JPS5941856U - 分析装置等における試料面エツチング装置 - Google Patents

分析装置等における試料面エツチング装置

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JPS5941856U
JPS5941856U JP13402482U JP13402482U JPS5941856U JP S5941856 U JPS5941856 U JP S5941856U JP 13402482 U JP13402482 U JP 13402482U JP 13402482 U JP13402482 U JP 13402482U JP S5941856 U JPS5941856 U JP S5941856U
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Japan
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surface etching
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哲 関根
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日本電子株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示すブロック線図、第２図
は第１図装置における走査信号波形を示す図、第３図は
試料面上におけるイオンビーム照射量分布を示す図、第
４図は研磨状態を示す試料の一部断面図である。 １：試料、ｌａｄ研磨面、２：電子カラム、３：オージ
ェ電子分光器、４：イオン銃、５ｘ、ｘ偏向器、５Ｙ：
Ｙ偏向器、６ｘ、　　６Ｙ：増幅器、７：２次曲線発生
器、８：切換スイッチ、９Ｘ：Ｘ方向走査信号発生器、
９Ｙ、Ｙ方向走査信号発生器。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　試料面に放射線や荷電粒子線を照射する手段及び該
    照射によって試料より生ずるＸ線や電子を情報として検
    出する手段を備えた装置において、前記試料面へ向けて
    イオンビームを照射する為のイオン源、該イオンビーム
    を試料面上で走査するためのＸ、　Ｙ偏向器及び該Ｘ、
    　Ｙ偏向器のいずれか一方又は双方に２次曲線的に変化
    する信号を走査信号として供給する電源を有してなる分
    析装置等における試料面エッチンク］′装置。 ２　前記電源は鋸歯状波信号と２次曲線的に変化する信
    号とを切換えて出力し得る構成となした実用新案登録請
    求の範囲第１項記載の分析装置等における試料面エツチ
    ング装置。
JP13402482U 1982-09-03 1982-09-03 分析装置等における試料面エツチング装置 Granted JPS5941856U (ja)

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JPS5941856U true JPS5941856U (ja) 1984-03-17
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0247544A (ja) * 1988-08-09 1990-02-16 Shimadzu Corp Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置
WO2012108465A1 (ja) * 2011-02-08 2012-08-16 株式会社ブリヂストン 高分子材料の評価方法
JP2014092426A (ja) * 2012-11-02 2014-05-19 Ube Scientific Analysis Laboratory Inc 表面分析用有機物試料の製造方法及びそれを用いた表面分析方法

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