DE3200670C2

DE3200670C2 -

Info

Publication number: DE3200670C2
Application number: DE3200670A
Authority: DE
Inventors: Yoshifumi Kamakura Kanagawa Jp Amano
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1981-01-13
Filing date: 1982-01-12
Publication date: 1991-04-11
Also published as: CA1173243A; KR830009548A; FR2497984B1; US4516053A; GB2091033A; JPS57118348A; FR2497984A1; KR900003900B1; DE3200670A1; JPS6360495B2; GB2091033B

Description

Die Erfindung geht von einer Glimmentladungsanzeigevorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruchs aus. Insbesondere gleichspannungsbetriebene Matrixanzeigevorrichtungen weisen einen solchen Aufbau auf. Die ersten Elektroden auf der einen Substratplatte bilden Anoden, und die Elektroden auf der anderen Substratplatte bilden Kathoden. Die ersten und die anderen Elektroden sind zeilen- bzw. spaltenförmig angeordnet. An den Überkreuzungspunkten zweier Elektroden tritt eine Glimmentladung auf, deren Helligkeit von der Spannungsdifferenz der sich gegenüberstehenden Elektroden abhängt.

Ein herkömmlicher Aufbau der eingangs genannten Art ist in den Fig. 1 und 2 dargestellt. Dabei stellt die Fig. 1 eine Teildraufsicht und die Fig. 2 einen Teilschnitt entlang der Linie A-A in Fig. 1 dar. Eine flache Hülle 1 einer gleichspannungsbetriebenen Glimmentladungsanzeige mit Matrixaufbau weist eine erste Substratplatte 2 und eine zweite Substratplatte 3 auf, die beide z. B. aus Glasplatten bestehen. Im vorliegenden Fall ist die obere, erste Substratplatte 2 durchsichtig. Die beiden Substratplatten 2 und 3 stehen unter einem vorgegebenen Abstand einander gegenüber, und sie sind entlang ihrer Ränder über eine Dichtwand 4, z. B. aus Glasfritte, miteinander verbunden. Durch die Substratplatten und Trennwand wird ein flacher Glimmentladungs-Hohlraum 5 eingeschlossen, der mit einem Edelgas gefüllt ist.

Auf der inneren Oberfläche des unteren, zweiten Substrates 3 ist eine Elektrodengruppe Y aufgebracht, die als Kathode dient. Die Elektrodengruppe Y weist eine Mehrzahl zueinander paralleler Elektroden Y₁, Y₂, Y₃ . . . auf, die alle in einer Richtung, in einem Fall zeilenweise, mit einem vorgegebenen gegenseitigen Abstand vorgegebener Breite aufgebracht sind. Auf der Innenfläche des zweiten Substrates 3 ist auch eine Gruppe G isolierender Trennwände aufgebracht. Die Gruppe G isolierender Trennwände besteht aus einer Mehrzahl isolierender Trennwände g₁, g₂, g₃ . . ., die mit einer Längserstreckungsrichtung aufgebracht sind, die rechtwinklig zur Längserstreckungsrichtung der Elektrodengruppe Y verläuft. Die Trennwände g_n weisen einen vorgegebenen gegenseitigen Abstand und eine vorgegebene Breite auf. Die Höhe jeder der Trennwände g₁, g₂, g₃ . . . wird entsprechend dem Abstand zwischen den Substratplatten 2 und 3 gewählt.

Auf der Innenfläche der oberen, ersten Substratplatte 2 ist eine Gruppe X erster Elektroden aufgebracht, die als Anode dient. Die Gruppe X besteht aus einer Mehrzahl zueinander paralleler erster Elektroden x₁, x₂, x₃ . . ., die mit im wesentlichen rechtwinkliger Längserstreckungsrichtung in bezug auf die Längserstreckungsrichtung der Elektroden y₁, y₂, y₃ . . . aufgebracht sind. Die ersten Elektroden x_n weisen einen vorgegebenen Abstand und eine vorgegebene Breite auf.

