JPS6249929B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6249929B2
JPS6249929B2 JP54073447A JP7344779A JPS6249929B2 JP S6249929 B2 JPS6249929 B2 JP S6249929B2 JP 54073447 A JP54073447 A JP 54073447A JP 7344779 A JP7344779 A JP 7344779A JP S6249929 B2 JPS6249929 B2 JP S6249929B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
anticathode
electron beam
spectrometer
ray spectrometer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54073447A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS551593A (en
Inventor
Biruherumu Berunaa Berunaa Herumuto
Furanshisukasu Kunitsupenberugu Biruherumusu
Biruherumusu Bitomeru Antoniusu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of JPS551593A publication Critical patent/JPS551593A/ja
Publication of JPS6249929B2 publication Critical patent/JPS6249929B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
    • H01J35/153—Spot position control
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/072—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission combination of measurements, 2 kinds of secondary emission
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076—X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/079—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission incident electron beam and measuring excited X-rays
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/1006—Different kinds of radiation or particles different radiations, e.g. X and alpha
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
    • G01N2223/1016—X-ray
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/20—Sources of radiation
    • G01N2223/204—Sources of radiation source created from radiated target
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/308—Accessories, mechanical or electrical features support of radiation source
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/309—Accessories, mechanical or electrical features support of sample holder
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/313—Accessories, mechanical or electrical features filters, rotating filter disc
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/33—Accessories, mechanical or electrical features scanning, i.e. relative motion for measurement of successive object-parts
    • G01N2223/3306—Accessories, mechanical or electrical features scanning, i.e. relative motion for measurement of successive object-parts object rotates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は排気し得る外匣内に配置され、且つ波
