DE69019010T2

DE69019010T2 - Plasma-Anzeigetafel und Herstellungsverfahren derselben.

Info

Publication number: DE69019010T2
Application number: DE69019010T
Authority: DE
Inventors: Naoshige Higuchi; Yoshiki C O Dai Nippon In Kudo; Toru Miyake
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1989-02-10
Filing date: 1990-02-09
Publication date: 1996-01-18
Anticipated expiration: 2010-02-10
Also published as: EP0382260A2; EP0382260B1; EP0382260A3; US5136207A; DE69019010D1

Description

Hintergrund der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Struktur einer Plasmaanzeigetafel (englisch: plasma display panel, im folgenden PDP genannt) und insbesondere eine Struktur einer Zellbarriere einer Farb-PDP und ein Verfahren zum Herstellen derselben.
Die herkömmliche Technologie wird zuerst beschrieben mit Bezugnahme auf die Fig. 11 und 12.
Fig. 11 zeigt ein Beispiel, welches eine Struktur einer herkömmlichen Gleichstromart-PDP repräsentiert. Unter Bezugnahme auf Fig. 11 sind sowohl eine flache Front- bzw. Vorderplatte 121 als auch eine flache Rück- bzw. hintere Platte 122 aus einem Glasmaterial hergestellt, und sind parallel zueinander in einer gegenüberliegenden Beziehung angeordnet. Beide Platten werden gestützt mit einem konstanten Intervall bzw. Abstand durch Zellbarrieren 123, welche zwischen den Platten 121 und 122 angeordnet sind. Eine Vielzahl von parallelen Anodenelementen 124 sind an der Rückfläche der vorderen Platte 121 gebildet, und eine Vielzahl von parallelen Kathodenelementen 125 sind ebenfalls an der Vorderfläche der Rückplatte 122 gebildet und zwar so, daß sie sich in Richtungen normal zu der Anordnung der Anodenelemente 124 erstrecken. Eine Vielzahl von Phosphorschirmen 126 sind ebenfalls an der Rückfläche der vorderen Platte 121 gebildet, und zwar benachbart zu beiden Seiten von jeweiligen Anodenelementen 124.
In der in Fig. 11 gezeigten herkömmlichen Gleichstromtyp-PDP wird ein elektrisches Feld erzeugt durch Anwenden einer vorbestimmten Spannung zwischen den Anodenelementen 124 und den Kathodenelementen 125, wodurch eine elektrische Entladung verursacht wird, und zwar in dem Inneren einer Vielzahl von Zellen 127 als Anzeigeelemente, welche jeweils definiert sind durch die vordere und hintere Platte 121 bzw. 122 und die Zellbarriere 123. Ultraviolettstrahlungen, welche durch diese Entladung veranlaßt sind, machen die Phosphorschirme 126 lumineszierend bzw. leuchtend und ein Licht, welches durch die Vorderplatte 121 tritt, wird optisch bzw. visuell durch einen Beobachter erfaßt.
Fig. 12 zeigt ebenfalls ein Beispiel, welches eine Struktur einer herkömmlichen Wechselstrom-PDP repräsentiert. Unter Bezugnahme auf die Fig. 12 sind sowohl eine flache Vorderplatte 128 als auch eine flache hintere Platte 129 aus einem Glasmaterial hergestellt und sind parallel zueinander in gegenüberliegender Beziehung angeordnet. Beide Platten sind gestützt mit einem konstanten Intervall bzw. Abstand durch Zellbarrieren 130, welche zwischen den Platten 128 und 129 angeordnet sind. Zwei kreuzende Elektroden 132 und 133 sind an der vorderen Fläche der hinteren Platte 129 angeordnet, mit einer dielektrischen Lage 131, welche zwischen den Elektroden 132 und 133 zwischengelagert ist. Eine dielektrische Lage 134 und eine Schutzlage 135 sind des weiteren an der vorderen Fläche der äußeren Elektrode 133 angeordnet. Ein Phosphorschirm 136 ist an der hinteren Fläche der vorderen Platte 128 gebildet.
In der in Fig. 12 gezeigten herkömmlichen Wechselstromtyp-PDP wird, wenn eine Wechselspannung zwischen den zwei Elektroden 132 und 133 angelegt wird, eine elektrische Entladung in einer Vielzahl von Zellen 137 veranlaßt, welche jeweils definiert sind durch die vordere und hintere Platte 128 bzw. 129 und die Zellbarriere 130. Ultraviolette Strahlungen, welche durch diese Entladung veranlaßt sind, machen den Phosphorschirm 136 lumineszierend und ein Licht, welches durch die vordere Platte 128 tritt, wird optisch durch einen Beobachter erfaßt.
Der Phosphorschirm der herkömmlichen Gleichstromtyp-PDP und der Wechselstromtyp-PDP von der oben beschriebenen Struktur ist herkömmlicherweise gebildet durch Beschichten eines fotosensitiven Breies enthaltend ein Phosphor, Aussetzen der beschichteten Fläche durch Verwendung einer Fotomaske mit einer Struktur entsprechend einem Muster des Phosphorschirmes, und dann durchführen von Entwicklungs- und Sinterverfahren. In der Bildung eines Schirmes einer Farb-PDP werden diese Schritte wiederholt durchgeführt, und zwar bezüglich der Phosphormaterialien mit roter (R), grüner (G) bzw. blauer (B) Farbe. Z.B. wird ein fotosensitiver Brei gebildet aus einer Mischung enthaltend Phosphor, Polyvinylalkohol (PVA) und Diazoniumsalz, und in einem bestimmten Fall ein Antischaummittel, wobei ein zwischenflächig aktives Mittel des weiteren zugesetzt werden kann.
In dem Gleichstromtyp-PDP und dem Wechselstromtyp-PDP der Fig. 11 und 12 tritt das Licht, welches von dem Phosphorschirm emittiert wird durch den Phosphorschirm und wird optisch erfaßt durch einen Beobachter, wobei eine bestimmte Menge an Licht reduziert wird, wenn es durch den Phosphorschirm tritt. Zum Vermeiden eines solchen Nachteiles ist ebenfalls eine PDP bereitgestellt, in welcher ein Phosphorschirm des weiteren an der Wandfläche der Zellbarriere gebildet ist zum Erhöhen der Lumineszenz und zum visuellen Beobachten eines reflektierten Lichtes von dem Phosphorschirm.
Jedoch stellt in der konventionellen Struktur der PDP, wie sie in den Fig. 11 und 12 gezeigt ist, zum Bilden der Phosphorschirme von R, G und B-Farben an den Wandflächen der Zellbarrieren, welche bereits geformt wurden, der Stand der Technik ein Verfahren bereit zum Bilden des Phosphorschirmes durch Füllen des Phosphorbeschichtungsmaterials der jeweiligen Farbe, versehen mit den fotosensitiven Eigenschaften in den Zellen, dann Aussetzen und Entwickeln des beschichteten Phosphorschirmes oder ein Verfahren zum Bilden des Phosphorschirmes durch Sprühen bzw. Aufsprühen der jeweiligen gefärbten Phosphorbeschichtungsmaterialien eines nach dem anderen durch ein Sprühverfahren. Jedoch bringen diese Verfahren komplizierte Verfahren oder Schritte mit sich und bringen das Problem der stabilen Bildung des Phosphorschirmes mit sich.
US-A-3916245 (D1) offenbart das Umrunden bzw. Umgeben oder Einpassen physikalischer Strukturen, wie z.B. Öffnungen in einer perforierten Glasplatte. Jedoch hat diese perforierte Glasplatte nichts zu tun mit Zellbarrieren der vorliegenden Erfindung. Insbesondere ist die Plasmaanzeigetafel eine Plasmaanzeigetafel des Wechselstromtypes, und die Glasplatte wird verwendet zum Isolieren der zwei Elektroden voneinander. Die Glasplatte ist nicht wichtig für die Zellbarriere, sondern für die dielektrische Lage, welche zwischen den Elektroden zwischengelagert ist.
Patent abstract of Japan, Vol. 7, No. 267 (E-213)(1412) 29. November 1983, & JP-A-5691 344 (Mitani Denshi Kogyo KK), 24. Juli 1981 (D2), beschreibt das Siebdrucken bzw. Schirmdrucken von Barrieren, stellt jedoch explizit fest, daß die Barrieren durch Siebdrucken einer Phosphorpaste gebildet werden. Insbesondere lehrt die D2, daß die Barrieren durch Siebdrucken einer gefärbten bzw. farbigen Glaspaste gebildet werden.

