorliegenden Beispiel wird ein Resistmuster 6a zur Blindelektrodenbildung, das eine größere Breite aufweist, als die des Resistmusters für die anderen Elektroden vorgesehen, um die Wirkungen zu verstärken. Somit kann die Vergrößerung der Breite des Resistmusters 6a zur Blindelektrodenbildung den Fluss der Ätzlösung einheitlicher machen.
7 ist eine Ansicht, die eine zweite Variante eines Resistmusters zur Blindelektrodenbildung illustriert.
Im vorliegenden Beispiel werden zwei Resistmuster zur Blindelektrodenbildung in einer Richtung des Flusses der Ätzlösung angeordnet, um die Wirkungen weiter zu verstärken. Mit anderen Worten werden ein Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung und ein Resistmuster 7a zur Blindelektrodenbildung vorgesehen. Die Resistmuster 5a und 7a zur Blindelektrodenbildung werden mit denselben Breiten gebildet, wie die des Resistmusters für andere Elektroden. Somit kann der Fluss der Ätzlösung einheitlicher gemacht werden durch eine Vergrößerung der Anzahl der Resistmuster zur Blindelektrodenbildung.
Obwohl die beiden Resistmuster zur Blindelektrodenbildung in dem oben erwähnten Beispiel vorgesehen sind, können, falls nötig, drei oder mehr Resistmuster gebildet werden. Des Weiteren kann die Breite der Resistmuster zur Blindelektrodenbildung ebenso richtig variiert werden, falls nötig.
8 ist eine Ansicht, die eine dritte Variante illustriert, in der die Breite des Resistmusters zur Blindelektrodenbildung verändert wird.
Im vorliegenden Beispiel besteht das Resistmuster zur Blindelektrodenbildung aus zwei Resistmustern, das heißt, ein Resistmuster 6a, das eine größere Breite aufweist, als die des Resistmusters für die anderen Elektroden, und ein Resistmuster 7a, das die gleiche Breite aufweist, wie die des Resistmusters für die anderen Elektroden. In 8 wird das Resistmuster, das eine größere Breite aufweist, auf einer stromabwärtigen Seite in Richtung des Flusses der Ätzlösung (in der Richtung, die in dem Pfeil F von 3 gezeigt ist), vorgesehen. Jedoch ist diese Anordnung keine beschränkende. Das Resistmuster, das eine größere Breite aufweist, kann auf einer stromaufwärtigen Seite vorgesehen sein. Des Weiteren können nach Bedarf drei oder mehr Resistmuster vorgesehen sein, deren Breiten können verändert und die Kombination eines breiteren Resistmusters und eines schmaleren Resistmusters können wahlweise variiert werden.
Indem man das Resistmuster zur Blindelektrodenbildung aus dem Resistmuster 6a, das eine größere Breite aufweist, als die des Resistmusters für die anderen Elektroden, und aus einem Resistmuster 7a, das die gleiche Breite aufweist, wie die des Resistmusters für die anderen Elektroden, aufbaut, ist es möglich, beinah dazwischen liegende Vorteile zwischen dem Fall, in dem zwei Resistmuster 6a, die größere Breiten aufweisen, als die des Resistmusters für die anderen Elektroden, und dem Fall, bei dem zwei Resistmuster 7a, die die gleiche Breite aufweisen, wie die des Resistmusters für die anderen Elektroden, vorgesehen werden.
9 ist eine Ansicht, die ein Beispiel illustriert, bei dem ein Resistmuster zur Bildung eines Kopplungsabschnitts zum Koppeln einer Blindelektrode mit einem Zuleitungselektrodenabschnitt vorgesehen ist.
Bei dem vorliegenden Beispiel wird ein Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung vorgesehen, und ein Resistmuster 8a zur Bildung eines Kopplungsabschnitts wird vorgesehen, wodurch der Kopplungsabschnitt zum Koppeln des Zuleitungselektrodenabschnitts an die Blindelektrode gebildet wird.