Durch die Trennwände g₁, g₂, g₃ . . . der Trennwandgruppe G sind bandförmige Hohlräume 5a, 5b, 5c . . . im Hohlraum 5 gebildet, die verhindern, daß sich eine Glimmentladung entlang einer der Kathoden, also einer der zweiten Elektroden y₁, y₂, y₃ . . . ausbreiten kann. Zwischen zwei Trennwänden g_n liegt jeweils eine erste Elektrode x_n. An die zweiten Elektroden y₁, y₂, y₃ der Kathodengruppe Y wird in einem Zeitmultiplexverfahren Spannung angelegt. An die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . der Anodenelektrodengruppe X wird nacheinander oder gleichzeitig eine Spannung angelegt. Die Helligkeit einer Glimmentladung zwischen zwei sich kreuzenden Elektroden hängt von der Spannungsdifferenz zwischen diesen beiden sich einander gegenüberstehenden Elektroden ab. Dadurch wird in Punkt- oder Linienfolge eine Bildanzeige dargestellt.

Bei Glimmentladungsanzeigevorrichtungen der dargestellten Art erfolgt die Betrachtung von der Seite der ersten Substratplatte her. Die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ der Anodenelektrodengruppe X sind im wesentlichen in der Mitte zwischen zwei Trennwänden, die einen bandförmigen Glimmentladungs-Hohlraum 5a, 5b, 5c einschließen, angeordnet. Um eine helle Anzeige zu erzielen, sind die ersten Elektroden aus einem durchsichtigen Material hergestellt. Derartige durchsichtige Elektroden weisen jedoch einen hohen Widerstand auf, was zu ungleichen Ansprechverhalten und damit örtlichen Helligkeitsschwankungen führt. Aus Gründen der Bildqualität müssen daher auf Kosten der Helligkeit die Elektroden auf der Beobachtungsseite im allgemeinen aus durchscheinendem Elektrodenmaterial mit geringerem elektrischen Widerstand hergestellt werden.

Normalerweise beträgt der gegenseitige Abstand der Trennwände und damit die Breite der bandförmigen Glimmentladungs-Hohlräume 5a, 5b, 5c . . . etwa 200 µm. Die zugehörigen ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . der Anodenelektrodengruppe X sind in der Regel durch ein Druckverfahren hergestellt und weisen dann eine Breite von etwa 70 µm auf. Auch die Trennwände g₁, g₂, g₃ . . . sind in der Regel durch ein Druckverfahren hergestellt. Sie weisen, da sie eine verhältnismäßig große Höhe von etwa 100 bis 150 µm aufweisen, eine Breite von etwa 100 µm auf, da der Druckprozeß mehrfach wiederholt werden muß. Damit ist die Breite jedes der bandförmigen Glimmentladungs-Hohlräume 5a, 5b, 5c . . . etwa 100 µm. Von diesen sind etwa 70 µm durch jeweils eine der ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . abgeschirmt, so daß nur noch ein Streifen von 15 µm Breite zu beiden Seiten einer ersten Elektrode x₁, x₂, x₃ . . . für das Durchscheinen der Glimmentladung zur Verfügung steht. Dies bedeutet, daß 70% der Breite eines Glimmentladungs-Hohlraumes 5a, 5b, 5c . . . durch die zugehörige erste Elektrode abgeschirmt wird.

Eine Glimmentladungsanzeigevorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1 ist auch aus DE-OS 23 63 243 bekannt. Sie unterscheidet sich von der gemäß den Fig. 1 und 2 dadurch, daß auf der ersten Substratplatte zusätzlich zu den ersten Elektroden noch zu diesen parallele zweite Elektroden verlaufen, und zwar so, daß die zweiten Elektroden unter den Trennwänden liegen. Diese zweiten Elektroden wirken als Trennelektroden, die so gepolt werden, daß ein elektrisches Übersprechen zwischen benachbarten ersten Elektroden möglichst wirkungsvoll vermieden ist. Auch bei dieser Glimmentladungsanzeigevorrichtung besteht das vorstehend beschriebene Problem in bezug auf das Durchscheinen der Glimmentladung durch die ersten Elektroden.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Glimmentladungsanzeigevorrichtung der eingangs genannten Art anzugeben, mit der eine größere Helligkeit als bei gattungsgemäßen Glimmentladungsanzeigevorrichtungen erzielt werden kann.