Zusammenfassung der Erfindung

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es im wesentlichen, die Hindernisse oder Nachteile zu eliminieren, welche in dem oben beschriebenen Stand der Technik angetroffen werden, und eine Plasmaanzeigetafel bereitzustellen, vorgesehen mit einer verbesserten Zellbarriere, gebildet aus Phosphor, und ebenfalls das Bereitstellen eines Verfahrens zur Herstellung der Plasmaanzeigetafel, welches in der Lage ist, die Phosphorschirme an der Wandfläche der Zellbarrieren einfach und genau zu bilden.
Diese und andere Aufgaben können gemäß der vorliegenden Erfindung gelöst werden, und zwar in einem Gesichtspunkt durch Bereitstellen einer Plasmaanzeigetafel umfassend:
Eine vordere Platte, die auf der Seite eines Betrachters vorgesehen ist;
eine hintere Platte, die zur vorderen Platte parallel gegenüberliegend angebracht ist;
Zellbarrieren, die zwischen den vorderen und hinteren Platten angeordnet sind, wobei die Zellbarrieren von einer matrizenartigen oder linearen Anordnung sind und eine Vielzahl von Zellräumen als Anzeigeelemente bilden; und
eine Kathode und eine Anode, die so vorgesehen sind, daß sie jedem Zellraum ausgesetzt sind, wobei
die Zellbarrieren aus einem Material gebildet sind, das Phosphor enthält und wobei
die elektrische Entladung innerhalb der Zellräume selektiv verursacht wird.
Die abhängigen Ansprüche beschreiben besondere Ausführungsformen der Erfindung.
In einem anderen Gesichtspunkt gemäß der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren bereitgestellt zur Herstellung einer Plasmaanzeigetafel, umfassend eine vordere Platte, die auf einer Seite eines Betrachters vorgesehen ist, eine hintere Platte, die zur vorderen Platte parallel gegenüberliegend vorgesehen ist, und Zellbarrieren als Anzeigeelemente, die zwischen der vorderen und hinteren Platte angeordnet sind, wobei die Zellbarrieren eine matrizenartige oder lineare Anordnung aufweisen und eine Vielzahl von Zellen bilden, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß die Zellbarrieren gebildet werden, indem glasfritteenthaltene Phosphorpaste vielfach in überlappender Weise mit einem Siebdruckverfahren gedruckt bzw. aufgedruckt wird.
In einem weiteren Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren bereitgestellt zur Herstellung einer Plasmaanzeigetafel, umfassend eine vordere Platte, die auf einer Seite eines Betrachters angeordnet ist, eine hintere Platte, die zur vorderen Platte parallel gegenüberliegend angeordnet ist und Zellbarrieren als Anzeigeelemente, die zwischen der vorderen und hinteren Platte angeordnet sind, wobei die Zellbarrieren eine matrizenartige oder lineare Anordnung aufweisen und eine Vielzahl von Zellen bilden, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Muster von Fotoresist gebildet ist, und zwar an Abschnitten, ausgenommen für die Bildung der Zellbarrieren bezüglich der vorderen oder hinteren Platte, wobei phosphorhaltiger Brei Teile mit Ausnahme des Musters der Fotoresists ausfüllt, wobei ein trockener, phosphorhaltiger Brei und der Fotoresist danach entfernt werden, um somit Zellbarrieren zu bilden.

Kurze Beschreibung der Zeichnung

In der beigefügten Zeichnung:
Fig. 1 bis 8 sind Ansichten, welche die erste Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung repräsentieren:
Fig. 1a bis 1e sind Ansichten, welche einen Siebdruckschritt für Zellbarrieren einer monochromatischen PDP zeigen;
Fig. 2 ist eine perspektivische Ansicht von Zellbarrieren, welche gemäß der vorliegenden Erfindung gebildet sind;
Fig. 3 zeigt ein Muster von einem Beispiel einer Farb-PDP von matrizenhafter bzw. Matrixform;
Fig. 4a bis 4d sind Ansichten, welche Siebdruckschritte für Zellbarrieren der Farb-PDP zeigen, welche in Fig. 3 gezeigt ist;
Fig. 5 ist eine schematische Ansicht, welche einen Zustand bzw. eine Bedingung zeigt, in welcher eine lichtabsorbierende Lage mittels einer Walze gebildet wird;
Fig. 6 ist eine Seitenansicht einer Frontplatte der PDP, welche mit einer Zellbarriere versehen ist;
Fig. 7 ist eine Schnittansicht der PDP, bereitgestellt mit linear angeordneten Zellbarrieren; und
Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht der hinteren Platte der in Fig. 7 gezeigten PDP;
Fig. 9 und 10 sind Ansichten, welche die zweite Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung repräsentieren:
Fig. 9(a) bis 9(p) sind kontinuierliche Ansichten, welche eine Serie von PDP- Bildungsschritten gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen; und
Fig. 10A und 10B sind Ansichten, welche Muster von Filmmasken zeigen, welche für aktuelle Beispiele verwendet werden;
Fig. 11 ist eine Schnittansicht einer herkömmlichen Gleichstromtyp-Plasmaanzeigetafel; und
Fig. 12 ist eine Schnittansicht einer konventionellen Wechselstromtyp-Plasmaanzeigetafel.

Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen

(Erste Ausführungsform)

PDP hergestellt mittels Siebdruckverfahren

1-1 Basiskonstruktion

Fig. 1A bis 1E sind Ansichten, welche eine Serie von Schritten zum Bilden eines Phosphorschirmes einer PDP gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen, in welcher ein Phosphorschirm an Zellbarrieren mittels eines Siebdruckverfahrens gebildet wird, und zwar unter Verwendung einer Phosphorpaste enthaltend eine Glasfritte und ein Bindemittel.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 1, wird eine Kathode 33 mit einem dicken oder dünnen Film an der Vorderseite eines flachen Substrates (hintere Platte) 31 gebildet, wie es in Fig. 1A gezeigt ist. Eine Phosphorpaste enthaltend eine Glasfritte wird nachfolgend vielfach bzw. mehrfach aufgedruckt, und zwar mittels des Siebdruckverfahrens, und gemäß diesen Schritten wird die Höhe der Zellbarrieren graduell erhöht, wie es in den Fig. 1B, 1C und 1D gezeigt ist, um somit die Zellbarrieren 32 zu bilden mit einer vorbestimmten Höhe mit einem Material enthaltend Phosphor, wie es in Fig. 1D gezeigt ist. In dem nächsten Schritt, wie es in Fig. 1E gezeigt ist, wird eine lichtabsorbierende Lage 35 an der oberen Fläche (an der Seite eines Beobachters 58) von der Zellbarriere 32 gebildet. Die lichtabsorbierende Lage 35 wird durch das Siebdruckverfahren gebildet, unter Verwendung einer lichtabsorbierenden Paste, enthaltend ein schwarzes Pigment und ein Bindemittel mit dem Zweck des Vermeidens bzw. Verhinderns der Reflektion eines äußeren Lichtes und der Verbesserung des Kontrastes des Lichtes.
Fig. 2 ist eine perspektivische Ansicht der in Fig. 1E gezeigten PDP.
Im Fall von einer PDP vom monochromatischen Anzeigetyp, welche das Phosphor lumineszierend macht mit monochromatischer Farbe von rot (R), grün (G) oder blau (B) können die Zellbarrieren von monochromatischer Farbe gebildet werden durch Wiederholen des Druckverfahrens mit einer Breite gleich der Breite der Zellbarrieren 32, wodurch die Zellbarrieren 32 selbst als ein Phosphorschirm gebildet werden.
In einem Fall von Farb-PDP ist es notwendig, den jeweiligen Phosphor der drei Farben R, G und B unabhängig zu drucken. Z.B. in einem Fall der matrizengeformten Anzeige, wie sie in Fig. 3 gezeigt ist, wird das Druckverfahren des Phosphors der jeweiligen Farben durch Verwendung der Phosphorpasten der jeweiligen drei Farben jeweils mit einer Breite von der Hälfte der Breite der Zellbarrieren durchgeführt. Nämlich, wie es durch die Fig. 4A bis 4D repräsentiert ist, ist eine erste Farbe grün (G) z.B. aufgedruckt zum Bilden von Zellbarrieren 42 auf einer oder zwei Lagen und dann getrocknet (Fig. 4A). Nachfolgend wird eine zweite Farbe, z.B. blau (B) aufgedruckt zum Bilden von Zellbarrieren 43 von einer oder zwei Lagen und dann getrocknet (Fig. 4B). Letztendlich wird eine dritte Farbe, z.B. rot (R) aufgedruckt zum Bilden von Zellbarrieren 44 von einer oder zwei Lagen (Fig. 4C). Diese Druckverfahren werden als ein Druckzyklus wiederholt, bis die Zellbarrieren 42, 43 und 44 jeweils mit einer vorbestimmten Höhe gebildet sind (Fig. 4D). Lichtabsorbierende Lagen 45 werden des weiteren an dem oberen Abschnitt der so geformten Zellbarrieren 42, 43 und 44 gebildet, wie es in Fig. 4D gezeigt ist. In Fig. 4 beziffert das Bezugszeichen 41 ein flaches Substrat, wobei Kathodenelemente in der Darstellung eliminiert sind.
Die so geformten Zellbarrieren 42, 43 und 44 und die lichtabsorbierenden Lagen 45 werden letztendlich gesintert, um im wesentlichen das Bindemittel zu entfernen, wodurch die Lumineszenz der Zellbarrieren verbessert werden kann.
Das folgende Phosphor kann für die jeweiligen Farben verwendet werden; rote Farbe (R): Y&sub2;O&sub3;:Eu, Y&sub2;SiO&sub5;:Eu, Y&sub3;Al&sub5;O&sub1;&sub2;:Eu, Zn&sub3;(PO&sub4;)&sub2;:Mn, YBO&sub3;:Eu,(Y,Gd)BO&sub3;:Eu, GdBO&sub3;:Eu, ScBO&sub3;:Eu, LuBO&sub3;:Eu, blaue Farbe (B): Y&sub2;SiO&sub5;:Ce, CaWO&sub4;:Pb, BaMgAl&sub1;&sub4;O&sub2;&sub3;:Eu; grüne Farbe (G): Zn&sub2;SiO&sub4;:Mn, BaAl&sub1;&sub2;O&sub1;&sub9;:Mn, SrAl&sub1;&sub3;O&sub1;&sub9;:Mn, CaAl&sub1;&sub2;O&sub1;&sub9;:Mn, YBO&sub3;:Tb, BaMgAl&sub1;&sub4;O&sub2;&sub3;:Mn, LuBO&sub3;:Tb, GdBO&sub3;:Tb, ScBO&sub3;:Tb, Sr&sub6;Si&sub3;O&sub8;Cl&sub4;:Eu.
Als zu verwendendes Bindemittel für die Phosphorpaste und die lichtabsorbierende Lagenpaste kann Äthylzellulose, Rosin oder ähnliches verwendet werden, und als ein Lösungsmittel kann Botylkarbitolacetat (BCA) oder ähnliches verwendet werden. Die Paste aus Phosphor besteht aus 40 bis 80 Gew.% von Phosphor, 5 bis 15 Gew.% von Glasfritte, wobei der Rest aus Bindemittel und Lösungsmittel besteht.
Es wird von dem Durchschnittsfachmann leicht verstanden werden, daß die vorangegangene Beschreibung, welche für flache Substrate von Gleichstromtyp-PDPs durchgeführt wurde, im wesentlichen auf den Wechselstrom-PDP-Typ angewendet werden kann.
Mit der oben beschriebenen Ausführungsform, werden die lichtabsorbierenden Lagen 35 durch Siebdruckverfahren gebildet, wie es in Fig. 1 gezeigt ist, jedoch können die lichtabsorbierenden Lagen 35 gebildet sein, wie es in Fig. 5 gezeigt ist, durch Übertragen von Farbe 48 für die lichtabsorbierenden Lagen zu der Fläche der Zellbarrieren 32 mittels einer Walze 49. In Fig. 5 bezeichnet das Bezugszeichen 31 ein flaches Substrat, wobei Kathodenelemente in der Darstellung eliminiert sind.
Des weiteren sind in der oben beschriebenen Ausführungsform, wie es in Fig. 1 gezeigt ist, die Zellbarrieren 32 an der Basisplatte (hintere bzw. Rückplatte) 31, und zwar durch das Siebdruckverfahren gebildet und die lichtabsorbierenden Lagen 35 werden ebenfalls an den Zellbarrieren 32 durch das Siebdruckverfahren gebildet, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Ausführungsform begrenzt und umfaßt eine Modifikation, in welcher die lichtabsorbierenden Lagen 35 an der vorderen Platte 36 gebildet sein können, bereitgestellt mit dem Anodenelement 37 an der Seite eines Betrachters 58 durch das Siebdruckverfahren, wie es in Fig. 6 gezeigt ist, wobei die Zellbarrieren 32 ebenfalls an den so geformten lichtabsorbierenden Lagen 35 durch das Siebdruckverfahren gebildet werden können.

