DE2854573C3 - Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters auf einer Fläche eines die Frontplatte eines Bildanzeigeschirms bildenden transparenten Trägers - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters auf einer Fläche eines die Frontplatte eines Bildanzeigeschirms bildenden transparenten TrägersInfo
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- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters auf einer Fläche eines die
Frontplatte eines Bildanzeigeschirms bildenden transparenten Trägers, bei dem in der angegebenen
Reihenfolge zwischen einer Lichtquelle und der Frontplatte eine Maske angeordnet wird, die ein dem
gewünschten Bildmuster entsprechendes Muster mit strahlungsdurchlässigen Bereichen aufweist, auf der
Innenseite der Frontplatte eine photoempfindliche Schicht aufgebracht wird, die von einer außerhalb der
Außenfläche der Frontplatte befindlichen Lichtquelle durch die Frontplatte hindurch belichtet wird, und das
Bildmuster auf der photoempfindlichen Schicht entwikkelt wird.
Aus der DE-AS 25 26 882 ist ein Verfahren der vorgenannten Art zur Herstellung eines Leuchtschirms
mit Punkttripeln bzw. Dreiergruppen von Leuchtstoffelementen in Form von Phosphorabscheidungen bekannt
geworden. Dabei wird auf die Innenseite eines transparenten Trägers zunächst eine Filterschicht und
auf diese eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht. Sodann werden mittels einer Maske, welche gleich der
Schattenmaske einer den Leuchtschirm enthaltenden Farbbildröhre ist und welche zwischen der Innenseite
des Trägers und einer Ultraviolett-Lichtquelle angeordnet ist, Bereiche der Filterschicht mit Ultraviolettlicht
bestrahlt und dabei für sichtbares Licht durchlässig gemacht. Danach wird die lichtempfindliche Schicht von
der Außenseite des Trägers her durch die lichtdurchläs-
sigen Teile der Filterschicht mit sichtbarem Licht
bestrahlt Enthält beispielsweise die lichtdurchlässige Schicht einen Leuchtstoff einer der Primärfarben, so
kann sie nach ihrer Belichtung derart behandelt werden, daß nur die belichteten Teile stehen bleiben und Punkte
einer Farbe der Punkttripel bilden. Die Verfahrensschritte können zur Herstellung der Punkte der beiden
weiteren Primärfarben wiederholt werden. Es ist aber auch möglich, mittels der Filterschicht und einer auf
diese aufgebrachten Photoresist-Schicht sowie den vogenannten Belichtungsprozessen eine Löcher aufweisende
lichtabsorbierende Matrix herzustellen und in die Löcher dieser Matrix die Phosphore für die Primärfarben
einzubetten.
Dabei muß die zur Belichtung mit Ultraviolettlicht verwendete Maske, welche gleich der Schattenmaske
der fertigen Farbbildröhre ist, mehrmals am transparenten Träger befestigt werden. Derartige Masken können
dadurch relativ leicht zerstört werden, wobei einmal zerstörte Masken gewöhnlich nicht mehr verwendbar
sind. Je öfter die Maske montiert und entfernt werden muß, um so größer ist die Wahrscheinlichkeit für eine
Zerstörung. Die verschiedenen Maßnahmen, wie beispielsweise erneute Ätzungen, welche zur Realisierung
der unterschiedlichen Größen der Maskenöffnungen bei den verschiedenen Schritten zur Herstellung der Röhre
erforderlich sind, föiren ebenfalls zu einer Zerstörung
einer bestimmten Anzahl von Masken, wodurch die Ausbeute verringert wird, und damit die Herstellungskosten
erhöht werden. Wird darüber hinaus die Maske bei jeder Bestrahlung nicht erneut genau ausgerichtet,
so ergeben sich Fehlpositionierungen der verschiedenen Farbphosphorpunkte in bezug auf die Löcher in der
schwarzen Umrandungsschicht oder Fehlpositionierung der Farbphosphorpunkte zueinander.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art so
auszugestalten, daß die genannte Maske nur einmal verwendet wird.
Zur Lösung der vorstehend genannten Aufgabe ist bei
einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß vorgesehen, daß als nächste Verfahrensschritte nach dem Anordnen der Maske auf der
Außenseite der Frontplatte zur Herstellung einer Hilfsmaske eine erste photoempfindliche Schicht
aufgebracht wird und daß anschließend die photoempfindliche Schicht auf der Außenseite der Frontplatte
durch die Maskenöffnungen und die Frontplatte hindurch belichtet und die belichtete Schicht zur
Entwicklung des die Hilfsmaske darstellenden Bildes behandelt wird.
