JP2007108105A - 電子顕微鏡用試料作製方法、集束イオンビーム装置および試料支持台 - Google Patents
電子顕微鏡用試料作製方法、集束イオンビーム装置および試料支持台 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】均一構造物上に不均一なパターンが形成され、その両者が含まれる箇所を断面電子顕微鏡用試料に作製する方法であって、シリコン基板4などの均一構造物上にデバイスパターン5などの不均一なパターンが形成され、均一構造物側からイオンビーム1を照射することにより試料を薄片化する電子顕微鏡試料作製方法を提供する。更に、この試料作製方法を実施するための集束イオンビーム装置および試料支持台などの作製装置を提供する。
【選択図】図1
Description
図4は、本発明の実施の形態1による集束イオンビーム装置の一例の概略構成を示す図であって、集束イオンビーム装置30内の一例を示している。イオン源31より発生した集束イオンビーム11は、集束レンズ33により集束され、試料台41に固定された大試料40に照射される。集束イオンビーム11の照射位置は、偏向コイル32により指定される。試料台41の試料移動機構38により、試料台41を移動することが出来る。また、大試料40より一部を電子顕微鏡用試料として作製する場合、探針移送装置39を有した探針7により抽出される。探針7は、探針移送装置39により、X、Y、Zの各方向に移動が可能である。また、探針7に抽出した試料を固定する場合は、集束イオンビーム11を照射しながら、タングステン銃35より発せられるタングステンガス34が用いられる。抽出位置や探針位置の確認には、集束イオンビーム11が大試料40に照射される際に発生する二次粒子を検出する二次粒子検出器36を用い、表示装置37に二次粒子像を表示する。
図7は、本発明の実施の形態2による集束イオンビーム装置の一例の概略構成を示す図であって、シリコン基板上にデバイスパターンが形成された大試料から透過型電子顕微鏡用試料を作製する集束イオンビーム装置内の一例を示している。簡単のため、前記図4と同じ機能部分については、図4と同一の符号を付け、説明を省略する。
図9に、本発明の実施の形態3である透過型電子顕微鏡用試料に加工する際に、試料より抽出した試料片を固定する試料支持台の一例の説明図を示す。試料支持台6の中心部には、試料片2を固定するための突起部51が設けられており、試料片2の側面を試料支持台6に固定する。
Claims (11)
- 均一構造物上に不均一なパターンが形成され、その両者が含まれる箇所を断面電子顕微鏡用試料に作製する方法であって、
前記均一構造物側からイオンビームを照射することにより試料を薄片化することを特徴とする電子顕微鏡用試料作製方法。 - シリコン基板上にデバイスパターンが形成され、その両者が含まれる箇所を断面電子顕微鏡用試料に作製する方法であって、
前記シリコン基板側からイオンビームを照射することにより試料を薄片化することを特徴とする電子顕微鏡用試料作製方法。 - 請求項1または2に記載の電子顕微鏡用試料作製方法において、
前記イオンビームとして、集束イオンビームと低加速アルゴンイオンビームを用いることを特徴とする電子顕微鏡用試料作製方法。 - 電子顕微鏡用試料を作製するための集束イオンビーム装置であって、
試料の一部を抽出するための探針を回転させるための回転機構と、前記探針を傾斜させるための傾斜機構と、二次粒子画像より均一構造物側を判別するための判別装置とを備えることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 電子顕微鏡用試料を作製するための集束イオンビーム装置であって、
試料台の上下面を反転するための試料回転手段と、試料からの抽出位置を記憶する記憶手段とを備えたことを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項5に記載の集束イオンビーム装置において、
均一構造物上に不均一なパターンが形成された試料から一部を抽出する場合は、前記均一構造物側から指定箇所の試料を抽出することを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項5に記載の集束イオンビーム装置において、
シリコン基板上にデバイスパターンが形成された試料から一部を抽出して電子顕微鏡用試料を作製する場合は、前記シリコン基板側から指定箇所の試料を抽出することを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 透過型電子顕微鏡用試料を作製する集束イオンビーム装置で、試料から試料片を抽出し、前記透過型電子顕微鏡用試料に加工する際に摘出した前記試料片を固定する試料支持台であって、
前記試料支持台の中心に前記試料片を設置することが可能な突起部を有することを特徴とする試料支持台。 - 請求項8に記載の試料支持台において、
前記試料支持台の突起部は屈曲していることを特徴とする試料支持台。 - 均一構造物上に不均一なパターンが形成され、その両者が含まれる箇所を断面電子顕微鏡用試料に作製する方法であって、
前記不均一なパターン側から集束イオンビームで試料を薄片化した後、前記均一構造物側から低加速アルゴンイオンビームを照射することを特徴とする電子顕微鏡用試料作製方法。 - シリコン基板上にデバイスパターンが形成され、その両者が含まれる箇所を断面電子顕微鏡用試料に作製する方法であって、
前記デバイスパターン側から集束イオンビームで試料を薄片化した後、前記シリコン基板側から低加速アルゴンイオンビームを照射することを特徴とする電子顕微鏡用試料作製方法。
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