1-2 Beispiele:

Konkrete Beispiele gemäß der ersten Ausführungsform werden nun folgend beschrieben.

Beispiel 1:

Silberelektroden wurden durch ein Siebdruckverfahren auf ein Glassubstrat (hintere Platte) mit einer Breite von 300 um gedruckt, dann getrocknet und gesintert, um somit Kathoden zu bilden. Das so vorbereitete Substrat wurde dann gewaschen, und danach wurde eine Phosphorpaste von grüner Farbe durch das Siebdruckverfahren aufgedruckt und getrocknet bei einer Temperatur von 150º C für 10 Minuten. Die Phosphorpastenlagevon etwa 20 um wurde gebildet durch das erste Druckverfahren, und dieses Druckverfahren wurde 7 oder 8 mal wiederholt zum Bilden von Zellbarrieren mit einer monochromatischen farbmatrixstruktur mit einer Breite von etwa 200 um, einer Höhe von etwa 150 um und einer Aufteilung von etwa 500 um.
Die verwendete Phosphorpaste besteht aus Zn&sub2;SiO&sub4;:Mn (grüne Farbe) als Phosphor von 65 Gew.%, Glasfritte von niedriger Temperaturart von 10 Gew.% und Lösungsmittel umfassend Äthylzellulose und BAC (Gewichtsverhältnis 1:9) von 25 Gew.%.
Eine Paste für lichtabsorbierende Lagen wurde durch das Siebdruckverfahren aufgedruckt, und zwar auf die Zellbarrieren auf der Seite des Betrachters und dann getrocknet. Als ein Pigment, welches in der Paste für die lichtabsorbierende Lage verwendet wurde, war ein Oxyd enthalten, und zwar von den Eisenoxyd-, Kobaltoxydchromiumserien.
Nach diesen Verfahren wurden die Zellbarrieren gesintert bei einer Temperatur von etwa 440º C für 30 Minuten, um somit das Bindemittel von den Zellbarrieren und den lichtabsorbierenden Lagen zu entfernen, wobei die Zellbarrieren von der Matrixstruktur der PDP (grüner Farbe) selbst als ein Phosphorschirm gebildet werden. Dem entsprechend wird den Zellbarrieren selbst Energie zugeführt und dann beleuchtet durch ultraviolette Strahlungen, bedingt durch eine Plasmaentladung, so daß der Betrachter das reflektierte Licht des Phosphorschirmes visuell beobachten kann, wodurch die PDP mit verbesserter Leuchteffizienz bereitgestellt ist. Da die lichtabsorbierenden Lagen auf der Seite des Betrachters gebildet wurden, kann die Reflektion von äußerem Licht verhindert bzw. gehemmt werden, wodurch der Kontrast verbessert wird.

Beispiel 2:

Dieses Beispiel repräsentiert ein Beispiel in bezug auf die Bildung eines Phosphorschirmes von einer Farb-PDP, beschrieben unter Bezugnahme auf die Fig. 4, in welcher die Kathodenelemente eliminiert sind.
Silberelektroden wurden auf ein Glassubstrat (hintere Platte) mit einer Breite von 300 um durch ein Siebdruckverfahren gedruckt, dann getrocknet und gesintert, um somit Kathoden zu bilden. Das so vorbereitete Substrat wurde dann gewaschen, wonach eine Phosphorpaste von grüner Farbe durch Siebdruckverfahren aufgedruckt wurde zum Bilden einer einzelnen Lage von dieser Farbe und getrocknet bei einer Temperatur von 150º C für 10 Minuten (Fig. 4A). Die Phosphorpastenlage hat eine Breite von etwa 100 um, eine Höhe von etwa 20 um und eine Aufteilung von etwa 1000 um. Nachfolgend, wie es in Fig. 4B gezeigt ist, wurde eine Phosphorpaste von blauer Farbe durch das Siebdruckverfahren aufgedruckt zum Bilden einer einzelnen Lage von dieser Farbe mit derselben Breite und Höhe wie jene in dem Grünfarbdruck, und getrocknet bei einer Temperatur von 150º C für 10 Minuten. In dem nächsten Schritt, wie es in Fig. 4C gezeigt ist, wurde eine Phosphorpaste von roter Farbe gebildet in einer Art im wesentlichen derselben wie jene in dem grünen und blauen Farbdruckverfahren, um somit Zellbarrieren mit dreifarbigen Einzellagen zu bilden. Diese Druckverfahren zum Bilden der dreifarbigen Einzellagen wurde 7 bis 8 mal wiederholt zum Bilden von Zellbarrieren, wie sie in Fig. 4D gezeigt sind, mit der endgültigen Höhe von etwa 150 um.
Die verwendete Phosphorpaste besteht aus Zn&sub2;SiO&sub4;:Mn (grüne Farbe) als ein Phosphor von 65 Gew.%, Glasfritte von niedriger Temperaturart bzw. -typ von 10 Gew.%, und Lösungsmittel umfassend Äthylzellulose und BAC (Gewichtsverhältnis 1:9) von 25 Gew.%. Bezüglich der blauen und roten Farben wurde nur das Phosphor von der grünen Farbe ersetzt durch BaMgAl&sub1;&sub4;O&sub2;&sub3;:Eu (blaue Farbe) und durch (Y, Gd) BO&sub3;:Eu (rote Farbe). Die lichtabsorbierenden Lagen wurden dann auf die Zellbarrieren durch das Siebdruckverfahren aufgedruckt.
Nach diesen Verfahren wurden die Zellbarrieren bei einer Temperatur von etwa 440º C für 30 Minuten gesintert, um somit das Bindemittel zu entfernen, zum Bilden der Farb-PDP einer Matrixstruktur bzw. Matrizenstruktur, bereitgestellt mit den lichtabsorbierenden Lagen, in welchen die Zellbarrieren selbst als ein Phosphorschirm gebildet sind. Dem entsprechend wurde den Zellbarrieren selbst Energie zugeführt und dann beleuchtet durch ultraviolette Strahlungen, bedingt durch eine Plasmaentladung, so daß der Betrachter visuell das reflektierte Licht des Phosphorschirms beobachten kann, wodurch die PDP mit verbesserter leuchteffizienz bereitgestellt ist. Da die lichtabsorbierenden Lagen auf der Seite des Betrachters gebildet wurden, kann die Reflektion von einem äußeren Licht verhindert werden, wodurch der Kontrast verbessert wird.