Die Lösung der Aufgabe ist zusammenfassend im Merkmal des ersten Anspruchs angegeben. Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß zwar durch die üblichen Herstellverfahren Elektrodenbreiten von etwa 70 µm erzielt werden, daß jedoch zum Erzeugen einer Glimmentladung schon eine Elektrode mit etwa 20 µm Breite ausreicht. Eine derartige schmale, wirksame Elektrode läßt sich gemäß der Erfindung dadurch erzielen, daß die relativ breiten Elektrodenstreifen sozusagen unter die Trennwände geschoben sind, und zwar so weit, daß sie mindestens noch mit einer Breite unter den Trennwänden hervorragen, die erforderlich ist, um die Glimmentladung in Gang setzen und aufrechterhalten zu können.

Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sowie Verfahren zu ihrer Herstellung sind aus den Unteransprüchen ersichtlich.

Die Erfindung sowie vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen derselben sowie Herstellverfahren zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Glimmentladungsanzeigevorrichtung werden im folgenden anhand von Figuren näher erläutert.

Es zeigt

Fig. 3 Teildraufsicht auf einen wesentlichen Teil einer Glimmentladungsanzeigevorrichtung gemäß der Erfindung,

Fig. 4 Teilschnitt entlang der Linie A-A in Fig. 3,

Fig. 5-9 Teilschnitt in gleicher Blickrichtung wie in Fig. 4 auf eine erste Substratplatte in verschiedenen Herstellzuständen.

In den Fig. 3 und 4 ist wie schon in den Fig. 1 und 2 mit 1 eine flache Umhüllung bezeichnet, die eine erste Substratplatte 2, eine zweite Substratplatte 3 und eine diese beiden unter Einhaltung eines vorgegebenen Abstandes verbindende Dichtwand 4 aufweist. Auf der ersten Substratplatte 2 sind wiederum zueinander parallele erste Elektroden x₁, x₂, x₃ einer Anodenelektrodengruppe X aufgebracht. Entsprechend weist die zweite Substratplatte rechtwinklig zu den ersten Elektroden, in Zeilenrichtung verlaufende Elektroden y₁, y₂, y₃ einer Kathodenelektrodengruppe Y auf. Die ersten Elektroden und die anderen Elektroden sind z. B. durch ein Druckverfahren aufgebracht. Auch bei der Glimmentladungsanzeigevorrichtung gemäß den Fig. 3 und 4 liegt wieder eine Trennwandgruppe G mit zueinander parallellaufenden Trennwänden auf. Jedoch besteht im dargestellten Fall, wie dies insbesondere aus Fig. 4 ersichtlich ist, jede Trennwand aus einer ersten und einer zweiten Teiltrennwand. Die ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . sind auf der ersten Substratplatte 2 und die zweiten Teiltrennwände g_1b, g_2b, g_3b . . . sind entsprechend auf der zweiten Substratplatte 3 aufgebracht. Die Teiltrennwände überlappen sich jeweils, zumindest teilweise, rechtwinklig zu ihrer Längserstreckungsrichtung. In Längserstreckungsrichtung stoßen sie ohne Unterbrechung aneinander, um bandförmige Glimmentladungs-Hohlräume 5a, 5b, 5c . . . abzuschließen.

Die Trennwände g_n sind so angebracht, daß sie die ersten Elektroden x_n teilweise überlappen. In Blickrichtung der Fig. 4 gesehen, decken die Trennwände jeweils den rechten Rand der ersten Elektroden ab, und zwar jeweils etwas mehr als zur Hälfte. Die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . weisen nämlich jeweils etwa eine Breite von 70 µm auf; davon sind jeweils etwa 40 µm durch eine Trennwand abgedeckt, so daß noch etwa 30 µm frei liegen.

Die beiden Elektrodengruppen X und Y und die Trennwandgruppe G auf den Substratplatten 2 und 3 können z. B. durch eine Druckmethode oder durch eine Abhebemethode mit einem Fotolackprozeß mit Maske hergestellt werden. Dabei kann für die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ und die ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a dieselbe Maske verwendet werden, die von einem Verfahrensschritt zum anderen um einen vorgegebenen Weg rechtwinklig zur Längserstreckungsrichtung der ersten Elektroden verschoben wird. Dadurch läßt sich der Überlappungsgrad der ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . durch die ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . genau einstellen.

