DE2103308A1

DE2103308A1 - Verfahren zum Herstellen eines Kathodenstrahlrohren Bildschirms

Info

Publication number: DE2103308A1
Application number: DE19712103308
Authority: DE
Inventors: Edith Ellen Lancaster Pa Mayaud (V St A )
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Corp
Priority date: 1970-01-30
Filing date: 1971-01-25
Publication date: 1971-08-05
Also published as: JPS49747B1; GB1311372A; US3661580A; FR2077017A5

Description

7132-70/Kö/S
RCA Oocket So.:
Convention Date:
January 30, 1070

RCA Corporation, New York, N.Y,, V.St.A.

Verfahren zum Herstellen eines Kathodenstrahlröhren-Bildschirms

Die Erfindung; betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Kathodenstrahlröhren-Bildschirms mit einem Mosaikmuster von Leuchtstoffelementen, wobei auf der Oberfläche der Frontplatte der Röhre eine lichtabsorbierende Matrizenschicht mit einem Muster, das das Negativ de-. Mosaikmusters ist, angebracht und durch Beschichten derjenigen Oberfläche der Frontplatte, die nicht von der Matrizenschicht bedeckt ist, mit Leuchtstoffmaterial das Mosaikmuster der Leuchtstoffelemente gebildet wird.

Es ist eine Farbfernsehbildröhre bekannt (USA-Patentschrift 3 14^ 308), die eine lichtabsorbierende Matrize als Bestandteil des Bildschirms aufweist und bei der im dichten Abstand von der Innenfläche der den Bildschirm tragenden gläsernen Frontplatte eine lochmaske (auch Vielloch- oder Schattenmaske genannt) mit einer reeelmäli Igen Anordnung von Löchern oder Öffnungen angeordnet ist. Auf der Innenfläche der Frontplatte befindet sich eine licht absorbierende Schicht (die erwähnte Matrize) mit einer regelmäßigen Anordnung von löchern oder öffnungen, die mit Leuchtstoff gefüllt sind. Jedem Loch der Lochmaske Ist ein fripel von kleineren Matrizen Löchern, deren jedes mit einem Leuchtstoff anderer Farbemi snion Tefüllt ist, zugeordnet.

Es wurde bereits vorgeschlagen, die lichtabsorbierende

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Matrize auf photographischem Wege herzusteilen, wobei durch die als photogrraphisehe Schablone dienende lochmaske hindurch beLichr-e't wirft. T'a die Matrizenlocher kleiner sind als die MaskenLöcher, vandelt man das photograpiiische Verfahren ab, indem man die Belichtung und/oder die Entwicklung der Matrize so verändert, daIi sich die gewünschte Größenverringerung ergibt. Ein derart ir¹" abcewandeltes Verfahren ist jedoch schwierig zu kontrollieren und 'oder hinsichtlich des Ausmaßes der erzielbaren f.rößenverri ngerunrr zu beschränkt.

Der Erfindung: liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzuheben, bei dem gegenüber den Löchern der Lochmaske kleinere Matrizenlöcher auf besser kontrollierbare Weise und mit weniger Einschränkung hinsichtlich des Ausmaßes der erzielbaren Größen verringerung· erhalten werden können.

Zur Lösung" dieser Aufgabe ist bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß vorgesehen, daß zunächst auf der Frontplatte der Röhre auf photopraphischem Wege eine lichtundurchlässige Schablone mit dem Mosaikmuster entsprechenden opaken Maskierbereichen und durchbrochenen Bereichen zwischen diesen angebracht wird; daß die Schablonenoberfläche und die nicht von den Maskierbereichen der Schablone bedeckten Bereiche der Frontplatte mit photoempfindlichem Material beschichtet werden; daß die photoempfindliche Schicht durch die Frontplatte und die durchbrochenen Bereiche der Schablone hindurch belichtet wird, wobei das durch die Schablone hindurchtretende Licht so eestreut wird, daß die durch die Randteile der Maskierbereiche der Schablone gegen die Lichtquelle abgedeckten Teile der photoempf indlichen Schicht belichtet werden; und daß durch Entwickeln der photoempf indlichen Schicht deren unbeliebtere Teile entfernt werden, derart, daß die zurückbleibenden belichteten Sch icht te ii e ein Negativ des Mosaikmusters mit Löchern in der Schicht, die kleiner sind aLs die entsprechenden Maskierfu-reiche der HcJiablone, bilden.

