DE3924605C2 - Rasterelektronenmikroskop - Google Patents
RasterelektronenmikroskopInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Rasterelektronenmikroskop
gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, das zur
räumlichen Darstellung einer Probe geeignet ist. Ein Rasterelektronen
mikroskop dieser Art ist aus der US-PS 3 714 422 bekannt.
Bei Rasterelektronenmikroskopen wird der von einer Elektro
nenkanone ausgesandte Elektronenstrahl durch eine Objektiv
linse auf eine Probe fokussiert. Die Probe wird durch den
fokussierten Elektronenstrahl zweidimensional abgetastet,
und als Ergebnis der Abtastung gibt die Probe charakte
ristische Informationssignale ab. Zur Erzeugung dieser In
formationssignale können Sekundärelektronen, reflektierte
Elektronen, absorbierte Elektronen, Röntgenstrahlen und die
Kathodenlumineszenz verwendet werden. Die Informationssi
gnale werden erfaßt und zum Zwecke der Helligkeitsmodulation
einer Bildröhre (Kathodenstrahlröhre) zugeführt. Der Bild
schirm der Bildröhre wird dabei durch Kathodenstrahlen
(einem Elektronenstrahl) synchron zu der zweidimensionalen
Abtastung der Probe abgetastet. Damit wird ein Abbild des
abgetasteten Bereiches der Probe auf der Basis der von der
Probe erzeugten Informationssignale auf dem Bildschirm der
Bildröhre dargestellt.
Häufig ist eine räumliche Darstellung der Abbildung der
Probe wünschenswert. Um eine solche räumliche Darstellung zu
erhalten, ist es erforderlich, den Elektronenstrahl unter
einem bestimmten Einfallswinkel auf die Probe zu richten. Es
sind zwei Methoden bekannt, den Elektronenstrahl unter einem
bestimmten Winkel auf die Probe zu richten. Nach der einen
Methode bleibt die Richtung des Elektronenstrahles fest,
während die Probe mechanisch geneigt wird. Nach der anderen
Methode bleibt die Probe fest, während der Elektronenstrahl
abgelenkt wird. Wenn jedoch bei der ersten Methode die Probe
ziemlich groß ist, ist eine entsprechend große Vorrichtung
zum Neigen der Probe erforderlich, und der Abstand zwischen
der Objektivlinse und der Probe, das heißt der Objektab
stand, wird sehr groß, wenn die Probe unter einem größeren
Winkel geneigt wird. Bei großen Proben wird daher die zweite
Methode bevorzugt.
Nach JP-A 58-147948 wird ein paralleler Elektronenstrahl
auf eine Stelle in der Hauptebene der Objektivlinse des Mi
kroskopes gerichtet, die außerhalb der Achse der Objektiv
linse liegt. Im Ergebnis wird dadurch der parallele Elektro
nenstrahl durch die Objektivlinse auf einen gewünschten
Punkt auf der Probe fokussiert, wobei er unter einem be
stimmten Winkel auf diesen Punkt einfällt. Um eine zweidi
mensionale Abtastung der Probe durch den fokussierten Elek
tronenstrahl für die Abbildung der Probe zu erhalten, wird
angegeben, daß der Ablenk-Drehpunkt für den zur Abta
stung der Probe verwendeten Elektronenstrahl an einer der
folgenden Stellen liegt: (1) An einer Stelle, an der der
Ablenk-Drehpunkt für die Abtastung mit dem Drehpunkt für die
Ablenkung des parallelen Elektronenstrahles auf die Stelle
außerhalb der Achse in der Hauptebene der Objektivlinse
zusammenfällt; oder (2) an einer Stelle in der Hauptebene
der Objektivlinse; oder (3) an einer Stelle zwischen der
Objektivlinse und der Probe.
