JP2500423Y2 - 電子顕微鏡 - Google Patents

電子顕微鏡

Info

Publication number
JP2500423Y2
JP2500423Y2 JP4204090U JP4204090U JP2500423Y2 JP 2500423 Y2 JP2500423 Y2 JP 2500423Y2 JP 4204090 U JP4204090 U JP 4204090U JP 4204090 U JP4204090 U JP 4204090U JP 2500423 Y2 JP2500423 Y2 JP 2500423Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
rays
emitted
magnetic pole
electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4204090U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH042448U (ja
Inventor
幹夫 成瀬
栄一 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP4204090U priority Critical patent/JP2500423Y2/ja
Publication of JPH042448U publication Critical patent/JPH042448U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2500423Y2 publication Critical patent/JP2500423Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案はX線分析が正確に行えるように成した電子顕
微鏡に関する。
(従来の技術) 第4図(a)はX線分析機能を備えた電子顕微鏡の、
特に、試料を光軸Zと直交した方向から挿入する型の試
料装置の概略図を示したものである。
図中、1は第4図(b)に示す様に開孔部2を有する
試料台、3は試料、4及び5は、夫々、対物レンズのポ
ールピースを構成する上磁極と下磁極、6はX線検出
器、7は試料載置部である。
この様に構成された電子顕微鏡の試料装置において、
前記試料3の観察時は、試料3を光軸Zと直交した方向
から挿入する。そして、該試料3に電子銃(図示せず)
から射出された電子ビームを照射し、該試料3を透過し
た電子を該試料3の下方に設けられたレンズ系(図示せ
ず)で拡大し、該拡大された電子線像を蛍光板(図示せ
ず)上に結像している。
又、試料3のX線分析は、該試料3に電子ビームを照
射する事により該試料3から放出されるX線を前記X線
検出器6で検出し、その出力信号を図示外のX線分析系
に導く事により行っている。
(考案が解決しようとする課題) さて、前記試料台1は、一般に、X線発生量の極めて
低い軽元素、例えば、ベリリウムから作製されている。
これは、電子銃(図示せず)から射出された電子が試料
台1の試料載置部7の近辺に洩れて照射された場合に、
該照射による試料台1からのX線放出を少なくする事に
より、試料3のX線検出に支障を来たさない為である。
又、電子顕微鏡の分解能向上の為に、前記上下磁極4,
5の間隔が狭く成されているが、その為に試料台1は薄
く作製されている。
所で、試料3を透過する過程で散乱する電子があり、
該散乱電子の衝突を受けた下磁極5からX線が放出され
る。
しかしながら、前記した様に、試料台は軽元素で薄く
作製されている為に、該X線は該試料台1を透過して前
記X線検出器6に検出されてしまう。その結果、前記試
料3のX線検出に支障を来たし、正確なX線分析が行え
ない。
本考案はこの様な問題を解決することを目的としたも
のである。
(課題を解決するための手段) その為に本考案は、電子レンズの上磁極と下磁極との
間にセットした試料に電子ビームを照射し、該照射によ
り該試料から放出されるX線を検出する手段を備えた電
子顕微鏡において、前記試料を保持する保持部材の、少
なくとも上層,下層若しくは中間層を、電子線が照射さ
れる部分を除いてX線を吸収する重元素部材で成した。
(実施例) 第1図(a)は本考案の一実施例として示したX線分
析機能を備えた電子顕微鏡の要部である、試料を光軸Z
と直交した方向から挿入する型の試料装置の概略を示し
たものである。図中前記第4図と同一番号を付したもの
は同一構成要素である。
図中、8は試料台1の上面に付着された重元素金属
膜、例えば、金の膜で、X線吸収効率が極めて高いもの
である。該重元素金属膜は、試料台1を成している材料
である軽元素金属(例、ベリリウム)に比べX線発生量
が高い為、電子が当るとX線が多量に放出される。その
為、電子銃(図示せず)から照射された電子が試料台1
の試料載置部7の近辺に洩れて該重元素金属膜8の一部
に照射されない様に、第1図(b)に示すように試料載
置部7の周りに間隔Δをおいて付着されている。
この様に構成された電子顕微鏡の試料装置において、
電子銃(図示せず)から射出された電子ビームを試料3
に照射すると、該試料3からはX線が放出される。そし
て、該放出されたX線はX線検出器6に検出される。
さて、試料3を透過した電子の内、散乱電子の衝突を
受けた下磁極5からX線が放出され、該放出されたX線
は軽元素金属(例、ベリリウム)から成る試料台1を透
過しようとするが、前記試料1の上面に重元素金属膜
(例、金)が付着されているので、該下磁極5から放出
されるX線は、該重元素金属膜8により遮断される。従
って、該下磁極5から放出されるX線が前記X線検出器
6に検出される事が阻止され、該X線検出器6は試料3
から放出されるX線のみ検出する。
尚、上記説明では重元素金属膜8を試料台1の上面に
付着したが、試料台1の下面に付着しても同様の効果が
得られる。
又、第2図に示す様に、試料台1の試料周辺近傍部分
を軽元素金属9で、それ以外の部分を重元素金属10で製
作しても同様の効果が得られる。
更に又、第3図に示す様に、試料台として、重元素金
属11を軽元素金属12で挟み込んだ構造のものを用いても
よい。
(効果) 本考案は、前記試料を保持する保持部材の、少なくと
も上層,下層若しくは中間層を、電子線が照射される部
分を除いてX線を吸収する重元素部材で成したので、試
料を透過する過程で、散乱された電子の衝突を受けた下
磁極から放出されるX線が検出されるのを防ぐ事ができ
る。従って、X線検出器には試料から放出されたX線の
みが検出され、その結果、該試料の正確なX線分析が行
われる。
【図面の簡単な説明】
第1図,第2図及び第3図は本考案の要部の一実施例と
して示した電子顕微鏡の試料装置の概略図、第4図は従
来の電子顕微鏡の試料装置の概略図を示したものであ
る。 1……試料台、2……孔、3……試料、4……上磁極、
5……下磁極、6……X線検出器、7……試料載置部、
8……重元素金属膜、9……軽元素金属、10,11……重
元素金属、12……軽元素金属