In den Zeichnungen zeigen:

Figur 1 bis t> fragmentarische Schnittdarstellungen eines

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Teils der Frontplatte einer Kathodenstrahlröhre mit, Veranschaulichung verschiedener Yerfahrensstufen bei der Herstellung eines Bildschirmes gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;

Fipnr 7 und S fragmentarische SchnJttdarste]lunpen einer Front platte mit Veranschaulichum? zweier alternativer Ausführung^ formen des erfindunpsgemäßen Verfahrens;

Ficur ■> und 10 fragmentarische Schnittdarstelluniren einer Frontplatte mit Veranschaulichung einer anderen Methode, die Matrize 1ichtabsorbierend zu machen.

Beispiel 1

ti^ur 1 bis r veranschaulichen einige Schritte einer Ausführunesform des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Herstellen eines Bildschirms mit einer lichtabsorbierenden Matrize mit einer regelmäßigen Anordnung von löchern oder öffnungen, die mit leuchtstoff gefüllt sind, und zwar für eine I ochmasken-Farbfernsehbildröhre. Figur 1 zeigt, ein Stück der Röhren-Frontplatte 21, auf der eine Schablone in Form einer regelmäßigen Anordnung von opaken (lichtundurchlässigen) Bereichen oder Elementen 23R, 2 3G und 23B angebracht ist. Die Schablone kann auf folgende Weise hergestellt werden: Die Innenfläche 25 der Frontplatte 21 wird gesäubert, mit einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt von 3 Gewichtsprozent USP-Gelatine und 1 Gewichtsprozent neutralisiertem Ammoniumbichromat als Photosensibilisator beschichtet und dann getrocknet.

Die zur Frontplatte 21 gehörige lochmaske wird auf ihre Trägerstifte aufgesetzt, und die Anordnung wird sodann auf einem ersten Lichtgehäuse angeordnet, wo der Belag von einer an einer ersten Stelle angeordneten kleinflächigen Lichtquelle durch die Lochmaske hindurch belichtet wird, so daß eine Gruppe von belichteten Flächenbereichen 23R für den rotemittierenden Leuchtstoff entsteht. Sodann wird die Frontplatte 21 mit der Lochmaske auf einem zweiten Lichtgehäuse angeordnet, wo durch Belichten von einer an einer zweiten Stelle angeordneten kleinflächigen Lichtquelle durch die Lochmaske hindurch eine zweite Gruppe von belichteten Flächenbereichen 23G für den grünemittierenden Leuchtstoff

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gebildet wird. Die gleichen Schritte werden dann in eine» dritten ttthtfhinM* vorgenommen, wobei die kleiiifläehige Lichtquelle «n einer dritten Stelle angeordnet i*t, *o d*· *im» dritte Gruppe von belichteten Flächenber#ieh«tt Ϊ3Β für «left bleuemittierenden Leuchtstoff gebildet wird. Sei feine» *ypi»chen V*rf»|iren wird eine Lochmaske mit eine« Lochdarfchmesaer von ungefähr 0,39 mm (15,5 Mil) attf ein Lichtgehlttse Alt einer 1000 Watt-BHG-Quecksilberdampflampe in eine« Lichtkasten «it eine« Lichtrohr oder "Kollimator*, der In einer die kleinflächiee Lichtquelle bildenden Spitze alt eine« Durchmesser von 3,8 mm {150 Mil) endet, aufgesetzt. Durch 10 Minuten langes Belichten des Belages bei im Abstand τοπ ungefähr 35,6 cm (14 Zoll) von der Lochmaske auf dem Licht gehäuse angeordneter Licht «fuel Ie ergeben sich belichtete Flächenbereiche mit einem Durchmesser von ungefähr 0,42 mm (16,5 Mil).

Die Lochmaske wird jetzt von der Frontplatte 21 entfernt, und die belichtete Gelatineschicht wird mit einer alkoholischen Lösung von Nigrosinschwarz-Farbtftoff, die durch Aufsprühen oder Flüesigbeschichten aufgebracht wird, getränkt und anschließend getrocknet. Die getrocknete und belichtete Schicht wird ungefähr 15 Minuten lang in einem Kaltwasserstro« und anschließend uneefähr 60 Sekunden lang in einem Warmwaseerstrom von 45° C. entwickelt und dann getrocknet. Durch das Wasser werden die unbelichteten Teile der Gelatineschicht weggelöst, so daß die getrockneten belichteten Bereiche 23R, 23G und 23B, die die opaken Bereiche oder Flächenelemente der Schablone bilden, zurückbleiben, wie in Figur 1 gezeigt.