Im Falle (1) bewegt sich jedoch während der
Abtastung der Probe der parallele Elektronenstrahl in der
Hauptebene der Objektivlinse, mit dem Ergebnis einer erhöh
ten Verzerrung der Abbildung. Um diese Abbildungsverzerrung
möglichst klein zu halten, ist es erforderlich, die Öffnung
der Objektivlinse zu vergrößern. Im Falle (2)
muß die Ablenkeinrichtung zur Abtastung der Probe innerhalb
der Objektivlinse angeordnet werden. Es ist daher auch hier
erforderlich, die Öffnung der Objektivlinse entsprechend zu
vergrößern. Im Falle (3) muß die Ablenkein
richtung zum Abtasten der Probe zwischen der Probe und der
Objektivlinse angeordnet werden. Es ist daher erforderlich,
den Objektabstand entsprechend zu vergrößern. Wenn der Ein
fallswinkel des Elektronenstrahles auf die Probe festgehal
ten werden soll und dabei der Objektabstand erhöht wird, muß
ebenfalls die Öffnung der Objektivlinse entsprechend ver
größert werden.
Die Tatsache, daß die Objektivlinse eine große Öffnung hat,
hat zur Folge, daß die Objektivlinse einen großen Brenn
punktabstand aufweist. Damit steigt jedoch der Koeffizient
Cc für die chromatische Aberration an, und die Auflösung
wird drastisch reduziert. Die Auflösung nimmt nämlich pro
portional zur Wurzel (Cc1/2) des Koeffizienten Cc der chro
matischen Aberration ab. Das gleiche gilt, wenn der Objekt
abstand vergrößert wird, da damit ebenfalls der Brennpunkt
abstand der Objektivlinse ansteigt.
Bei einem Rasterelektronenmikroskop ist es wünschenswert,
den auf die Probe gerichteten Strahlstrom oder den Strahl
reduktionsfaktor des optischen Systems für den Elektronen
strahl ändern zu können. Zu diesem Zweck ist es üblich, den
Elektronenstrahl wenigstens einmal auf eine Stelle zwischen
der Elektronenkanone und der Objektivlinse zu fokussieren.
Um einen parallelen Elektronenstrahl auf die Objektivlinse
richten zu können, ist es daher erforderlich, dann zusätz
lich eine Linse vorzusehen, die den fokussierten Elektronen
strahl in einen parallelen Elektronenstrahl umwandelt.
Bei Rasterelektronenmikroskopen ist es
bekannt, (vergl. die US-PS 3 702 398, Fig. 2)
den Drehpunkt der Kastenablenkung in die Haupt
ebene der Objektivlinse zu legen. Hierbei ist jedoch keine
zweite Ablenkvorrichtung zur Änderung des Einfallwinkels vorgesehen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Rasterelektro
nenmikroskop der eingangs genannten Art zu schaffen,
mit dem sich bei möglichst geringen
räumlichen Abmessungen hoch-aufgelöste räumliche Abbildungen
einer Probe erhalten lassen.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Anspruch 1
gekennzeichnet. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus
den Unteransprüchen.
Ein Ausführungsbeispiel für das erfindungsgemäße Rasterelek
tronenmikroskop wird im folgenden anhand der Zeichnung er
läutert. Es zeigen:
Fig. 1 in einem Blockschaltbild schematisch den Aufbau des
Ausführungsbeispiels für das Rasterelektronenmikro
skop;
Fig. 2 das optische System für den Elektronenstrahl der
Anordnung der Fig. 1, wenn ein Ablenksystem zum
Abtasten der Probe aktiviert ist;
Fig. 3 das optische System für den Elektronenstrahl der
Anordnung der Fig. 1, wenn ein Ablenksystem zur
Ablenkung der optischen Achse aktiviert ist; und
Fig. 4 das zusammengesetzte optische System für den Elektro
nenstrahl, wenn sowohl das Ablenksystem zur Abtastung
der Probe als auch das Ablenksystem zur Ablenkung der
optischen Achse aktiviert sind.
Anhand der Fig. 1 wird nun ein Ausführungsbeispiel des Raster
elektronenmikroskopes näher erläutert. Wie aus der Fig. 1
ersichtlich ist, versorgt eine Elektronenkanonen-Stromver
sorgung 1 eine Elektronenkanone 2 mit Energie. Die Elektro
nenkanone 2 sendet einen Elektronenstrahl aus. Der von der
Elektronenkanone abgegebene Elektronenstrahl wird mittels
einer Kombination aus einem Fokussierlinsensystem 4, das
durch eine Linsen-Stromversorgung 3 mit Energie versorgt
wird, und einer Objektivlinse 5 auf eine Probe 6 fokussiert.
