JPH01118757A - 表面分析装置のマスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は微小領域Ｘ線光電子分析装置等の表面分析装置
における試料マスクに関する。

口、従来の技術 試料面を励起線で照射し、試料から放射される二次放射
線を検出する型の分析装置において、試料面の特定領域
を分析する場合、励起線が電子線である場合には電子光
学的にその特定領域に電子線を集中させることができる
が、Ｘ線とか中性原子ビーム等を励起線とするときはビ
ームを集束させることが困難であるから試料前面にマス
クを置いて分析領域以外を励起線或は二次放射から遮蔽
する方法が用いられている。この場合マスクが絶縁性材
料であると、励起された試料からは色々な二次放射線が
放射されるが、そのうち電子とかイオン等の荷電粒子が
マスクに付着してマスクが帯電し、電子とかイオンの放
射を抑制するから、これらの二次放射線を検出する分析
法の場合、不都合である。このためマスクとしては導電
性材料が用いられる。

ハ３発明が解決しようとする問題点 Ｘ線光電子分析等の表面分析法では試料面を光学顕微鏡
等で目視観察して分析点を選定するが、上述したように
マスクに金属を用いていると、試料前面が一度に見えず
、マスクの開口を通して試料を観察し、試料を移動させ
て分析点を探すので、分析点を決める作業が大へん面倒
である。本発明はこのような場合に、容易確実に分析点
を選定できる手段を提供しようとするものである。

ニ０問題点解決のための手段 マスクを導電性透明材料によって形成した。導電性透明
材料としては例えばガラス面に酸化すず等の導電性透明
膜をコーティングした物が用いられる。

ホ１作用 マスクは導電性であるから従来の導電性マスクと全（同
様に用いても帯電による障害は全く起らない。他方透明
であるから、マスク全面を通して試料面を目視観察する
ことが可能になり、分析点の選定作業は対へんやり易（
なる。

へ、実施例 第１図に本発明の一実施例を示す。この実施例は微小部
ｘｎ光電子分析装置（通称マイクロＥＳＣＡ）である。

図で１は試料で、試料ステージ２上に保持されている。

試料ステージはｘｙ２方向に微動可動である。３はマス
クで試料表面より０．１ｍｍ程度離して試料面を覆うよ
うに固定される。従って試料はマスクとは別にｘｙ２方
向に移動せしめられるようになっている。試料面とマス
クとの間を密着させないのはこのためである。

マスク３は０．５ｍｍの厚さのガラス板の表面に酸化す
ず膜をコーティングしたもので、導電性膜は接地されて
おり、２００μｍ、６００μｍ、１ｍｍ等の直径の小孔
りが穿っである。４は光学ミラーで試料上方に斜めに配
置され、装置外からの操作で、図示位置より図の紙面に
垂直方向に退避させることができるようになっている。

５は装置に付設された光学顕微鏡で、その先軸はミラー
４により下方に試料面に垂直に曲げられ、マスク３の小
孔りはその中心を顕微鏡５の上記光軸が通るように位置
決めされている。６はＸＩ源で試料面を斜め上方からＸ
線で照射する。７は電子レンズでその先軸は前記した光
学顕微鏡５の光軸のミラー４で下方に曲げられた部分の
延長と一致させである。８は荷電子のエネルギー分析器
、９は電子検出器である。以上の装置各部は全体が真空
容器の中に収納されている。

上述した装置で試料分析は次のようにして行われる。光
学ミラー４を図示位置に進出させると試料ｌの表面をマ
スク３を通して顕微ｆｉ５で見ることができる。このよ
うにして試料面上の夢分析点を探し、試料ステージ２を
ｘ、ｙ両方向に動かして夢分析点をマスク３の小孔りの
下に位置させる。その後ミラー４を退避させＸ線源６を
作動させて試料面をＸ線で照射する。そうすると試料面
からＸ線光電子が放出され、要分析域以外から放出され
たＸ線光電子はマスク３の導電性膜に入射し吸収される
。要分析域から放出された電子は小孔りを通過して電子
レンズ７に入射し、エネルギー分析器８の入射スリット
上に集中せしめられ、エネルギー分析器８でエネルギー
分析されて検出Ｂ９に入射し、検出される。マスク３は
導電性被膜がアースされているので、小孔り以外の所に
入射した電荷はそのま＼アースに逃げ、マスク３は試料
１と同じ０電位のま＼のであり、Ｘ線光電子の放出を妨
げることはない。

第２図は本発明の他の実施例を示す。この実施例ではマ
スク３を試料１の表面から離し、マスクの下で試料１に
Ｘ線を照射するようにした。電子レンズ７はマスク３の
小孔りを通して試料面の小孔りの真下の部分から放射さ
れたＸ線光電子だけが小孔りを通して電子レンズ７に入
射できる。この実施例ではマスク３は全くＸ線の照射を
受けないので、試料から放射されるＸ線光電子のエネル
ギーがマスク°のガラスから放射されるＸ＊光電子のエ
ネルギーと同程度の場合でもマスクから放射される電子
が測定の邪魔になるといった問題が起らない。

上述実施例ではマスクの導電性被膜をアースしているが
、アースの代わりに一定電圧出力の電源に接続して、常
時一定電位に保っておくようにしてもよい。この一定電
位を正の値にしておくと、試料面から放出されるＸ線光
電子をマスクへ向って吸引加速し、試料面表面のＸ線光
電子による空間電荷を解消して、電子の空間電荷による
試料面からのＸ線光電子の放出抑制作用を解消してエネ
ルギー分析器へのＸ線光電子入射効率を高め、分析感度
を高めることができる。

ト、効果 本発明によれば、試料面全体を見ながら分析領域の選定
、分析領域の分析位置への移動ができるので、これらの
操作が大へんやり易くなり、分析能率が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例装置の側面図、第２図は他の
実施例の要部側面図である。 １・・・試料、２・・・試料ステージ、３・・・マスク
、ｈ・・・マスクの小孔、４・・・光学ミラー、５・・
・光学顕微鏡、６・・・Ｘ線源、７・・・電子レンズ、
８・・・エネルギー分析器、９・・・電子検出器。 代理人　　弁理士　縣　　浩　介 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 試料面を励起線で照射し、試料から放出される二次放射
   を検出する型の表面分析装置において、試料面の分析領
   域を規定する開口を有し、導電性透光性材料で形成され
   て試料面上に配置され、直接或は電圧源を介して接地さ
   れる表面分析装置のマスク。