Die opaken Bereiche der Schablone und die blanken Oberflächenbereiche 25 der Frontplatte 21 werden nun mit einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt von 15 Gewichtsprozent Manganoxalat, 5 Gewichtsprozent 50-42-Polyvinylalkohol und 0,5 Gewichtsprozent Ammoniumbichromat-Sensibilisator für den Polyvinylalkohol beschichtet. Die Aufschlämmung wird aufgeschleudert und dann getrocknet, so daß eine Schicht 27 au» photοροίymerem Material entsteht, wie in Figur 2 gezeigt.

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Tile Frontplatte wird jetzt gegenüber einer Reihe von UV-emittierenden lampen angeordnet, und zwar so, daß die Schablone und der Belag sich auf der von den Lampen abgewandten Seite der Frontplatte 21 befinden. Durch Flutlicht von den Lampen (angedeutet durch die Pfeile 2^ in Figur 3) werden durch die Frontplatte und die klaren Bereiche der Schablone die von dieser nicht bedeckten oder maskierten Teile der Schicht 27 belichtet. Eine Belichtung von ungefähr 15 Minuten mit drei 40 Watt-Fluoreszenzlampen, die im Abstand von ungefähr 20,3 cm (8 Zoll) von der Frontplatte angeordnet sind, hat sich als zufriedenstellend erwiesen. Bas Manganoxalat xrt ^lÄer Schicht 27 hat rosaweiße Farbe, und seine in der Schicht 27 'vorhandenen Teilchen streuen das Licht in der Schicht, so daß Teile der Schicht 27 auch ein kurzes Stück hinter den opaken Bereichen 23R, 23G und 23B belichtet werden. Und zwar handelt es sich dabei um diejenigen Teile der Schicht 27, die durch die Randzonen der opaken Bereiche 23R, 23G und 23B maskiert sind. Fei einer typischen Belichtung wird die Schicht 27 innenwärts hinter diesen opaken Randzonen soweit belichtet, daß hinter den opaken Bereichen 23R, 23G und 23B unbelichtete Bereiche mit einem Durchmesser von ungefähr 0,33 mm (13 Mil) verbleiben.

Die Schicht 27 wirddadurch entwickelt, daß entionisiertes

2 Wasser mit einem Leitungsdruck von ungefähr 1,75 kg/cm ungefähr 1 bis 2 Minuten lang aufgesprüht wird, bis die unbelichteten Schichtbereiche vollständig weggelöst und frei von Manganoxalat sind. Die belichteten Bereiche der Schicht 27 bleiben dabei erhalten und überlappen die opaken Bereiche der Schablone, wie in Figur 4 gezeigt. Die Anordnung kann jetzt (obwohl dies nicht vorzuziehen ist) mit verdünntem wäßrigen Ammoniumhydroxyd gewaschen werden, um das Manganoxalat teilweise oder ganz in schwarzes Manganoxyd überzuführen.

Nunmehr werden in der für Lochmaskenröhren üblichen Weise *uf photographischem Wege rotemittierende Leuchtstoffpunkte 3IR, grünemittierende Leuchtstoffpunkte 3IG und blauemittierende Leueht stoffpunkte 3IB aufgebracht, so daß die in Figur 5 gezeigte Anordnung entsteht. Typischerweise wird dabei die Matrize mit grünemittierenden Leuchtstoffteilchen in einem photopolymeren Binde-

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mittel beschichtet, der Belag in einem Lichtgehäuse durch die Lochmaske belichtet und der belichtete Belag entwickelt, so özL·- <iie grünemittierenden Leuchtstoff punkte 3 IG entstehen. Dann vird cas Verfahren mit blauemittierendem Leuchtstoff und danach mit rotemittierendem Leuchtstoff wiederholt, so daß die tlsuemittierer^ den Leuchtstoffpunkte 3IB und die rotemittierenden Leuchtstoffpunkte 31R erzeugt werden. Als nächstes wird die Anordnung be legt und auf die Anordnung metallisches Aluminium aufgedampft.

