DE2854573A1

DE2854573A1 - Verfahren zur herstellung eines bildmusters auf einer flaeche eines transparenten traegers

Info

Publication number: DE2854573A1
Application number: DE19782854573
Authority: DE
Inventors: Frederic Robert Engstrom
Original assignee: Tektronix Inc
Current assignee: Tektronix Inc
Priority date: 1977-12-27
Filing date: 1978-12-18
Publication date: 1979-07-05
Also published as: FR2413693B1; DE2854573C3; GB2012071A; NL7812495A; JPS5492168A; US4223083A; FR2413693A1; DE2854573B2; JPS6132774B2

Description

Patentanwälte Dipl.-Ing. H.Tek;kmahn_; D-:pi.-Phys. Dr. K. Fincke

Dipl.-Ing. F. A.Weickmann, Dipl.-Chem. B. Huber "Dr. Ing. RLiskaJ 2854573

DH ⁸⁰⁰° MÜNCHEN 86, DEN 1 8. ΟθΖ, 197ft

POSTFACH 860820

MÖHLSTRASSE 22, RUFNUMMER 98 3921/22

Tektronix, Inc.,
14150 S.W. Karl Braun Drive, Beaverton, Oregon 97077, V.St.A.

Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters
auf einer Fläche eines transparenten Trägers

909827/07 53

Beschreibung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters auf einer Fläche eines transparenten Trägers, insbesondere eines Bildanzeigeschirms für eine Schattenmasken-Kathodenstrahlröhre, bei welcher der Schirm ein Muster von durch Bestrahlung aufgebrachten Elementen auf einer Fläche eines transparenten Trägers enthält, insbesondere eines Farbanzeigeschirms mit einem Muster von Phosphorelementen.

Konventionelle Farbanzeigeröhren mit Punktschirmen besitzen drei in einer delta-Konfiguration angeordnete Elektronenkanonen. Diese drei Eleketronenkanonen richten drei Elektronenstrahlen durch eine Schattenmaske auf einen Anzeigeschirm, welcher ein Mosaikmuster von in einer Vielzahl von Punkttripeln angeordneten Phosphorabscheidungen aufweist. Jedes Tripel enthält dabei einen Punkt eines rot-, grün- und blau-emittierenden Phosphors. Zur Verbesserung der Anzeigehelligkeit kann der Schirm eine Matrixschicht aus lichtabsorbierendem Material aufweisen, das die punktförmigen Phosphorabscheidungen umgibt und trennt. Ein derartiger Schirm, welcher als "schwarzumrandeter" Schirm bekannt geworden ist, ist Gegenstand der US-PS 3 146 368.

Das Mosaikmuster aus Phosphorpunkten einer Punktschirmröhre wird gewöhnlich durch ein direktes Photoverfahren hergestellt, bei dem ein Schirmbereich auf der Innenfläche der Frontplatte zunächst mit einer photoempfindlichen'Phosphoraufschlämmung beschichtet wird. Bei zeitweise auf der Frontplatte montierter Schattenmaske wird diese Beschichtung durch die öffnungen der Maske mit Licht von einer Lichtquelle bestrahlt, welche in der gleichen relativen Position wie eine der Elektronenkanonen in einer zusammengebauten Röhre angeordnet ist. Nach Entfernung der Schattenmaske wird die Beschichtung zur Entfernung der unbestrahlten Teile behandelt, wodurch ein Punktmuster mit einer Phosphorfarbe verbleibt.

