JPS59125057U - X線分析装置を備えた電子顕微鏡 - Google Patents

X線分析装置を備えた電子顕微鏡

Info

Publication number
JPS59125057U
JPS59125057U JP1872883U JP1872883U JPS59125057U JP S59125057 U JPS59125057 U JP S59125057U JP 1872883 U JP1872883 U JP 1872883U JP 1872883 U JP1872883 U JP 1872883U JP S59125057 U JPS59125057 U JP S59125057U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron microscope
objective lens
ray analyzer
microscope equipped
certain value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1872883U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6342460Y2 (ja
Inventor
蒔田 吉生
啓介 鈴木
Original Assignee
日本電子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電子株式会社 filed Critical 日本電子株式会社
Priority to JP1872883U priority Critical patent/JPS59125057U/ja
Publication of JPS59125057U publication Critical patent/JPS59125057U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6342460Y2 publication Critical patent/JPS6342460Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例装置の概略構成図であり、第
2図は第1図の一実施例装置の要部の拡大図である。 1:電子銃、2:電子線、3.4=対物レンズ磁極片、
5:試料、7:集束レンズ磁場、8:X線、9:反射電
子、10:偏向電源、13:定電流電源、14:スイッ
チ制御回路、16:差動増幅器、17:L/ンズ電源、
18:基準電源、19:X線分光器、20:コリメータ
、21:シャッタ機構、22:支持筒、23:半導体検
出器。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 対物レンズ磁極片の略中夫に挿入される試料から発生す
    るX線をエネルギ分散形X線分光器の検出素子に導くよ
    うに構成した装置において、前記対物レンズの励磁強度
    が一定値以下であることを検出する手段と、該手段から
    の検出信号に基づいて対物レンズに入射する電子線を偏
    向するための偏向コイルヘ一定値以上の偏向信号を供給
    する手段を設けたことを特徴とするX線分析装置を備え
    た電子顕微鏡。
JP1872883U 1983-02-10 1983-02-10 X線分析装置を備えた電子顕微鏡 Granted JPS59125057U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1872883U JPS59125057U (ja) 1983-02-10 1983-02-10 X線分析装置を備えた電子顕微鏡

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1872883U JPS59125057U (ja) 1983-02-10 1983-02-10 X線分析装置を備えた電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59125057U true JPS59125057U (ja) 1984-08-23
JPS6342460Y2 JPS6342460Y2 (ja) 1988-11-07

Family

ID=30149906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1872883U Granted JPS59125057U (ja) 1983-02-10 1983-02-10 X線分析装置を備えた電子顕微鏡

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59125057U (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6342460Y2 (ja) 1988-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58110956U (ja) 荷電粒子照射装置
JPH06338281A (ja) 走査電子顕微鏡
JPS59125057U (ja) X線分析装置を備えた電子顕微鏡
US6043489A (en) Positron source
JP3351647B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0684491A (ja) 荷電粒子ビーム電流量測定装置及び荷電粒子ビーム電流量自動補正装置
JPH0228609Y2 (ja)
JPS5812123Y2 (ja) 電子顕微鏡等におけるx線分析装置
JPH0627058A (ja) 電子分光方法とこれを用いた電子分光装置
JPS5958345A (ja) 濃度測定装置
JPH08321275A (ja) 二次荷電粒子検出装置
JPH0548356Y2 (ja)
JP2500423Y2 (ja) 電子顕微鏡
JPH06260127A (ja) 電子ビーム装置
JPS5985569U (ja) 電子ビ−ム軸合せ装置
JPS5768031A (en) Axis aligning mechanism for electron beam exposure device
SU1582226A1 (ru) Устройство дл контрол поверхностных микропотенциалов
JPH09283071A (ja) 電子線装置
JPS59201357A (ja) 二次イオン質量分析計
JPS59148064U (ja) イオンビ−ムスパツタリング装置
JPS6065966U (ja) 走査電子顕微鏡
JPS6314813B2 (ja)
JPS6071064U (ja) 分析電子顕微鏡
JPS6075954U (ja) 電子顕微鏡
JPS5971563U (ja) 二次電子検出器