Schließlich wird die Anordnung in Luft gebrannt (im allgemeinen bei einer Temperatur von ungefähr 400 bis 450 C), um flüchtige Stoffe zu entfernen. Während dieses Brennens verdampft zusammen mit anderen organischen Stoffen die Schablone mit etwsi gem darin enthaltenen Farbstoff, und etwaiges vorhandenes Wanpanoxalat wird in schwarzes Mangsnoxyd übergeführt. Der in Figur 6 gezeigte fertige Bildschirm besteht aus einer lichtsbsorbierenden Matrize 27' mit einer regelmäßigen Anordnung von mit Leuchtstoffen 31R¹, 31G' und 31B¹ gefüllten Löchern und einer Schicht aus spiegelndem Aluminium 32 über den Leuchtstoffen. Die Frontplette kann jetzt in eine Kathodenstrahlröhre, beispielsweise eine ^rarb~ fernsehbildröhre, nach bekannten Verfahrenstechniken eingebaut werden.

Beispiel 2

Das Verfahren ist das gleiche wie in Beispiel 1, außer daß die Schablone auf folgende Weise (mit Bezug auf Figur 1 und 2) hergestellt wird: Die Innenfläche 2 5 der Frontplatte 21 wird gesäubert und mit einer wässrigen Lösung mit einem Gehalt von 3 Gewichtsprozent 50-42-Polyvinylalkohol und 0,5 Gewichtsprozent Natriumbichromat als Photosensibilisator beschichtet und dann getrocknet. Die zur Frontplatte 21 gehörige Lochmaske wird auf ihre Halteetifte aufgesetzt und dann dreimal von rückwärts belichtet, wie in Beispiel 1 beschrieben. Die Lochmaske wird jetzt von der· Frontplatte 21 weggenommen, und die belichtete Polyvinylalkoholschicht wird ungefähr 15 Minuten lang in einem Warmwasser st i-om entwickelt. Dadurch werden die unbelichteten Schicht+eile weggewasehen, so daß nur die belichteten Teile zurückbleiben. Nunmehr

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werden die verbliebenen belichteten Schichtteile gefärbt, to ^:«ii sie opak werden. Zu diese· Zweck tritt »an «ine «!frige LUsüfic ■it eine* Gehalt von «ungefähr $ % Higroeinechwart-FarBetoff r.B. durch Aufschließen *uf die Schicht auf und IMet «le trockufen. Auf den Farbstoff streicht «an eine wäßrige Lβsung »it eine» Gehalt von i Gewichtsprozent eines Schwermetallsalze», beispielsweise Bariu»azetat, auf, u« den Farbstoff auf den belichteten Teilen der Schicht zu hlrten oderunlöslich zu »achen. Sodann wird die gesamte Oberfläche ungefähr 1!> Minuten lang in eine» War»wa*serstrom und anschließend ungefähr 1 Minute lang in eine» Waäserstro» von 45° C* gewaschen und dann getrocknet. Der unlöslich ge»achte Farbstoff wird dabei in und auf den verbliebenen belichteten Teilen der Schicht absorbiert und in den Zwischenbereichen weggewaechen» Diese Verfahrensweise ergibt eine Schablone »it besserer Farbstoffverteilung, besserer Punktschärfe und besserer Opazität als die nach de» Verfahren nach Beispiel 1 hergestellte Schablone. Die Verfahrensschritte zu» Herstellen der Matrize und der Leuchtstoff elemente sind die gleichen wie in Beispiel 1.

Die Schablone kann an sich nach eine» beliebigen zweck»!ßigen Verfahren hergestellt werden* Kach den vorstehenden Beispielen erfolgt die Herstellung in der Weise, daß durch Belichten und Entwickein einer photopoljreeren Schicht ein Poly»erenbild erzeugt wird, da· dann durch Tränken «it eine» Farbstoff lichtundurchlässig gemacht wird. Anstelle von Gelatine können beliebige negativ wirkende Photopolymere, beispielsweise Polyvinylalkohol oder Fischlei«, verwendet werden. Zu» Tränken des Polyeerenbildes können beliebige UV-absorbierende Farbstoffe verwendet werden* Allgemein kann ein beliebiges Material, welches das Polyeerenbild nichtdurchlässig (absorbierend oder reflektierend) »acht, verwendet werden, beispielsweise Teilchen von Kohle, Metall oder eine» Material wie Silberchlorid, das später in ein opakes Material Übergeführt werden kann. Stattdessen kann »an die Schablone auch in der Welse herstellen, daß »an zuerst eine opake Schicht, beispielsweise aus »etallische» Silber, auf die Oberfläche der Frontplatte aufbringt und darüber eilte Schicht aus licht e»pfindl lohe» Ätz Schutzmittel anbringt. Die Ätischut ζ schicht wird bildsJliig belichtet, und dann werden die nicht voa Ätzschutz»ittel bedeckten Bereiche