Es wird zunächst der Fall beschrieben, in dem die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . der Anodenelektrodengruppe X und die ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . durch einen Druckprozeß hergestellt werden. In diesem Fall werden auf die erste Substratplatte 2 in einem ersten Verfahrensschritt die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . mit dem erwähnten parallelen Muster aufgebracht. Dazu kann als leitfähige Paste z. B. eine Nickelpaste verwendet werden. Nach dem Drucken wird die Paste einem Trocknungsprozeß unterworfen, um das Lösungsmittel in der Leitpaste zu verdampfen. Danach werden die ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . aufgedruckt. Dieses Aufdrucken erfolgt mit derselben Vorrichtung, mit der die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . aufgebracht wurden. Es wird auch dieselbe Maske verwendet, durch die hindurch gedruckt wird. Diese Maske wird zum Aufbringen der ersten Teiltrennwände z. B. um etwa 30 µm rechtwinklig zur Längserstreckungsrichtung der ersten Elektroden verschoben, wobei die Parallelität der Maskenstreifen zu den Elektroden erhalten bleiben muß. Zum Drucken wird statt der Leitpaste nun eine Glaspaste verwendet. Die aufgedruckten parallelen ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . werden dann zusammen mit den ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . für 60 Minuten bei etwa 540°C ausgeheizt. Auf diese Art und Weise werden durch eine Druckmethode die ersten Elemente x₁, x₂, x₃ . . . und die zu diesen leicht versetzten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . erhalten.

Statt der Druckmethode können auch andere Herstellmethoden verwendet werden. Wesentlich ist, daß mit ihnen erste Elektroden und Trennwände erzielt werden können, die etwas gegeneinander versetzt sind. Zum Beispiel kann eine Abhebemethode mit Fotolack mit Maske verwendet werden, wie sie nun anhand der Fig. 5 bis 9 erläutert wird. Wie in Fig. 5 dargestellt, wird zunächst eine Fotolackschicht 6 auf die erste Substratplatte 2 aufgebracht. Die Fotolackschicht 6 kann z. B. aus einem lichtempfindlichen Polyvinylalkohol bestehen. Die fotoempfindliche Schicht 6 wird einem Belichtungsverfahren durch eine Maske hindurch und einem Entwicklungsverfahren unterworfen, um ein streifenförmiges Muster zu erzielen. Wie in Fig. 6 dargestellt, werden später wegzunehmende Fotolackstreifen 6a erzeugt, zwischen denen Lücken bestehen, in denen die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . eingebracht werden. Wie in Fig. 7 dargestellt, wird auf das mit den Fotolackstreifen 6a versehene erste Substrat 2 in einem weiteren Verfahrensschritt eine Leitschicht 7, z. B. aus Nickelpaste, aufgebracht. Danach werden die Lackstreifen 6a entfernt, was durch Erhitzen bei etwa 400 bis 500°C erfolgt. Dabei wird der Teil der leitfähigen Schicht 7, der sich über dem Lackstreifen 6a befindet, weggenommen, so daß nur noch, wie es in Fig. 8 dargestellt ist, erste Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . der Anodenelektrodengruppe X auf der ersten Substratplatte 2 zurückbleiben. Danach werden in einem zweiten, nicht dargestellten Verfahrensgang die Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a aufgebracht. Dazu wird die mit ersten Elektroden versehene Substratplatte 2 wiederum mit einer fotoempfindlichen Lackschicht 6 versehen, die dann durch dieselbe Maske hindurch, die im Herstellverfahren für die ersten Elektroden verwendet wurde, belichtet wird. Die Maske wird in diesem Fall jedoch versetzt angebracht, so daß schließlich Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . erhalten werden, die die ersten Elektroden teilweise überlappen. Nachdem so die ersten Elektroden überlappende Glaspastestreifen aufgebracht sind, werden diese zusammen mit den ersten Elektroden gesintert.

Da bei beiden beschriebenen Verfahren die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . und die Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . auf derselben Substratplatte 2 nach derselben Methode mit derselben Maske aufgebracht werden, läßt sich die gegenseitige Verschiebung genau einstellen. Um eine vorgegebene Höhe der Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . zu erzielen kann die Aufbringmethode auch mehrmals unter Verwendung derselben Maske durchgeführt werden.