909827/0753

Das Verfahren wird sodann für die verbleibenden Farben wiederholt, wobei die Lichtquelle für jede Farbe in die Lage der entsprechenden Elektronenkanone verschoben wird. Auf diese Weise wird eine getrennte dreiecksförmige Gruppe aus einem roten, einem grünen und einem blauen Phosphorpunkt auf der Frontplatte für jede öffnung in der Maske abgeschieden. Die individuellen Phosphorpunkte werden dabei kleiner als die öffnungen in der Schattenmaske gemacht. Dies wird generell dadurch erreicht, daß die Punkte durch eine Schattenmaske bestrahlt werden, deren öffnungen zunächst kleiner sind. Nach Abscheidung der Phosphorpunkte wird die Maske erneut geätzt, um die öffnungen auf die endgültige größere Abmessung aufzuweiten. Dieses erneute Ätzen der öffnungen einer Schattenmaske ist beispielsweise in der US-PS 2 961 313 beschrieben. Ein Verfahren zur zeitweisen Reduzierung des Durchmessers der Löcher der Schattenmaske durch einen galvanischen Prozeß ist in der US-PS 3 231 380 beschrieben. Ein entsprechendes Verfahren durch elektrophoretische Beschichtung mit einem nicht-metallischen Material ist in der US-PS 3 070 441 beschrieben. Die Größe der Phosphorpunkte kann auch ohne Modifizierung der Schattenmaske dadurch reduziert werden, daß die Belichtung sorgfältig gesteuert wird, wie dies beispielsweise in_der oben bereits genannten US-PS 3 146 368 beschrieben ist.

Mit schwarzen Umrandungen versehene Schirme können auf verschiedene Weise hergestellt werden. Das gebräuchliche Verfahren besteht jedoch darin, die lichtabsorbierende Matrixschicht vor der Abscheidung der Phosphorpunkte zu bilden. Gemäß der US-PS 3 558 310 wird der Schirmbereich einer Frontplatte zunächst mit einem photoaushärtbarem Material, beispielsweise mit durch Dichromat sensibilisiertem Polyvinylalkohol beschichtet. Nach dem Einstellen der Schattenmaske wird diese Beschichtung für jeweils eine Position einer

909827/07 53

Elektronenkanone drei verschiedenen Bestrahlungen unterworfen. Die Maske wird sodann entfernt, wonach die unbestrahlten Bereiche der Beschichtung abgewaschen werden, so daß ein Muster von ausgehärteten Punkten aus Polyvinylalkohol verbleibt. Das Punktmuster wird mit einer lichtabsorbierenden Beschichtung aus kolloidalem Graphit bedeckt, welche getrocknet und sodann mit einem chemischen Mittel, wie beispielsweise Wasserstoffperoxid behandelt, um die PoIyvinylalkohol-Punkte und die darüberliegenden Teile der Graphitbeschichtung zu entfernen. Damit entsteht ein Schirmbereich mit einer lichtabsorbxerenden Matrixschicht, die ein Öffnungsmuster zur Aufnahme der Färbphosphorpunkte besitzt, welche sodann im oben beschriebenen Sinne abgeschieden werden.

Die oben beschriebenen Herstellungsverfahren besitzen eine Anzahl von Nachteilen. Beispielsweise muß die Schattenmaske nach dem oben beschriebenen Verfahren während der Herstellung der dreifarbigen Anzeigeröhre mehrmals an der Frontplatte befestigt werden. Dies ist einmal für die Bestrahlung der schwarzen Umrandung, jeweils einmal für die Farbbestrahlungen und einmal vor dem abschließenden Zusammenbau der Röhre der Fall. Schattenmasken können relativ leicht zerstört werden, wobei einmal zerstörte Masken gewöhnlich nicht mehr verwendbar sind. Je mehr die Maske montiert und entfernt werden muß, um so größer ist die Wahrscheinlichkeit für eine Zerstörung. Die verschiedenen Maßnahmen, wie beispielsweise erneute Ätzungen, welche zur Realisierung der unterschiedlichen Größen der Maskenöffnungen bei den verschiedenen Schritten zur Herstellung der Röhre erforderlich sind, führen ebenfalls zu einer Zerstörung einer bestimmten Anzahl von Schattenmasken, wodurch die Ausbeute verringert wird, und damit die Herstellungskosten erhöht werden. Wird darüber hinaus die Schattenmaske bei jeder Bestrahlung nicht erneut genau ausgerichtet, so ergeben sich Fehl-

903827/0753

Positionierungen der verschiedenen Farbphosphorpunkte in bezug auf die Löcher in der schwarzen ümrandungsschicht oder Fehlpositionierung der Farbphosphorpunkte zueinander.