Beispiel 3:

Dieses Beispiel bezieht sich auf eine linienförmige PDP umfassend linear angeordnete Zellbarrieren.
Wie es in Fig. 7 gezeigt ist, wurden Kathodenelemente 56 zuerst auf einem Glassubstrat 52 gebildet, so daß jedes eine dünne oder dicke Filmstruktur aufweist, mit einer Breite von 200 um und einer Aufteilung von 300 um.
Eine Phosphorpaste von grüner Farbe wurde aufgedruckt und getrocknet, und zwar 7 oder 8 mal mittels des Siebdruckverfahrens zum Bilden linearer Zellbarrieren 61, wie es normal ist für Kathodenelemente 56, wie es beschrieben wurde bezüglich der Zellbarriere der Matrizenanordnung. Jede der linearen Zellbarrieren 61 hat eine Breite von 150 um, eine Höhe von 140 um und eine Aufteilung von 300 um, wobei Fig. 8 eine perspektivische Ansicht von einer so geformten PDP ist, bereitgestellt mit den linearen Zellbarrieren 61.
Die verwendete Phosphorpaste besteht aus Zn&sub2;SiO&sub4;:Mn als ein Phosphor von 65 Gew.%, Glasfritte von niedriger Temperaturart bzw. -typ von 10 Gew.%, und Lösungsmittel umfassend Äthylzellulose und BAC (Gewichtsverhältnis 1:9) von 25 Gew.%. Die lichtabsorbierenden Lagen wurden dann auf die Zellbarrieren 61 durch das Siebdruckverfahren aufgedruckt.
Nach diesen Verfahren bzw. Schritten wurden die Zellbarrieren gesintert, bei einer Temperatur von etwa 440º C für 30 Minuten, um somit das Bindemittel zu entfernen und zum Bilden einer PDP des monochromatischen Typs, wobei die linearen Zellbarrieren selbst der Phosphorschirm sind. Dem entsprechend wurde den linearen Zellbarrieren selbst Energie zugeführt und durch ultraviolette Strahlungen von einer Plasmaentladung beleuchtet, so daß der Betrachter 58 visuell das reflektierte Licht von einem Phosphorschirm beobachten kann, wodurch die PDP mit verbesserter Leuchteffizienz bereitgestellt ist.
Mit diesem Beispiel wird es einfacher verstanden werden, daß die linearen Zellbarrieren mit dem jeweiligen Phosphor der drei Farben R, G und B gebildet werden können unter Verwendung von Phosphorpasten verschiedener Farben, welche jeweils mit der halben Breite der Zellbarriere 61 gedruckt werden können, und zwar gemäß dem Verfahren, wie es bezüglich des Beispieles 1-2 zur Zeit der Bildung der linearen Zellbarrieren 61 beschrieben wurde.

1-3 Wirkungen

Wie es aus der vorangegangenen Beschreibung verstanden werden wird, können gemäß der vorliegenden Erfindung die Zellbarrieren, welche Anzeigeelementzellen bilden, sowohl von der Matrizenform oder der linearen Form gebildet sein durch mehrfache Druckverfahren unter Verwendung der Phosphorpasten umfassend Glasfritte, und zwar durch das Siebdruckverfahren, so daß die Zellbarriere selbst als Phosphorschirm gebildet sein kann. Dem entsprechend wird der Zellbarriere selbst Energie zugeführt, wonach sie beleuchtet wird durch die ultravioletten Strahlungen bedingt durch Plasmaentladung, so daß der Betrachter visuell das reflektierte Licht des Phosphorschirms beobachten kann, wodurch die PDP mit ausgezeichneter Leuchteffizienz bereitgestellt ist.
Zusätzlich zu der Bildung einer lichtabsorbierenden Lage an der Zellbarriere an der Seite des Betrachters wird die Reflektion von äußerem bzw. externem Licht verhindert bzw. gehemmt, und somit wird der Kontrast verbessert.

(Zweite Ausführungsform)

PDP hergestellt mittels Fotoverfahren.