Bei dem vorstehend definierten erfindungsgernäßen Verfahren wird also bei der Herstellung eines
Farbanzeigeschirms zunächst eine Hilfsmaske auf der Außenseite des transparenten Trägers erzeugt. Diese
Hilfsmaske wird durch Beschichtung der Außenseite des Trägers mit einem lichtempfindlichen Material hergestellt,
dessen Löslichkeitseigenschaften durch Belichtung verändert werden. Sodann wird benachbart zur
Innenseite des Trägers eine Maske montiert, und die Beschichtung duFch die öffnungen der Maske aus einer
geeigneten Energiequelle bestrahlt, um in der Beschichtung ein mit der Maske korreliertes latentes Bild zu
erzeugen. Die Maske wird sodann entfernt, wonach die bestrahlte Beschichtung zur Entfernung eines Musters
von beabstandeten Elementenbereichen entwickelt wird, welche den Maskenöffnungen entsprechen.
Danach wird die Beschichtung behandelt, um sie
strahlungsundurchlässig zu machen. Die resultierende
mit öffnungen versehene Beschichtung stellt ein genau definiertes Abbild der Maske dar und dient daher als
Hilfsmaske für nachfolgende Bestrahlungsschritte,
Nach Herstellung der Hilfsmaske auf der Außenseite des Trägers wird auf dessen Innenseite ein im
Bedarfsfall mit einer lichtabsorbierenden Schicht versehener Anzeigeschirm in Form eines Mosaikmusters
aus Farbphosphorabscheidungen gebildet. Die nachfolgenden Prozeßschritte entsprechen generell
bekannten Verfahrensschritten mit der wesentlichen Ausnahme, daß alle Bestrahlungen von photoempfindlichen
Beschichtungen durch den die Hilfsmaske aufweisenden Träger erfolgen. Daraus ergeben sich
besser definierte und gleichförmigere Phosphorabschei- ι5
düngen (und schwarzumrandete Öffnungen). Darüber hinaus sind die Belichtungszeiten sowie die Dicke und
die Gleichförmigkeit der lichtempfindlichem Schicht relativ unkritisch. Bedeutungsvoll ist weiterhin, daß die
Möglichkeit der Zerstörung der Maske wesentlich reduziert wird, da sie vor dem endgültigen Zusammenbau
der Röhre lediglich einmal auf dem Trägeir montiert
wird.
Das vorstehend definierte Verfahren besitzt eine Anzahl von Vorteilen, von denen einige oben schon
erwähnt wurden. Beispielsweise ergibt die Verwendung einer Hilfsmaske bei der Schirmherstellung einer
Schattenmasken-Farb-Kathodenstrahlröhre verbesserte Ausbeuten und führt zu einer Reduzierung der
Kosten, da die Anzahl der Handhabungen der Schattenmaske reduziert wird. Die Positionierung der
Phosphorabscheidungen wird verbessert, da die relative Lage zwischen der Frontplatte und der Bestrahlungsmaske fest bleibt Darüber hinaus gewährleistet die
Bestrahlung der verschiedenen photoempfindlichen Schichten durch Glas, weiche bei bekannten Verfahren
inpraktikabel ist, besser definierte gleichförmigere Abscheidungen, wobei auch die Schichtgleichförmigkeit
relativ unkritisch ist
Eine Ausgestaltung der Erfindung ist im Anspruch 2
gekennzeichnet
Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Figuren
der Zeichnung näher erläutert
F i g. 1 bis 9 der Zeichnung zeigen dabei Teilschnittdarstellunpen
zur Erläuterung verschiedener Verfahrensschritte.
Das Ausführungsbeispiel betrifft die Herstellung eines mit einer schwarzen Umrandung versehenen
Schirms einer dreifarbigen Schattenmasken-Kathoden- so
strahlröhre, in der die Phosphorabscheidungen die Form von kleinen Punkten besitzen. In bekannter Weise
besitzt der Kolben einer derartigen Röhre eine als Träger dienende transparente Frontplatte, welche aus
Zweckmäßigkeitsßründen der Schirmherstellung anfänglich vom Haupthals der Röhre getrennt ist. Ein TdI
einer derartigen Frontplatte 10 ist in F i g. 1 dargestellt.