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der opaken Schicht z.B. mit Säure oder anderen geeigneten chemischen Reagenzien weggelöst oder weggewaschen, so daß eine Schablo rie aus opaken Flächenbereichen zurückbleibt. Man kann die Schablo ne auch aus einer Halogensilberemulsionsschicht bilden, die auf übliche Weise belichtet und entwickelt wird, so daß opake Flächen bereiche entstehen.

Das Belichten und Entwickeln der lichtstreuenden Schicht 27 wurde oben an Hand der Figuren 3 und 4 beschrieben. Wenn die lichtstreuende Schicht 27 aus einem Material wie Manganoxalat oder Mangantartrat besteht, das beim Brennen in ein permanent lichtabsorbierendes Material wie Manganoxyd übergeführt wird, ist der Entwicklungsschritt ausreichend. Andernfalls muß man das gedruckte Muster der Schicht mit einem permanent lichtundurchlässigen Material schwärzen, um die lichtabsorbierende Matrize 27' zu erhalten.

Für die photopolymere Schicht 27 kann man eine große Zahl von organischen oder anorganischen lichtstreuenden Materialien verwenden. Beispiele sind Titandioxyd, Acrylpulver und Aluminiumoxyd. Stattdessen kann man auch ein organisches oder anorganisches lichtstreuendes Material verwenden und die flutbelichtete Schicht nachträglich mit einem permanent schwärzenden Material wie Graphit schwärzen. Auch kann man ein permanent schwärzendes Material wie Kanalruß oder Graphit unmittelbar in die photopolymere Schicht 27 einbauen.

Figur 7 veranschaulicht eine andere Ausführungsform des Verfahrens zum Erzielen einer Lichtstreuung. In Figur 7 (die mit Figur 3 zu vergleichen ist) wird die Schablone mit einer klaren photopolymeren Schicht 27a beschichtet, die mit einer lichtstreuenden Schicht 33 aus z.B. Siliciumdioxydteilchen mit oder ohne Bindemittel überschichtet wird. Bei Flutbelichtung durch die Frontplatte 21 und die Schablone 23 tritt das Licht durch die Schicht 27a hindurch und wird vom Überbelag 33 rückgestreut, so daß die Schicht hinter den opaken Bereichen 23R, 23G und 23B belichtet wird. Stattdessen kann man auch, wie in Figur 8 gezeigt, eine reflektierende Fläche, beispielsweise ein Papierblatt 34

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hinter einer klaren photopolymeren Schicht 27a anbringen, so daß das durch die Schablone und die Schicht hindurchtretende Licht gestreut wird. Die Ausführungsformen nach Figur 7 und 8 haben den Vorteil, daß eine klare Zwischenschicht vorhanden ist, die eine etwas größere Eindringtiefe des gestreuten Lichtes hinter den opaken Bereichen der Schablone gestattet.

In den Schichten 27 und 27a können beliebige negativ wirkende Photopolymere verwendet werden. Vorzugsweise verwendet man mit einem Bichromat sensibilisierten Polyvinylalkohol. Auch sensibilisierte Gelatine, sensibilisierter Leim oder Schellack sind geeignet. Die Belichtung hängt vom jeweils verwendeten photopolyme- " ren Material sowie von den Erfordernissen des gegebenen Anwendungs falles ab. Das Gleiche gilt für das Entwickeln der belichteten Schicht 27. Wenn als Schablonenmaterial ein flüchtiger Farbstoff oder ein anderer flüchtiger organischer Stoff verwendet wird, kann das Freimachen der Löcher während des Ausbrennens der Frontplatte erfolgen.

Das Entwickeln der Schicht kann mit einem Löslichmacher für den schwärzenden Farbstoff geschehen. Beispielsweise kann man eine Metalle oder ihre Salze lösende Säure verwenden, wenn die Schablone aus Metallsalzen besteht. Wenn die Schablone aus einem polymeren Material besteht, kann man die Schicht auch mit einem Reagens, das das Polymere angreift, entwickeln. Wenn beispielsweise Gelatine in der Schablone und Schellack für das Drucken der lichtabsorbierenden Matrize verwendet wird, kann man wässriges Wasserstoffperoxyd zum Ausziehen der Gelatine und zum Entwickeln der Matrize verwenden. Wenn Gelatine in der Schablone und PoIymethylalkohol für die Herstellung der Matrize verwendet wird, kann man die Matrize mit einem Enzym wie Gelatinase entwickeln.