Weitere Nachteile der bekannten Verfahren ergeben sich daraus, daß die photoempfindlichen Beschichtungen von "vorne"/ d.h., von der Seite bestrahlt werden, welche der Oberfläche der Frontplatte abgewandt ist. Da der Prozeß des Unlöslichwerdens durch Photobehandlung an der der Lichtquelle am nächsten gelegenen Seite der Beschichtung beginnt und sich bei fortdauernder Bestrahlung durch die Dicke der Schicht fortsetzt, wird die Belichtung und die Gleichförmigkeit der Schicht kritisch, wenn gut haftende Punkte gleichförmiger Größe realisiert werden sollen. Eine geringförmige Unterbelichtung oder eine geringförmige zu dicke Schicht kann zu Punkten mit zu kleiner Größe oder zu Punkten führen, welche auf der Frontplatte nicht haften. Eine überbelichtung (oder eine zu dünne Beschichtung) führt zu übergroßen Punkten mit gezackten Kanten.

"Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Schirms einer Farbanzeige-Kathodenstrahlröhre anzugeben, bei dem die oben genannten Nachteile nicht auftreten.

Dabei soll insbesondere ein Muster aus gleichförmigen sauber definierten Abscheidungen auf der Frontplatte einer Kathodenstrahlröhre möglich sein.

Die Möglichkeit der .Maskenzerstörung, soll dabei so klein wie möglich gehalten werden.

Schließlich soll dabei auch die Gleichförmigkeit der photoempfindlichen Beschichtung sowie der Belichtung weniger kritisch als bei bekannten Verfahren sein.

909827/0753

Zur Lösung der vorstehend genannten Aufgabe ist bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß vorgesehen, daß auf einer Gegenfläche des Trägers ein Abbild einer Maske gebildet wird, daß auf die eine Fläche des Trägers eine Schicht aus photoempfindlichem Material aufgebracht wird und daß diese Schicht durch das Maskenabbild und den Träger mit chemisch wirksamer Strahlung bestrahlt wird.

Bei dem vorstehend definierten erfindungsgemäßen Verfahren wird bei der Herstellung eines Farbanzeigeschirms zunächst eine virtuelle Maske auf der Außenfläche der Frontplatte einer Kathodenstrahlröhre erzeugt. Diese virtuelle Maske wird zweckmäßigerweise durch Beschichtung der Außenfläche der Frontplatte mit einem photoempfindlichen Material hergestellt, dessen Löslichkeitseigenschaften durch die Bestrahlung mit chemisch wirksamer Energie verändert werden. Sodann wird benachbart zur Innenfläche der Frontplatte eine Schattenmaske montiert, und die Beschichtung durch die öffnungen der Schattenmaske aus einer geeigneten Energiequelle bestrahlt, um in der Beschichtung ein mit der Schattenmaske korreliertes latentes Bild zu erzeugen. Die Schattenmaske wird sodann entfernt, wonach die bestrahlte Beschichtung zur Entfernung eines Musters von beabstandeten Elementenbereichen entwickelt wird, welche den Schattenmaskenöffnungen entsprechen. Danach wird die Beschichtung behandelt, um sie strahlungsundurchlässig zu machen. Die resultierende mit öffnungen versehene Beschichtung stellt ein genau definiertes Abbild der Schattenmaske dar und dient daher als virtuelle Maske für nachfolgende Bestrahlungsschritte,

Nach Herstellung der virtuellen Maske auf der Außenfläche der Frontplatte wird auf deren Innenfläche ein im Bedarfsfall mit einer lichtabsorbierenden Schicht versehener Anzeigeschirm in Form eines Mosaikmusters aus Farbphosphorabscheidungen gebildet. Die nachfolgenden Prozeßschritte ent-

909827/0753

sprechen generell" den oben beschriebenen bekannten Verfahrensschritten mit der wesentlichen Ausnahme, daß alle Bestrahlungen von photoempfindlichen Beschichturigen durch die die virtuelle Maske tragende Frontplatte erfolgen. Daraus ergeben sich besser definierte und gleichförmigere Phosphorabscheidungen (und schwarzumrandete öffnungen). Darüber hinaus sind die Belichtungszeiten sowie die Dicke und die Gleichförmigkeit der photoempfindlichen Schicht relativ unkritisch. Bedeutungsvoll ist weiterhin, daß die Möglichkeit der Zerstörung der Schattenmaske wesentlich reduziert wird, da sie vor dem endgültigen Zusammenbau der Röhre lediglich einmal auf der Frontplatte montiert wird.