Das Verfahren zur Herstellung eines Anzeigeschirms auf dem Träger 10 umfaßt als ersten Hauptschritt die
Herstellung einer Hilfsmaske, d. h. eines Abbildes einer Maske auf einer Außenseite 11 des Trägers. Dieser
Verfahrensschritt läuft in folgender Weise ab. Nach einer chemischen Reinigung des Trägers 10 wird auf die
Außenseite 11 eine Schicht 12 aus lichtempfindlichem Material aufgebracht Diese Schicht wird durch ein
Material gebildet, dessen Löslichkeitseigerschaften durch Belichtung änderbar sind. Im vorliegenden
Aiisführungsbeispiel wird die Schicht 12 durch ein Material gebildet, das nach einer derartigen Bestrahlung
in einem vorgegebenen Lösungsmittel unlöslich ist Ein speziell geeignetes Material ist mit Ammoniumdichromat
sensitivierter Polyvinylalkohol, welcher nach Bestrahlung mit ultraviolettem Licht wasserunlöslich
wird. Aus noch zu erläuternden Gründen soll die Schicht
12 in jedem Fall keine Ingredientien enthalten, welche sich bei normalen Ausheiztemperaturen für die Röhre
nicht leicht verflüchtigen. Auf die gesamte Außenseite 11 des Trägers 10 wird also eine Schicht 12 aus
sensitiviertem Polyvinylalkohol aufgebracht Nach
Trocknung dieser Schicht 12 wird in üblicher Weise im Abstand von einer Innenseite 13 des Trägers 10 eine
konventionelle Schattenmaske 14 entfernbar angeordnet Die Anordnung aus Schattenmaske und Träger wird
sodann zur Bestrahlung in eine Bestrahlungskammer eingebracht, welche eine geeignete Lichtquelle enthält,
die zur Bestrahlung der Innenseite der photoempfindlichen Schicht 12 durch Schattenmaskenöffnungen 15
chemisch -a irksame Strahlung auf den Träger 10 strahlt
Die Bestrahlung dient dazu, in d<„- Schicht 12 durch
Bestrahlung der gesamten Schichtfiäche mit Ausnahme von den öffnungen 15 zugeordneten unbestrahlten
Bildbereichen 12a ein mit der Schattenmaske 14 korreliertes latentes Bild zu erzeugen. Dies kann durch
eine einzige Bestrahlung unter Verwendung einer kleinen gerichteten Lichtquelle erfolgen, welche längs
einer Achse, die der zentralen Längsachse der Kathodenstrahlröhre entspricht, in einem vorgegebenen optischen Abstand von der photoempfindlichen
Schicht angeordnet ist Eine derartige Lichtquelle ergibt jedoch ein vergrößertes Bild der Schattenmaskenöffnungen.
Unbestrahlte Bildbereiche 12a, welche kleiner als die öffnungen 15 sind, können durch Bestrahlung der
Schicht 12 unter Verwendung einer ringförmigen Lichtquelle erhalten werden. Dabei kann ein strahlender
Ring, welcher in einem geeigneten Abstand von der Schicht 12 angeordnet ist, durch die öffnungen der
benachbarten Schattenmaske als Muster νοΛ sich
überlappenden Ringen abgebildet werden, wobei unbestrahlte Bereiche verbleiben, welche kleiner als die
Öffnungen sind. Eine derartige Bestrahlung ist graphisch in F i g. 1 dargestellt, wobei die von einer
(nichtdargestellten) ringförmigen Lichtquelle ausgestrahlten Lichtstrahlen sich überlappende ringförmige
Bereiche der Schicht 12 bestrahlen, wobei die unbestrahlten Bildbereiche 12a verbleiben.