長依存Ｘ線検出装置と、検査すべき被検物を照射
するために電子ビームを発生する電子源と、対陰
極から成るＸ線源とを具え、Ｘ線ビームは前記電
子ビームを前記対陰極に静電偏向装置により指向
させて発生し得るように構成されたＸ線スペクト
ロメータに関するものである。
この種のＸ線スペクトロメータは化学分析に特
に好適である。その理由は、検査中の被検物内で
発生されたＸ線は被検物内に存在する化学元素か
ら発生する特性Ｘ線を含むためである。発生され
たＸ線を波長依存測定及び分析することにより特
性Ｘ線を発生する元素を識別できると共にその強
度を測定することにより定量分析することができ
る。Ｂ，Ｃ，Na，Al又はMgのような軽元素を含
む被検物の検査には電子ビームを照射するのが好
適であり、重元素を含む被検物の検査にはＸ線ビ
ームを照射するのが好適である。
フランス国特許第1558130号明細書には、静電
偏向装置を用いて電子ビームを検査すべき被検物
と対陰極（この発明では被検物の反対側に配置さ
れている）のいずれか一方に指向されることがで
きるように構成された上述した種類のＸ線スペク
トロメータが開示されている。
この既知のＸ線スペクトロメータの欠点は、被
検物をＸ線で照射するためには電子源から供給さ
れた電子を先ず加速し、次いで加速された電子を
対陰極上に偏向しなければならない点にある。即
ち、このためには電子を加速するための電源と、
比較的強い電界、従つて比較的高い電圧を必要と
する加速された電子を偏向するための電源の２個
の電源が必要となる。
本発明の目的は、上記の欠点を除去せんとする
にある。この目的のために、本発明Ｘ線スペクト
ロメータにおいては、静電偏向装置を、該偏向装
置がスイツチオフのとき電子ビームが対陰極に妨
害されることなく到達することができ、該偏向装
置がスイツチオンのとき電子ビームが被検物上に
入射し得るように構成したことを特徴とする。こ
のように本発明では、被検物をＸ線ビームで照射
する間は静電偏向装置をスイツチオフするため、
１個の電源が必要とされるのみで、この電源を、
電気ビームで照射中電子ビームを被検物に偏向す
るのに用いると共にＸ線ビームで照射中電子ビー
ムを対陰極に向け加速するのに用いる。
図面につき本発明を説明する。
排気し得る外匣１内に配置された本発明Ｘ線ス
ペクトロメータの好適例においては検査すべき被
検物２を電子ビーム３又はＸ線ビーム４で後述す
るように照射する。被検物２内においてＸ線が発
生し、これには被検物内に存在する化学元素から
発生する特性Ｘ線が少くとも部分的に含まれる。
これら元素を識別するために、発生されたＸ線
を、Ｘ線スペクトロメータ内に互に且つ被検物２
に対し回転可能に配設された分光結晶５及びＸ線
検出器６を具える既知のＸ線検出装置によつて波
長の関数として測定する。互に対し回転し得るこ
れら部材の相対位置を既知の方法（ここでは詳述
しない）で測定し、その測定データを検出器６か
らの測定データと一緒に、外匣１の壁を気密通路
１０を経て貫通させたケーブル８，９により分析
装置７に供給する。
照射に必要とされる電子ビームはウエーネルト
電極１３内に配置されたフイラメント１２と、絶
縁材料製の円筒１６に取付けられた第１陽極１４
及び電磁レンズ１５とにより発生される。電力供
給のために、これら素子は外匣１の壁を気密通路
１０を経て貫通させたケーブル１８により電源１
７に接続する。静電偏向装置１９は円筒状の導電
板２０及び２１から成り、これら導電板をスイツ
チ２３により外匣１の壁を気密通路１０を経て貫
通させたケーブル２４及び２５を経て高圧電源２
２に接続すると、電子ビーム１１は被検物２上に
指向される。スイツチ２３を切り換えると、高圧
電源２２は外匣１の壁を気密通路１０を経て貫通
させたケーブル２６及び２７を経て支持体２８上
に装着された対陰極３０と第２陽極２９とに接続
される。この場合、電子ビーム１１は偏向装置１
９により影響されないで、第２陽極２９と対陰極
３０との間の高電圧により加速される。対陰極３
０においてＸ線が発生し、ビーム４で囲まれたそ
の１部分が被検物の照射に使用される。
Ｘ線ビーム４は外匣１の壁にブラケツト３３に
より取付けられたコリメータ３２内のアパチユア
３１により絞られる。アパーチユア３１上には例
えば100μmAlから成る着脱自在の電子フイルタ
３４を設けて対陰極３０により反射されたビーム
１１の電子が被検物２上に入射するのを阻止す
る。これにより、反射された電子のスペクトルは
一般に大きなエネルギーの広がりを示すが、反射
された電子とＸ線により同時に照射される場合に
このエネルギーの広がりにより生ずる被検物内で
発生されたＸ線の分析における誤りは防止でき
る。
被検物２は、外匣１の壁にボルト３８により着
脱自在に取付けられた蓋３７に取付けられた台３
６上に調整自在に配設された被検物保持器３５上
に配置する。Ｏリング３９により気密封止する。
被検物保持器３５は図面に垂直な軸を中心に回転
することができるため、被検物面と入射ビームと
の角度（入射角）を種々の値にすることができ
る。入射角が小さい場合は、Ｘ線及び電子線の侵
入深さが比較的小さいために小“深さ”の表面層
のみが検査される。従つて、種々の入射角で分析
を行なうことにより“深さ”分析を行なうことが
できる。検査開始前に蓋３７を取付けたら、スペ
クトロメータの外匣１を外匣１にポンプダクト４
１を介して連結されたポンプ４０により排気す
る。排気は外匣１内に配置された素子の脱ガスに
より比較的僅かに影響されるだけである。その理
由は、照射に必要とされるＸ線源が対陰極３０を
具える支持体２８のみから成り比較的小さいため