Weitere spezielle Ausgestaltungen der Erfindung sind in Unteransprüchen gekennzeichnet.

Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Figuren der Zeichnung näher erläutert.

Fig. 1 bis 9 der Zeichnung zeigen dabei Teilschnittdarstellungen zur Erläuterung verschiedener Verfahrensschritte des erfindungsgemäßen Verfahrens.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Herstellung eines mit einer schwarzen Umrandung versehenen Schirms einer dreifarbigen Schattenmasken-Kathodenstrahlröhre beschrieben, in der die Phosphorabscheidungen die Form von kleinen Punkten besitzen. In bekannter Weise besitzt der Kolben einer derartigen Röhre eine transparente Frontplatte, welche aus Zweckmäßigkeitsgründen der Schirmherstellung anfänglich vom Haupthals der Röhre getrennt ist. Ein Teil einer derartigen Frontplatte 10 ist in Fig. 1 dargestellt.

Das Verfahren zur Herstellung eines Anzeigeschirms auf der Frontplatte 10 umfaßt als ersten Hauptschritt die Herstellung

909827/0763

einer virtuellen Maske, d.h., eines Abbildes einer Schattenmaske auf einer Vorder- bzw. Sichtfläche 11 der Frontplatte. Dieser Verfahrensschritt läuft in folgender Weise ab. Nach einer chemischen Reinigung der Frontplatte 10 wird auf die Vorderfläche 11 eine Schicht 12 aus photoempfindlichem Material aufgebracht. Diese Schicht wird zweckmäßigerweise durch ein Material gebildet, dessen Löslichkeitseigenschaften durch Belichtung mittels einer chemisch wirksamen Strahlung änderbar sind. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel wird die Schicht 12 durch ein Material gebildet, das nach einer derartigen Bestrahlung in einem vorgegebenen Lösungsmittel unlöslich ist. Ein speziell geeignetes Material ist mit Ammoniumdichromat sensitivierter Polyvinylalkohol, welcher nach Bestrahlung mit ultraviolettem Licht wasserunlöslich wird. Aus noch zu erläuternden Gründen soll die Schicht 12 in jedem Fall keine Ingredientien enthalten, welche sich bei normalen Ausheiztemperaturen für die Röhre nicht leicht verflüchtigen. Auf die gesamte Vorderfläche 11 der Frontplatte 10 wird also eine Schicht 12 aus sensitiviertem Polyvinylalkohol aufgebracht. Nach Trocknung dieser Schicht 12 wird in üblicher Weise im Abstand von einer Hinterfläche 13 der Frontplatte 10 eine konventionelle Schattenmaske 14 entfernbar angeordnet. Die Anordnung aus Schattenmaske und Frontplatte wird sodann zur Bestrahlung in eine Bestrahlungskammer eingebracht, welche eine geeignete Lichtquelle enthält, die zur Bestrahlung der Hinterfläche der photoempfindlichen Schicht 12 durch Schattenmaskenöffnungen 15 chemisch wirksame Strahlung in die Frontplatte 10 strahlt.

Die Bestrahlung dient dazu, in der Schicht 12 durch Bestrahlung der gesamten Schichtfläche mit Ausnahme von den öffnungen 15 äquivalenten Elemententeilen 12a ein mit der Schattenmaske 14 korreliertes latentes Bild zu erzeugen. Dies kann durch eine einzige Bestrahlung unter Verwendung einer kleinen