Auf der anderen Substratplatte 3 wird auf ähnliche Art und Weise die Kathodenelektrodengruppe Y aufgebracht. Zum Beispiel kann dafür ein Druckprozeß unter Verwendung von Nickelpaste verwendet werden. Dann werden unter Verwendung derselben Maske, die zur Herstellung der ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ und der ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . diente, auf der zweiten Substratplatte 3 zweite Teiltrennwände g_1b, g_2b, g_3b . . . aufgebracht. Um die vorgegebene Höhe dieser Teiltrennwände zu erzielen, kann der Druckprozeß zum Beispiel achtmal wiederholt werden. Danach werden die zweiten Teiltrennwände ebenfalls einem Sinterprozeß unterworfen, wie dies auch bei den ersten Teiltrennwänden erfolgte. Falls die ersten Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . schon ausreichend hoch sein sollten, ist es nicht erforderlich, die zweiten Teiltrennwände g_1b, g_2b, g_3b . . . hoch auszuführen. Wenn schon die Teiltrennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . so hoch ausgeführt werden, daß ihre Höhe dem Abstand der beiden Substratplatten 2 und 3 entspricht, ist es nicht mehr erforderlich, die zweiten Teiltrennwände g_1b, g_2b, g_3b . . . anzubringen. Statt durch einen Druckprozeß können nach dem Anbringen der Y-Elektroden y₁, y₂, y₃ . . . die zweiten Teiltrennwände g_1b, g_2b, g_3b . . . auch durch die beschriebene Abhebemethode mit Fotolack mit einer Maske angewandt werden.

Jeweils an einem Ende der Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . bzw. y₁, y₂, y₃ . . . jeder der Elektrodengruppe X bzw. Y sind noch Anschlüsse 8 bzw. 9 angebracht, die sich auf Kantenbereiche 2a bzw. 3a der Substratplatten 2 bzw. 3 erstrecken. Die Anschlüsse 8 bzw. 9 erstrecken sich außerhalb des durch die Dichtwand 4 abgeschlossenen Hohlraumes 5 der Substratplatten 2 und 3.

Eine Glimmentladungsanzeigevorrichtung der beschriebenen Art kann auf dieselbe Art und Weise betrieben werden, wie bisher bekannte Glimmentladungsanzeigevorrichtungen. Die Glimmentladung findet wiederum jeweils an einem Kreuzungspunkt zwischen sich überkreuzenden Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . und y₁, y₂, y₃ . . . in den bandförmigen Glimmentladungs-Hohlräumen 5a, 5b, 5c . . . statt. Während jedoch bei bisher bekannten Glimmentladungsanzeigevorrichtungen die Glimmentladung stark durch die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . abgedeckt wird, ist dies bei einer Glimmentladungsanzeige der angegebenen Art weit weniger der Fall. Bei jeweils gleichem gegenseitigen Abstand der Trennwände von 200 µm und einer Trennwandbreite von 100 µm bleiben in beiden Fällen für die Breite der bandförmigen Glimmentladungs-Hohlräume etwa 100 µm übrig. Während bei bekannten Glimmentladungsanzeigevorrichtungen davon 70 µm durch die ersten Elektroden jeweils abgedeckt wurden, werden bei einer Glimmentladungsanzeigevorrichtung der angegebenen Art nur noch etwa 30 µm von den 100 µm abgedeckt, da die ersten Elektroden jeweils zu ihrem größten Teil unter einer zugehörigen Trennwand angeordnet sind. Während also bei bisher bekannten Glimmentladungsanzeigevorrichtungen nur 30% der Breite eines bandförmigen Glimmentladungs-Hohlraumes frei durchstrahlt werden konnten, können bei Glimmentladungsanzeigevorrichtungen der angegebenen Art 70% der Breite frei durchstrahlt werden. Damit ist eine Helligkeitssteigerung auf über das Doppelte bisher bekannter Anzeigen möglich.

Da bei Glimmentladungsanzeigevorrichtungen der angegebenen Art nur wenig der Breite eines bandförmigen Glimmentladungs-Hohlraumes abgedeckt wird, müssen die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . nicht mehr notwendigerweise aus einem durchscheinenden oder gar durchsichtigen leitfähigen Material hergestellt sein, sondern sie können aus einer Metallschicht hoher Leitfähigkeit hergestellt sein, was zu einer erheblich verbesserten Ansprechsicherheit führt.

Es ist weiterhin von großem Vorteil, daß die ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . . und die Trennwände g_1a, g_2a, g_3a . . . mit demselben Muster hergestellt werden, was eine genaue örtliche Beziehung der beiden zueinander zuläßt, was auch bei Massenherstellung gleichmäßige Eigenschaften der Glimmentladungsanzeigevorrichtungen untereinander zuläßt.