Das heißt, daß an einer Position 7 durch das Fokussierlin
sensystem 4 eine Brennpunktabbildung der Elektronenquelle
der Elektronenkanone 2 ausgebildet wird, und daß diese Ab
bildung durch die Objektivlinse 5 auf die Probe 6 fokussiert
wird. Die Position 7 stellt damit den Objektpunkt der Objek
tivlinse 5 dar. Nach der Position 7 ist eine Objektivblende
8 angeordnet. Der Elektronenstrahl wird durch diese Objek
tivblende 8 begrenzt. Das Fokussierlinsensystem 4 kann eine
oder zwei und mehr Linsen beinhalten.
Zwischen der Objektivblende 8 und der Probe 6 sind im Ab
stand voneinander eine erste und eine zweite elektromagneti
sche Ablenkeinrichtung 9 und 10 zum Zwecke der Abtastung der
Probe angeordnet. Diese Ablenkeinrichtungen 9 und 10 werden
durch eine Abtast-Stromversorgung 11 und über eine Einstell
vorrichtung 12 für die Vergrößerung mit einem zweidimensio
nalen Abtastsignal versorgt, so daß der Elektronenstrahl
derart zweidimensional abgelenkt wird, daß sich der Dreh
punkt der Ablenkung in der Hauptebene 5a der Objektivlinse 5
befindet, wie es in der Fig. 2 gezeigt ist. Die Probe 6 wird
daher von dem fokussierten Elektronenstrahl zwischen einer
Position, die in der Fig. 2 mit durchgezogenen Linien ge
zeigt ist, und einer weiteren Position, die durch eine ge
strichelte Linie gezeigt ist, zweidimensional abgetastet.
Als Ergebnis dieser Abtastung gibt die Probe 6 charakteri
stische Informationssignale ab. Diese Informationssignale
werden im allgemeinen durch Sekundärelektronen, reflektierte
Elektronen, absorbierte Elektronen, Röntgenstrahlen oder die
Kathodenlumineszenz dargestellt. Bei dem in der Fig. 1 ge
zeigten Ausführungsbeispiel werden zur Erzeugung der Informa
tionssignale die Sekundärelektronen verwendet, es kann je
doch auch jede andere Art von Signalen verwendet werden.
Gemäß Fig. 1 erfaßt ein Detektor 13 diese Sekundärelektro
nen, und das Ausgangssignal des Detektors 13 wird über einen
Videoverstärker 14 und einen Schalter 15 zu einer Bildröhre
16 oder 17 geführt, die zur Helligkeitsmodulation verwendet
werden. Obwohl in der Fig. 1 nicht gezeigt, wird das zweidi
mensionale Abtastsignal aus der Abtast-Stromversorgung 11
ebenfalls den Bildröhren 16 und 17 zugeführt. An der Bild
röhre 16 bzw. 17 wird damit eine Abbildung der Probe 6
erhalten.
Zwischen der Objektivblende 8 und der Probe 6 sind des wei
teren in einem Abstand voneinander erste und zweite elektro
magnetische Ablenkeinrichtungen 18 und 19 zum Zwecke der
Auslenkung der optischen Achse angeordnet. Diese elektroma
gnetischen Ablenkeinrichtungen 18 und 19 befinden sich in
Richtung des Elektronenstrahles jeweils im wesentlichen an
den gleichen Stellen wie die ersten und zweiten Ablenkein
richtungen 9 und 10 zum Abtasten der Probe.
Es ist ferner ein Schalter 20 mit zwei Schaltstellungen R
und L sowie eine Gleichstromversorgungsschaltung 21 mit
veränderbaren Widerständen 21R und 21L vorgesehen. Wenn sich
der Schalter 20 in der Stellung R befindet, wird ein Gleich
stromsignal vom veränderbaren Widerstand 21R in der Gleich
stromversorgungsschaltung 21 einerseits über einen Addierer
22 und einen Verstärker 23 zu der ersten elektromagnetischen
Ablenkeinrichtung 18 und andererseits über den Addierer 22,
einen veränderbaren Widerstand 24 und einen Verstärker 25 zu
der zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtung 19 ge
führt. Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung L befindet,
wird ein Gleichstromsignal vom veränderbaren Widerstand 21L
in der Gleichstromversorgungsschaltung 21 über die gleichen
Wege zu den ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenk
einrichtung 18 und 19 geführt.
Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung R befindet, wird
der Elektronenstrahl durch die erste und zweite elektroma
gnetische Ablenkeinrichtung 18 und 19 in der in der Fig. 3
gezeigten Weise abgelenkt. Das heißt, daß die Position 7
dabei der Drehpunkt für die Ablenkung des Elektronenstrahles
ist, wie es in der Fig. 3 gezeigt ist, und daß der Elektro
nenstrahl unter einem Einfallswinkel +R auf die Probe 6 ein
fällt. Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung L befindet,
wird der Elektronenstrahl ebenfalls bei der Position 7 abge
lenkt, und er fällt daher unter einem Einfallswinkel -R auf
die Probe 6 (in der Fig. 3 nicht gezeigt). Wenn der Schalter
20 zwischen den Stellungen R und L umgeschaltet wird, ist
die Einfallsrichtung des Elektronenstrahles nach der Um
schaltung jeweils entgegengesetzt zu der vor der Umschal
tung, wobei jedoch der Absolutwert R des Einfallswinkels
immer gleich bleibt.
Wenn das Ablenksystem für die Abtastung der Probe durch den
Elektronenstrahl in der in der Fig. 2 gezeigten Weise akti
viert und gleichzeitig das Ablenksystem für die Auslenkung
der optischen Achse des Elektronenstrahles in der in der
Fig. 3 gezeigten Art aktiviert ist, verhält sich der Elek
tronenstrahl wie in der Fig. 4 gezeigt. In der Fig. 4
stellen ausgezogene Linien den Weg des Elektronenstrahles
dar, wenn das Ablenksystem zur Auslenkung der optischen
Achse, das heißt die erste und die zweite elektromagnetische
Ablenkeinrichtung 18 und 19 aktiviert sind, und die gestri
chelten Linien zeigen den Weg des Elektronenstrahles, wenn
das Ablenksystem zur Abtastung der Probe, das heißt die
ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtungen 9
und 10 aktiviert sind.
Wenn sich die Schalter 15 und 20 jeweils in ihrer Position R
befinden, wird eine Abbildung der Probe 6 erhalten und an
der Bildröhre 17 dargestellt, bei der der Elektronenstrahl
unter einem Einfallswinkel +R auf die Probe 6 auftrifft.
Wenn sich die Schalter 15 und 20 in ihren jeweiligen Positi
onen L befinden, wird eine Abbildung der Probe 6 erhalten
und an der Bildröhre 16 dargestellt, bei der der Elektro
nenstrahl unter einem Einfallswinkel -R auf die Probe 6
auftrifft. Unabhängig davon, ob der Einfallswinkel des
Elektronenstrahles auf der Probe 6 gleich +R oder R ist,
bleibt der Auftreffpunkt des Elektronenstrahles auf der
Probe 6 immer gleich. Die an den Bildröhren 16 und 17 dar
gestellten Abbildungen der Probe weisen daher immer das
gleiche Sehfeld auf. Wenn die an den Bildröhren 16 und 17
dargestellten Abbildungen der Probe unter Aufnahme von zwei
Bildern photographiert werden, bilden diese Photographien
daher ein Paar stereoskopischer Bilder, das zur räumlichen
Betrachtung der Probe 6 verwendet werden kann.
Die mechanischen Schalter 15 und 20 können durch jede geeig
nete bekannte elektronische Schaltung ersetzt werden, und
die elektronische Schaltung kann so vorgesehen werden, daß
der Schaltvorgang synchron zu den Synchronisationssignalen
für die zweidimensionale Abbildung aus der Abtast-Stromver
sorgung 11 ausgeführt wird, das heißt synchron zu den X-
Achsen-Abtast-Synchronisationssignalen oder den Y-Achsen-
Abtast-Synchronisationssignalen. Mittels einer solchen
elektronischen Schaltung können die Abbildungen der Probe,
die jeweils mit den Einfallswinkeln +R und -R des Elektro
nenstrahles erhalten werden, gleichzeitig an den Bildröhren
16 und 17 betrachtet werden.