Wo die schrägen Zuleitungselektrodenabschnitte vorgesehen sind, wird ein Kopplungskapazitätswert der Elektrode in dem Blockrandabschnitt B verändert. Wie in 10 gezeigt, sind alle Elektroden parallel zueinander in Entladungselektrodenabschnitten 51. Daher ist die zwischen benachbarten Elektroden erzeugte Kopplungskapazität beinah gleich in allen Elektroden. In den Zuleitungselektrodenabschnitten 52 wird jedoch die zwischen benachbarten Elektroden erzeugte Kopplungskapazität variiert, abhängig davon, ob die Elektroden in dem Blockrandabschnitt B sind oder nicht.
Genauer weist die Kopplungskapazität G, die zwischen einem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₁ und einem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₂ erzeugt wird, der darüber positioniert ist, einen anderen Wert auf, als die Kopplungskapazität H, die zwischen einem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₁ und einem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₂ erzeugt wird, der darunter positioniert ist. Dementsprechend wird angenommen, dass diese Variation in der Kopplungskapazität eine der Ursachen für Anzeigeunebenheit in dem Blockrandabschnitt B ist.
Um den oben erwähnten Nachteil zu beseitigen, wird ein Kopplungsabschnitt 8 vorgesehen, um die Blindelektrode 5 mit dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₁ , wie in 11 gezeigt, zu koppeln. Durch ein solches Koppeln weist die Kopplungskapazität G, die zwischen dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₁ und dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₂ erzeugt wird, der darüber positioniert ist, beinah den gleichen Wert auf, wie die einer Kopplungskapazität H, die zwischen dem Zuleitungse lektrodenabschnitt 52u₁ und dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₂ erzeugt wird, der darunter positioniert ist. Des Weiteren weist die Kopplungskapazität, die zwischen dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₁ und dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₁ erzeugt wird, der darüber positioniert ist, beinah den gleichen Wert auf, wie die Kopplungskapazität, die zwischen dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₁ und einem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₂ erzeugt wird, der darunter positioniert ist.
Indem man so das Resistmuster 8a zur Bildung des Kopplungsabschnitts zusammen mit dem Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung während der Bildung der Elektrode vorsieht, und dadurch die Blindelektrode 5 mit dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₁ koppelt, ist die Kopplungskapazität in den Zuleitungselektrodenabschnitten 52 beinah gleich in allen Elektroden. Somit kann ein Anzeigepaneel erhalten werden, das einheitliche elektrische Charakteristika aufweist.
Der Kopplungsabschnitt 8 sollte vorgesehen werden, wenn die Blindelektrode 5 gebildet wird. In dem Falle, bei dem eine Vielzahl von Blindelektroden gebildet wird, wird das Resistmuster 8a zur Bildung eines Kopplungsabschnitts so vorgesehen, dass die Blindelektrode auf der am meisten stromabwärtigen Seite mit dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₁ gekoppelt ist.
Die durch das Resistmuster 5a zur Blindelektrodenbildung vorgesehene Blindelektrode 5, und der von dem Resistmuster 8a zur Bildung des Kopplungsabschnitts vorgesehene Kopplungsabschnitt 8 verbleiben auf dem fertigen PDP in der gleichen Weise, wie andere Elektroden.
Demzufolge ist es möglich, sowohl die Wirkung des Beschränkens des Flusses der Ätzlösung in den Blockrandabschnitt, und die Wirkung, die Kopplungskapazität einheitlich zu machen, zu erhalten, und somit Anzeigeunebenheit während der Ansteueroperation des fertigen PDPs zu beseitigen.
Obwohl die Blindelektrode 5 mit dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52d₁ , der unter der Blindelektrode 5 vorgesehen ist, durch den Kopplungsabschnitt 8 in dem oben beschriebenen Beispiel gekoppelt ist, kann die Blindelektrode 5 mit dem Zuleitungselektrodenabschnitt 52u₁ , der über der Blindelektrode 5 vorgesehen ist, gekoppelt sein. Der Kopplungsabschnitt 8 kann an jeder Position gebildet werden, an der er die Anzeige nicht stört. Es ist wünschenswert, dass der Kopplungsabschnitt 8 eine solch genügende Breite aufweist, dass sie die Ätzlösung daran hindert, darüber zu gelangen.