である。
支持体２８は外匣１の壁に取付けられたフレー
ム４２により外匣１内に回転自在に配置する。検
査中Ｘ線源を交替する必要があるとき、即ち新ら
しい他の対陰極が必要とされるときは支持体２８
を回転するだけで良く、分析を中断する必要はな
く、本例では支持体２８に４個の対陰極３０，４
３，４４及び４５を設けてある。例えば、分析中
検査すべき被検物が対陰極に含まれる元素を含ん
でいてビーム４内に該元素の特性Ｘ線を生ずる場
合には他の対陰極が必要となる。対陰極は回転対
陰極（図示せず）とし、その周縁部に対陰極３
０，４３，４４又は４５の製造材料の軌道を設け
てもよい。斯る形態の対陰極を用いると、Ｘ線源
に相当大きな負荷をかけることができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明Ｘ線スペクトロメータの好適例の
構成図である。 １…排気し得る外匣、２…被検物、３…電子ビ
ーム、４…Ｘ線ビーム、５…分光結晶、６…Ｘ線
検出器、７…分析装置、８，９…ケーブル、１０
…気密通路、１１…電子ビーム、１２…フイラメ
ント、１３…ウエーネルト電極、１４…第１陽
極、１５…電磁レンズ、１６…絶縁円筒、１７…
…電源、１８…ケーブル、１９…静電偏向装置、
２０，２１…円筒状導電板、２２…電源、２３…
スイツチ、２４，２５，２６，２７…ケーブル、
２８…支持体、２９…第２陽極、３０，４３，４
４，４５…対陰極、３１…アパーチユア、３２…
コリメータ、３３…ブラケツト、３４…電子フイ
ルタ、３５…被検物保持器、３６…台、３７…
蓋、３８…ボルト、３９…Ｏリング、４０…ポン
プ、４１…ポンプダクト、４２…フレーム。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 排気し得る外匣内に配置され、且つ波長依存
    Ｘ線検出装置と、検査すべき被検物を照射するた
    めに電子ビームを発生する電子源と、対陰極から
    成るＸ線源とを具え、Ｘ線ビームは前記電子ビー
    ムを前記対陰極に静電偏向装置により指向させて
    発生し得るように構成されたＸ線スペクトロメー
    タにおいて、前記静電偏向装置を、該偏向装置が
    スイツチオフのとき前記電子ビームが妨害される
    ことなく前記対陰極に到達することができ、該偏
    向装置がスイツチオンのとき前記電子ビームが被
    検物上に入射し得るよう構成したことを特徴とす
    るＸ線スペクトロメータ。 ２ 特許請求の範囲１記載のＸ線スペクトロメー
    タにおいて、着脱自在の電子フイルタを前記対陰
    極と被検物との間に配置したことを特徴とするＸ
    線スペクトロメータ。 ３ 特許請求の範囲１又は２記載のＸ線スペクト
    ロメータにおいて、複数個の対陰極を外匣内にあ
    つて回転し得る支持体上に配置し、これら対陰極
    をＸ線ビームの発生に個別に使用し得るようにし
    たことを特徴とするＸ線スペクトロメータ。 ４ 特許請求の範囲１，２又は３記載のＸ線スペ
    クトロメータにおいて、被検物をスペクトロメー
    タ内において回転し得るよう配置したことを特徴
    とするＸ線スペクトロメータ。
JP7344779A 1978-06-12 1979-06-11 Xxray spectrometer Granted JPS551593A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7806330A NL7806330A (nl) 1978-06-12 1978-06-12 Roentgenspektrometer.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS551593A JPS551593A (en) 1980-01-08
JPS6249929B2 true JPS6249929B2 (ja) 1987-10-22

Family

ID=19831018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7344779A Granted JPS551593A (en) 1978-06-12 1979-06-11 Xxray spectrometer

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4280049A (ja)
JP (1) JPS551593A (ja)
DE (1) DE2923190A1 (ja)
FR (1) FR2428836A1 (ja)
GB (1) GB2022916B (ja)
NL (1) NL7806330A (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0134113Y2 (ja) * 1980-06-27 1989-10-17
FR2506019A1 (fr) * 1981-05-14 1982-11-19 Commissariat Energie Atomique Dispositif pour determiner la densite des etats electroniques inoccupes d'un materiau situes au-dessus du niveau de fermi
DE3206861A1 (de) * 1982-02-26 1983-05-26 Richard Dipl.-Phys. 7000 Stuttgart Eckert Roentgenfluoreszenz-zusatz fuer elektronenstrahlgeraete