Nach der Bestrahlung wird die Maske 14 entfernt und die Schicht 12 durch Waschen des Trägers mit Wasser
entwickelt Die unbestrahlten Bildbereiche 12a sind in Wasser löslich und werden daher durch den Waschprozeß
entfernt Die bestrahlten Bereiche der Schicht sind durch die Bestrahlung wasserunlöslich geworden und
verblfcit!en daher an ihren Stelisn. Nach dem Trocknen
wird die entwickelte Schicht aus Polyvinylalkohol mit einer FormaldehyiJiösung behandelt um sie auszuhärten
und ihre Abreibfestigkeit zu erhöhen. Der Träger wird sodann (für zwei Stunden bei 8O0C) ausgeheizt, um
Restfeuchtigkeit zu entfernen und die Schicht 12 weiter auszuhärten. In diesem Zustand ist die Schicht 12 aus
Polyvinylalkohol relativ klar, Damit die Schicht als Bestrahlungsmaske wirken kann, muß der klare
Polyvinylalkohol für chemisch wirksame Strahlung relativ undurchlässig gemacht werden. Zu diesem
Zweck wird die Schicht 12 mit einem geeigneten Farbstoff bzw. einem Pigment behandelt. Nach diesem
Schritt zur Herstellung der Strahlungsundurchiässigkeit wird der Träger 10 erneut in Wasser gespült und (für 2 h
bei 80°C) getrocknet, um die Bildung einer Hilfsmaske
16 auf der Außenseite Il abzuschließen. Wie Fig. 2 zeigt, besitzt die Maske 16 relativ strahlungsundurchlässige
Bereiche 17, sowie mehrere lichtdurchlässige öffnungen 18, welche ein zum Muster der öffnungen in
der Schattenmaske 14 korreliertes Muster bilden.
Der nächste Schritt des Verfahrens besteht in der Bildung eines schwarzen Randmusters auf der Innenseite
13 des Trägers 10. Aus der Vielzahl von möglichen Verfahren zur Herstellung eines derartigen Musters
kommt hier ein Verfahren zur Anwendung, das mit der Aufbringung einer aus mit Dichromat sensitiviertem
Polyvinylalkohol bestehenden Schicht 19 auf die Innenseite des Trägers beginnt. Nach Trocknung der
Schicht 19 wird der Träger in eine Bestrahlungskammer eingebracht, welche eine kleine gerichtete Lichtquelle
enthält, deren Lage mit einer Elektronenkanone in der fertigen Kathodenstrahlröhre korreliert ist. Wie F i g. 3
zeigt, werden Punktbereiche 19a der Polyvinylalkohol-Schicht sodann durch die Öffnungen der Hillsmaske 16
und den Träger 10 belichtet. Nach einer neuerlichen Einstellung der Lichtquelle in eine Stellung, welche mit
der Stellung einer zweiten Elektronenkanone korreliert ist, werden Punktbereiche 196 entsprechend bestrahlt.
Eine abschließende Bestrahlung von weiteren Punktbereichen (welche in den Zeichnungen aus Übersichtlichkeitsgründen
nicht dargestellt sind) erfolgt mit der Lichtquelle in einer dritten auf eine Elektronenkanone
korrelierten Stellung. Der Träger wird sodann in Wasser gewaschen, um die nicht-bestrahlten Teile der
Schicht 19 zu entfernen, wodurch ein Muster aus Polyvinylalkohol-Punkten auf der Innenseite 13 des
Trägers verbleibt, wie dies in Fig.4 dargestellt ist. Gemäß Fig.5 wird sodann auf die Innenseite des
Trägers eine die Polyvinylalkohol-Punkte bedeckende Schicht 20 aus anorganischem, lichtabsorbierendem
Material, beispielsweise eine kolloidale Graphitsuspension aufgebracht. Nach Trocknung der lichtabsorbierenden
Graphitschicht wird sodann ein mit dem Polyvinylalkohol reagierendes chemisches Abhebemittel aufgebracht,
um die Punkte und die darüberliegenden Teile der Schicht 20 abzuheben. Als Abhebemittel eignet sich
ir*a I Äriini, wnn mit CnUtvafaleütiPA nttiuierlem
bracht werden, welche für die fertige Schirmstruktur erforderlich ist. Das Verfahren zur Aufbringung der
Phosphorabscheidungen entspricht dem Verfahren zur Bildung der Punktbereiche 19a und I9& Gemäß F i g. 7
wird auf die gesamte Innenseite des Trägers eine photoaushärtbare Aufschlämmung von rotem, grünem
oder blauem Phosphor als Schicht 22 aufgebracht, wonach durch die Offnungen 18 in der Hilfsmaske 16
mittels einer kleinen oder »punktförmigen« Quelle für
ίο chemisch wirksame Strahlung, welche an einer mit der
Stelle der richtigen Elektronenkanone korrelierten Stelle angeordnet ist, eine Bestrahlung erfolgt. Sodann
wird der Träger zur Entfernung der unbestrahlten Teile der Schicht 22 gewaschen, wodurch punktförmige
Farbphosphorabscheidungen 22a verbleiben, welche die Bereiche 13a auf der Innenseite des Trägers bedecken.