Indem man so das Resistmusters zur Blindelektrodenbildung bildet, kann die Form der Elektroden während der Herstellung des PDPs einheitlich gemacht werden. Genauer kann der Fluss der Ätzlösung in den Blockrandabschnitt beschränkt werden, und es kann verhindert werden, dass die Elektrodenkanten, die mit einer Lücke zwischen den Elektroden in Kontakt stehen, die kontinuierlich zum Blockrandabschnitt gebildet sind, übermäßig geätzt werden.
Somit können Elektroden, die eine einheitliche Dimension aufweisen, gebildet werden, und es kann verhindert werden, dass Anzeigeunebenheit in der Richtung der Elektroden auf der fertigen Anzeige erzeugt wird.
Des Weiteren kann die Kopplungskapazität zwischen den Elektroden gleich gemacht werden, so das die elektrischen Charakteristika einheitlich gemacht werden können. Genauer wird ein Kopplungsabschnitt gebildet, um die Blindelektrode an einen Zuleitungselektrodenabschnitt zu koppeln. Demzufolge wird die Kopplungskapazität der Zuleitungselektrodenabschnitte in allen Elektroden beinah gleich gemacht. Somit ist es möglich, ein Anzeigepaneel zu erhalten, das einheitliche elektrische Charakteristika aufweist.
In einem Fall, bei dem die Anschlüsse auf die Substratenden auf beiden Seiten geholt werden, wie in der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung und in 12 (herkömmlicher Stand der Technik), kann ebenso eine Resistmuster zur Blindelektrodenbildung an einer Auslassseite des Substrats vorgesehen werden, von der die Ätzlösung ausfließt, um zu verhindern, dass die Breite von Elektroden erhöht wird, wegen einer Verringerung in der Fließgeschwindigkeit der Flüssigkeit in der Nähe der Auslassseite. Einen Blindelektrode wird wünschenswert ebenso auf der Auslassseite vorgesehen, um die Kopplungskapazität einheitlich zu machen.
Obwohl die Beschreibung sich auf Beispiele bezieht, in denen die Anzeigeelektroden X und Y auf dem Substrat 11 auf der Vorderseite gebildet werden, können die Adresselektroden A auf dem Substrat 21 auf der Rückseite in der gleichen Weise gebildet werden.
Zahlreiche Modifikationen und alternative Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden Fachleuten angesichts der vorangegangenen Beschreibung ersichtlich sein. Dementsprechend soll diese Beschreibung nur als erläuternd ausgelegt werden, und ist zu dem Zweck vorgesehen, Fachleute die beste Art zur Ausführung der Erfindung zu lehren. Der Umfang der Erfindung ist durch die angehängten Ansprüchen definiert.

Claims

Eine Elektrodenstruktur eines Anzeigepaneels, umfassend: eine Vielzahl von Elektroden (51), die in Blocks auf einem Substrat (11) gebildet sind, das das Anzeigepaneel ausmacht, wobei die Elektroden Anzeigeelektrodenabschnitte (51a₁ , 51a₂ ), die im Wesentlichen parallel in einem zentralen Teil des Substrats (11) vorgesehen sind, und schräge Zuleitungselektrodenabschnitte (52a₁ , 52a₂ ) umfassen, die in einer vorherbestimmten Anzahl für jeden Block vorgesehen sind und sich schräg von den Anzeigeelektrodenabschnitten erstrecken, um Anschlussabschnitte (33a₁ , 33a₂ ) an einem Ende des Substrats zu erreichen, wobei für jeden Block die Zuleitungselektrodenabschnitte zu assoziierten Anschlussabschnitten zusammenlaufen; eine Blindelektrode (5a, 6a, 7a), die zwischen zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitten (52a₁ , 52a₂ ), die sich in verschiedene Richtungen von einem Blockrandabschnitt (B) zwischen zwei benachbarten Blocks erstrecken, vorgesehen ist, wobei die Blindelektrode eine im Wesentlichen V-förmige Elektrode ist, die entlang der zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitte gebildet ist, die sich in verschiedene Richtungen von dem Blockrandabschnitt (B) erstrecken, um einen Fluss einer Ätzlösung in den Blockrandabschnitt (B) während des Ätzens, wenn die Elektroden gebildet werden, zu beschränken; gekennzeichnet durch einen Kopplungsabschnitt (8, 8a), der die Blindelektrode (5a, 6a, 7a) mit mindestens einem der zwei schrägen Elektrodenabschnitte (52a₁ , 52a₂ ) koppelt, die auf demselben Substrat (11) gebildet sind.
