DE2535510C2 - Elektronenstrahl-Rastergerät zur Strukturanalyse von Präparaten - Google Patents
Elektronenstrahl-Rastergerät zur Strukturanalyse von PräparatenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Elektronenstrahl-Rastergerät zur Strukturanalyse von Präparaten mit einem
zwischen Strahlquelle und Präparat angeordneten Ablenksystem, durch das der Strahl stets auf denselben
Punkt des Präparats gelenkt und ein Raumwinkel, dessen Spitze in diesem Punkt liegt, abgerastert wird,
und mit einem hinter dem Präparat angeordneten Detektor für die das Präparat durchsetzende Strahlung.
Ein Elektronenstrahl-Rastergerät dieser Art ist aus einer Arbeit von F. Fujimoto, K. Komaki, S.
Takagi und H. Koike aus der »Zeitschrift für
Naturforschung« 27a, 1972, Seiten 441 ff, bekannt. Bei
diesem Gerät überstreicht die das Präparat durchsetzende Strahlung, die aus dem Primärstrahl und
gestreuter Strahlung besteht, entsprechend den Einfallwinkeln des den Raumwinkel abrastemden Strahles den
Detektor. Die Ausgangsgröße des Detektors wird in üblicher Weise einer Fernsehröhre (Monitor) zugeführt,
deren Ablenksystem synchron mit dem Ablenksystem des Rastergerätes gesteuert ist. Auf dem Bildschirm des
Monitors erscheint beispielsweise bei der Untersuchung eines Einkristalls ein Linienmuster, das Aufschluß über
den Bau des Kristalls gibt.
Ferner ist ein Durchstrahlungs-Rasterelektronenmikroskop bekannt (DT-OS 23 35 304), bei dem der
Elektronenstrahl in üblicher Weise mittels eines ersten Ablenksystems rasterförmig über das Präparat geführt
wird und bei dem zwischen Präparat und Detektor ein zweites Ablenksystem angeordnet ist, das mit dem
ersten Ablenksystem derartig synchronisiert ist, daß zwei in verschiedenen Richtungen durch das Präparat
hindurchgegangene Elektronenstrahlen von dem Detektor getrennt registriert werden.
Die Erfindung befaßt sich mit der Aufgabe, bei einem Elektronenstrahl-Rastergerät der eingangs genannten
Art den Kontrast und den Informationsgehalt des Monitorbildes zu erhöhen.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß zwischen Präparat und Detektor ein weiteres Ablenksystem
vorgesehen ist, das synchron zu dem erstgenannten. Ablenksystem derart gesteuert ist, daß der Primärstrahl
stets auf denselben Punkt des Detektors fällt, und daß der Detektor mindestens einen Bereich zur getrennten
Registrierung des Primärstrahls und/oder der Streu
strahlung aufweist ....
Die Zeichnung zeigt ein Ausfuhrungsbeispiel der
Erfindung.
Der Elektronenstrahl 1 des Gerätes geht von der Elektronenquelle 2 aus. Er verläuft durch einen
Kondensor 3, eine Blende 4, ein Ablenksystem 5/6 und fällt dann auf das Präparat 7. Unterhalb des Präparates 7
sind ein weiteres Ablenksystem 8 und Detektoren 9 und 10 angeordnet Der Detektor 9 ist in seiner Mitte mit
einer Bohrung 9a versehen, deren Durchmesser nur wenig größer ist als der Durchmesser des Elektronenstrahls
1 in der Detektorebene. Die Ausgänge der Detektoren 9 und 10 sind über einen Wählschalter U
mit einem schematisch angedeuteten Monitor 12 verbindbar, dessen Ablenksystem 12a synchron mit den
Ablenksystemen 5,6 und 8 erregt ist
Die Ablenksysteme 5, 6 und 8 sind im Ausführungsbeispiel als magnetische Ablenksysteme ausgebildet;
man kann jedoch auch elektrostatische Systeme verwenden. Das erste Teilsystem 5 des Ablenksystems
5/6 besteht aus zwei Spulenpaaren 5a und 5b; entsprechend sind das zweite Teilsystem 6 und das
unterhalb des Präparats 7 angeordnete weitere Ablenksystem 8 ausgebildet Das Spulenpaar 5a ist
periodisch derart erregt, daß der Elektronenstrahl 1 in der Zeichnungsebene aus der optischen Achse ausgelenkt
wird. Das Spulenpaar 6a lenkt den Strahl wieder zur Achse zurück, und zwar derart, daß der Strahl
unabhängig von seiner Auslenkung immer auf denselben Punkt des Präparates 7, vorzugsweise auf den
Schnittpunkt von optischer Achse und Präparat, fällt. Der veränderliche Einfallwinkel des Strahles 1 auf dem
Präparat 7 ist mit & bezeichnet. Die Spulenpaare 5b und 6b lenken den Strahl 1 in entsprechender Weise
senkrecht zur Zeichnungsebene derart aus, daß er in dieser Richtung mit einem veränderlichen Winkel φ auf
den festen Punkt des Präparates 7 fällt. Die Maximalwerte der Winkel ö· und φ definieren einen Raumwinkel
Ω, dessen Spitze in dem festen Punkt des Präparates 7 liegt und der vom Strahl 1 abgerastert wird.