2-1 Basiskonstruktion

Ein Muster einer PDP, welche hergestellt ist gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist im wesentlichen identisch zu dem in Fig. 3 dargestellten Muster, welche die erste Ausführungsform der vorliegenden Erfindung repräsentiert.
Fig. 3 repräsentiert eine PDP, bereitgestellt mit einer Zellbarriere der Matrizenform. Die Zellbarriere ist gebildet aus einem Material umfassend ein Phosphor, wobei das phosphorumfassende Material, welches die Zellbarriere bildet, mit verschiedenen Farben angeordnet ist, jeweils mit der halben Breite der Zellbarriere. In dem in Fig. 3 gezeigten Muster sind die jeweiligen drei Farben R, G bzw. B wie gezeigt darin angeordnet, und ein Bildelement wird zusammengesetzt aus den zwei Anzeigeelementen von grüner Farbe, einem Anzeigeelement von blauer Farbe und einem Anzeigeelement von roter Farbe. Diese Zellbarriere ist gebildet durch ein PDP-Herstellungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung in einer Art, wie es im folgenden im Detail beschrieben wird.
Das PDP-Herstellungsverfahren und insbesondere ein Zellbarrierenbildungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung wird im folgenden beschrieben.
Fig. 9 repräsentiert das PDP-Herstellungsverfahren der zweiten Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung, und zeigt eine Serie von Bildungsschritten der Zellbarriere mit dem Phosphor, welches an dem Substrat, und somit an der hinteren Platte der PDP zu befestigen ist. Die Darstellung der Elektroden ist nun in Fig. 9 eliminiert zur Vereinfachung der Erklärung, wobei ein Muster der Zellbarriere unterschiedlich von dem ist, welches in Fig. 3 gezeigt ist. Die jeweiligen Schritte werden im folgenden mit Bezugnahme auf die Fig. 9(a) bis 9(p) beschrieben.
Zuerst wird in dem in Fig. 9(a) gezeigten Schritt ein Fotoresist 112, welcher zu härten ist, mittels Bestrahlung von Licht (hauptsächlich ultraviolette Strahlungen) gleichförmig auf ein durchsichtiges Substrat 111 aufgetragen bzw. beschichtet, wie z.B. hergestellt aus Glas mit einer Dicke gleich der Höhe einer Zellbarriere, wie sie gewünscht ist.
Es ist gewünscht den Fotoresist 112 von einer Art zu wählen, welcher beträchtliche starke Bindungseigenschaften aufweist, da ein Abschnitt des Fotoresists, welcher nicht gehärtet ist, einfach von dem Substrat 111 entfernt werden kann, und zwar in dem folgenden Schritt, welcher in Fig. 9(c) gezeigt ist. In einem Fall, in dem der gehärtete Abschnitt des Fotoresists 112 zu der Zeit des Sinterns eines Breies umfassend ein Phosphor in dem folgenden in Fig. 9(e) gezeigten Schritt, entfernt wird, wird es notwendig sein, einen Fotoresist von der Art auszuwählen, welcher thermisch zersetzt werden kann bei der Sintertemperatur.
In dem in Fig. 9(b) gezeigten Schritt wird eine Maske bzw. Schablone 113 mit einer Form entsprechend zu einem Muster der Zellbarriere, hergestellt aus Phosphor der ersten gewünschten Farbe, an einem vorbestimmten Abschnitt angeordnet, und ein Licht 114 wird unter diesen Bedingungen zum Härten des Fotoresists 112 eingestrahlt.
Nach dem Härten des Fotoresists 112, wie es in Fig. 9(c) gezeigt ist, wird ein Abschnitt, welcher nicht gehärtet ist, durch ein Entwicklungsverfahren entfernt, wie z.B. durch Aufsprühen einer Entwicklerlösung oder Eintauchen in eine Entwicklerlösung. In einem Fall, wo der nichtgehärtete Abschnitt in die Entwicklerlösung eingetaucht wird, können Ultraschallwellen oder eine Bürsteinrichtung zusätzlich verwendet werden.
In dem nächsten, in Fig. 9(d) gezeigten Schritt wird die Breilösung 115, zusammengesetzt aus dem Phosphor der ersten Farbe, d.h. grüner Farbe in dieser Ausführungsform, und ein PVA als ein Bindemittel, welches jeweils beabstandet zwischen die Inseln von gehärtetem Fotoresist gefüllt und das breienthaltende Phosphor getrocknet. ln diesem Schritt kann es möglich sein, eine Lösung zu verwenden, hergestellt durch Zuführen einer Glasfritte zu der Phosphorbreilösung 115 zum Erhöhen der Bindekraft an das Substrat 111. Die Bindekraft wird erhöht zu der Zeit, zu welcher die Phosphorbreilösung 115 mit der Glasfritte in dem folgenden Schritt gesintert wird. Zum Erhöhen der Bindefestigkeit kann es möglich sein, ein Bindemittel wie z.B. Wasserglas anstelle der Glasfritte zu verwenden. Jedoch ist es in einem Fall, wo ein Bindemittel der organischen Art verwendet wird, nötig, daß das Bindemittel thermisch zersetzt wird in dem folgenden oder endgültigen Sinterverfahren, da das Vorhandensein des Bindemittels dieser Art das Entladungsphänomen negativ beeinträchtigt. Des weiteren ist es in einem Fall, wo es gewünscht ist, die Phosphorbreilösung 115 durch ein Aussetzungsverfahren in dem folgenden Schritt der Fig. 9(e) zu härten, notwendig, Diazoniumsalz oder Amoniumbichromat zuzuführen, um sie mit einer fotosensitiven Eigenschaft bereitzustellen.
In dem in Fig. 9(e) gezeigten Schritt wird der gehärtete Fotoresist 112 entfernt, zum Erhalten einer Barriere, gebildet aus dem Phosphor. In diesem Schritt, wie oben beschrieben, kann es gewünscht sein, die fotosensitive Eigenschaft zu der Phosphorbreilösung 115 zuzuführen, um somit dieselbe auszusetzen und zu härten, und zwar nach dem Entfernen des Fotoresists 112. Das Entfernen des gehärteten Fotoresists 112 kann durch ein Hitzebehandlungsverfahren oder durch Verwendung eines Lösungsmittels durchgeführt werden.
In einem Fall, wo der gehärtete Fotoresist 112 durch Hitzebehandlung entfernt ist, wird ein Fotoresist der Art, welcher sich thermisch zersetzt, vorangehend ausgewählt als ein Material des Fotoresists 112, und dieser Schritt muß durchgeführt werden bei einer Sintertemperatur von mehr als einer Temperatur, bei welcher der Gesamtfotoresist 112 thermisch zersetzt werden kann. Jedoch, da wenn diese Sintertemperatur zu hoch ist, die Gefahr der Degradation des Phosphors besteht, ist es wünschenswert, den Fotoresist bei einer Temperatur von etwa 400 bis 450º C für etwa 30 Minuten zu sintern. ln diesem Schritt, wenn die Glasfritte zu der Phosphorbreilösung 115 zugeführt ist, erhöht das Vorhandensein der Glasfritte die Bindestärke zwischen dem Substrat und dem Phosphor durch das Sinterverfahren, so daß die Barriere, gebildet durch eine Substanz, enthaltend dieses Phosphor, schwer weggebrochen werden kann in den folgenden Verfahren oder Arbeitsschritten.
Im Falle, daß der Fotoresist 112 durch Verwendung eines Lösungsmittels entfernt wird, ist es notwendig, vorangehend das Bindemittel der Phosphorbreilösung 115 und den Fotoresist 112, hergestellt aus Substanzen mit jeweils verschiedenen Löslichkeiten bezüglich des Lösungsmittels, auszuwählen. Z.B. wird eine Wasserseriensubstanz ausgewählt als das Bindemittel der Phosphorbreilösung 115, und eine zu lösende Substanz durch das Lösungsmittel wird ausgewählt als der Fotoresist 112. Gemäß dieser Auswahl kann die Zellbarriere, gebildet durch die Phosphorbreilösung, ihre Form beibehalten, ohne von dem Lösungsmittel beeinträchtigt zu werden, und zwar während einer Zeit, zu welcher der Fotoresist 112 durch das Lösungsmittel abgeschält bzw. entfernt wird. In einem Fall, wo die Glasfritte vorangehend in die Phosphorbreilösung 115 zugeführt wurde, ist das Phosphor an dem Substrat befestigt zur selben Zeit, zur welcher die Phosphorbreilösung durch das Sinterverfahren nach dem Entfernen des Fotoresists 112 gehärtet wird.
In diesem Zustand ist die Zellbarriere der ersten der Farben gebildet.
In dem folgenden in Fig. 9(f) gezeigten Schritt wird der Fotoresist 112 beschichtet, so daß er eine Dicke hat, welche im wesentlichen gleich der Höhe einer zu bildenden Zellbarriere ist, und zwar durch die Art identisch zu der beschriebenen mit Bezug auf den in Fig. 9(a) gezeigten Schritt.
In dem nächsten in Fig. 9(g) gezeigten Schritt wird eine Maske 116 an einem Abschnitt angeordnet, bei welchem eine Zellbarriere hergestellt aus Phosphor der zweiten Farbe (blau in dieser Ausführungsform) gebildet und dann ausgesetzt wird, und zwar in der Art, wie es mit Bezugnahme auf den in Fig. 9(b) gezeigten Schritt beschrieben ist.
In den in den Fig. 9(h), 9(i) und 9(j) gezeigten Schritten wird ein Abschnitt des nichtgehärteten Fotoresists durch die Entwicklungsbehandlung entfernt, wobei die Phosphorbreilösung 117 die Räume zwischen den Barrieren und der Insel des gehärteten Fotoresists mit dem Phosphor der ersten Farbe (grün) ausfüllt, wobei die Phosphorbreilösung getrocknet und der gehärtete Fotoresist entfernt wird, und zwar ausgeführt wie in den vorangegangenen Schritten der Fig. 9(c), 9(d) und 9(e).
In diesem Zustand ist die Zellbarriere der zweiten Farbe gebildet.
In den folgenden, in den Fig. 9(k), 9(l), 9(m), 9(n) und 9(o) gezeigten Schritten wird eine Zellbarriere der dritten Farbe (rot in dieser Ausführungsform) durch Wiederholen der Schritte, im wesentlichen identisch zu denen, die in den Fig. 9(f) bis 9(j) gezeigt sind, gebildet.
In diesem Zustand ist die Zellbarriere der dritten Farbe gebildet.
In dem Falle, daß der Fotoresist durch Verwendung des Lösungsmittels entfernt ist, und das Sinterverfahren während dem zwischengelagerten Schritt nicht durchgeführt wird, ist es nötig, das Sinterverfahren durchzuführen zum Entfernen der organischen Substanz von der Phosphorbreilösung. ln diesem Fall wird es geeignet sein, eine Sintertemperatur von etwa 400 bis 450º C für etwa 30 Minuten anzuwenden.
Gemäß den oben beschriebenen kontinuierlichen Schritten ist die gebildete Zellbarriere aus Phosphor umfassendem Material, und die so geformte Zellbarriere mit Phosphor der jeweiligen unterschiedlichen Farbe (R, G, B), gebildet mit einer Breite, welche gleich zu der halben Breite der Zellbarriere ist.
Letztendlich werden in dem in Fig. 9(p) gezeigten Schritt lichtabsorbierende Lagen 120 an den Zellbarrieren 115, 117 und 118 (auf der Seite des Beobachters 158) gebildet durch die Art, wie sie beschrieben ist, mit Bezugnahme auf die erste Ausführungsform.
In der vorangegangenen Beschreibung bezüglich der Ausführungsformen gemäß der vorliegenden Erfindung wurde Bezug genommen auf Zellbarrieren der Matrizenform, jedoch kann die vorliegende Erfindung angewendet werden auf Zellbarrieren der Streifenform, und zwar im wesentlichen in derselben Art, wie es im vorangegangenen beschrieben wurde.
Es wurden ebenfalls vorangehend Beispiele beschrieben, in welchen die Zellbarrieren an der hinteren Platte durch das Fotoverfahren gebildet wurden, wobei die lichtabsorbierenden Lagen an den so gebildeten Zellbarrieren gebildet wurden, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt, sondern es kann möglich sein, zuerst die lichtabsorbierende Lage an der vorderen Platte, und dann die Zellbarriere an dieser lichtabsorbierenden Lage zu bilden.