Das Verfahren wird sodann zur Abscheidung von Phosphorpunkten mit einer anderen Farbe in Bereichen
13f> auf der Innenseite des Trägers wiederholt, wie dies in F i g. 8 dargesteiit ist.
Punkte eines Phosphors mit einer dritten Farbe werden sodann in der gleichen Weise abgeschieden.
Der resultierende mit Schwarzumrandungen versehene Schirm enthält in diesem Zustand eine lichtabsorbierende
Matrix 21 mit Phosphorpunkten unterschieclicher Primärfarben in den öffnungen dieser Matrix. Sodann
wird eine dünne Schicht 24 aus Aluminium in konventioneller Weise auf den Schirm aufgebracht,
wonach die mit dem Schirm und der Hilfsmaske versehene Träger der üblichen Hochtemperatur-Ausheizung
ausgesetzt wird, um organische Komponenten,
wie beispielsweise den Polyvinylalkohol in den punktförmigen Phosphorabscheidungen zu entfernen. Bei
dieser Ausheizung wird auch die Hilfsmaske 16 von der Außenseite 12 des Trägers 10 entfernt, wodurch eine
Schirmstruktur nach F i g. 9 verbleibt
Neben der Herstellung eines schwarzumrandeten Punktschirms ist das beschriebene Verfahren auch für
andere Typen von Farbanzeigeschirmen, wie beispielsweise Schirme mit nicht matrizierten Punkten oder
Schlitzmaskenröhren anwendbar, wobei entsprechende Modifikationen des oben erläuterten Ausführungsbeicniffclc
/foe Verfahrene mAirlirh «inH R^icniplcurpicp kann
Wasserstoffperoxid. Nach der Behandlung mit der Peroxidlösung wird die mit Graphit beschichtete Fläche
des Trägers in Wasser gewaschen, wodurch eine Matrix 21 aus lichtabsorbierendem Material verbleibt, welche
Elementenbereiche 13a und 136 auf der Innenseite umgibt, wie dies in F i g. 6 dargestellt ist.
In diesem Zustand des Trägers können nun die verschiedenen Farbphosphorabscheidungen aufgeeine
Hilfsmaske dadurch hergestellt werden, daß eine dünne Schicht aus einem geeigneten Metall, wie
beispielsweise Chrom auf ein Muster von Polyvinylalkohol-Punkten aufgedampft wird, wonach die Punkte und
die über diesen liegenden Bereiche der Metallbeschichtung in ähnlicher Weise entfernt werden, wie dies oben
in Verbindung mit der Herstellung der lichtabsorbierenden Matrix beschrieben wurde.
Claims (2)
- Patentansprüche:1, Verfahren zur Herstellung eines Bildmuster? auf einer Fläche eines die Frontplatte eines Bildanzeigeschirms bildenden, transparenten Trägers mit nachstehenden, in der angegebenen Reihenfolge ausgeführten Verfahrensschritten;a) zwischen einer Lichtquelle und der Frontplatte wird eine Maske angeordnet, die ein dem gewünschten Bildmuster entsprechendes Muster mit strahlungsdurchlässigen Bereichen aufweist,b) auf der Außenseite der Frontplatte wird zur Herstellung einer Hilfsmaske eine erste photoempfindliche Schicht aufgebracht,c) die photoempfindliche Schicht auf der Außenseite der Frontplatte wird durch die Maskenöffnungen und die Frontplatte hindurch belichtet und die-belichtete Schicht zur Entwicklung des die Hilfsmaske darstellenden Bildes behandelt,d) auf der Innenseite der Frontplatte wird eine zv/eite photoempfindliche Schicht aufgebracht, die von einer außerhalb der Außenfläche der Frontplatte befindlichen Lichtquelle durch die Frontplatte hindurch belichtet wird,e) das Bildmuster auf der zweiten photoempfindlichen Schicht wird entwickelt,wobei die Merkmale a, rf und e den Oberbegriff und die Merkmale b und c den kennzeichnenden Teil bilden.
- 2. Verfahren nach AnsprucU 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hilfsoaske (16, 17, 18) nach der Entwicklung des Bildmusters er ^ernt wird.
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