Durch Einstellen der veränderbaren Widerstände 21R und 21L
kann der Einfallswinkel des Elektronenstrahles auf die Probe
6 geändert werden. Über die veränderbaren Widerstände 21R
und 21L werden nämlich die Pegel der zu der ersten bzw. der
zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtung 18 bzw. 19
geführten Gleichspannungssignale geändert, während das
Verhältnis dieser Signale zueinander konstant bleibt.
Ein Schalter 27 verbindet eine Wechselspannungsquelle 28
trennbar mit dem Addierer 22. Wenn der Schalter 27 geschlos
sen ist, wird im Addierer 22 ein Wechselspannungssignal aus
der Wechselspannungsquelle 28 zu dem Gleichspannungssignal
vom veränderbaren Widerstand 21R oder 21L addiert. Dieses
Summensignal mit einer Gleichspannungs- und einer Wechsel
spannungskomponente wird dann zu den ersten und zweiten
elektromagnetischen Ablenkeinrichtungen 18 und 19 geführt.
Wenn der Drehpunkt für die Ablenkung des Elektronenstrahles
durch das Ablenksystem für die Auslenkung der optischen
Achse nicht mit der Position 7 zusammenfällt, bewegt sich
die Abbildung der Probe auf den Bildschirmen der Bildröhren
16 und 17. Wenn jedoch der Drehpunkt der Ablenkung des
Elektronenstrahles mit der Position 7 zusammenfällt, ver
schwindet die Bewegung der Abbildung auf den Bildschirmen.
Durch Einstellen des veränderbaren Widerstandes 24 kann das
Verhältnis zwischen den zu den ersten und zweiten elektro
magnetischen Ablenkeinrichtungen 18 und 19 geführten Sum
mensignalen wie gewünscht geändert werden. Der Drehpunkt für
die Ablenkung der Elektronenstrahlen kann daher durch geeig
nete Einstellung des Widerstandes 24 auf die Position 7 ge
bracht werden, wodurch die Bewegung der Abbildung auf den
Bildschirmen der Bildröhren 16 und 17 verschwindet. Nach
einer solchen Einstellung wird der Schalter 27 natürlich
wieder geöffnet.
Anstelle der getrennten Darstellung der beiden Abbildungen
an den beiden Bildröhren 16 und 17 kann auch der Bildschirm
einer dieser Bildröhren in Längsrichtung oder seitlich auf
geteilt werden, so daß die beiden Abbildungen auf den beiden
getrennten Bildschirmabschnitten dargestellt werden können.
Die beiden Abbildungen können auch sich überlappend und in
verschiedenen Farben gleichzeitig an einer der Bildröhren
dargestellt werden.
Gemäß dem beschriebenen Ausführungsbeispiel fällt auf die Ob
jektivlinse kein paralleler Elektronenstrahl. Es treten
daher auch nicht die mit der Verwendung eines parallelen
Elektronenstrahles verbundenen Probleme auf. Des weiteren
bewegt sich der Elektronenstrahl während der Abtastung der
Probe auch nicht in der Hauptebene der Objektivlinse, und
die Ablenkeinrichtungen zum Abtasten der Probe sind nicht
innerhalb der Objektivlinse oder zwischen der Objektivlinse
und der Probe angeordnet. Die mit der Bewegung des Elektro
nenstrahles in der Hauptebene der Objektivlinse sowie die
mit der Anordnung der Ablenkeinrichtungen innerhalb der
Objektivlinse oder zwischen der Objektivlinse und der Probe
verbundenen Probleme treten daher auch nicht auf. Weder der
Objektabstand noch die Öffnung der Objektivlinse brauchen
daher besonders groß zu sein, so daß eine hoch aufgelöste
räumliche Abbildung der Probe erhalten werden kann.
