JPS58110956U - 荷電粒子照射装置 - Google Patents
荷電粒子照射装置Info
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- JPS58110956U JPS58110956U JP1982006379U JP637982U JPS58110956U JP S58110956 U JPS58110956 U JP S58110956U JP 1982006379 U JP1982006379 U JP 1982006379U JP 637982 U JP637982 U JP 637982U JP S58110956 U JPS58110956 U JP S58110956U
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- JP
- Japan
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- charged particle
- lens
- field lens
- particle irradiation
- irradiation device
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- Pending
Links
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は、静電および磁場複合レンズ系を使用した本考
案装置の原理説明図、第2図は、本考案を走査型電子顕
微鏡−二次イオン質量分析法複合装置に適用した場合の
具体的実施例を示す図、第3図は、本考案を透過型電子
顕微鏡−二次イオン −質量分析法複合装置に適用した
場合の具体的実施例を示す図、第4図は、第3図の装置
構成により得られたヒトの肝臓組織の二次イオン質量ス
ペクトルの一例を示す線図である。 1・・・荷電粒子源、2・・・電子−イオン混成ビーム
、3・・・静電レンズ、4・・・磁場レンズ、7・・・
絞り、8・・・静電レンズ、9・・・磁場レンズ、10
・・・偏向電極、11・・・試料、12・・・検出器、
13・・・増幅器、14・・・走査電源、15・・−C
R’r、 16・・・二次荷電粒子、17・・・二次イ
オン、18・・・質量分析計。 7鼻−−−一1 良 1−一−!−=−=−’ −−″fJ: l目−22L
案装置の原理説明図、第2図は、本考案を走査型電子顕
微鏡−二次イオン質量分析法複合装置に適用した場合の
具体的実施例を示す図、第3図は、本考案を透過型電子
顕微鏡−二次イオン −質量分析法複合装置に適用した
場合の具体的実施例を示す図、第4図は、第3図の装置
構成により得られたヒトの肝臓組織の二次イオン質量ス
ペクトルの一例を示す線図である。 1・・・荷電粒子源、2・・・電子−イオン混成ビーム
、3・・・静電レンズ、4・・・磁場レンズ、7・・・
絞り、8・・・静電レンズ、9・・・磁場レンズ、10
・・・偏向電極、11・・・試料、12・・・検出器、
13・・・増幅器、14・・・走査電源、15・・−C
R’r、 16・・・二次荷電粒子、17・・・二次イ
オン、18・・・質量分析計。 7鼻−−−一1 良 1−一−!−=−=−’ −−″fJ: l目−22L
Claims (1)
- 負イオンと電子とを同−源より取り出せる荷電粒子源と
荷電粒子プローブの集束系とより構成されている荷電粒
子照射系において、レンズ系として磁場レンズと電場レ
ンズとの複合組合せ方式を採用することにより電子ビー
ムとイオンビームの縮小率を両者で独立に任意可変でき
るように構成し、かつ磁場レンズをオフ状態にし、静電
レンズのみを動作させ電子およびイオンビームを同一ス
ポットに集束できるようにしたことを特徴とする荷電粒
子照射装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1982006379U JPS58110956U (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 荷電粒子照射装置 |
US06/454,027 US4479060A (en) | 1982-01-22 | 1982-12-28 | Apparatus for irradiation with charged particle beams |
DE8383100436T DE3379088D1 (en) | 1982-01-22 | 1983-01-19 | Apparatus for irradiation with charged particle beams |
EP83100436A EP0084850B1 (en) | 1982-01-22 | 1983-01-19 | Apparatus for irradiation with charged particle beams |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1982006379U JPS58110956U (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 荷電粒子照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58110956U true JPS58110956U (ja) | 1983-07-28 |
Family
ID=11636739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1982006379U Pending JPS58110956U (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 荷電粒子照射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4479060A (ja) |
EP (1) | EP0084850B1 (ja) |
JP (1) | JPS58110956U (ja) |
DE (1) | DE3379088D1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049546A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Shimadzu Corp | 複合分析装置 |
JPS63236251A (ja) * | 1987-03-23 | 1988-10-03 | Jeol Ltd | 電子ビ−ム−イオンビ−ム複合装置 |
JP2017126570A (ja) * | 2009-11-06 | 2017-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置および試料解析方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8401471D0 (en) * | 1984-01-19 | 1984-02-22 | Cleaver J R A | Ion and electron beam electrostatic lens systems |
JPS60249318A (ja) * | 1984-05-25 | 1985-12-10 | Hitachi Ltd | イオンマイクロビ−ム注入法 |
US4639301B2 (en) * | 1985-04-24 | 1999-05-04 | Micrion Corp | Focused ion beam processing |
JP2641437B2 (ja) * | 1987-02-27 | 1997-08-13 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置 |
US4847502A (en) * | 1987-08-11 | 1989-07-11 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Dual cathode system for electron beam instruments |
US4874947A (en) * | 1988-02-26 | 1989-10-17 | Micrion Corporation | Focused ion beam imaging and process control |
JPH0233843A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2008166137A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Sii Nanotechnology Inc | 集束イオンビーム装置 |
EP2304767B1 (en) * | 2008-05-30 | 2020-02-26 | The State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | A radio-frequency-free hybrid electrostatic/magnetostatic cell for transporting, trapping, and dissociating ions in mass spectrometers |
US20110127428A1 (en) * | 2008-06-02 | 2011-06-02 | Carl Zeiss Nts, Llc. | Electron detection systems and methods |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2356633A (en) * | 1939-10-19 | 1944-08-22 | Ardenne Manfred Von | Electronic microscope |
DE1648980C3 (de) * | 1967-07-25 | 1975-03-20 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen | Vorrichtung zur Röntgenspektrometrie |
DE1937482C3 (de) * | 1969-07-23 | 1974-10-10 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen | Mikrostrahlsonde |
JPS5326192A (en) * | 1976-08-23 | 1978-03-10 | Hitachi Ltd | Compound analyzer |
JPS583588B2 (ja) * | 1978-02-03 | 1983-01-21 | 株式会社日立製作所 | イオン↓−電子複合分析装置 |
-
1982
- 1982-01-22 JP JP1982006379U patent/JPS58110956U/ja active Pending
- 1982-12-28 US US06/454,027 patent/US4479060A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-01-19 DE DE8383100436T patent/DE3379088D1/de not_active Expired
- 1983-01-19 EP EP83100436A patent/EP0084850B1/en not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049546A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Shimadzu Corp | 複合分析装置 |
JPS63236251A (ja) * | 1987-03-23 | 1988-10-03 | Jeol Ltd | 電子ビ−ム−イオンビ−ム複合装置 |
JP2017126570A (ja) * | 2009-11-06 | 2017-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置および試料解析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0084850A2 (en) | 1983-08-03 |
EP0084850B1 (en) | 1989-01-25 |
DE3379088D1 (en) | 1989-03-02 |
EP0084850A3 (en) | 1986-01-29 |
US4479060A (en) | 1984-10-23 |
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