30:9827/0753

gerichteten Lichtquelle erfolgen, welche längs einer Achse, die der zentralen Längsachse der Kathodenstrahlröhre entspricht, in einem vorgegebenen optischen Abstand von der photoempfindlichen Schicht angeordnet ist. Eine derartige Lichtquelle ergibt jedoch ein vergrößertes Bild der Schattenmaskenöffnungen. ünbestrahlte Öffnungsbildbereiche 12a, welche kleiner als die öffnungen 15 sind, können durch Bestrahlung der Schicht 12 unter Verwendung einer ringförmigen Lichtquelle erhalten werden. Dabei kann ein strahlender Ring/ welcher in einem geeigneten Abstand von der Schicht 12 angeordnet ist, durch die öffnungen der benachbarten Schattenmaske als Muster von sich überlappenden Ringen abgebildet" werden, wobei ünbestrahlte Bereiche verbleiben, welche kleiner als die Öffnungen sind. Eine derartige Bestrahlung ist graphisch in Fig. 1 dargestellt, wobei die von einer (nichtdargestellten) ringförmigen Lichtquelle ausgestrahlten Lichtstrahlen sich überlappende ringförmige Bereiche der Schicht 12 bestrahlen, wobei ünbestrahlte Öffnungsbildbereiche 12a verbleiben.

Nach der Bestrahlung wird die Maske 14 entfernt und die Schicht 12 durch Waschen der Frontplatte mit Wasser entwickelt. Die unbestrahlten Bereiche 12a sind in Wasser löslich und werden daher durch den Wasehprozeß entfernt. Die bestrahlten Bereiche der Schicht sind durch die Bestrahlung wasserunlöslich geworden und verbleiben daher an ihren Stellen. Nach dem Trocknen wird die entwickelte Schicht aus Polyvinylalkohol mit einer Formaldehydlösung behandelt, um sie auszuhärten und ihre Abriebfestigkeit zu erhöhen. Die Frontplatte wird sodann (für zwei Stunden bei 80⁰C) ausgeheizt, um Restfeuchtigkeit zu entfernen und die Schicht 12 weiter auszuhärten. In diesem Zustand ist die Schicht 12 aus Polvinylalkohol relativ klar. Damit die Schicht als Bestrahlungsmaske wirken kann, muß der klare Polyvinylalkohol für chemisch wirksame Strahlung relativ undurchlässig gemacht werden. Zu

9O9827/P753

diesem Zweck wird die Schicht 12 mit einem geeigneten Farbstoff bzw. einem Pigment behandelt, um sie adiatinisch undurchlässig zu machen. Für diesen Zweck eignet sich eine ein Färbmittel bildende Paste mit dem Namen Kraft Orange A, welche von der Firma E. I. duPont de Nemours & Co. geliefert wird, gut. Nach diesem Schritt zur Herstellung der Strahlungsundurchlässigkeit wird die Frontplatte 10 erneut in Wasser bespült und (für 2 Stunden bei 8O⁰C) getrocknet, um die Bildung einer virtuellen Maske 16 auf der Vorderfläche 11 abzuschließen. Wie Fig. 2 zeigt, besitzt die Maske 16 relativ strahlungsundurchlässige Bereiche 17, sowie mehrere lichtdurchlässige Bereiche bzw. öffnungen 18, welche ein zum Muster der öffnungen in der Schattenmaske 14 korreliertes Muster bilden.

Der nächste Hauptschritt des Verfahrens besteht in der Bildung eines schwarzen Randmusters auf der Hinterfläche 13 der Frontplatte 10. Aus der Vielzahl von möglichen Verfahren zur Herstellung eines derartigen Musters kommt hier ein Verfahren zur Anwendung, das mit der Aufbringung einer mit Dichromat sensitivierten Polyvinylalkohol-Schicht 19 auf die Hinterfläche der Frontplatte beginnt. Nach Trocknung der Schicht 19 wird die Frontplatte in eine Bestrahlungskammer eingebracht, welche eine kleine gerichtete Lichtquelle enthält, deren Lage mit einer Elektronenkanone in der fertigen Kathodenstrahlröhre korreliert ist. Wie Fig. 3 zeigt, werden Elementenpunktbereiche 19a der Polyvinylalkohol-Schicht sodann durch die öffnungen der virtuellen Maske 16 und die Frontplatte 10 mit chemisch wirksamer Strahlung bestrahlt. Nach einer neuerlichen Einstellung der Lichtquelle in eine Stellung, welche mit der Stellung einer zweiten Elektronenkanone korreliert ist, werden Punktbereiche 19b entsprechend bestrahlt. Eine abschließende Bestrahlung von weiteren Punktbereichen (welche in den Zeichnungen aus über-