Claims (8)
1. Rasterelektronenmikroskop mit
- - einer Einrichtung (2) zum Aussenden eines Elektronen strahles;
- - einer Einrichtung (4, 5, 8) zum Fokussieren des Elek tronenstrahles auf eine Probe (6), wobei diese Fokussiereinrichtung eine Objektivlinse (5) aufweist;
- - einer ersten Ablenkvorrichtung (9, 10) zum zweidimen sionalen Ablenken und Abtasten des Elektronenstrahls;
- - einer zwischen der Elektronenkanone (2) und der Objek tivlinse (5) angeordneten zweiten Ablenkvorrichtung (18, 19) zum Ablenken des Elektronenstrahles derart, daß der Drehpunkt (7) der Ablenkung im wesentlichen mit dem Objektpunkt der Objekt tivlinse (5) zusammenfällt und der Elektronenstrahl unter einem ausgewählten Einfallswinkel auf die Probe (6) auftrifft, und
- - einer Einrichtung zum Erfassen von Informations
signalen, die als Folge der Abtastung der Probe (6) durch den
Elektronenstrahl erzeugt werden und die Probe charakterisieren;
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Ablenkvorrichtung (9, 10) zwischen der Elektronenkanone (2) und der Objektiv linse (5) angeordnet ist, und den Elektronenstrahl so ab lenkt, daß der Drehpunkt der Ablenkung im wesentlichen in der Hauptebene der Objektivlinse (5) liegt.
2. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die zweite Ablenkvorrichtung (18, 19) eine Einrich
tung (21R, 21L) zum Ändern des Einfallswinkels des Elektronen
strahls auf die Probe (6) aufweist.
3. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß eine Einrichtung (24) zum Einstellen der
Position des Drehpunktes (7) der Ablenkung durch die zweite Ablenk
vorrichtung (18, 19) vorgesehen ist.
4. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die erste Ablenkvorrichtung erste und zweite
elektromagnetische Ablenkeinrichtungen (9, 10) aufweist, die
voneinander in Richtung des Elektronenstrahls in Abstand ange
ordnet sind,
daß die zweite Ablenkvorrichtung erste
und zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtungen (18, 19)
aufweist, die voneinander in Richtung des Elektronenstrahls im
Abstand angeordnet sind, und daß Einrichtungen (11, 12; 20, 21, 22, 23, 24, 25,
27, 28) zum Anlegen eines Ablenksignals an die ersten und
zweiten elektromagnetischen Ablenkvorrichtungen vorgesehen
sind.
5. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die zweite Ablenkvorrichtung eine Einrich
tung (21R, 21L) aufweist zum Einstellen der an die ersten und
zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtungen (18, 19) der
zweiten Ablenkvorrichtung angelegten Ablenksignale unter Auf
rechterhaltung eines Verhältnisses zwischen den an die elek
tromagnetischen Ablenkeinrichtungen (18, 19) der zweiten Ab
lenkvorrichtung angelegten Ablenksignalen auf einem gegebenen
Wert.
6. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß die zweite Ablenkvorrichtung eine Einrich
tung (24) zum Ändern des Verhältnisses zwischen den
an die erste und zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtung
(18, 19) der zweiten Ablenkvorrichtung angelegten Ablenksignalen
aufweist.
7. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß die erste elektromagnetische Ablenkeinrich
tung (9) der ersten Ablenkvorrichtung und die erste elektro
magnetische Ablenkeinrichtung (18) der zweiten Ablenkvorrich
tung im wesentlichen an einer ersten Position zwischen der
Elektronenkanone (2) und der
Objektivlinse (5) angeordnet sind, und daß die zweite elektro
magnetische Ablenkeinrichtung (10) der ersten Ablenkvorrich
tung und die zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtung (19)
der zweiten Ablenkvorrichtung im wesentlichen an einer zweiten
Position zwischen der Elektronenkanone (2)
und der Objektivlinse (5) angeordnet sind, wobei sich
die erste und die zweite Position voneinander in Richtung des
Elektronenstrahles unterscheiden.
8. Rasterelektronenmikroskop nach einen der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Fokussiereinrichtung (4) eine
Einrichtung (4) zur Abbildung der Elektronenquelle der Elektronenkanone (2)
auf den Objektpunkt (7) der Objektivlinse (5) aufweist und die Objek
tivlinse (5) diese Abbildung auf die Probe (6) abbildet.
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