Das lichtstreuende Material kann von solcher Beschaffenheit sein, daß es beim Erhitzen die verbliebenen Schichtbereiche 27 opak macht, so daß dadurch die gewünschte lichtabsorbierende Eigenschaft der Matrize hervorgerufen wird. Hierzu kann man eine Reihe von verschiedenen Metallsalzen verwenden. Ein solches Material kann auch in die Streuschicht 33 in Figur 7 eingebaut werden.

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Bei manchen Ausführungsbeispielen des Verfahrens wird das Material, das die verbliebenen Schichtteile schwärzt oder anderweitig opak macht, nach der Belichtung eingebracht, wie es bei der Anordnung nach Figur 8 nötig wäre. Zu diesem Zweck kann man die belichtete Schicht 27a mit einer Schicht .3 5 aus opakem Material wie Graphit, Mangandioxyd oder Eisenoxyd in einem Bindemittel überschichten, wie in Figur 9 gezeigt. Beim Entwickeln der Schicht 27a bleibt das auf den verbliebenen Schichtbereichen aufliegende opake Material erhalten, während der restliche Teil der Überschichtung entfernt wird, so daß sich die in Figur 10 gezeigte Struktur ergibt.

Nachdem die Behandlung der lichtabsorbierenden Matrize nach einer der genannten Ausführungsformen beendet ist, wird die Anordnung mit Wasser gespült, ungefähr vier Minuten lang mit Hilfe von Infrarotwärme getrocknet und der gewünschte Leuchtstoff nach irgen_d einem bekannten photographischen Verfahren unter Verwendung der gleichen Lochmaske, die für das Herstellen der Vatrize verwendet wurde, aufgebracht.

Die Leuchtstoffpunkte im fertigen Bildschirm sind etwas größer als die Löcher in der lichtabsorbierenden Matrize und auch größer als die Löcher der Lochmaske. Figur 6 zeigt die fertige Anordnung mit den kleineren Löchern in der lichtabsorbierenden Matrize und den größeren Leuchtstoffpunkten .31R¹, 31G' und 31B¹ , die im wesent liehen konzentrisch dazu liegen. Ein geeignetes Verfahren zum Aufbringen der Leuchtstoffpunkte 31R, 31G und 31B (Figur 5) ist in der Arbeit "Color-Television Screening by the Slurry Process" von T.A. Saulnier Jr. in "Electrochemical Technology", 4, 27-31 (1966), beschrieben.

Auf die Leuchtstoffpunkte und die lichtabsorbierende Matrize des Leuchtschirms kann jetzt in üblicher Weise eine reflektierende Metallschicht aufgebracht werden. Die Bildschirmanordnung wird dann bei Temperaturen von ungefähr 400 bis 450° C. gebrannt und anschließend zusammen mit der Lochmaske nach irgendeinem bekannten Verfahren in eine Kathodenstrahlröhre eingebaut. Ein geeignetes Verfahren zum Belegen und Metallisieren des Bildschirmes ist in der Arbeit "Emulsion Filming with Color Television Screens" von

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T.A. Saulnier Jr. in "Electrochemical Technology", 4, 31-34 (1Q66), beschrieben.