Elektrodenstruktur nach Anspruch 1, wobei die Breite der Blindelektrode (5a, 6a, 7a) größer ist, als die der Elektroden (51).
Elektrodenstruktur nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Blindelektrode (5a, 6a, 7a) eine Vielzahl von Elektroden umfasst, die nacheinander in der Richtung des Flusses der Ätzlösung angeordnet sind.
Elektrodenstruktur nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Blindelektrode (5a, 6a, 7a) aus demselben Material gebildet ist, wie das Anzeigeelektrodenmaterial.
Ein Anzeigepaneel, das eine Elektrodenstruktur nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 4 aufweist.
Ein Verfahren zur Bildung von Elektroden eines Anzeigepaneels, umfassend die Schritte: Bildung einer Elektrodenmaterialschicht auf einem Substrat (11); Bildung eines Resistmusters zur Bildung einer Vielzahl von Anzeigeelektroden (51), die in Blocks angeordnet sind und die Anzeigeelektrodenabschnitte (51a₁ , 51a₂ ), die im Wesentlichen parallel auf einem zentralen Teil des Substrats (11) angeordnet sind, und schräge Zuleitungselektrodenabschnitte (52a₁ , 52a₂ ) umfassen, die in einer vorherbestimmten Anzahl für jeden Block vorgesehen sind und sich schräg von den Anzeigeelektrodenabschnitten (51a₁ , 51a₂ ) erstrecken, um Anschlussabschnitte (33a₁ , 33a₂ ) an einem Ende des Substrats (11) zu erreichen, so, dass für jeden Block die die Zuleitungselektrodenabschnitte (52a₁ , 52a₂ ) zu assoziierten Anschlussabschnitten (33a₁ , 33a₂ ) zusammenlaufen werden, gekennzeichnet durch gleichzeitige Bildung von Resistmustern zur Bildung einer Blindelektrode (5a, 6a, 7a) und eines Kupplungsabschnitts (8, 8a), wobei die Blindelektrode (5a, 6a, 7a) vorgesehen ist, um einen Fluss einer Ätzlösung in einen Blockrandabschnitt (B) zwischen zwei benachbarten Blocks zu beschränken, wobei das Resistmuster der Blindelektrode (5a, 6a, 7a) zwischen Spuren des Resistmusters zur Bildung von Anzeigeelektroden (51) ge bildet ist, die zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitten (52a₁ , 52a₂ ) entsprechen, die sich in verschiedene Richtungen von dem Blockrandabschnitt (B) erstrecken, wobei der Kupplungsabschnitt (8, 8a) vorgesehen ist, um die Blindelektrode (5a, 6a, 7a) mit mindestens einem der zwei schrägen Zuleitungselektrodenabschnitte (52a₁ , 52a₂ ) zu koppeln; und Ausführen des Ätzens, um die Elektroden zu bilden.
Verfahren nach Anspruch 5, wobei das Resistmuster zum Beschränken des Flusses der Ätzlösung eine Vielzahl von Resistmustern umfasst, die nacheinander in der Richtung des Flusses der Ätzlösung angeordnet sind.
Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, wobei das oder jedes Resistmuster zur Bildung der Blindelektrode (5a, 6a, 7a) ein im Wesentlichen V-förmiges Muster ist, das entlang der Spuren des Resistmusters gebildet ist, das den beiden schrägen Zuleitungselektroden (52a₁ , 52a₂ ) entspricht, die sich in verschiedene Richtungen von dem Blockrandabschnitt (B) erstrecken.
Verfahren nach Anspruch 6, 7 oder 8, wobei die Breite des oder zumindest eines der Resistmuster zur Bildung der Blindelektrode (5a, 6a, 7a) größer ist, als die des Resistmusters zur Bildung der Anzeigeelektroden (51).
Verfahren nach irgendeinem der Ansprüche 6 bis 9, wobei die Blindelektrode (5a, 6a, 7a) aus demselben Material, wie das Anzeigelektrodenmaterial, zur selben Zeit, wenn die Anzeigeelektroden (51) gebildet werden, gebildet wird.