Der Elektronenstrahl 1 soll möglichst monoenergetisch sein; die Beschleunigungsspannung des Gerätes
kann z. B. 50 kV betragen. Die Erregung des Kondensors 3 und der Durchmesser der Blende 4 sind so zu
wählen, daß der Strahl 1 möglichst parallel ist und einen kleinen Durchmesser hat; die Parallelität des Strahles
kann etwa 5 · IO-4 rad und sein Durchmesser etwa 50 μηι betragen.
Der Strahl 1 durchsetzt das Präparat 7 zum Teil unverändert und verläuft unterhalb des Präparats als
Primärstrahl Γ. Zum Teil wird der Strahl 1 an Kristallebenen des Präparates 7 reflektiert, wie es in der
Zeichnung durch den Streustrahl la angedeutet ist
Das weitere Ablenksystem 8 ist nun synchron zum Ablenksystem 5/6 so erregt, daß der Primärstrahl 1'
stets auf den Mittelpunkt des Detektors 9, d. h. in die Bohrung 9a, fällt Der Primärstrahl Γ wird daher vom
Detektor 9 nicht registriert; er fällt vielmehr auf den dahinterliegenden Detektor 10.
Demgegenüber fällt der Streustrahl la auf den Detektor 9 und erreicht den Detektor 10 nicht. Es sei
nun angenommen, daß der Strahl 1 auf einen Einkristall im Präparat 7 fällt. Dann wird immer, wenn er eine
Braggsche Reflexionsstellung trifft, ein Teil der Intensität des einfallenden Strahles 1 herausgestreut
und durch den Detektor 9a abgefangen und registriert. Verbindet man den Monitor 12 mit dem Detektor 9, so
erscheinen die Reflexlinien auf dem Bildschirm gegen-
über dem Untergrund dunkel (Hellfeld-Aufnahme).
Verbindet man statt dessen den Detektor 10 mit dem Monitor 12, so wird nur der Primäi strahl 1' registriert
Das Reflexsystem des Einkristalls erscheint dann in Gestalt von hellen Linien auf dunklem Grund
(Dunkelfeld-Aufnahme).
Die Detektoren 9 und 10 können beispielsweise als Halbleiter-Sperrschichtdetektoren ausgebildet sein. Es
kann auch nur der Detektor 9 mit einer Zentralbohrung 9a oder einer vor seinem Zentrum liegenden Primärstrahl-Fangblende
vorgesehen sein. Entsprechend kann auch nur der Detektor 10 mit einer davorliegenden,
zentral durchbohrten Blende oder ein sehr kleiner Detektor 10 vorhanden sein, der von der Streustrahlung
nicht getroffen wird.
Bei dem Rastergerät nach der Erfindung erscheint auf dem Monitor ein vollständiges korarastreiches Liniensystem,
das sämtliche informationen über die Reflexmöglichkeiten innerhalb des abgerasterten Raumwinkels
Ω enthält Das Monitorbild läßt sich elektronisch weiterverarbeiten. Die Intensitäten der Reflexe lassen
sich quantitativ speichern und für die Strukturanalyse
als Digitalwerte einem Computer zuführen. Die Aufnahme des Reflexsystems ist bei dickeren Einkristallen
als bisher möglich, da infolge der Messung der Intensitätsvariation des Primärstrahls (Hellfeld) weniger
Streuuntergrund von anderen Richtungen als bei üblichen Aufnahmen mitregistriert wird. Bei dünnen
Einkristallen werden die Nebenstreifen an Bragg-Kanten sichtbar, aus denen die Dicke des Präparats und die
Strukturpotentiale bestimmt werden können. Die gleichmäßige, zeitliche nacheinander erfolgende Ausleuchtung
aller Winkel des Kristalls ergibt besonders übersichtliche Diagramme. Gegenüber Diagrammen
mit statischem Primärstrahl großer Konvergenz, wie sie beispielsweise von Kossei, Ackermann und
Möllenstedt in der »Zeitschrift für Physik« 120,
1943, Seite 553, beschrieben sind, werden bei symmetrischem
Einschuß gegenseitige unübersichtliche Oberlagerungen vermieden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Elektronenstrahl-Rastergerät zur Strukturanalyse von Präparaten mit einem zwischen Strahlquelle und Präparat angeordneten Ablenksystem, durch das der Strahl stets auf denselben Punkt des Präparats gelenkt und ein Raumwinkel, dessen Spitze in diesem Punkt liegt, abgerasteit wird, und mit einem hinter dem Präparat angeordneten Detektor für die das Präparat durchsetzende Strahlung, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Präparat (7) und Detektor (9,10) ein weiteres Ablenksystem (8) vorgesehen ist das synchron zu dem erstgenannten Ablenksystem (5/6) derart gesteuert ist, daß der Primärstrahl (1') stets auf denselben Punkt des Detektors fällt, und daß der Detektor mindestens einen Bereich zur getrennten Registrierung des Primärstrahls und/oder der Streustrahlung (ia) aufweist
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