US4493097A (en) * 1982-08-30 1985-01-08 The Perkin-Elmer Corporation Electron gun assembly
JPS60100038A (ja) * 1983-11-04 1985-06-03 Shimadzu Corp Ｘ線マイクロアナライザによる表層分析方法
US4837794A (en) * 1984-10-12 1989-06-06 Maxwell Laboratories Inc. Filter apparatus for use with an x-ray source
US5903004A (en) * 1994-11-25 1999-05-11 Hitachi, Ltd. Energy dispersive X-ray analyzer
UA59495C2 (uk) 2000-08-07 2003-09-15 Мурадін Абубєкіровіч Кумахов Рентгенівський вимірювально-випробувальний комплекс
CN106768874A (zh) * 2016-11-18 2017-05-31 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种x射线聚焦光学聚焦性能测量装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1426598A (fr) * 1964-04-01 1966-01-28 Centre Nat Rech Metall Spectromètre universel à rayonnement électromagnétique à haute sensibilité de détection
FR1447337A (fr) * 1965-06-15 1966-07-29 Radiologie Cie Gle Perfectionnements aux dispositifs d'analyse par spectrométrie aux rayons chi
GB1159905A (en) * 1967-03-20 1969-07-30 Applied Res Lab Inc X-Ray Generating Apparatus.
FR1578532A (ja) * 1967-08-30 1969-08-14

Also Published As

Publication number Publication date
DE2923190C2 (ja) 1987-09-17
NL7806330A (nl) 1979-12-14
GB2022916B (en) 1982-06-23
FR2428836B1 (ja) 1985-04-19
US4280049A (en) 1981-07-21
JPS551593A (en) 1980-01-08
GB2022916A (en) 1979-12-19
FR2428836A1 (fr) 1980-01-11
DE2923190A1 (de) 1979-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01500940A (ja) 走査電子顕微鏡及び試料の表面を電子顕微鏡的に像形成する方法
JP3616714B2 (ja) 分析機器内の絶縁試料上を所定表面電位にするための装置
US6442236B1 (en) X-ray analysis
JPS6249929B2 (ja)
US3920984A (en) X-ray energy analyzer
US3370167A (en) Proton-excited soft x-ray analyzer having a rotatable target for selectively directing the x-rays to different detectors
US3870882A (en) Esca x-ray source
US3446960A (en) Device for measuring electron-beam intensities and for subjecting materials to electron irradiation in an electron microscope
JP3405506B2 (ja) 走査プロトン顕微鏡
JP2001050916A (ja) 仕事関数測定法および仕事関数測定装置
US4912330A (en) Apparatus for X-ray testing long wave infrared radiation detectors
JPH01118757A (ja) 表面分析装置のマスク
JP3339267B2 (ja) Ｘ線分析方法およびｘ線分析装置
KR950033478A (ko) X선 분석 방법 및 장치
JPH0246893B2 (ja)
JPS6112539B2 (ja)
JP4050875B2 (ja) 粒子ビーム装置
JPH11307031A (ja) 分析電子顕微鏡
JPH082603Y2 (ja) Ｘ線分析装置
JPH0765759A (ja) ライン／ポイントフォーカスを選択して取り出し可能な横型ｘ線発生装置
JP3055159B2 (ja) 中性粒子質量分析装置
JP2656681B2 (ja) 表面分析装置
JPH0361841A (ja) Ｘ線吸収スペクトル測定用アタッチメント
JPH0374039A (ja) 光電子顕微鏡を備えた透過電子顕微鏡
JPH0361840A (ja) Ｘ線吸収スペクトル測定装置