2-2 Beispiel

Ein bevorzugtes Beispiel wird im folgenden beschrieben mit Bezugnahme auf die Basiskonstruktion der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, wie im obigen beschrieben.
Ein Kathodenelement wurde zuerst gebildet durch Aufdrucken einer Ni-Paste auf ein Substrat (die hintere Platte bildend), hergestellt aus Sodalimeglas mit einer Breite von 300 um, einer Höhe von 20 um und einer Aufteilung von 1 mm, und zwar durch das Siebdruckverfahren und dann Trocknen und Sintern der so gedruckten Kathodenelemente. Ein APR als ein Fotoresist (hergestellt durch ASAHI KASEL KOGYO KABUSHIKI KAISHA) wurde gleichförmig beschichtet zum Bedecken des Kathodenelementes bei einer Höhe von 150 um. Eine Aussetzung wurde dann durchgeführt unter Verwendung einer Filmmaske (mit einem Muster, wie es in Fig. 10A gezeigt ist) mit einem Maskenabschnitt mit einer Breite von 150 um. Das APR wird bei dem Vorhandensein von Sauerstoff nicht gehärtet, so daß ein PET-Film an dem APR befestigt wurde und die Maske an dem Film angeordnet wurde, und dann ultravioletter Strahlung ausgesetzt wurde. Entwicklungsbehandlung wurde durchgeführt durch Verwendung von warmen Wasser gemischt mit vorbestimmten Mengen von Borsäure und Aktivator.
Wenn die erste Farbphosphorbreilösung verwendet wurde mit Zn&sub2;SiO&sub4;:Mn als Grünfarbphosphor zusammen mit einem Bindemittel zusammengesetzt aus dem PVA und Wasser als ein Bindemittel, einer Glasfritte des niedrigen Temperaturtypes GA-9 (hergestellt durch NIHON DENKI GARASU KABUSHIKI KAISHA), so kann die Phosphorbreilösung aus dem Phosphor zu 60 Gew.%, der Glasfritte zu 15 Gew.%, dem PVA zu 3 Gew.% und Wasser zu 22 Gew.% bestehen.
Das Entfernen des APR als Fotoresist wurde durchgeführt unter Verwendung von Trichlorethan, und nach dem Entfernen des APR wurde ein Sinterverfahren durchgeführt, bei einer Temperatur von 450º C für 30 Minuten, wodurch die Zellbarriere, hergestellt aus dem Erstfarbphosphor, gebildet wird.
Bezüglich der zweiten und dritten Farben wurden BaMgAl&sub1;&sub4;O&sub2;&sub3;:Bu (blaue Farbe) bzw. (Y, Gd) BO&sub3;:Bu (rote Farbe) als das jeweilige Phosphor verwendet, und Zellbarrieren dieser Farben wurden gebildet unter Verwendung einer Filmmaske mit einem Muster, wie es in Fig. 10B gezeigt ist, und zwar in derselben Art, wie es bezüglich der ersten Farbe beschrieben wurde. Lichtabsorbierende Lagen wurden an den Zellbarrieren gebildet, und zwar durch das Siebdruckverfahren. ln den Fig. 10A und 10B zeigen schraffierte Abschnitte Lichtabschirmabschnitte, wobei die anderen Abschnitte lichtdurchlässige Abschnitte andeuten.
Nach der Bildung der Zellbarriere an der hinteren Platte, in der Art, wie es im obigen beschrieben wurde, wurde die hintere Platte mit einer Frontplatte gepaßt, an welcher eine Au-Elektrode mit einer Breite von 200 um, einer Höhe von 20 um und einer Aufteilung von 1 mm als ein Anodenelement zum Bilden einer Tafel vorgesehen. Ein Beleuchtungstest wurde durchgeführt und resultierte in guten Bedingungen.

