JP2014092426A - 表面分析用有機物試料の製造方法及びそれを用いた表面分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機物試料1の表面にガスクラスターイオンビーム3を照射することによって、分析用の傾斜断面7を有する凹部5を前記有機物試料1の表面に形成する工程を備えることを特徴とする表面分析用有機物試料1の製造方法である。また、上記製造方法により製造された表面分析用有機物試料1の前記傾斜断面7を分析することを特徴とする表面分析方法である。
【選択図】図1
Description
例えば、クロスセクションポリッシャ、FIB等のモノマーイオンビームによる断面作製手法は、主に無機材料について適用される。この理由は、一般的にモノマーイオンビームは数kVで入射イオンを加速させる必要があり、有機材料の加工に用いた場合、イオン衝撃やそこで発生する熱等の要因により、多くの場合、加工面の有機物情報が有機鎖の切断等の要因で破壊されてしまうため、本来必要な情報が失われ、適切な分析面とならないためである。
また、刃物による断面加工は、ミクロトーム、SAICAS等の手法が知られている。これらの手法を用いると、基本的に加工面の有機成分の情報は保持されるが、加工環境や刃先に付着した極微量な汚染物により加工面が汚染され、試料の表面状態に著しく敏感なXPS、TOF−SIMS等の分析装置ではこれらの汚染が問題となり、その結果、クリーニング工程が必要もしくは、最悪の場合評価不能となる。さらに、一般的に刃物による精密分析用の試料断面加工は熟練を要し、加工時間も数時間に及ぶ場合が多い。
3 ガスクラスターイオンビーム
5 凹部(クレータ)
7 傾斜断面
Claims (4)
- 有機物試料の表面にガスクラスターイオンビームを照射することによって、分析用の傾斜断面を有する凹部を前記有機物試料の表面に形成する工程を備えることを特徴とする表面分析用有機物試料の製造方法。
- 前記傾斜断面の傾斜角度が0.02〜0.05degである請求項1記載の表面分析用有機物試料の製造方法。
- 前記ガスクラスターイオンビームのクラスターイオンがAr500〜Ar3000である請求項1又は2記載の表面分析用有機物試料の製造方法。
- 請求項1乃至3いずれか記載の製造方法により製造された表面分析用有機物試料の前記傾斜断面を分析することを特徴とする表面分析方法。
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