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子レンズの上磁極と下磁極との間にセッ
    トした試料に電子ビームを照射し、該照射により該試料
    から放出されるX線を検出する手段を備えた電子顕微鏡
    において、前記試料を保持する保持部材の、少なくとも
    上層,下層若しくは中間層を、電子線が照射される部分
    を除いてX線を吸収する重元素部材で成した事を特徴と
    する電子顕微鏡。
JP4204090U 1990-04-19 1990-04-19 電子顕微鏡 Expired - Lifetime JP2500423Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4204090U JP2500423Y2 (ja) 1990-04-19 1990-04-19 電子顕微鏡

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4204090U JP2500423Y2 (ja) 1990-04-19 1990-04-19 電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH042448U JPH042448U (ja) 1992-01-10
JP2500423Y2 true JP2500423Y2 (ja) 1996-06-05

Family

ID=31553236

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4204090U Expired - Lifetime JP2500423Y2 (ja) 1990-04-19 1990-04-19 電子顕微鏡

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2500423Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH042448U (ja) 1992-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4211924A (en) Transmission-type scanning charged-particle beam microscope
US7039157B2 (en) X-ray microscope apparatus
EP0615123A4 (en) SURFACE ANALYSIS METHOD AND DEVICE.
JPH05182625A (ja) 対物レンズ
US6353231B1 (en) Pinhole detector for electron intensity distribution
JP4590590B2 (ja) 位置感度の高い検出器による透過オペレーションに対するsem
JP2500423Y2 (ja) 電子顕微鏡
JP2009236622A (ja) 蛍光x線分析機能付き高分解能x線顕微装置
JPH06338281A (ja) 走査電子顕微鏡
JP3266814B2 (ja) 微小部分析装置
US5289005A (en) Electron microscope
US3155827A (en) Electron microscope with a secondary electron source utilized for electron probe analysis
JP3266718B2 (ja) 複合荷電粒子ビーム装置
JPH0754687B2 (ja) パターン検査方法およびその装置
US6935778B2 (en) Methods and devices for aligning and determining the focusing characteristics of x-ray optics
JPH0692946B2 (ja) 隔膜表面の構造を検査する方法及び装置
JPH05182624A (ja) 対物絞り
JPH01118757A (ja) 表面分析装置のマスク
JP2005127967A (ja) 高分解能・化学結合電子・2次イオン顕微鏡装置
JPH0361841A (ja) X線吸収スペクトル測定用アタッチメント
JPS582856U (ja) 透過走査像観察装置
JPH04127954U (ja) 電子顕微鏡
JPH082603Y2 (ja) X線分析装置
JPS5910687Y2 (ja) 光学観察装置を備えた電子線装置
JPS6242443Y2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term