909827/0753

sichtlichkeitsgründen nicht dargestellt sind) erfolgt mit der Lichtquelle in einer dritten auf eine Elektronenkanone korrelierten Stellung. Die Frontplatte wird sodann in Wasser gewaschen, um die nicht-bestrahlten Teile der Schicht 19 zu entfernen, wodurch ein Muster aus Polyvinylalkohol-Punkten auf der Fläche 13 der Frontplatte verbleibt, wie dies in Fig. 4 dargestellt ist. Gemäß Fig. 5 wird sodann auf die Hinterfläche der Frontplatte eine die Polyvinylalkohol-Punkte bedeckende Schicht 20 aus anorganischem,· lichtabsorbierendem Material, zweckmäßigerweise eine kolloidale Graphitsuspension, wie beispielsweise Aquadag aufgebracht. Nach Trocknung der lichtabsorbierenden Graphitschicht wird sodann ein mit dem Polyvinylalkohol reagierendes chemisches Abhebemittel aufgebracht, um die Punkte und die darüberliegenden Teile der Schicht 20 abzuheben. Als Abhebemittel eignet sich eine 30%ige Lösung von mit Schwefelsäure aktiviertem Wasserstoffperoxid. Nach der Behandlung mit der Peroxidlösung wird die mit Graphit beschichtete Fläche der Frontplatte in Wasser gewaschen, wodurch eine Matrix 21 aus lichtabsorbierendem Material verbleibt, welche Elementenbereiche 13a und 13b auf der Hinterfläche umgibt, wie dies in Fig. 6 dargestellt ist.

In diesem Zustand der Frontplatte können nun die verschiedenen Farbphosphorabscheidungen aufgebracht werden, welche für die fertige Schirmstruktur erforderlich ist. Das Verfahren zur Aufbringung der Phosphorabscheidungen entspricht dem Verfahren zur Bildung der Polyvinylalkohol-Punkte 19a und 19b. Gemäß Fig. 7 wird auf die gesamte Hinterfläche der Frontplatte eine photoaushärtbare Aufschlämmung von rotem, grünem oder blauem Phosphor als Schicht 22 aufgebracht, wonach durch die öffnungen 18 in der virtuellen Maske 16 mittels einer kleinen oder "punktförmigen" Quelle für chemisch wirksame Strahlung, welche an einer mit der Stelle der richtigen Elektronenkanone korrelierten Stelle angeordnet ist, eine Bestrahlung erfolgt. Sodann wird die Frontplatte zur

903827/Θ753

Entfernung der unbestrahlten Teile der Schicht 22 gewaschen, wodurch punktförmige Farbphosphorabscheidungen 22a verbleiben, welche die Bereiche 13a auf der Hinterfläche der Frontplatte bedecken. Das Verfahren wird sodann zur Abscheidung von Phosphorpunkten 23b mit einer anderen Farbe in Bereichen 13b auf der Hinterfläche der Frontplatte wiederholt, wie dies in Fig. 8 dargestellt ist.

Punkte eines Phosphors mit einer dritten Farbe werden sodann in der gleichen Weise abgeschieden.

Der resultierende mit Schwarzumrandungen versehene Schirm enthält in diesem Zustand eine lichtabsorbierende Matrix 21 mit Phosphorpunkten unterschiedlicher Primärfarben in den Öffnungen dieser Matrix. Sodann wird eine dünne Schicht 24 aus Aluminium in konventioneller Weise auf den Schirm aufgebracht, wonach die mit dem Schirm und der virtuellen Maske versehene Frontplatte der üblichen Hochtemperatur-Ausheizung ausgesetzt wird, um organische Komponenten, wie beispielsweise den Polyvinylalkohol in den punktförmigen Phosphorabscheidungen zu entfernen. Bei dieser Ausheizung wird auch die virtuelle Maske 16 von der Vorderfläche 12 der Frontplatte 1 0 entfernt, _wodurch eine Schirmstruktür nach Fig. 9 verbleibt.