Wenn die freiliegende Breite jeder der ersten Elektroden x₁, x₂, x₃ . . ., die in die zugehörigen bandförmigen Glimmentladungs- Hohlräume 5a, 5b, 5c . . . ragen, größer als etwa 20 µm ist, wirken diese Elektroden als zuverlässige Anoden zum Auslösen einer Glimmentladung.

In der gegebenen Beschreibung wurden bestimmte Angaben zu Abmessungen, Materialien und Herstellverfahren gemacht. Auf diese ist eine Glimmentladungsanzeigevorrichtung der angemeldeten Art jedoch nicht beschränkt. Wesentlich ist vielmehr, daß bei einer Glimmentladungsanzeigevorrichtung der angemeldeten Art die ersten Elektroden nicht mehr mit ihrer ganzen Breite bandförmige Glimmentladungs-Hohlräume abschirmen, sondern daß sie nur noch teilweise unter zugehörigen Teiltrennwänden oder Trennwänden hervor in die Glimmentladungsräume ragen.

Claims

1. Glimmentladungsanzeigevorrichtung mit

- einer ersten (2) und einer zweiten (3) Substratplatte, die unter Einhalten eines gegenseitigen Abstandes längs ihrer Ränder durch eine Dichtwand (4) miteinander verbunden sind,
- einer Gasfüllung im Hohlraum (5) zwischen den Substratplatten und der Dichtwand,
- ersten zueinander parallelen Elektroden (X) auf der ersten Substratplatte (2),
- zweiten zueinander parallelen, zu den ersten Elektroden (X) unter einem Winkel stehenden Elektroden (Y) auf der zweiten Substratplatte (3) und
- Trennwänden (G) parallel zu den ersten Elektroden (X) mit gegenseitigen Abständen, die den Abständen zweier benachbarter erster Elektroden entsprechen, und mit
- jeweils einer Trennwandbreite, die in etwa der Breite einer ersten Elektrode entspricht,

dadurch gekennzeichnet, daß jede Trennwand (G) jeweils eine erste Elektrode (X) teilweise überlappt.

2. Glimmentladungsanzeigevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jede Trennwand (G) aus zwei Teiltrennwänden gebildet ist, von denen die eine (g_na) auf der ersten Substratplatte (2) und die zweite (g_nb) auf der zweiten Substratplatte (3) angebracht ist, und daß die Teiltrennwände aneinanderstoßen.

3. Glimmentladungsanzeigevorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Höhe der Trennwände (G) im wesentlichen dem gegenseitigen Abstand der beiden Substratplatten (2, 3) entspricht.

4. Glimmentladungsanzeigevorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Elektroden (X) Metallelektroden sind.

5. Verfahren zum Herstellen einer Glimmentladungsanzeigevorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der ersten Substratplatte (2) zunächst die ersten Elektroden (X) aufgebracht werden und daß danach die Trennwände (G) mit einem gegenseitigen Abstand, der dem gegenseitigen Abstand der ersten Elektroden (X) entspricht, so aufgebracht werden, daß jede Trennwand (G) eine erste Elektrode (X) teilweise überlappt.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Elektroden (X) und die Trennwände (G) durch jeweils eine Maske hindurch in einem Druckverfahren hergestellt werden.

7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Elektroden (X) durch ein Fotoentwicklungsverfahren hergestellt werden, bei dem zunächst mit einem Fotolack (6) durch Belichten durch eine Maske parallele Lackstreifen (6a) auf der ersten Substratplatte (2) erzeugt werden, daß dann das Elektrodenmaterial (7) aufgebracht wird und daß dann die Fotolackstreifen (6a) mit dem darauf befindlichen Elektrodenmaterial entfernt werden, so daß parallele erste Elektroden (X) auf der ersten Substratplatte (2) zurückbleiben, und daß die Trennwände (G) auf dieselbe Weise hergestellt werden.

8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß zum Aufbringen der ersten Elektroden (X) in einem ersten Verfahrensschritt und der Trennwände (G) in einem zweiten Verfahrensschritt dieselbe Maske verwendet wird, die vom ersten zum zweiten Verfahrensschritt rechtwinklig zur Längserstreckungsrichtung der ersten Elektroden (X) verschoben wird.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Trennwände (G) durch Übereinanderlagern mehrerer Schichten in wiederholten Verfahrensschritten aufgebracht werden.