2-3 Wirkungen

Gemäß der vorliegenden Erfindung, da die Zellbarriere aus dem Phosphor umfassenden Material verschiedener Farben gebildet ist, welche jeweils eine Breite aufweisen entsprechend zu einer halben Breite der Zellbarriere, können die Zellbarrieren der PDP der vorliegenden Erfindung selbst als der Phosphorschirm gebildet sein, wodurch der Phosphorschirm innerhalb der Zelle ausgezeichnete Leistung aufweist. Dem entsprechend, wenn die Zellbarrieren selbst mit Energie versorgt und dann beleuchtet durch die ultravioletten Strahlungen werden, bedingt durch die Plasmaentladung, kann der Betrachter visuelldas reflektierte Licht des Phosphorschirmes mit hoher Leistung beobachten.
Zusätzlich, gemäß dem PDP-Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung, werden die Zellbarrieren durch das Fotoverfahren gebildet, unter Verwendung der Phosphorbreilösung, so daß die Wandflächen der jeweiligen Zellbarrieren als Phosphorschirme der jeweiligen Farben einfach und genau gebildet werden können. Dies resuliert in der Bildung der PDP, welche in der Lage ist, visuell das reflektierte Licht zu beobachten und die Leuchteffizienz deutlichzu verbessern.

Claims

1. Plasma-Anzeigetafel umfassend:

eine vordere Platte (36), die auf der Seite eines Betrachters vorgesehen ist;

eine hintere Platte, die zur vorderen Platte parallel gegenüberliegend angebracht ist;

Zellbarrieren (32, 42, 43, 44, 61, 117), die zwischen den vorderen und hinteren Platten angeordnet sind, wobei die Zellbarrieren von einer matrizenartigen oder linearen Anordnung sind und eine Vielzahl von Zellräumen als Anzeigeelemente bilden; und

eine Kathode und eine Anode, die so vorgesehen sind, daß sie jedem Zellraum ausgesetzt sind, wobei die Zellbarrieren aus einem Material gebildet sind, das Phosphor enthält, und wobei die elektrische Entladung innerhalb der Zellräume selektiv verursacht wird.

2. Plasma-Anzeigetafel nach Anspruch 1, wobei die Zellbarriere aus einem Material besteht, das Phosphor aus verschiedenen Farben enthält, jede mit einer Breite, die einer halben Breite der Zellbarrieren entspricht.

3. Plasma-Anzeigetafel nach Anspruch 1, wobei eine lichtabsorbierende Schicht (35, 45, 62) auf der Zellbarriere auf der Seite des Betrachters gebildet wird.

4. Verfahren zur Herstellung einer Plasma-Anzeigetafel nach Anspruch 1, umfassend eine vordere Platte, die auf einer Seite eines Betrachters vorgesehen ist, eine hintere Platte, die zur vorderen Platte parallel gegenüberliegend vorgesehen ist, und Zellbarrieren als Anzeigeelemente, die zwischen der vorderen und hinteren Platte angeordnet sind, wobei die Zellbarrieren eine matrizenartige oder lineare Anordnung aufweisen und eine Vielzahl von Zellen bilden, dadurch gekennzeichnet, daß die Zellbarrieren gebildet werden, indem Glasfritte enthaltende Phosphorpaste vielfach in überlappender Weise mit einem Siebdruckverfahren gedruckt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Halbteile der Zellbarrieren mit halber Breite gebildet werden, indem Phosphorpasten verschiedener Farben vielfach in überlappender Weise gedruckt werden.

6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, wobei die Phosphorpasten nach der Bildung der Zellbarrieren gesintert werden.

7. Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Zellbarrieren gebildet werden, indem Glasfritte enthaltende Phosphorpaste vielfach in überlappender Weise mit einem Siebdruck-Verfahren gedruckt wird, und eine lichtabsorbierende Schicht auf die Zellbarrieren auf der Seite des Betrachters gebildet wird.

8. Verfahren nach Anspruch 4, wobei eine lichtabsorbierende Schicht auf der vorderen Platte gebildet wird, und danach die Zellbarrieren gebildet werden, indem Glasfritte enthaltende Phosphorpaste vielfach in überlappender Weise mit einem Siebdruck-Verfahren gedruckt wird.

9. Verfahren zur Herstellung einer Plasma-Anzeigetafel nach Anspruch 1, umfassend eine vordere Platte, die auf einer Seite eines Betrachters vorgesehen ist, und eine hintere Platte, die zur vorderen Platte parallel gegenüberliegend vorgesehen ist, und Zellbarrieren als Anzeigeelemente, die zwischen der vorderen und hinteren Platte angeordnet sind, wobei die Zellbarrieren eine matrizenartige oder lineare Anordnung aufweisen und eine Vielzahl von Zellen bilden, dadurch gekennzeichnet, daß, nachdem ein positives Muster von Zellbarrieren an der vorderen oder hinteren Platte durch Verwendung von Photoresist gebildet wurde, phosphorhältiger Schlamm Teile mit Ausnahme des Musters des Photoresists auffüllt, ein trockener phosphorhältiger Schlamm und der Photoresist danach entfernt werden, um somit Zellbarrieren zu bilden.

10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei ein Teil, der eine Breite aufweist, die der halben Breite der Zellbarriere entspricht, aus einem Schlamm gebildet wird, der einen Phosphor monochromatischer Farbe enthält, und ein weiterer Teil, der eine Breite aufweist, die einer anderen halben Breite der Zellbarriere entspricht, danach aus einem Schlamm gebildet wird, der einen Phosphor einer anderen Farbe enthält.

11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, wobei der phosphorhaltige Schlamm Polyvinylalkohol enthält.

12. Verfahren nach Anspruch 9, 10 oder 11, wobei der phosphorhaltige Schlamm Glasfritte enthält und der phosphorhaltige Schlamm gleichzeitig mit der Wärmeentfernung des Photoresists gesintert wird.

13. Verfahren nach Anspruch 9, 10 oder 11, wobei der phosphorhaltige Schlamm Glasfritte enthält und der phosphorhaltige Schlamm gesintert wird, nachdem der Photoresist durch Lösemittel entfernt wurde.

14. Verfahren nach Anspruch 9, wobei eine lichtabsorbierende Schicht auf den Zellbarrieren auf der Seite des Betrachters nach der Bildung der Zellbarrieren auf der hinteren Platte gebildet wird.

15. Verfahren nach Anspruch 9, wobei eine lichtabsorbierende Schicht auf der vorderen Platte gebildet wird und die Zellbarrieren dann auf der lichtabsorbierenden Schicht gebildet werden.