Das vorstehend erläuterte Verfahren, bei dem unter Ausnutzung einer virtuellen Maske ein Muster von Abscheidungen auf der Frontplatte einer Kathodenstrahlröhre aufgebracht wird, besitzt eine Anzahl von Vorteilen, von denen einige oben schon erwähnt wurden. Beispielsweise ergibt die Verwendung einer virtuellen Maske bei der Schirmherstellung einer Schattenmasken-Farb-Kathodenstrahlröhre verbesserte Ausbeuten und führt zu einer Reduzierung der Kosten, da die Anzahl der Handhabungen der Schattenmaske reduziert wird. Die Positionierung der Phosphorabscheidungen wird verbessert, da die relative Lage zwischen der Frontplatte und der Bestrahlungsmaske fest

909B27/€753

bleibt. Darüber hinaus gewährleistet die Bestrahlung der verschiedenen photoempfindlichen Schichten durch Glas, welche bei bekannten Verfahren impraktikabel ist, besser definierte gleichförmigere Abscheidungen, wobei auch die Schichtgleichförmigkeit relativ unkritisch ist.

Neben der Herstellung eines schwarzumrandeten Punktschirms ist das erfindungsgemäße Verfahren auch für andere Typen von Farbanzeigeschirmen, wie beispielsweise Schirme mit nicht matrizierten Punkten oder Schlitzmaskenröhren anwendbar, wobei entsprechende Modifikationen des oben erläuterten Ausführungsbeispiels des Verfahrens möglich sind. Beispielsweise kann eine virtuelle Maske dadurch hergestellt werden, daß eine dünne Schicht aus einem geeigneten Metall, wie beispielsweise Chrom auf ein Muster von Polyvinylalkohol-Punkten aufgedampft wird, wonach die Punkte und die über diesen liegenden Bereiche der Metallbeschichtung in ähnlicher Weise entfernt werden, wie dies oben in Verbindung mit der Herstellung der lichtabsorbierenden Matrix beschrieben wurde.

909827/0753

Claims

Patentan Sprüche

1.J Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters auf einer Fläche eines transparenten Trägers, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer Gegenfläche (11) des Trägers (10) ein Abbild (17, 18) einer Maske (14) gebildet wird, daß auf die Fläche (13) des Trägers (10) eine Schicht (16) aus photoempfindlichem Material aufgebracht wird, und daß diese Schicht (16) durch das Maskenabbild (17, 18) und den Träger (10) mit chemisch wirksamer Strahlung bestrahlt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung des Maskenbildes (17, 18) eine photoempfindliche Schicht (12) auf die Gegenfläche (11) des Trägers (10) aufgebracht wird, daß benachbart zu der einen Fläche (13) die Maske (14) angeordnet wird, welche ein dem gewünschten Bildmuster entsprechendes Muster aus strahlungsdurchlässigen Bereichen (15) aufweist, daß die photoempfindliche Schicht (12) zur Erzeugung eines entwickelbaren latenten Bildes der Maske (14) in ihr durch die öffnungen (15) der Maske (14) mit chemisch wirksamer Strahlung bestrahlt wird und daß die bestrahlte photoempfindliche Schicht (12) zur Entwicklung des Bildes behandelt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als chemisch wirksame Strahlung Licht verwendet wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Maskenbild (17, 18) nach der Entwicklung des Bildes entfernt wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 zur Herstellung eines Bildanzeigeschirms für eine Schattenmasken-Kathodenstrahlröhre, bei welcher der Schirm ein Muster von

909827/0753 ORIGINAL INSPECTED

durch Bestrahlung aufgebrachten Elementen auf einer Fläche eines transparenten Trägers enthält, insbesondere eines Farbanzeigeschirms mit einem Muster von Phosphorelementen, dadurch gekennzeichnet, daß die Schattenmaske (14) zur Herstellung des Elementenmusters, insbesondere eines regelmäßigen Musters von in mehrfarbigen Gruppen von Phosphorabscheidungen eine mit diesem Muster korrelierte Matrix von öffnungen (15) aufweist, von denen jeweils eine einer Farbgruppe zugeordnet ist.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem Anzeigeschirm eine Vielzahl von in Farbtripeln angeordneten Phosphorpunkten hergestellt wird.

9 0 9827/0753