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Claims

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- 12 Patentansprüche

Verfahren zum Herstellen eines Kathodenstrahlröhren-Bildschirms mit einem Mosaikmuster von Leuchtstoffelementen, wobei auf der Oberfläche der Frontplatte der Röhre eine lichtabsorbierende Matrizenschicht mit einem Muster, das das Negativ des Mosaik musters ist, angebracht und durch Beschichten derjenigen Oberfläche der Frontplatte, die nicht von der Matrizenschicht bedeckt ist, mit Leuchtstoffmaterial das Mosaikmuster der Leuchtstoffelemente gebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst auf der Frontplatte (21) der Röhre auf photographischem Wege eine lichtundurchlässige Schablone (23R, 23G, 23B) mit dem Mosaikmuster entsprechenden opaken Maskierbereichen und durchbrochenen Bereichen zwischen diesen angebracht wirdj daß die Schablonenoberfläche und die nicht von den Maskierbereichen der Schablone bedeckten Bereiche (25) der Frontplatte mit photoempfind lichen Material beschichtet werdenj daß die photoempfindliche Schicht (27) durch die Frontplatte und die durchbrochenen Bereiche der Schablone hindurch belichtet wird, wobei das durch die Schablone hindurchtretende Licht (29) so gestreut wird, daß die durch die Randteile der Maekierbereiche der Schablone gegen die Lichtquelle abgedeckten Teile der photoempfindlichen Schicht belichtet werdenj und daß durch Entwickeln der photoempfindlichen Schicht deren unbelichtete Teile entfernt werden, derart, daß die zurückbleibenden belichteten Schichtteile ein Negativ des Mosaikmustere mit Löchern in der Schicht, die kleiner sind als die entsprechenden Maskierbereiche der Schablone, bilden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Anbringen der Schablone die Oberfläche der Frontplatte «dt einer Schicht aus einem polymeren Material, dessen Löslichkeit in einem Lösungsmittel bei Belichtung verringert wird, beechichtet, Teile der Schicht aus polymerem Material mit einem dem Mosaikmuster entsprechenden Lichtmuster belichtet und dmrch Entwickeln der belichteten Schicht deren unbelichtete Teile unter Zurückbleiben der belichteten Teile (23R, 23G, 23B) entfernt

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werden; und daß die Schicht aus polymerem Material nach dem Belichten und vor oder nach dem Entwickeln der belichteten Schicht mit einem opaken Farbstoff getränkt wird, derart, daß die Schablone opak wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß zum Anbringen der Schablone zunächst die Oberfläche der Frontplatte mit einer Schicht aus opakem Material beschichtet, dann die Schicht au^bpakem Material mit einer Schicht aus polymerem Material, dessen Löslichkeit in einem Lösungsmittel bei Belichtung verringert wird, über schicht et. Teile der Schicht aus polymerem Material mit einem dem Mosaikmuster entsprechenden Lichtmuster belichtet, durch Entwickeln der belichteten Schicht deren unbeliebtste Teile entfernt und dadurch die entsprechenden Bereiche der- Schicht aus opakem Material freigelegt und schließlich die freigelegter. Bereiche der Schicht aus opakem Material entfernt v/erden,
4. Verfahren :r.eh Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als opakes Material Silber verwendet wird und die unbedeckten Bereiche der opaken Schicht durch Waschen mit einem chemischen Reage.is entfernt werden.
5. Verfahren nach Anspruch J., dadurch gekennzeichnet, daß zum Streuen des belichtenden Lichtes lichtstreuende Teilchen in die photoerapfindliche Schicht eingebaut werden,
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Streuen des belichtenden Lichtes eine Schicht aus 1 ichbstreueridem Material (33, 34) auf die photoempfindliche Schicht aufgebracht wird,
7. Verfahrein nach Anspruch ü, dadurch g e k e η η-zeichnet, daß die lichtstreuende Schicht (^3) Sillciumdioxydteliehen enthält.

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8, Verfahren, nach Anspruch ö, dadurch g e k e η nzeichnet » dai; die licht streuende Schicht (34) aus Papier besteht,
9* Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem die photoempfindliche Schicht- ein wasserlösliches organisches polymeresMaterial, das beim Srhi;--ex: ver iniiipft, und ein lichtstfeuendes anorganisches SaIz₁ das sicii bf-:,i: ii-riiitfen zn einer dunkelfarbigen lichtabsorbierenden Vex· bindung «ersetzt, enthält, dadurch gekenn s e i c "> η e. b f daß nach dem Entwickeln der photoempfindliche;: Schi.üh';. dia verbliebenen belichteten Schichtbereiche erhitzt werden, riera, ι , da.ti das Schicht material verdampft und das anorganische; >~al;i in sin-? dunkelfarbige lichtabsorbierende Verbindung ü.bi?rgefn.hrt wird,
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g 3 k e η nzeichnebj daß die photoemptiadliche Schicht vor dem Entwickeln n?.it einer lichtabaorbierenden schwarzen Schicht beschichtet wird, woh-3i die die unbelichteten Teile der photoempfindlichen Schicht bedeckenden Teile der schwarzen Schicht beim Entwickeln entfernt werden»

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Le e rs e i t.e